JPH11109330A - カラーフィルタ基板、液晶表示素子、及びカラーフィルタ基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 洗浄工程やラビング工程での発塵や装置の汚
染、またそれに伴う画素部の汚れ・ゴミ付着を惹起する
ことがなく、歩留りや信頼性の高いカラー表示型液晶表
示素子、及びそのカラー表示型液晶表示素子に用いるカ
ラーフィルタ基板を提供する。 【解決手段】 ガラス基板１０の液晶表示領域に加え、
この液晶表示領域の周辺にも透明電極１８を形成し、ガ
ラス基板１０上に形成した着色層１２ｃを前記周辺部分
のガラス基板１０と透明電極１８とで封止する構成とし
た。その結果、前記周辺部分に着色層の顔料等が漏れだ
して発塵や装置の汚染、またそれに伴う画素部の汚れ・
ゴミ付着を惹起することがなく、歩留りや信頼性の高い
カラーフィルタ基板が得られた。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばＴＦＴなど
を用いた液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基
板、液晶表示素子、及びカラーフィルタ基板の製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、ワープロやノート型パソコンなど
に広く用いられている液晶表示素子では、表面に電極が
形成された２枚のガラス基板の間に液晶材料を挟持し、
液晶封入口以外の２枚のガラス基板の周囲を接着剤で固
定する一方、液晶封入口が封止剤で封止された構造とな
っている。

【０００３】このうちカラー表示用液晶表示素子では２
枚のガラス基板のうちの１枚にＲＧＢの着色層を設けた
カラーフィルタが形成してある。例えば、単純マトリク
ス駆動のカラー型ドットマトリクス液晶表示素子では、
横（Ｙ）方向に帯状にパタ−ニングされたＹ電極を有す
るＹ基板と縦（Ｘ）方向に帯状にパタ−ニングされたＸ
電極の下に着色層を有するＸ基板とを、Ｙ電極とＸ電極
とがほぼ直交するように対向設置し、その間に液晶組成
物を挟持させた構造となっている。

【０００４】図４は従来のカラー表示用液晶表示素子の
断面を示した図である。

【０００５】この図４に示すように、ガラス基板１００
の表面にＲＧＢの着色層１０１が形成され、更にその上
に透明電極１０２と配向膜１０３とが形成された構造と
なっている。

【０００６】ところで、ガラス基板１００のうち着色層
１０１が形成されている領域は液晶表示領域と呼ばれる
領域であり、ワープロやノート型パソコンなどの機器に
液晶表示素子を組み込んだときにディスプレイとして機
器の画面を構成する部分である。従来のカラー表示用液
晶表示素子ではガラス基板１００上に着色層１０１を形
成したのち、この上から透明電極１０２を形成してお
り、この透明電極１０２を液晶表示領域より若干大きめ
に形成することにより着色層１０１をガラス基板１００
と透明電極１０２との間に封止する構造となっている。
そして現在一般に用いられているカラーフィルタは、フ
ォトプロセス・現像プロセスを用いて作製する顔料分散
法や染料分散法で形成されるものが主流になっている。

【０００７】しかるに、これらのカラーフィルタを製造
する際に、本来着色層を形成する表示領域以外の周辺部
等のガラス基板上に顔料やレジストの残渣が残ってしま
う。そしてこの残渣等が洗浄工程やラビング工程での発
塵や装置汚染の原因となり、それを用いる液晶表示素子
の製造において歩留りの低下や信頼性の低下を招くとい
う問題がある。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
問題を解決するためになされたもので、洗浄工程やラビ
ング工程での発塵や装置の汚染、またそれに伴う画素部
の汚れ・ゴミ付着を惹起することがなく、歩留りや信頼
性の高いカラー表示型液晶表示素子、及びそのカラー表
示型液晶表示素子に用いるカラーフィルタ基板を提供す
る事を目的とする。 また本発明は、洗浄工程やラビン
グ工程での発塵や装置の汚染、またそれに伴う画素部の
汚れ・ゴミ付着を惹起することがなく、歩留りや信頼性
の高いカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを
目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、請求項１記載の本発明のカラーフィルタ基板は、ガ
ラス基板と、前記ガラス基板の一主面上の液晶表示領域
に形成された着色層と、前記ガラス基板の前記液晶表示
領域及びこの液晶表示領域の周辺に形成された透明電極
と、を具備する。

