JP4617425B2 - 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 - Google Patents
非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4617425B2 JP4617425B2 JP2004323843A JP2004323843A JP4617425B2 JP 4617425 B2 JP4617425 B2 JP 4617425B2 JP 2004323843 A JP2004323843 A JP 2004323843A JP 2004323843 A JP2004323843 A JP 2004323843A JP 4617425 B2 JP4617425 B2 JP 4617425B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electropolishing
- cyan
- parts
- mass
- liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
従って、本発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、シアン系電解研磨液と遜色ない仕上がり表面が得られ、複雑形状の装身具であっても短時間で電解研磨することのできる非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法を提供することを目的としている。
前記非シアン系電解研磨液は、アニオン系、ノニオン系及びカチオン系界面活性剤から選択される界面活性剤を更に含有することが好ましい。
前記アニオン系界面活性剤は、ドデシルベンゼンスルホン酸又はその塩であることが望ましい。
前記ノニオン系界面活性剤は、ポリエチレングリコールモノ−4−ノニルフェニルエーテルであることが望ましい。
前記カチオン系界面活性剤は、ポリアクリル酸エステル4級トリメチル塩であることが望ましい。
また、本発明は、前記非シアン系電解研磨液を用いて、貴金属を電解研磨することを特徴とする電解研磨方法である。
また、本発明による非シアン系電解研磨液には、水100質量部に対して、1〜4質量部のリン酸を更に添加してもよい。上記範囲内のリン酸を添加することにより、より光沢のある研磨表面を得ることができる。
これら界面活性剤の添加量は、水100質量部に対して、1.0×10−4〜2.0×10−3質量部であることが好ましい。特に添加する界面活性剤がドデシルベンゼンスルホン酸、その塩又はポリエチレングリコールモノ−4−ノニルフェニルエーテルである場合には、水100質量部に対して、4.0×10−4〜2.0×10−3質量部であることが好ましい。この範囲内であれば、より光沢のある研磨表面を得ることができる。
この電解研磨装置1は、非シアン系電解研磨液2が収容された電解研磨槽3と、直流電源装置4と、直流電源装置4の負端子に接続され、非シアン系電解研磨液2に浸漬された研磨用電極としてのチタン電極5と、直流電源装置4の正端子に接続され、非シアン系電解研磨液2に浸漬された被研磨材としての貴金属板6と、非シアン系電解研磨液2の温度を調節するためのホットプレート7と、非シアン系電解研磨液2の温度を測定するための温度計8とを備えている。
次に、大きさ150mm×70mm×2mmのK18合金(Au75.0wt%、Ag12.5wt%、Cu12.5wt%)を冷間圧延し、0.3mm厚の板状に加工した。これを50mm×25mmの大きさに切断し、被研磨材とした。これを片面につき20mm×25mmの露出範囲となるように、被研磨材をマスキングした。
そして、図1と同様の構成の電解研磨実験装置において、電解研磨槽として1Lのビーカーを用い、電解研磨液として実施例1〜18及び比較例1〜7の非シアン系電解研磨液を用いて、上記被研磨材を電圧13V、電流17A、液温度80℃、時間120秒という条件でそれぞれ電解研磨を行った。また、比較例8及び9は、電解条件を電圧13V、電流18A、液温度80℃、時間120秒とする以外は、実施例1〜18及び比較例1〜7と同様に電解研磨を行った。
電解研磨後の被研磨材について、目視による観察により評価を行った。結果を表1に示した。なお、目視による観察は、下記の判断基準により評価した。
(判断基準)
◎:鏡面光沢
○:鏡面光沢(わずかに曇り有り)
△:光沢有り
×:研磨不十分
また、表2から分かるように、実施例11〜14では、電解研磨の前後で光沢度および表面粗さが著しく改善されており、市販の電解研磨液A及びBと比べても、遜色のない研磨表面が得られることが確認された。
Claims (6)
- 水100質量部に対して、スルファミン酸10〜14質量部、チオ尿素3〜4質量部、乳酸1〜6質量部及びリン酸1〜4質量部を含有することを特徴とする非シアン系電解研磨液。
- アニオン系、ノニオン系及びカチオン系界面活性剤から選択される界面活性剤を更に含有することを特徴とする請求項1に記載の非シアン系電解研磨液。
- 前記アニオン系界面活性剤が、ドデシルベンゼンスルホン酸又はその塩であることを特徴とする請求項2に記載の非シアン系電解研磨液。
- 前記ノニオン系界面活性剤が、ポリエチレングリコールモノ−4−ノニルフェニルエーテルであることを特徴とする請求項2に記載の非シアン系電解研磨液。
- 前記カチオン系界面活性剤が、ポリアクリル酸エステル4級トリメチル塩であることを特徴とする請求項2に記載の非シアン系電解研磨液。
- 請求項1〜5のいずれか一項に記載の非シアン系電解研磨液を用いて、貴金属を電解研磨することを特徴とする電解研磨方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004323843A JP4617425B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004323843A JP4617425B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006131970A JP2006131970A (ja) | 2006-05-25 |
JP4617425B2 true JP4617425B2 (ja) | 2011-01-26 |
Family
ID=36725779
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004323843A Expired - Fee Related JP4617425B2 (ja) | 2004-11-08 | 2004-11-08 | 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4617425B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103946429A (zh) * | 2011-06-15 | 2014-07-23 | 泰坦股份有限公司 | 非氰化物为基础的电化学抛光 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ES2286938B1 (es) * | 2006-04-26 | 2008-11-01 | Supramol.Lecular Systems S.L. | Solucion electrolitica para el pulido electroquimico de articulos de metal. |
KR102205504B1 (ko) * | 2019-11-14 | 2021-01-21 | 이용환 | 중성전해연마액을 이용한 금 및 금합금의 전해연마방법 및 금 및 금합금의 중성전해연마액 조성물 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5477239A (en) * | 1977-12-01 | 1979-06-20 | Kouei Kasei Kk | Electropolishing solution for gold* silver or alloys thereof |
