JPH11115141A - 化粧シート - Google Patents
化粧シートInfo
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- JPH11115141A JPH11115141A JP29947697A JP29947697A JPH11115141A JP H11115141 A JPH11115141 A JP H11115141A JP 29947697 A JP29947697 A JP 29947697A JP 29947697 A JP29947697 A JP 29947697A JP H11115141 A JPH11115141 A JP H11115141A
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Abstract
つきにくく、破損しにくくかつ、皮膜自体に可撓性があ
って基材が屈曲しても皮膜がひび割れることがなく、更
に、外観も良好であること。 【解決手段】 基材上に、平均粒径が3〜50μmの球
状粒子(A)および反応性樹脂(B)からなり、該
(A)の含有量が(A)と(B)の合計量に対し5〜5
0重量%であり、該(A)の平均粒径d(μm)が、下
記式(1)を満足する第1のコーティング用組成物層、
反応性樹脂(C)からなる第2のコーティング用組成物
層がこの順に形成されてなる化粧シート。 0.3t≦d≦2.0t (1) [但し、tは第1と第2を合わせたコーティング層の平
均膜厚(μm)である。]
Description
優れた2つのコーティング用組成物層が形成された化粧
シートに関する。さらに詳しくは、紙、プラスチック製
シートまたはフィルム、またはこれらに印刷を施したも
のの表面を被覆する2つのオーバーコート剤層を有する
化粧シートに関する。
十μm程度の微細粒子、揮発性溶剤、紫外線硬化樹脂ま
たは電子線硬化樹脂からなる希釈樹脂溶剤を全面塗布し
た後、該揮発性溶剤を揮発させ、次に該基材上に紫外線
硬化樹脂または電子線硬化樹脂を高速回転塗工し、つい
で該樹脂を硬化させることを特徴とする凹凸模様化粧材
の製造方法(特開平1−258774号公報)が知られ
ている。
うな従来の化粧シートは、該基材上に第2のコーティン
グ層である紫外線硬化樹脂または電子線硬化樹脂をスピ
ンコーターにて高速回転塗工し、ついで該樹脂を硬化さ
せることにより、第1のコーティング層中の微細粒子を
核として、樹脂をはじかせて、微細粒子部分を凹部とし
た円形状の凹凸模様を形成させるものである。従って、
凹凸模様による意匠効果は期待できるが、微細な凸部
は、強度が弱く破損し易いという欠点があった。
滑にすることにより、強度に優れ、傷がつきにくくかつ
可撓性のある皮膜が得られるオーバーコート剤について
鋭意検討した結果、反応性樹脂に平均粒径を特定した球
状粒子を一定量添加することで、ある程度の効果が得ら
れるものの、それだけでは不十分であり、更に2層のコ
ーティング層の平均膜厚と球状粒子の平均粒径との関係
を特定することが必要であり、これらの構成要件を満足
した場合に充分な効果が得られることを見出して本発明
に到達した。すなわち本発明は、基材上に、平均粒径が
3〜50μmの球状粒子(A)および反応性樹脂(B)
からなり、該(A)の含有量が(A)と(B)の合計量
に対し5〜50重量%であり、該(A)の平均粒径d
(μm)が、下記式(1)を満足する第1のコーティン
グ用組成物層、反応性樹脂(C)からなる第2のコーテ
ィング用組成物層がこの順に形成されてなる化粧シー
ト。 0.3t≦d≦2.0t (1) [但し、tは第1と第2を合わせたコーティング層の平
均膜厚(μm)である。]
形又はそれに類するものである。該(A)としては、溶
融アルミナ、バイヤー法アルミナ、ジルコニア、チタニ
アあるいはこれらの共融混合物でヌープ硬度が1300
kg/mm2 以上のものがあげられる。これらのうちで
好ましいものは、ヌープ硬度が1800kg/mm2 以
上のものであり、具体例としては溶融アルミナがあげら
れる。
用いて測定される微小押し込み硬さで、試験面に菱形の
圧痕をつけたときの荷重を、永久凹みの長い方の対角線
の長さより求めた凹みの投影面積で除した商で表される
値である。この試験方法は、ASTM C−849に記
載されている。
は、粉砕した不定形の上記無機物を融点以上の高温炉中
に投入し、溶融させ表面張力を利用して球状にする方
法;上記無機物を融点以上の高温で溶融したものを霧状
に吹き出して球状にする方法;等が挙げられる。
5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%である。
不十分となり、50重量%を超えると反応性樹脂(B)
によるバインダー効果が損なわれ、可撓性が低下するな
どの弊害を生じる。
好ましくは、8〜40μmである。平均粒径が3μm未
満では皮膜が不透明になり好ましくない。一方、平均粒
径が50μmを超えると通常用いる被覆剤の膜厚より大
きくなりすぎるため、皮膜の表面平滑性が悪くなる。
場合、その膜厚と、上記平均粒径dとは、下記式(1)
を満足している必要がある。 0.3t≦d≦2.0t (1) [但し、tは第1と第2を合わせたコーティング層の平
均膜厚(μm)である] 平均粒径が、2.0tを超えると、第2のコーティング
層の表面に粒子がはみ出し、コーティング層の外観が悪
くなり、0.3t未満であると、コーティング層の耐擦
傷性が悪くなり好ましくない。
としては熱硬化性樹脂及び電離放射線硬化性樹脂を使用
することができる。
公知のものでよく、たとえば、二液型ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂、アルキッド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂
などが挙げられる。
子構造中に水酸基を平均して2個以上有するポリオール
化合物からなる第一液と、ポリイソシアネート化合物か
らなる第二液を水酸基とイソシアネート基の当量比が
0.7〜1.5になるように配合したものが挙げられ
る。
中にエポキシ基を平均2個以上有するエポキシ樹脂と、
エポキシ基と反応する活性水素を1分子中に3個以上有
するモノ−、またはポリ−アミンとをエポキシ樹脂のエ
ポキシ当量とモノ、またはポリアミンの活性水素当量の
比が0.7〜1.5になるように配合したものが挙げら
れる。
樹脂としては、分子構造中にラジカル重合性二重結合を
1個以上有する化合物が挙げられ、具体例としては不飽
和ポリエステル樹脂、(メタ)アクリロイル基を有する
化合物[単官能(メタ)アクリルエステル、多官能(メ
タ)アクリルエステル、ウレタン(メタ)アクリレー
ト、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メ
タ)アクリレートなど]、ビニル化合物[スチレン、ジ
ビニルベンゼンなど]、アリル化合物[ジアリルフタレ
ートなど]およびこれらの2種以上の混合物が挙げられ
る。
としてより好ましいものは、電離放射線硬化性樹脂であ
り、とくに好ましいものは、下記一般式(2)で表され
るポリエーテル系ウレタン(メタ)アクリレートであ
る。 CH2 =C(R1 )−COOCH2 CH2 −OCONH−X−NHCOO −[−CH(R2 )−(CH2 )n −O−]m −CONH−X−NHCOO −CH2 CH2 OCOC(R1 )=CH2 (2) (式中、R1 、R2 はそれぞれ水素またはメチル基であ
り、Xはジイソシアネート残基、nは1〜3の整数、m
は6〜60の整数である。)
リレートに使用されるジイソシアネートとしては、公知
のものが使用できる。その具体例としては、イソホロン
ジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシア
ネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニル
メタンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートな
どが挙げられる。
リレートの製造に用いられるポリエーテルジオールとし
ては、分子量が500〜3,000のポリオキシプロピ
レングリコール、ポリオキシエチレングリコール、ポリ
オキシテトラメチレングリコールなどが挙げられる。
式(2)に示すポリエーテル系ウレタン(メタ)アクリ
レートを使用する場合、その使用量は、(B)、(C)
全量中10重量%以上である。10重量%未満では、樹
脂自体の可撓性が低下し、基材が屈曲したときに皮膜が
ひび割れることがある。
ことにより硬化させる場合、電離放射線としては、紫外
線および電子線が挙げられる。
タルハライドランプ等を備えた公知の紫外線照射装置を
使用することができる。硬化する際の紫外線の照射量
は、好ましくは50〜1,000mJ/cm2 である。
照射量が50mJ/cm2 未満では硬化が不十分にな
り、1,000mJ/cm2 を超えると硬化したコーテ
ィング膜が黄変劣化する可能性がある。
射装置を使用することができる。電子線の照射量は好ま
しくは1〜10Mradである。照射量が1Mrad未
満では、硬化が不十分になり、10Mradを超えると
硬化したコーティング膜あるいは基材(紙、プラスチッ
ク製シート、フィルム等)が損傷を受け、劣化する可能
性がある。
(C)が反応した後の架橋間平均分子量は、通常200
〜1,000、好ましくは250〜800である。架橋
間平均分子量が200未満では、樹脂自体の可撓性が低
下し、基材が屈曲したときに皮膜がひび割れることがあ
り、1,000を超えると樹脂自体が柔らかくなりすぎ
で球状粒子の保持力に欠けるため、耐擦傷性が不十分に
なる。
樹脂(B)、(C)の重合性官能基の平均官能基数を
f、平均分子量をmとしたとき、m/〔2×(f−
1)〕で表される値である。
めには、作業性の面から粘度が低いことが好ましい。粘
度は、コーティングに使用するときの温度において、好
ましくは800センチポイズ以下であり、より好ましく
は500センチポイズ以下である。粘度が800センチ
ポイズを超えると、作業性が悪くなり、平滑な塗面が得
られないことがある。
し、粘度を調整するために反応性樹脂(B)を溶解し、
かつ常圧での沸点が70℃〜150℃である1種以上の
溶剤を(A)と(B)の合計量に対し30重量%以下の
範囲で用いることができる。溶剤の使用量が30重量%
を超えると乾燥に時間がかかり、生産スピードがダウン
するため好ましくない。
使用されるものが使用でき、具体例としては、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸
アミルなどの酢酸エステル類、メチルアルコール、エチ
ルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコー
ル類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、ジイソプロピ
ルエーテルなどのエーテル類およびこれらの2種以上の
混合物が挙げられる。
により熱硬化触媒、光重合開始剤、消泡剤、レベリング
剤、カップリング剤等の塗料、インキに通常添加される
添加剤を任意に配合することができる。
ド樹脂または不飽和ポリエステル樹脂の場合に使用する
熱硬化触媒としては、たとえば、第3級ブチルパーオキ
シベンゾエート、ベンゾイルパーオキサイド、メチルエ