【００１０】請求項２記載の本発明のカラーフィルタ基
板は、ガラス基板と、前記ガラス基板の一主面上の液晶
表示領域に形成された着色層と、前記ガラス基板の前記
液晶表示領域及びこの液晶表示領域の周辺に形成された
透明電極と、液晶セルのセルギャップを規定するための
スペーサと、を具備する。

【００１１】請求項３記載の本発明の液晶表示素子は、
ガラス基板と、前記ガラス基板の一主面上の液晶表示領
域に形成された着色層と、前記ガラス基板の前記液晶表
示領域及びこの液晶表示領域の周辺に形成された透明電
極とを有するカラーフィルタ基板と、前記カラーフィル
タ基板の一主面と対向するように配置された対向基板
と、前記カラーフィルタ基板と前記対向基板との間に挟
持された液晶層とを具備する。

【００１２】請求項４記載の本発明の液晶表示素子は、
ガラス基板と、前記ガラス基板の一主面上の液晶表示領
域に形成された着色層と、前記ガラス基板の前記液晶表
示領域及びこの液晶表示領域の周辺に形成された透明電
極と、を具備するカラーフィルタ基板と、前記カラーフ
ィルタ基板の一主面と対向するように配置された対向基
板と、前記カラーフィルタ基板と、前記対向基板との間
隙を規定するためのスペーサと、前記カラーフィルタ基
板と前記対向基板との間に挟持された液晶層とを具備す
る。

【００１３】請求項５記載の本発明のカラーフィルタ基
板の製造方法は、ガラス基板上に着色層を形成する工程
と、着色層を形成したガラス基板上の液晶表示領域及び
この液晶表示領域の周辺に透明電極を構成する金属膜を
成膜する工程と、金属膜を成膜したガラス基板上に配向
膜を形成する工程と、を具備する。

【００１４】請求項１のカラーフィルタ基板では、ガラ
ス基板の液晶表示領域に加え、この液晶表示領域の周辺
にも透明電極を形成し、ガラス基板上に形成した着色層
を前記周辺部分のガラス基板と透明電極とで封止してい
るので、前記周辺部分に着色層の顔料等が漏れだして発
塵や装置の汚染、またそれに伴う画素部の汚れ・ゴミ付
着を惹起することがなく、歩留りや信頼性の高いカラー
フィルタ基板が得られる。

【００１５】請求項２のカラーフィルタ基板では、液晶
表示領域の周辺にも透明電極を形成したことに加え、液
晶セルのセルギャップを規定するためのスペーサを基板
上に設けたので、画素部の汚れ・ゴミ付着が未然に防止
されることに加え、撓みや変形による液晶組成物層の不
均一化がなくなり、より歩留りや信頼性の高いカラーフ
ィルタ基板が得られる。

【００１６】請求項３の液晶表示素子では、ガラス基板
の液晶表示領域に加え、この液晶表示領域の周辺にも透
明電極を形成し、ガラス基板上に形成した着色層を前記
周辺部分のガラス基板と透明電極とで封止しているの
で、前記周辺部分に着色層の顔料等が漏れだして発塵や
装置の汚染、またそれに伴う画素部の汚れ・ゴミ付着を
惹起することがなく、歩留りや信頼性の高いカラーフィ
ルタ基板が得られる。

【００１７】請求項４記載の液晶表示素子では、液晶表
示領域の周辺にも透明電極を形成したことに加え、液晶
セルのセルギャップ、即ち、前記カラーフィルタ基板と
前記対向基板との間隙を規定するためのスペーサを基板
上に設けたので、画素部の汚れ・ゴミ付着が未然に防止
されることに加え、撓みや変形による液晶組成物層の不
均一化がなくなり、より歩留りや信頼性の高いカラーフ
ィルタ基板が得られる。 請求項５記載のカラーフィル
タ基板の製造方法では、表示領域以外にも透明電極が形
成されるマスクを用い、レジスト塗布後のガラス基板に
対して液晶表示領域とこの液晶表示領域の周辺にも成膜
するので、ガラス基板の液晶表示領域に加え、この液晶
表示領域の周辺にも透明電極が形成され、ガラス基板上
に形成した着色層を前記周辺部分のガラス基板と透明電
極とで封止される。その結果、前記周辺部分に着色層の
顔料等が漏れだして発塵や装置の汚染、またそれに伴う
画素部の汚れ・ゴミ付着を惹起することがなく、歩留り
や信頼性の高いカラーフィルタ基板が得られる。

