JPH11106922A - ベーパライザ - Google Patents
ベーパライザInfo
- Publication number
- JPH11106922A JPH11106922A JP28907197A JP28907197A JPH11106922A JP H11106922 A JPH11106922 A JP H11106922A JP 28907197 A JP28907197 A JP 28907197A JP 28907197 A JP28907197 A JP 28907197A JP H11106922 A JPH11106922 A JP H11106922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vaporizer
- temperature
- raw material
- liquid
- temp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】気化に必要な温度と、熱分解の温度との間に差
が少ない原料を使用した場合でも、気化器の中で原料が
分解してつまったり、原料が変質するのを防ぐことので
きるベーパライザを提供する。 【解決手段】温度調節器４０により気化器１０の温度を
２つ以上設定できるようにする。そして、気化させる時
だけ高温にし、気化する時以外は低温にする。そうすれ
ば、気化器１０内にたまった原料が熱分解することによ
り気化器１０の噴霧ノズル１５がつまったり、原料が変
質するのを防ぐことができ、安定してガスを供給できる
ようになる。
が少ない原料を使用した場合でも、気化器の中で原料が
分解してつまったり、原料が変質するのを防ぐことので
きるベーパライザを提供する。 【解決手段】温度調節器４０により気化器１０の温度を
２つ以上設定できるようにする。そして、気化させる時
だけ高温にし、気化する時以外は低温にする。そうすれ
ば、気化器１０内にたまった原料が熱分解することによ
り気化器１０の噴霧ノズル１５がつまったり、原料が変
質するのを防ぐことができ、安定してガスを供給できる
ようになる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はベーパライザに関
し、特に液体原料を液体のまま流量制御し、その後気化
器で気化させて、薄膜形成装置などに原料ガスを供給す
るベーパライザに関するものである。
し、特に液体原料を液体のまま流量制御し、その後気化
器で気化させて、薄膜形成装置などに原料ガスを供給す
るベーパライザに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のベーパライザは気化器の温度設定
が１つしかできない為、原料を必要とする蒸気圧が確保
できる温度以上に常に保つ必要があった。その為熱分解
温度と気化の為に必要な温度との間に差が少ない原料の
場合、気化器で熱分解してつまるおそれがあった。この
ような原料として、ペンタエトキシタンタルが例として
挙げられるが、ペンタエトキシタンタルの気化温度は１
７０℃付近であるので、通常は、１８０℃に設定して気
化させる。従って、従来においては、気化器の温度を常
に１８０℃に保っていたが、このように１８０℃に保っ
たままでは、熱分解を起こし、固化してしまう。固化し
つまるのは５日〜７日間で起きる。つまる場所は気化器
の雰霧ノズルである。ノズル先端が細くつまり易いから
である。また、液体原料を液体のまま流量制御するの
で、原料は常に流量計と気化器の間に滞留しており、気
化器を高温に保ったままだと原料が変質するおそれがあ
った。ペンタエトキシタンタルの例では、気化器を１８
０℃に保ったままでは熱分解が徐々に進行し、その変質
により、製品の品質が一定とならない。
が１つしかできない為、原料を必要とする蒸気圧が確保
できる温度以上に常に保つ必要があった。その為熱分解
温度と気化の為に必要な温度との間に差が少ない原料の
場合、気化器で熱分解してつまるおそれがあった。この
ような原料として、ペンタエトキシタンタルが例として
挙げられるが、ペンタエトキシタンタルの気化温度は１
７０℃付近であるので、通常は、１８０℃に設定して気
化させる。従って、従来においては、気化器の温度を常
に１８０℃に保っていたが、このように１８０℃に保っ
たままでは、熱分解を起こし、固化してしまう。固化し
つまるのは５日〜７日間で起きる。つまる場所は気化器
の雰霧ノズルである。ノズル先端が細くつまり易いから
である。また、液体原料を液体のまま流量制御するの
で、原料は常に流量計と気化器の間に滞留しており、気
化器を高温に保ったままだと原料が変質するおそれがあ
った。ペンタエトキシタンタルの例では、気化器を１８
０℃に保ったままでは熱分解が徐々に進行し、その変質
により、製品の品質が一定とならない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、気化に必要な温度と、熱分解の温度との間に差が少
ない原料（ペンタエトキシタンタルなど）を使用した場
合であっても、気化器の中で原料が分解して固形物がで
きてつまったり、原料が変質するのを防ぐことのできる
ベーパライザを提供する事にある。
は、気化に必要な温度と、熱分解の温度との間に差が少
ない原料（ペンタエトキシタンタルなど）を使用した場
合であっても、気化器の中で原料が分解して固形物がで