JPS62247100A (ja) * | 1986-04-19 | 1987-10-28 | Ijima Keijirou | 電解研磨液 |
JPH04214884A (ja) * | 1990-06-11 | 1992-08-05 | Denka Seiyaku Kk | 貴金属及び宝飾品の洗浄剤 |
JPH0841498A (ja) * | 1994-07-26 | 1996-02-13 | Daisan Kogyo Kk | 電解洗浄用洗浄剤組成物 |
JPH116088A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Daiwa Kasei Kenkyusho:Kk | 銀製品の変色皮膜除去剤及び除去方法 |
JPH11117100A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-04-27 | Yuken Kogyo Kk | 電解研摩液 |
JP2000080189A (ja) * | 1998-09-04 | 2000-03-21 | Dainippon Ink & Chem Inc | 表面親水性成形物及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-11-08 JP JP2004323843A patent/JP4617425B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5477239A (en) * | 1977-12-01 | 1979-06-20 | Kouei Kasei Kk | Electropolishing solution for gold* silver or alloys thereof |
JPS62247100A (ja) * | 1986-04-19 | 1987-10-28 | Ijima Keijirou | 電解研磨液 |
JPH04214884A (ja) * | 1990-06-11 | 1992-08-05 | Denka Seiyaku Kk | 貴金属及び宝飾品の洗浄剤 |
JPH0841498A (ja) * | 1994-07-26 | 1996-02-13 | Daisan Kogyo Kk | 電解洗浄用洗浄剤組成物 |
JPH116088A (ja) * | 1997-06-17 | 1999-01-12 | Daiwa Kasei Kenkyusho:Kk | 銀製品の変色皮膜除去剤及び除去方法 |
JPH11117100A (ja) * | 1997-10-09 | 1999-04-27 | Yuken Kogyo Kk | 電解研摩液 |
JP2000080189A (ja) * | 1998-09-04 | 2000-03-21 | Dainippon Ink & Chem Inc | 表面親水性成形物及びその製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103946429A (zh) * | 2011-06-15 | 2014-07-23 | 泰坦股份有限公司 | 非氰化物为基础的电化学抛光 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006131970A (ja) | 2006-05-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102191268B1 (ko) | 개선된 외관 및/또는 내마모성을 가진 양극처리된 알루미늄 합금 제품 및 이의 제조 방법 | |
Li et al. | Passivation and potential fluctuation of Mg alloy AZ31B in alkaline environments | |
US4740280A (en) | Electrolyte for electrochemically polishing metal surfaces | |
CN105369340A (zh) | 一种钛合金抛光方法 | |
JP2015196867A (ja) | アルミニウム合金板 | |
JP4617425B2 (ja) | 非シアン系電解研磨液及びそれを用いた電解研磨方法 | |
WO2004063405A2 (en) | Magnesium containing aluminum alloys and anodizing process | |
JP2012143798A (ja) | めっきが施されたアルミニウム合金鋳物及びその製造方法 | |
Galanin et al. | Electrochemical surface texturing of silver | |
CN102797029A (zh) | 电解抛光剂 | |
JP2006348336A (ja) | 電解研磨液および金属製品の製造方法 | |
UA108138C2 (uk) | Розчин електроліту і електрохімічні способи модифікації поверхні | |
TW438911B (en) | Component of a mould for the continuous casting of metals, comprising a cooled copper or copper-alloy wall having a metallic coating on its external surface, and process for coating it | |
US20170314140A1 (en) | Method for the Wet Chemical Polishing of Molded Zinc Parts | |
JP4316029B2 (ja) | ステンレス鋼の酸洗方法および酸洗液 | |
JP2551274B2 (ja) | アルミ系材料の表面処理方法 | |
JP2018059176A (ja) | アルミニウム合金板、及び、陽極酸化処理アルミニウム合金板 | |
Fazal et al. | Acid pickling/polishing of AZ31 magnesium alloy | |
JP4322726B2 (ja) | 表面光沢に優れるステンレス鋼板の製造方法 | |
JP4888809B2 (ja) | アルミニウム又はアルミニウム合金用白色処理液組成物および白色処理方法 | |
JP2000054199A (ja) | めっきアノード電極用銅または銅合金ボールの製造方法 | |
JP2005206904A (ja) | Ni−W合金被膜の製造方法 | |
JP5334648B2 (ja) | 錫めっきの耐熱剥離性に優れた銅合金板 | |
CN117166037A (zh) | 用于原位显示in718显微组织和ebsd表征的电解液及使用方法 | |
JP2983158B2 (ja) | 白金電解研磨用ラック及び白金電解研磨方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071016 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080313 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100608 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100729 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100824 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100917 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |