JPH11109104A - 反射防止膜 - Google Patents
反射防止膜Info
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- JPH11109104A JPH11109104A JP9275407A JP27540797A JPH11109104A JP H11109104 A JPH11109104 A JP H11109104A JP 9275407 A JP9275407 A JP 9275407A JP 27540797 A JP27540797 A JP 27540797A JP H11109104 A JPH11109104 A JP H11109104A
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
- C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/70—Properties of coatings
- C03C2217/71—Photocatalytic coatings
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 汚染防止特性に優れた反射防止膜を得る。
【解決手段】 基材１１表面における光の反射を防止す
るための反射防止膜１４であって、基材１１表面を覆う
反射防止層１２と、この反射防止層１２上に設けられた
光触媒層１３とからなる。光触媒層１３は、反射防止層
１２による反射防止効果が得られる範囲の膜厚Ｔを有し
ている。これによって、反射防止効果を損ねることな
く、有機化合物系の汚れが光触媒反応により自然に分解
除去されて汚染防止特性に優れた反射防止膜１４を得る
ことができる。
るための反射防止膜１４であって、基材１１表面を覆う
反射防止層１２と、この反射防止層１２上に設けられた
光触媒層１３とからなる。光触媒層１３は、反射防止層
１２による反射防止効果が得られる範囲の膜厚Ｔを有し
ている。これによって、反射防止効果を損ねることな
く、有機化合物系の汚れが光触媒反応により自然に分解
除去されて汚染防止特性に優れた反射防止膜１４を得る
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基材表面における
光の反射を防止するための膜に関し、特には表示装置の
前面板等のような透明な基材表面における反射防止に適
用される反射防止膜に関する。
光の反射を防止するための膜に関し、特には表示装置の
前面板等のような透明な基材表面における反射防止に適
用される反射防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】テレビやコンピュータの表示部のように
透明な前面板（以下、基材と記す）を通して表示を見る
場合、基材表面での反射光が強いと、目に不快感を与え
たりするだけではなく、表示内容が見え難くなる。ま
た、眼鏡用レンズの場合には、反射光が強いとゴース
ト、フレア等と呼ばれる反射像が生じ、ルッキンググラ
スの場合には内容物が判然としない等の問題が生じる。
透明な前面板（以下、基材と記す）を通して表示を見る
場合、基材表面での反射光が強いと、目に不快感を与え
たりするだけではなく、表示内容が見え難くなる。ま
た、眼鏡用レンズの場合には、反射光が強いとゴース
ト、フレア等と呼ばれる反射像が生じ、ルッキンググラ
スの場合には内容物が判然としない等の問題が生じる。
【０００３】このため、上記透明な基材の表面上には、
反射防止膜が設けられている。例えば、上記表示部の基
材には、反射率４．５％程度のガラスが用いられている
が、基材の表面に反射防止膜を設けることで、その反射
率を１．０％程度にまで低下させることができる。
反射防止膜が設けられている。例えば、上記表示部の基
材には、反射率４．５％程度のガラスが用いられている
が、基材の表面に反射防止膜を設けることで、その反射
率を１．０％程度にまで低下させることができる。
【０００４】上記反射防止膜は、空気と近い屈折率を有
する物質で構成され、より高い反射防止効果が得られる
ように設定された膜厚を有している。そして、反射防止
膜が単層構造である場合には、反射防止膜の光学的膜厚
ｔを、ｔ＝（１／４）λ（２ｎ−１）に設定すること
で、最も高い反射防止効果を得ることができる。ただ
し、光学的膜厚ｔとは膜形成材料の屈折率と膜厚との積
で与えられる値であり、λは反射防止の対象となる光の
波長であり、ｎは１以上の整数である。
する物質で構成され、より高い反射防止効果が得られる
ように設定された膜厚を有している。そして、反射防止
膜が単層構造である場合には、反射防止膜の光学的膜厚
ｔを、ｔ＝（１／４）λ（２ｎ−１）に設定すること
で、最も高い反射防止効果を得ることができる。ただ
し、光学的膜厚ｔとは膜形成材料の屈折率と膜厚との積
で与えられる値であり、λは反射防止の対象となる光の
波長であり、ｎは１以上の整数である。
【０００５】また、上記反射防止膜は、単層からなるも
のだけではなく、複数層からなる多層構造のものも有
る。多層構造である場合には、「工学技術コンタクト、
vol.９、No. ８、（１９７１）p.１７」に記載されてい
るように、上層よりも屈折率の高い材料を下層に配置す
ることで、反射防止層による反射防止効果をより高める
とが可能になる。さらに、特開昭５８−４６３０１号公
報、特開昭５９−４９５０１号公報及び特開昭５９−５
０４０１号公報に記載されているように、上記の光学的
膜厚ｔの条件を満足させる複数層からなる反射防止膜
を、液状組成物を用いて形成する方法も提案されてい
る。
のだけではなく、複数層からなる多層構造のものも有
る。多層構造である場合には、「工学技術コンタクト、
vol.９、No. ８、（１９７１）p.１７」に記載されてい
るように、上層よりも屈折率の高い材料を下層に配置す
ることで、反射防止層による反射防止効果をより高める
とが可能になる。さらに、特開昭５８−４６３０１号公
報、特開昭５９−４９５０１号公報及び特開昭５９−５
０４０１号公報に記載されているように、上記の光学的
膜厚ｔの条件を満足させる複数層からなる反射防止膜
を、液状組成物を用いて形成する方法も提案されてい
る。
【０００６】上記表示部においては、真空蒸着法やスパ
ッタリング法によって成膜される無機酸化物や無機ハロ
ゲン化物からなる反射防止膜が用いられている。このよ
うな反射防止膜は、高い表面硬度を有している。また、
上記公報では、反射防止膜の表面硬度をさらに高めるた
めに、最表面の膜中にシリカ微粒子のような無機物を３
０重量％以上含有させることも提案されている。
ッタリング法によって成膜される無機酸化物や無機ハロ
ゲン化物からなる反射防止膜が用いられている。このよ
うな反射防止膜は、高い表面硬度を有している。また、
上記公報では、反射防止膜の表面硬度をさらに高めるた
めに、最表面の膜中にシリカ微粒子のような無機物を３
０重量％以上含有させることも提案されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記反射防
止膜は、高い表面硬度を有する反面、指紋、汗、ヘアリ
キッド、ヘアスプレー等による汚れが目立ち易く、また
除去し難いと言う問題がある。そこで、特開平１−２０
４１３０号公報に記載されているように、ポリシロキサ
ン系の重合物を最表面に設けた反射防止膜が提案され
た。また、特開平３−２６６８０１号公報に記載されて
いるように、発水性を有するフッ素系樹脂層を最表面に
設けた反射防止膜が提案された。これらの反射防止膜で
は、表面エネルギーの低い物質を最表面に設けること
で、汚れや水分が付着することを防止している。
止膜は、高い表面硬度を有する反面、指紋、汗、ヘアリ
キッド、ヘアスプレー等による汚れが目立ち易く、また
除去し難いと言う問題がある。そこで、特開平１−２０
４１３０号公報に記載されているように、ポリシロキサ
ン系の重合物を最表面に設けた反射防止膜が提案され
た。また、特開平３−２６６８０１号公報に記載されて
いるように、発水性を有するフッ素系樹脂層を最表面に
設けた反射防止膜が提案された。これらの反射防止膜で
は、表面エネルギーの低い物質を最表面に設けること
で、汚れや水分が付着することを防止している。
【０００８】しかし、このような反射防止膜であって
も、一度付着した汚れは、拭き取る等して除去しなけば
ならないという問題があった。
も、一度付着した汚れは、拭き取る等して除去しなけば
ならないという問題があった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の反射防止膜は、基材表面を覆う反射防止層
と、この反射防止層上に設けられた光触媒層とで構成さ
れている。上記光触媒層は、反射防止層による反射防止
効果が得られる範囲の膜厚を有している。
の本発明の反射防止膜は、基材表面を覆う反射防止層
と、この反射防止層上に設けられた光触媒層とで構成さ
れている。上記光触媒層は、反射防止層による反射防止
効果が得られる範囲の膜厚を有している。
【００１０】上記構成の反射防止膜では、光が照射され