【００１８】

【発明の実施の形態】

（第一の実施形態）以下、本発明の実施形態の詳細を図
面に基づいて説明する。

【００１９】図１は本実施形態に係るアクティブマトリ
クス型液晶素子の断面図である。

【００２０】図１に示すように、本実施形態に係るアク
ティブマトリクス型液晶素子では、ガラス基板１０の上
に能動素子１３、画素電極１４が形成されており、その
上からこれら能動素子１３及び画素電極１４を覆うよう
に配向膜１５が形成されてアモルファスシリコンＴＦＴ
基板（以下、「ＴＦＴ基板」という）１１を構成してい
る。

【００２１】一方、前記ＴＦＴ基板１１に対して平行に
対向基板１９が配設されている。この対向基板１９で
は、表面上にブラックマトリックスを構成する遮光層１
２ｋが所定の間隔ごとに形成されている。隣接する遮光
層１２ｋと遮光層１２ｋとの間には着色層１２ｃが形成
され、更にその上にＩＴＯからなる対向共通電極１８が
形成されている。そして更に対向共通電極１８の上に配
向膜１５が全体を覆うように形成されている。

【００２２】この対向基板１９では、対向共通電極１８
が、画像形成領域、即ち着色層１２ｃの配設されている
領域（図中二本の点線の間に挟まれた領域）のほか、こ
の画像形成領域の外側に隣接する周辺部分までわたって
形成されている。

【００２３】対向するＴＦＴ基板１１と対向基板１９と
の間には液晶組成物１７が挟持される一方、ＴＦＴ基板
１１と対向基板１９との端縁部分には接着剤１６が適用
されてＴＦＴ基板１１と対向基板１９との間の間隙をシ
ールしている。また、ＴＦＴ基板１１と対向基板１９と
の間の間隙にはスペーサ２１が配設されており、この間
隙を一定の大きさに保つ働きをしている。

【００２４】次に、本実施形態に係るアクティブマトリ
クス型液晶素子の製造方法について説明する。

【００２５】まず、通常のＴＦＴ基板を形成するプロセ
スと同様に、成膜とパターンニングを繰り返して薄膜ト
ランジスタと電極配線を形成した縦横１００画素、合計
１００００画素有しているＴＦＴ基板１１を形成する。

【００２６】次いで、対向基板１９上に、黒色の顔料を
分散させた紫外線効果型アクリル樹脂レジスト、例えば
ＣＫ−２０００（富士ハントテクノロジー（株）製）を
スピンナーにて全面塗布し、遮光層１２ｋ及びセル組立
時に必要なマーク類等を形成したい部分に光が照射され
るようなフォトマスク（図示省略）を介し、例えば３６
５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ² で照射し、しかる後
ＫＯＨ１％水溶液で１０秒間現像しその部分に黒の着色
層１２ｋを形成する。

【００２７】次いで、赤色の顔料を分散させた紫外線硬
化型レジスト、例えばＣＲ−２０００（富士ハントテク
ノロジー（株）製）をスピンナーにて全面塗布し、赤を
着色したい部分の周辺の遮光層上の着色層１２ｃにも光
が照肘されるようなフォトマスクを介して、例えば３６
５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ² 照射し、１％ＫＯＨ
水溶液で１０秒間現像し、その部分に赤の着色層１２ｃ
を形成する。同様にして緑色の顔料を分散させた紫外線
硬化型レジスト、例えばＣＧ−２０００（富士ハントテ
クノロジー（株）製）、青色の顔料を分散させた紫外線
硬化型レジスト、例えばＣＢ−２０００（富士ハントテ
クノロジー（株）製）を用いて緑色、青色の着色層を繰
り返し形成した後、例えば２３０°Ｃで１時間焼成す
る。