チルケトンパーオキサイドなどの過酸化物、アゾビスイ
ソブチロニトリル、アゾビスイソバレロニトリルなどの
アゾ化合物などが挙げられる。
樹脂の場合に使用する熱硬化触媒としては、2−メチル
−4−エチルイミダゾールなどのイミダゾール類、フェ
ノール、クレゾール、ビスフェノールA等のフェノール
類などが挙げられる。
タン樹脂の場合に使用する熱硬化触媒としては、ジブチ
ルスズジラウレート、オクチル酸スズ、トリエチルアミ
ン等が挙げられる。
(B)、(C)の重量に対して通常10重量%以下、好
ましくは5重量%以下である。
化性樹脂の場合に使用する光重合開始剤としては、ベン
ゾインアルキルエーテル、ベンジルジメチルケタール、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒ
ドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オ
ン、ベンゾフェノン、メチルベンゾイルフォーメート、
イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。光重合
開始剤の量は、(B)、(C)の重量に対して通常20
重量%以下、好ましくは6重量%以下である。
ティングするための塗工法としてはグラビアコート、グ
ラビアリバースコート、グラビアオフセットコート、ス
ピンナーコート、ロールコート、リバースロールコー
ト、ナイフコート、キスコート、ホイラーコート、ディ
イプコート、シルクスクリーンによるベタコート、ワイ
アーバーコート、フローコート、コンマコート、かけ流
しコート、刷毛塗り、スプレーコート等が挙げられる。
その他にも、印刷法としての、グラビア、グラビアオフ
セット等の凹版印刷、平版オフセット等の平版印刷、シ
ルクスクリーン等の孔版印刷、ダイリソ印刷、静電印
刷、インキジェットプリント等が挙げられる。
発明はこれに限定されるものではない。実施例中の部は
重量部を示す。
ものを主剤1とする。該主剤1を100部に、m−キシ
リレンジアミン17部およびトルエン20部を均一に混
合したものの粘度は、400センチポイズであった。ま
た、このものを、印刷を施した紙に乾燥厚さ20μmと
なるようにコーティングし、40℃で20分硬化させ
た。
イズであった。又、反応性樹脂の架橋間平均分子量は2
87であった。このものを、前記印刷と第1のコーティ
ングを施した紙に乾燥厚さ20μmとなるように第2の
コーティングをし、電子線を3Mrad照射した。この
コーティング紙をJIS K−6902に従って、テー
バー摩耗試験を行ったところ、回転数200回転での摩
耗量は、18mgであった。
ガラス製反応器中に、分子量1,000のポリテトラメ
チレングリコール1000部と、イソホロンジイソシア
ネート444部を仕込み、120℃で3時間反応する。
その後、80℃以下に冷却し、2−ヒドロキシエチルア
クリレート232部を加え、80℃でイソシアネート基
が消失するまで反応した。このものをウレタンアクリレ
ート1とする。
イズであった。又、反応性樹脂の架橋間平均分子量は2
72であった。このものを、ベタ層、絵柄層をHATイ
ンキ(ザ・インクテック製)で印刷を施した含浸紙に乾
燥厚さ15μmとなるように第1のコーティングをし、
紫外線を150mJ/cm2 照射した。
イズであった。又、反応性樹脂の架橋間平均分子量は2
87であった。このものを、前記印刷と第1のコーティ
ングを施した含浸紙に乾燥厚さ20μmとなるように第
2のコーティングをし、電子線を5Mrad照射した。
このコーティング紙をJIS K−6902に従って、
テーバー摩耗試験を行ったところ、回転数200回転で
の摩耗量は、15mgであった。
グ用組成物は、平均粒径を特定範囲とした球状粒子を反
応性樹脂に対し特定量添加し、更に第1と第2を合わせ
た2層のコーティング層の平均膜厚と上記球状粒子との
関係を特定したことにより、コーティング皮膜の耐擦傷
性及び可撓性に優れるとともに、該皮膜の透明性や表面
平滑性に優れた皮膜が得られる。従って本発明の化粧シ
ートの表面は、摩擦や引っ掻きで傷がつきにくく、破損
しにくくかつ、皮膜自体に可撓性があって基材が屈曲し
ても皮膜がひび割れることがなく、更に、外観も良好で
ある。
Claims (9)
- 【請求項1】 基材上に、平均粒径が3〜50μmの球
状粒子(A)および反応性樹脂(B)からなり、該
(A)の含有量が(A)と(B)の合計量に対し5〜5
0重量%であり、該(A)の平均粒径d(μm)が、下
記式(1)を満足する第1のコーティング用組成物層、
反応性樹脂(C)からなる第2のコーティング用組成物
層がこの順に形成されてなる化粧シート。 0.3t≦d≦2.0t (1) [但し、tは第1と第2を合わせたコーティング層の平
均膜厚(μm)である。] - 【請求項2】 球状粒子(A)がヌープ硬度1300k
g/mm2 以上の球状無機粒子である請求項1記載の化
粧シート。 - 【請求項3】 球状粒子(A)が球状アルミナ系粒子で
ある請求項1または2記載の化粧シート。 - 【請求項4】 球状粒子(A)中の酸化アルミニウムの
含量が90重量%以上である請求項1〜3いずれか記載
の化粧シート。 - 【請求項5】 反応性樹脂(B)または(C)が、熱硬
化性樹脂である請求項1〜4いずれか記載の化粧シー
ト。 - 【請求項6】 反応性樹脂(B)または(C)が、電離
放射線硬化性樹脂である請求項1〜4いずれか記載の化
粧シート。 - 【請求項7】 反応性樹脂(B)または(C)の少なく
とも10重量%が、下記一般式(2)で表されるポリエ
ーテル系ウレタン(メタ)アクリレートであることを特