ると光触媒層で構成された表面に酸化性の活性表面が形
成され、有機化合物の分解等に触媒として作用するよう
になる。このため、上記反射防止膜表面に付着した有機
化合物系の汚れは、上記光触媒層の触媒作用によって分
解除去される。しかも、光触媒層は、その下層の反射防
止層による反射防止効果が得られる範囲の膜厚を有して
いるため、この光触媒層で反射防止層を覆っても反射防
止効果は確保される。
ると光触媒層で構成された表面に酸化性の活性表面が形
成され、有機化合物の分解等に触媒として作用するよう
になる。このため、上記反射防止膜表面に付着した有機
化合物系の汚れは、上記光触媒層の触媒作用によって分
解除去される。しかも、光触媒層は、その下層の反射防
止層による反射防止効果が得られる範囲の膜厚を有して
いるため、この光触媒層で反射防止層を覆っても反射防
止効果は確保される。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図１
に基づいて説明する。先ず、図１（１）に示すように、
ガラスやその他の樹脂材料からなる透明な基材１１を用
意する。次に、図１（２）に示すように、基材１１の上
面に反射防止層１２を形成する。この反射防止層１２
は、単層または多層構造であることとする。図において
は、下層１２ａと上層１２ｂとの２層構造の反射防止層
１２を示した。そして、反射防止層１２の最上層（図に
おいては上層１２ｂ）を構成する材料としては、空気と
の屈折率の差が基材１１と空気との屈折率の差よりも小
さい材料を用いることとする。尚、反射防止層１２が単
層構造である場合には、基材と空気との屈折率の差より
も空気との屈折率の差が小さい材料で反射防止層１２を
構成する。
に基づいて説明する。先ず、図１（１）に示すように、
ガラスやその他の樹脂材料からなる透明な基材１１を用
意する。次に、図１（２）に示すように、基材１１の上
面に反射防止層１２を形成する。この反射防止層１２
は、単層または多層構造であることとする。図において
は、下層１２ａと上層１２ｂとの２層構造の反射防止層
１２を示した。そして、反射防止層１２の最上層（図に
おいては上層１２ｂ）を構成する材料としては、空気と
の屈折率の差が基材１１と空気との屈折率の差よりも小
さい材料を用いることとする。尚、反射防止層１２が単
層構造である場合には、基材と空気との屈折率の差より
も空気との屈折率の差が小さい材料で反射防止層１２を
構成する。
【００１２】上記反射防止層１２を構成する材料として
は、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ａｌ2 Ｏ3、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ
2 、ＴｉＯ、Ｔｉ2 Ｏ3 、Ｙ2 Ｏ3 、Ｙｂ2 Ｏ3 、Ｍｇ
Ｏ、ＣｅＯ2 、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)等の酸化物や
ＴａＨｆ2 等の化合物が用いられる。この反射防止層１
２は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
リング法等に代表されるＰＶＤ（Physical Vapor Depos
ition)法や、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)法に
よって、膜厚の制御性が良好な状態で形成されることと
する。尚、上記反射防止層１２としては、液状組成物を
用いて形成されたものでも良い。
は、ＳｉＯ2 、ＳｉＯ、Ａｌ2 Ｏ3、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ
2 、ＴｉＯ、Ｔｉ2 Ｏ3 、Ｙ2 Ｏ3 、Ｙｂ2 Ｏ3 、Ｍｇ
Ｏ、ＣｅＯ2 、ＩＴＯ(Indium Tin Oxide)等の酸化物や
ＴａＨｆ2 等の化合物が用いられる。この反射防止層１
２は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ
リング法等に代表されるＰＶＤ（Physical Vapor Depos
ition)法や、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition)法に
よって、膜厚の制御性が良好な状態で形成されることと
する。尚、上記反射防止層１２としては、液状組成物を
用いて形成されたものでも良い。
【００１３】上記反射防止層１２の膜厚は、次にこの反