【００２８】次いで、対向共通電極１８としてＩＴＯを
スパッタにより形成する。ここでＩＴＯは、表示領域及
びその周辺数ｍｍとセルとなった後には切り落とされる
部分にＩＴＯが形成されるようなマスクを使用したマス
クスパッタにより形成する。その後配向膜材料として、
例えばＡＬ−１０５１（日本合成ゴム（株）製）を全面
に塗布し、ラビング処理を行い、配向膜１５を形成す
る。

【００２９】その後、基板１９の配向膜１５の周辺に沿
って接着剤１６を注入口（図示せず）を除いて印刷す
る。次に基板１９の表面にスペーサ２１として、例えば
粒径６μｍの積水ファインケミカル社製のミクロパール
を散布する。次に配向膜１３，１４が対向し、またそれ
ぞれのラビング方向が９０度となるよう基板１１，１９
を配置し、加熱して接着剤を硬化させ基板１１，１９を
貼り合わせる。

【００３０】次に注入口より液晶組成物１７として、例
えば、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１１
を０．１ｗｔ％添加したものを注入し、この後注入口を
紫外線硬化樹脂で封止することにより本実施形態に係る
アクティブマトリクス型液晶素子が得られる。

【００３１】本実施形態に係るアクティブマトリクス型
液晶素子では、ガラス基板１９の液晶表示領域に加え、
この液晶表示領域の周辺にも透明電極１８を形成し、ガ
ラス基板１９上に形成した着色層を前記周辺部分のガラ
ス基板１９と透明電極１８とで封止しているので、前記
周辺部分に着色層の顔料等が漏れだして発塵や装置の汚
染、またそれに伴う画素部の汚れ・ゴミ付着を惹起する
ことがなく、歩留りや信頼性の高いカラーフィルタ基板
が得られる。

【００３２】こうして形成したカラー表示型アクティブ
マトリクス液晶表示素子は、表示不良が画素もなく、質
の良い表示が得られた。また、７０℃雰囲気下での信頼
性試験１０００時間でも表示不良が発生しなかった。

【００３３】（第二の実施形態）以下本発明に係る第二
の実施形態について説明する。

【００３４】図２は本実施形態に係るアクティブマトリ
クス型液晶素子の断面図である。

【００３５】図２に示すように、本実施形態に係るアク
ティブマトリクス型液晶素子では、ガラス基板１０の上
に能動素子１３、ドレイン電極１６が形成されており、
その上からこれら能動素子１３とドレイン電極１６とを
覆うように着色層１２ｃが形成されている。

【００３６】液晶表示領域とその外側に位置する周辺の
領域では、着色層１２ｃの全面とこの着色層１２ｃの外
側に隣接する周辺の領域にわたって透明電極１４が形成
されており、特に、画像形成領域の一番外側に位置する
着色層１２ｃは、透明電極１４とガラス基板１０との間
に封止されている。

【００３７】また能動素子１３のほぼ真上に位置する着
色層１２ｃの上にはブラックマトリックスを構成する遮
光層１２ｋが対向基板１９に向けて形成されており、そ
の上からこれらドレイン電極１６、透明電極１４、着色
層１２ｃ及び遮光層１２ｋを覆うように配向膜１５が形
成されてＴＦＴ基板１１を構成している。

【００３８】一方、前記ＴＦＴ基板１１に対して平行に
対向基板１９が配設されている。この対向基板１９で
は、対向共通電極１８が形成されており、更にその上に
配向膜２２が形成されている。

【００３９】これら互いに平行に対向するＴＦＴ基板１
１と対向基板１９との間には遮光層１２ｋが２画素に一
つの割合で配設されており、この遮光層１２ｋは隣接す
る画素どうしを区画すると同時にＴＦＴ基板１１と対向
基板１９との間隙を一定に保つためのスペーサとしても
機能する。

【００４０】次に、本実施形態に係るアクティブマトリ
クス型液晶素子の製造方法について説明する。

【００４１】まず、通常のＴＦＴを形成するプロセスと
同様に成膜とパターンニングを繰り返し、薄膜トランジ
スタと電極配線を形成した縦横１００画素、合計１００
００画素有しているアモルファスシリコンＴＦＴアレイ
基板１１（以下「ＴＦＴ基板」という）を形成する。