徴とする請求項1〜6いずれか記載の化粧シート。 CH2 =C(R1 )−COOCH2 CH2 −OCONH−X−NHCOO −[−CH(R2 )−(CH2 )n −O−]m −CONH−X−NHCOO −CH2 CH2 OCOC(R1 )=CH2 (2) (式中、R1 、R2 はそれぞれ水素またはメチル基であ
り、Xはジイソシアネート残基、nは1〜3の整数、m
は6〜60の整数である。) - 【請求項8】 反応性樹脂(B)または(C)を熱また
は電離放射線で硬化した後の架橋間平均分子量が150
〜1,000である請求項1〜7いずれかに記載の化粧
シート。 - 【請求項9】 反応性樹脂(B)を溶解し、かつ常圧で
の沸点が70℃〜150℃である1種以上の溶剤を
(A)と(B)の合計量に対して30重量%以下含有す
る請求項1〜8いずれかに記載の化粧シート。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29947697A JP3220852B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 化粧シート |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP29947697A JP3220852B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 化粧シート |
Publications (2)
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JPH11115141A true JPH11115141A (ja) | 1999-04-27 |
JP3220852B2 JP3220852B2 (ja) | 2001-10-22 |
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ID=17873074
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP29947697A Expired - Lifetime JP3220852B2 (ja) | 1997-10-16 | 1997-10-16 | 化粧シート |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3220852B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001047726A1 (en) * | 1999-12-23 | 2001-07-05 | Perstorp Flooring Ab | A process for achieving a wear resistant translucent surface on surface elements |
JP2001287314A (ja) * | 2000-04-04 | 2001-10-16 | Toppan Printing Co Ltd | 化粧シート |
-
1997
- 1997-10-16 JP JP29947697A patent/JP3220852B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6685993B1 (en) | 1999-12-23 | 2004-02-03 | Pergo (Europe) Ab | Process for achieving a wear resistant translucent surface on surface elements |
US8944543B2 (en) | 1999-12-23 | 2015-02-03 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
US8950138B2 (en) | 1999-12-23 | 2015-02-10 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
US9321299B2 (en) | 1999-12-23 | 2016-04-26 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
US9409412B2 (en) | 1999-12-23 | 2016-08-09 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
US9636923B2 (en) | 1999-12-23 | 2017-05-02 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
US9636922B2 (en) | 1999-12-23 | 2017-05-02 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
US9656476B2 (en) | 1999-12-23 | 2017-05-23 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
US10464339B2 (en) | 1999-12-23 | 2019-11-05 | Pergo (Europe) Ab | Process for the manufacturing of surface elements |
JP2001287314A (ja) * | 2000-04-04 | 2001-10-16 | Toppan Printing Co Ltd | 化粧シート |
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