射防止層１２の上面に光触媒層を設けた場合に、光触媒
層の表面側から照射した光の反射率が最も低くなるよう
な値に設定される。この膜厚は、例えばシミュレーショ
ンによって得ることとする。
射防止層１２の上面に光触媒層を設けた場合に、光触媒
層の表面側から照射した光の反射率が最も低くなるよう
な値に設定される。この膜厚は、例えばシミュレーショ
ンによって得ることとする。
【００１４】次に、図１（３）に示すように、反射防止
層１２の上面に、光触媒層１３を形成する。この光触媒
層１３を構成する材料としては、ＴｉＯ2 やＺｎＯ等が
用いられる。この光触媒層１３は、真空蒸着法、イオン
プレーティング法、スパッタリング法等に代表されるＰ
ＶＤ（Physical Vapor Deposition)法や、ＣＶＤ（Chem
ical Vapor Deposition)法によって、膜厚の制御性が良
好な状態で成膜されることとする。
層１２の上面に、光触媒層１３を形成する。この光触媒
層１３を構成する材料としては、ＴｉＯ2 やＺｎＯ等が
用いられる。この光触媒層１３は、真空蒸着法、イオン
プレーティング法、スパッタリング法等に代表されるＰ
ＶＤ（Physical Vapor Deposition)法や、ＣＶＤ（Chem
ical Vapor Deposition)法によって、膜厚の制御性が良
好な状態で成膜されることとする。
【００１５】この光触媒層１３の膜厚Ｔは、上記反射防
止層１２による反射防止効果が得られる範囲、すなわ
ち、光触媒層１３による光触媒効果が得られる範囲でか
つ反射防止層１２の反射防止効果を妨げない範囲に設定
されることとする。
止層１２による反射防止効果が得られる範囲、すなわ
ち、光触媒層１３による光触媒効果が得られる範囲でか
つ反射防止層１２の反射防止効果を妨げない範囲に設定
されることとする。
【００１６】以上のようにして、反射防止層１２とその
上層の光触媒層１３とからなる反射防止膜１４を得る。
上層の光触媒層１３とからなる反射防止膜１４を得る。
【００１７】上記構成の反射防止膜１４は、基材１１表
面を覆う反射防止膜１４に光が照射されると、反射防止
膜１４表面に光触媒層１３による酸化性の活性表面が形
成され、有機化合物の分解等に触媒として作用するよう
になる。このため、上記反射防止膜１４表面に付着した
有機化合物系の汚れは、光触媒層１３の触媒作用によっ
て分解除去される。しかも、光触媒層１３は、反射防止
層１２による反射防止効果が得られる範囲の膜厚Ｔを有
している。このため、空気との屈折率の差が大きく、反
射率が大きいＴｉＯ2 やＺｎＯからなる光触媒層１３を
最表面に設けても、反射防止効果が損なわれることはな
い。
面を覆う反射防止膜１４に光が照射されると、反射防止
膜１４表面に光触媒層１３による酸化性の活性表面が形
成され、有機化合物の分解等に触媒として作用するよう
になる。このため、上記反射防止膜１４表面に付着した
有機化合物系の汚れは、光触媒層１３の触媒作用によっ
て分解除去される。しかも、光触媒層１３は、反射防止
層１２による反射防止効果が得られる範囲の膜厚Ｔを有
している。このため、空気との屈折率の差が大きく、反
射率が大きいＴｉＯ2 やＺｎＯからなる光触媒層１３を
最表面に設けても、反射防止効果が損なわれることはな
い。
【００１８】また、上記反射防止膜１４において、光触
媒層１３下の反射防止層１２の表面をＳｉＯ2 （二酸化
ケイ素）で構成した場合、すなわち、図においては上層
１２ｂをＳｉＯ2 で構成した場合、ＳｉＯ2 がそれより
下層の反射防止層（すなわち図においては下層１２ａ）
及び基材１１と光触媒層１３との間のバリアとして働
く。このため、光触媒層１３の触媒作用が、反射防止層
（下層１２ｂ）や基材１１によって妨げられることはな
い。
媒層１３下の反射防止層１２の表面をＳｉＯ2 （二酸化
ケイ素）で構成した場合、すなわち、図においては上層
１２ｂをＳｉＯ2 で構成した場合、ＳｉＯ2 がそれより
下層の反射防止層（すなわち図においては下層１２ａ）
及び基材１１と光触媒層１３との間のバリアとして働
く。このため、光触媒層１３の触媒作用が、反射防止層
（下層１２ｂ）や基材１１によって妨げられることはな
い。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の実施例を、上記図１に基づい
て説明する。
て説明する。
【００２０】先ず、図１（１）に示すように、膜厚１０
０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、