【００４２】次にＴＦＴ基板１１上に、赤色の顔料を分
散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジスト例えば、Ｃ
Ｒ−２０００（富士ハントテクノロジー（株）製）をス
ピンナーにて全面塗布し、赤を着色したい部分の周辺の
遮光層上の着色層にも光が照射されるようなフォトマス
クを介し、例えば３６５nmの波長で１００mJ／cm² 照射
し、ＫＯＨの１％水溶液で１０秒間現像し、その部分に
赤の着色層を形成する。同様に緑、青の着色層を繰り返
し形成し、２３０℃で１時間焼成する。ここでは緑の着
色材料としては、例えばＣＧ−２０００（富士ハントテ
クノロジー（株）製）、青の着色層としては、例えばＣ
Ｂ−２０００（富士ハントテクノロジ（株）製）を用い
る。

【００４３】次いで、感光性かつ非導電性の黒色樹脂を
スピンナーを用いて塗布し、例えば、９０℃で１０分の
乾燥後、画素周辺部を含め、所定のパターン形状のフォ
トマスクを用い、例えば、３６５nmの波長で３００mJ／
cm² の露光量で露光し、pH１１．５のアルカリ水溶液に
て現像し、２００℃で６０分の焼成にて膜厚５．０μｍ
の遮光層を形成する。

【００４４】また、この黒の遮光層を画面内の非画素部
つまりは、画素と画素の間の部分に例えば、１０μｍ×
１０μｍのサイズで２画素に１個の割合で形成し、２枚
の基板間隔を制御するスペーサの機能を持たせる。

【００４５】次いで、ＩＴＯを全面に形成し、次いで画
像形成領域は透明電極１４の形状、基板のセルとなった
ときに切り落とす部分にベタでＩＴＯを残すようなマス
クを用いて、フォトプロセスを用いてＩＴＯをパターニ
ングする。この結果、液晶表示領域の最外部から液晶表
示領域の周辺の領域にわたってＩＴＯ膜が形成され、液
晶表示領域の最外部の着色層１２ｃはＩＴＯ膜とガラス
基板１０との間に封止される。

【００４６】その後配向膜材料としては、例えば、ＡＬ
−１０５１（日本合成ゴム（株）製）を全面に塗布し、
ラビング処理を行い、配向膜１５を形成する。

【００４７】一方、対向基板１９上に透明電極１８とし
てＩＴＯ膜を１５００オームストロングスパッタ法にて
成膜し、その上に同様の配向膜材料を形成した後ラビン
グ処理を行い、配向膜２２を形成した。この後、基板１
９の配向膜２２の周辺に沿って接着剤を注入口（図示せ
ず）幅９mmを除いで印刷した。次に配向膜２２，１５が
対向し、またそれぞれのラビング方、向が９０度となる
よう基板１１，１９を配置し、加熱して接着剤を硬化さ
せ基板１１，１９を貼り合わせた。

【００４８】次に通常の方法により注入口より液晶組成
物１７として、例えば、ＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク
社製）にＳ８１１を０．１wt％添加したものを注入し、
この後注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。

【００４９】本実施形態に係るアクティブマトリクス型
液晶素子では、ＴＦＴ基板１１の液晶表示領域に加え、
この液晶表示領域の周辺にもＩＴＯ膜（透明電極）１４
を形成し、ガラス基板１０上に形成した着色層１２ｃを
前記周辺部分のガラス基板１０とＩＴＯ膜１４とで封止
しているので、前記周辺部分に着色層の顔料等が漏れだ
して発塵や装置の汚染、またそれに伴う画素部の汚れ・
ゴミ付着を惹起することがなく、歩留りや信頼性の高い
カラーフィルタ基板が得られる。