ＰＥＴと記す）を、基材１１として用意した。そして、
図１（２）に示すように、スパッタリング法によって、
この基材１１上にＩＴＯ膜（下層）１２ａを膜厚９６ｎ
ｍの膜厚で成膜し、さらにこのＩＴＯ膜１２ａ上にＳｉ
Ｏ2 膜（上層）１２ｂを６２ｎｍの膜厚で成膜した。こ
れらのＩＴＯ膜１２ａ及びＳｉＯ2 膜１２ｂによって、
２層構造の反射防止層１２を得た。
０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（以下、
ＰＥＴと記す）を、基材１１として用意した。そして、
図１（２）に示すように、スパッタリング法によって、
この基材１１上にＩＴＯ膜（下層）１２ａを膜厚９６ｎ
ｍの膜厚で成膜し、さらにこのＩＴＯ膜１２ａ上にＳｉ
Ｏ2 膜（上層）１２ｂを６２ｎｍの膜厚で成膜した。こ
れらのＩＴＯ膜１２ａ及びＳｉＯ2 膜１２ｂによって、
２層構造の反射防止層１２を得た。
【００２１】次に、図１（３）に示すように、反射防止
層１２上に、ＣＶＤ法によってＴｉＯ2 （二酸化チタ
ン）を５ｎｍの膜厚Ｔで成膜し、このＴｉＯ2 からなる
光触媒層１３を形成した。以上によって、２層構造の反
射防止層１２と、光触媒層１３とからなる反射防止膜１
４を得た。この図１（３）に示す反射防止膜１４を実施
例のサンプルとする。
層１２上に、ＣＶＤ法によってＴｉＯ2 （二酸化チタ
ン）を５ｎｍの膜厚Ｔで成膜し、このＴｉＯ2 からなる
光触媒層１３を形成した。以上によって、２層構造の反
射防止層１２と、光触媒層１３とからなる反射防止膜１
４を得た。この図１（３）に示す反射防止膜１４を実施
例のサンプルとする。
【００２２】尚、上記反射防止層１２を構成するＩＴＯ
膜１２ａ及びＳｉＯ2 膜１２ｂの膜厚は、５ｎｍの膜厚
のＴｉＯ2 からなる光触媒層１３を設けた上記構成の反
射防止膜１４において、その反射率が最も低くなる値と
してシミュレーションによって得た値である。
膜１２ａ及びＳｉＯ2 膜１２ｂの膜厚は、５ｎｍの膜厚
のＴｉＯ2 からなる光触媒層１３を設けた上記構成の反
射防止膜１４において、その反射率が最も低くなる値と
してシミュレーションによって得た値である。
【００２３】上記反射防止膜１４の反射防止効果及び汚
染除去効果に関する性能試験を行った。性能試験の結果
を比較するために、次の比較例１〜比較例３のサンプル
を用意した。
染除去効果に関する性能試験を行った。性能試験の結果
を比較するために、次の比較例１〜比較例３のサンプル
を用意した。
【００２４】比較例１のサンプルは、図２に示すよう
に、基材１１上に、反射防止層１２と膜厚２０ｎｍのＴ
ｉＯ2 からなる光触媒層１３ａとを設けたものである。
反射防止膜１２は、上記実施例のサンプルと同様にＩＴ
Ｏ膜１２ａとＳｉＯ2 膜１２ｂとの２層構造に構成され
たものである。ただし、比較例１において、上記反射防
止層１２を構成するＩＴＯ膜１２ａの膜厚は６９ｎｍ、
ＳｉＯ2 膜１２ｂの膜厚は４０ｎｍである。これらの膜
厚は、２０ｎｍの膜厚のＴｉＯ2 からなる光触媒層１３
ａを上層に設けた場合に、反射率が最も低くなる値とし
てシミュレーションによって得た値である。
に、基材１１上に、反射防止層１２と膜厚２０ｎｍのＴ
ｉＯ2 からなる光触媒層１３ａとを設けたものである。
反射防止膜１２は、上記実施例のサンプルと同様にＩＴ
Ｏ膜１２ａとＳｉＯ2 膜１２ｂとの２層構造に構成され
たものである。ただし、比較例１において、上記反射防
止層１２を構成するＩＴＯ膜１２ａの膜厚は６９ｎｍ、
ＳｉＯ2 膜１２ｂの膜厚は４０ｎｍである。これらの膜
厚は、２０ｎｍの膜厚のＴｉＯ2 からなる光触媒層１３
ａを上層に設けた場合に、反射率が最も低くなる値とし
てシミュレーションによって得た値である。
【００２５】比較例２のサンプルは、図３に示すよう
に、基材１１上に、膜厚５ｎｍのＴｉＯ2 からなる光触
媒層１３のみを設けたものである。
に、基材１１上に、膜厚５ｎｍのＴｉＯ2 からなる光触
媒層１３のみを設けたものである。
【００２６】比較例３のサンプルは、図４に示すよう
に、基材１１上に、反射防止層１２のみを設けたもので
ある。反射防止膜１２は、上記実施例のサンプルと同様
にＩＴＯ膜１２ａとＳｉＯ2 膜１２ｂとの２層構造に構
成されたものである。ただし、比較例３において、上記
反射防止層１２を構成するＩＴＯ膜１２ａの膜厚は１０
３ｎｍ、ＳｉＯ2 膜１２ｂの膜厚は７８ｎｍである。こ
れらの膜厚は、反射率が最も低くなるように、シミュレ
ーションによって得た値である。
に、基材１１上に、反射防止層１２のみを設けたもので