【００５０】こうして形成したカラー表示型アクティブ
マトリクス液晶表示素子は、表示不良画素もなく、質の
良い表示が得られた。

【００５１】（第三の実施形態）以下、本発明の第三の
実施形態の詳細を図面に基づいて説明する。

【００５２】図３は、本実施形態に係る液晶表示素子用
カラーフィルタ基板３１の平面図である。

【００５３】図３に示すように、本実施形態に係る液晶
表示素子用カラーフィルタ基板３１では、基板３１の中
心に着色層３２ｃが形成され、液晶表示領域（図中縦縞
で示した部分）を構成している。そして、この液晶表示
領域（着色層３２ｃ）を周囲を取り囲むようにして遮光
層３２ｋが形成されている。そしてこの液晶表示領域を
含み、かつ、この液晶表示領域３２ｃの外側に位置する
周辺の領域にまでわたって透明電極３３が形成されてい
る。

【００５４】次に、本実施形態に係る液晶表示素子用カ
ラーフィルタ基板の製造方法について説明する。

【００５５】まず、カラーフィルタを形成する基板上
に、黒色の顔料を分散させた紫外線効果型アクリル樹脂
レジストとして、例えば、ＣＫ−２０００（富士ハント
テクノロジー（株）製）をスピンナーにて全面塗布し、
遮光膜及びセル組立時に必要なマーク類等を形成したい
部分に光が照射されるようなフォトマスクを介し、例え
ば３６５nmの波長で１００mJ／cm² 照射し、ＫＯＨの１
％水溶液で１０秒間現像し、その部分に黒の着色層を形
成する。

【００５６】次いで、赤色の顔料を分散させた紫外線硬
化型アクリル樹脂レジストとして、例えばＣＲ−２００
０（富士ハントテクノロジー（株）製）をスピンナーに
て全面塗布し、赤を着色したい部分の周辺の遮光層上の
着色層上の光が照射されるようなフォトマスクを介し、
例えば、３６５nmの波長で１００mJ／cm² 照射し、Ｋ０
Ｈの１％水溶液で１０秒間現像し、その部分に赤の着色
層を形成する。同様に緑、青の着色層を繰り返し形成
し、２３０℃で１時間焼成する。ここでは緑の着色材料
としては、例えば、ＣＧ一２０００（富士ハントテクノ
ロジー（株）製）を用い、青の着色層としては、例え
ば、ＣＢ−２０００（富士ハントテクノロジ（株）製）
を用いる。

【００５７】次いで、対向電極としてＩＴＯをスパッタ
により形成する。ここでＩＴＯは、液晶表示領域及びそ
の周辺数mmとセルとなった後には切り落とされる部分に
ＩＴＯが形成されるようなマスクを使用した、マスクス
パッタで形成する。

【００５８】本実施形態に係る液晶表示素子用カラーフ
ィルタ基板では、ガラス基板３１の液晶表示領域３２ｃ
に加え、この液晶表示領域の周辺にも透明電極３３を形
成し、ガラス基板３１上に形成した着色層３２ｃを前記
周辺部分のガラス基板３１と透明電極３３とで封止して
いるので、前記周辺部分に着色層の顔料等が漏れだして
発塵や装置の汚染、またそれに伴う画素部の汚れ・ゴミ
付着を惹起することがなく、歩留りや信頼性の高いカラ
ーフィルタ基板が得られる。

【００５９】こうして形成したカラーフィルタ基板を用
いて作成した液晶表示素子は歩留りも高く、信頼性も良
好であった。

【００６０】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の本発明
によれば、ガラス基板の液晶表示領域に加え、この液晶
表示領域の周辺にも透明電極を形成し、ガラス基板上に
形成した着色層を前記周辺部分のガラス基板と透明電極
とで封止しているので、前記周辺部分に着色層の顔料等
が漏れだして発塵や装置の汚染、またそれに伴う画素部
の汚れ・ゴミ付着を惹起することがなく、歩留りや信頼
性の高いカラーフィルタ基板が得られる。

【００６１】請求項２の本発明によれば、液晶表示領域
の周辺にも透明電極を形成したことに加え、液晶セルの
セルギャップを規定するためのスペーサを基板上に設け
たので、画素部の汚れ・ゴミ付着が未然に防止されるこ
とに加え、撓みや変形による液晶組成物層の不均一化が
なくなり、より歩留りや信頼性の高いカラーフィルタ基
板が得られる。