ある。反射防止膜１２は、上記実施例のサンプルと同様
にＩＴＯ膜１２ａとＳｉＯ2 膜１２ｂとの２層構造に構
成されたものである。ただし、比較例３において、上記
反射防止層１２を構成するＩＴＯ膜１２ａの膜厚は１０
３ｎｍ、ＳｉＯ2 膜１２ｂの膜厚は７８ｎｍである。こ
れらの膜厚は、反射率が最も低くなるように、シミュレ
ーションによって得た値である。
【００２７】上記反射防止効果に関する性能試験は、サ
ンプルに光（波長３８０ｎｍ〜波長７８０ｎｍ）を照射
した場合の反射率を測定することによって行った。ま
た、汚染除去効果に関する性能試験は、各膜の表面上に
滴下したサラダ油に、紫外線ランプにより５ｍＷ／ｃｍ
2 の紫外線を２週間照射し、膜上のサラダ油の減少を見
ることによって行った。
ンプルに光（波長３８０ｎｍ〜波長７８０ｎｍ）を照射
した場合の反射率を測定することによって行った。ま
た、汚染除去効果に関する性能試験は、各膜の表面上に
滴下したサラダ油に、紫外線ランプにより５ｍＷ／ｃｍ
2 の紫外線を２週間照射し、膜上のサラダ油の減少を見
ることによって行った。
【００２８】図５には、上記反射率の測定結果を示す波
長−反射率曲線を示す。また、下記の表には、各サンプ
ルの平均反射率（波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光に対
する分光反射率の平均）と上記汚染除去効果に関する性
能試験の結果を示す。
長−反射率曲線を示す。また、下記の表には、各サンプ
ルの平均反射率（波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍの光に対
する分光反射率の平均）と上記汚染除去効果に関する性
能試験の結果を示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】上記図５及び表１に示すように、実施例
（図１）のサンプルでは、波長４５０ｎｍから波長６５
０ｎｍの範囲で、比較例３（図４）の反射防止層１２の
みのサンプルとほぼ同様の反射率曲線が描かれ、同程度
の平均反射率が得られた。このため、波長４５０ｎｍか
ら波長６５０ｎｍの範囲では、膜厚５ｎｍのＴｉＯ2 か
らなる光触媒層１３に妨げられることなく、反射防止効
果が得られていることが確認された。
（図１）のサンプルでは、波長４５０ｎｍから波長６５
０ｎｍの範囲で、比較例３（図４）の反射防止層１２の
みのサンプルとほぼ同様の反射率曲線が描かれ、同程度
の平均反射率が得られた。このため、波長４５０ｎｍか
ら波長６５０ｎｍの範囲では、膜厚５ｎｍのＴｉＯ2 か
らなる光触媒層１３に妨げられることなく、反射防止効
果が得られていることが確認された。
【００３１】また、比較例２（図３）の光触媒層１３の
みのサンプルでは、波長４５０ｎｍから波長６５０ｎｍ
の範囲の反射率曲線及び平均反射率が、実施例及び比較
例３よりも高い値になった。このことから、上記実施例
のサンプルの反射防止効果は、反射防止層１２によって
得られていることが確認された。
みのサンプルでは、波長４５０ｎｍから波長６５０ｎｍ
の範囲の反射率曲線及び平均反射率が、実施例及び比較
例３よりも高い値になった。このことから、上記実施例
のサンプルの反射防止効果は、反射防止層１２によって
得られていることが確認された。
【００３２】しかも、比較例１（図２）の反射防止層１
２と膜厚２０ｎｍのＴｉＯ2 からなる光触媒層１３ａと
を設けたサンプルの反射率曲線は、実施例及び比較例３
の反射率曲線よりも高いことから、膜厚２０ｎｍのＴｉ
Ｏ2 からなる光触媒層１３ａが、反射防止層１２による
反射防止効果を妨げていることが確認された。
２と膜厚２０ｎｍのＴｉＯ2 からなる光触媒層１３ａと
を設けたサンプルの反射率曲線は、実施例及び比較例３
の反射率曲線よりも高いことから、膜厚２０ｎｍのＴｉ
Ｏ2 からなる光触媒層１３ａが、反射防止層１２による
反射防止効果を妨げていることが確認された。
【００３３】さらに、上記表から実施例（図１）のサン
プルは、これよりも膜厚の厚い光触媒層１３ａを設けた
比較例１（図２）サンプルと同程度に良好な汚染除去効
果を有することが確認された。
プルは、これよりも膜厚の厚い光触媒層１３ａを設けた
比較例１（図２）サンプルと同程度に良好な汚染除去効
果を有することが確認された。
【００３４】また、実施例（図１）のＳｉＯ2 膜１２ｂ
からなる反射防止層１２表面上に光触媒層１３を設けた
サンプルは、比較例２（図３）の光触媒層１３のみのサ
ンプルよりも汚染除去効果が良好である。このことか
ら、ＳｉＯ2 からなる反射防止層１２表面上に光触媒層
１３を設けたことで、光触媒層１３による汚染除去効果
がさらに高められたことが確認された。
からなる反射防止層１２表面上に光触媒層１３を設けた
サンプルは、比較例２（図３）の光触媒層１３のみのサ
ンプルよりも汚染除去効果が良好である。このことか
ら、ＳｉＯ2 からなる反射防止層１２表面上に光触媒層
１３を設けたことで、光触媒層１３による汚染除去効果
がさらに高められたことが確認された。
【００３５】以上のことから、実施例（図１）のサンプ
ルにおける反射防止膜１４は、光触媒層１３によって反
射防止層１２の反射防止効果が極端に阻害されることは
なく、なおかつ汚染除去効果を有するものであることが
確認された。
ルにおける反射防止膜１４は、光触媒層１３によって反
射防止層１２の反射防止効果が極端に阻害されることは
なく、なおかつ汚染除去効果を有するものであることが
確認された。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように本発明の反射防止膜
によれば、反射防止層による反射防止効果が得られる範
囲の膜厚の光触媒層をその上面に設けた構成にしたこと
で、反射防止効果を確保しながらも膜表面に付着した指
紋、手垢等の有機化合物系の汚れを光触媒反応により自
然に分解除去することが可能になる。したがって、汚染
防止特性に優れた反射防止膜を得ることができる。
によれば、反射防止層による反射防止効果が得られる範
囲の膜厚の光触媒層をその上面に設けた構成にしたこと
で、反射防止効果を確保しながらも膜表面に付着した指
紋、手垢等の有機化合物系の汚れを光触媒反応により自
然に分解除去することが可能になる。したがって、汚染
防止特性に優れた反射防止膜を得ることができる。
【図１】実形形態及び実施例の反射防止膜の製造を説明
する断面工程図である。
する断面工程図である。
【図２】比較例１のサンプルの構成を示す断面図であ
る。
る。
【図３】比較例２のサンプルの構成を示す断面図であ
る。
る。
【図４】比較例３のサンプルの構成を示す断面図であ
る。
る。
【図５】各サンプルの波長−反射率曲線を示す図であ
る。
る。
１１…基材、１２…反射防止層、１３…光触媒層、１４
…反射防止膜
…反射防止膜
Claims (1)
- 【請求項１】 基材表面における光の反射を防止するた
めの膜であって、 前記基材表面を覆う反射防止層と、 前記反射防止層上に設けられると共に、当該反射防止層
による反射防止効果が得られる範囲の膜厚を有する光触
媒層とからなることを特徴とする反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9275407A JPH11109104A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | 反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9275407A JPH11109104A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | 反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11109104A true JPH11109104A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17555075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9275407A Withdrawn JPH11109104A (ja) | 1997-10-08 | 1997-10-08 | 反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11109104A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001080974A (ja) * | 1999-09-08 | 2001-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複合基板材料およびその製造方法 |
| EP1291331A2 (de) | 2001-09-10 | 2003-03-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beschichtung mit photoinduzierter Hydrophilie |