【００６２】請求項３の本発明によれば、ガラス基板の
液晶表示領域に加え、この液晶表示領域の周辺にも透明
電極を形成し、ガラス基板上に形成した着色層を前記周
辺部分のガラス基板と透明電極とで封止しているので、
前記周辺部分に着色層の顔料等が漏れだして発塵や装置
の汚染、またそれに伴う画素部の汚れ・ゴミ付着を惹起
することがなく、歩留りや信頼性の高いカラーフィルタ
基板が得られる。

【００６３】請求項４記載の本発明によれば、液晶表示
領域の周辺にも透明電極を形成したことに加え、液晶セ
ルのセルギャップ、即ち、前記カラーフィルタ基板と前
記対向基板との間隙を規定するためのスペーサを基板上
に設けたので、画素部の汚れ・ゴミ付着が未然に防止さ
れることに加え、撓みや変形による液晶組成物層の不均
一化がなくなり、より歩留りや信頼性の高いカラーフィ
ルタ基板が得られる。請求項５記載の本発明によれば、
表示領域以外にも透明電極が形成されるマスクを用い、
レジスト塗布後のガラス基板に対して液晶表示領域とこ
の液晶表示領域の周辺にも成膜するので、ガラス基板の
液晶表示領域に加え、この液晶表示領域の周辺にも透明
電極が形成され、ガラス基板上に形成した着色層を前記
周辺部分のガラス基板と透明電極とで封止される。その
結果、前記周辺部分に着色層の顔料等が漏れだして発塵
や装置の汚染、またそれに伴う画素部の汚れ・ゴミ付着
を惹起することがなく、歩留りや信頼性の高いカラーフ
ィルタ基板が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るアクティブマトリクス型液晶素子
の断面図である。

【図２】本発明に係るアクティブマトリクス型液晶素子
の断面図である。

【図３】本発明に係る液晶表示素子用カラーフィルタ基
板の平面図である。

【図４】従来のアクティブマトリクス型液晶素子の断面
図である。

【符号の説明】

１１・・・・・アクティブマトリクス基板 １２ｃ・・・・着色層 １２ｋ・・・・遮光層 １３・・・・・能動素子 １４・・・・・透明電極 １５，２２・・配向膜 １６・・・・・接着剤 １７・・・・・液晶組成物 １８・・・・・対向共通電極 １９・・・・・対向基板

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ガラス基板と、 前記ガラス基板の一主面上の液晶表示領域に形成された
   着色層と、 前記ガラス基板の前記液晶表示領域及びこの液晶表示領
   域の周辺に形成された透明電極と、 を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板。
2. 【請求項２】 ガラス基板と、 前記ガラス基板の一主面上の液晶表示領域に形成された
   着色層と、 前記ガラス基板の前記液晶表示領域及びこの液晶表示領
   域の周辺に形成された透明電極と、 液晶セルのセルギャップを規定するためのスペーサと、 を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板。
3. 【請求項３】 ガラス基板と、前記ガラス基板の一主面
   上の液晶表示領域に形成された着色層と、前記ガラス基
   板の前記液晶表示領域及びこの液晶表示領域の周辺に形
   成された透明電極とを有するカラーフィルタ基板と、 前記カラーフィルタ基板の一主面と対向するように配置
   された対向基板と、 前記カラーフィルタ基板と前記対向基板との間に挟持さ
   れた液晶層とを具備することを特徴とする液晶表示素
   子。
4. 【請求項４】 ガラス基板と、前記ガラス基板の一主面
   上の液晶表示領域に形成された着色層と、前記ガラス基
   板の前記液晶表示領域及びこの液晶表示領域の周辺に形
   成された透明電極と、を具備するカラーフィルタ基板
   と、 前記カラーフィルタ基板の一主面と対向するように配置
   された対向基板と、 前記カラーフィルタ基板と前記対向基板との間隙を規定
   するためのスペーサと、 前記カラーフィルタ基板と前
   記対向基板との間に挟持された液晶層とを具備すること
   を特徴とする液晶表示素子。
5. 【請求項５】 ガラス基板上に着色層を形成する工程
   と、着色層を形成したガラス基板上の液晶表示領域及び
   この液晶表示領域の周辺に透明電極を構成する金属膜を
   成膜する工程と、 金属膜を成膜したガラス基板上に配向膜を形成する工程
   と、 を具備することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造
   方法。