| WO2007115796A2 (de) * | 2006-04-07 | 2007-10-18 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. Kg | Witterungsbeständiges schichtsystem |
| JP2008044357A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-28 | Showa Denko Kk | 透明反射防止板 |
| WO2011006905A1 (fr) * | 2009-07-17 | 2011-01-20 | Saint-Gobain Glass France | Materiau photocatalytique |
| JP2016173612A (ja) * | 2016-07-07 | 2016-09-29 | Hoya株式会社 | 眼鏡レンズ |
-
1997
- 1997-10-08 JP JP9275407A patent/JPH11109104A/ja not_active Withdrawn
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001080974A (ja) * | 1999-09-08 | 2001-03-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 複合基板材料およびその製造方法 |
| EP1291331A2 (de) | 2001-09-10 | 2003-03-12 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beschichtung mit photoinduzierter Hydrophilie |
| EP1291331A3 (de) * | 2001-09-10 | 2004-02-25 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Beschichtung mit photoinduzierter Hydrophilie |
| WO2007115796A2 (de) * | 2006-04-07 | 2007-10-18 | Interpane Entwicklungs- Und Beratungsgesellschaft Mbh & Co. Kg | Witterungsbeständiges schichtsystem |
| WO2007115796A3 (de) * | 2006-04-07 | 2008-01-24 | Interpane Entw & Beratungsges | Witterungsbeständiges schichtsystem |
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| FR2948037A1 (fr) * | 2009-07-17 | 2011-01-21 | Saint Gobain | Materiau photocatalytique |
| CN102471146A (zh) * | 2009-07-17 | 2012-05-23 | 法国圣戈班玻璃厂 | 光催化材料 |
| JP2012533500A (ja) * | 2009-07-17 | 2012-12-27 | サン−ゴバン グラス フランス | 光触媒材料 |
| US9212090B2 (en) | 2009-07-17 | 2015-12-15 | Saint-Gobain Glass France | Photocatalytic material |
| EA023178B1 (ru) * | 2009-07-17 | 2016-05-31 | Сэн-Гобэн Гласс Франс | Фотокаталитический материал |
| JP2016173612A (ja) * | 2016-07-07 | 2016-09-29 | Hoya株式会社 | 眼鏡レンズ |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050425 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050510 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050713 |