きてつまったり、原料が変質するのを防ぐことのできる
ベーパライザを提供する事にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、液体原
料を液体のまま流量制御し、その後気化器で気化させる
ベーパライザーにおいて、前記気化器の温度を２つ以上
設定できるようにすると共に、気化させる時だけ高温に
するようにしたことを特徴とするベーパライザが提供さ
れる。
料を液体のまま流量制御し、その後気化器で気化させる
ベーパライザーにおいて、前記気化器の温度を２つ以上
設定できるようにすると共に、気化させる時だけ高温に
するようにしたことを特徴とするベーパライザが提供さ
れる。
【０００５】このように、気化器の温度を２つ以上設定
できるようにして、気化させる時だけ高温にするように
すれば、気化する時以外は低温にする事によって、気化
器内にたまった原料が熱分解する事により気化器がつま
ったり、原料が変質するのを防ぐことができ、安定して
ガスを供給できる。
できるようにして、気化させる時だけ高温にするように
すれば、気化する時以外は低温にする事によって、気化
器内にたまった原料が熱分解する事により気化器がつま
ったり、原料が変質するのを防ぐことができ、安定して
ガスを供給できる。
【０００６】また気化器を液体でパージ（洗浄）する時
に温度を下げる事により気化させずにパージ（洗浄）す
る事ができる為にパージ（洗浄）残りなくパージ（洗
浄）する事ができる。
に温度を下げる事により気化させずにパージ（洗浄）す
る事ができる為にパージ（洗浄）残りなくパージ（洗
浄）する事ができる。
【０００７】なお、気化させないときの気化器の温度は
常温まで下げても良いが、そうすれば次に気化に必要な
温度にまで加熱されるまでの時間が長くなりすぎるの
で、その時間を短くし、スループットを上げるために
は、原料の熱分解が起こらない程度の高温に気化器の温
度を保っておくことが好ましい。
常温まで下げても良いが、そうすれば次に気化に必要な
温度にまで加熱されるまでの時間が長くなりすぎるの
で、その時間を短くし、スループットを上げるために
は、原料の熱分解が起こらない程度の高温に気化器の温
度を保っておくことが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【０００９】図１は、本発明の一実施の形態のベーパラ
イザを説明するための模式図であり、図２は、本発明の
一実施の形態のベーパライザに使用する気化器を説明す
るための模式的断面図である。図１、図２において、符
号１０は気化器、１１はキャリアガス導入口、１２は液
体原料導入口、１３はガス管、１４は管、１５は噴霧ノ
ズル、１７はヒータブロック、１８は気化ガス導出口、
２１は液体原料タンク、２２はアルコール系液体タン
ク、３１は流量計、３２、３３は液体流量計、４０は温
度調節器、４５は排液受け、５１〜５７はバルブ、６１
は気化ガス供給ライン、６２は排気ライン、６３、６
８、６９はキャリアガスライン、６４はライン、６５は
アルコール系液体供給ライン、６６は排液受けライン、
７１〜７４はテープヒータをそれぞれ示す。
イザを説明するための模式図であり、図２は、本発明の
一実施の形態のベーパライザに使用する気化器を説明す
るための模式的断面図である。図１、図２において、符
号１０は気化器、１１はキャリアガス導入口、１２は液
体原料導入口、１３はガス管、１４は管、１５は噴霧ノ
ズル、１７はヒータブロック、１８は気化ガス導出口、
２１は液体原料タンク、２２はアルコール系液体タン
ク、３１は流量計、３２、３３は液体流量計、４０は温
度調節器、４５は排液受け、５１〜５７はバルブ、６１
は気化ガス供給ライン、６２は排気ライン、６３、６
８、６９はキャリアガスライン、６４はライン、６５は
アルコール系液体供給ライン、６６は排液受けライン、
７１〜７４はテープヒータをそれぞれ示す。
【００１０】本実施の形態のバーパライザにおいては、
キャリアガスを液体原料タンク２１に入れ液体原料を押
し出し、流体流量計３２により液量を調整しながら気化
器１０へ送る。気化器１０では、小径の噴霧ノズル１５
から液が出され、そのノズルを囲う管１４からキャリア
ガスが流れ、気化器のヒータ１７により昇温され気化す
る。気化ガスは基板処理前に、排気ライン６２から少量
排気され、その後に気化ガス供給ライン６１から反応室
（図示せず。）へ送られる。
キャリアガスを液体原料タンク２１に入れ液体原料を押
し出し、流体流量計３２により液量を調整しながら気化
器１０へ送る。気化器１０では、小径の噴霧ノズル１５
から液が出され、そのノズルを囲う管１４からキャリア
ガスが流れ、気化器のヒータ１７により昇温され気化す
る。気化ガスは基板処理前に、排気ライン６２から少量
排気され、その後に気化ガス供給ライン６１から反応室
（図示せず。）へ送られる。
【００１１】本実施の形態では、温度調節器４０により
気化器１０の温度を２つ以上設定できるようにしてい
る。このようにすれば、気化させる時だけ高温にするこ
とができると共に、気化する時以外は低温にすることが
できるようになり、気化器１０内にたまった原料が熱分
解する事により気化器１０の噴霧ノズル１５がつまった
り、原料が変質するのを防ぐことができ、安定してガス
を供給できるようになる。
気化器１０の温度を２つ以上設定できるようにしてい
る。このようにすれば、気化させる時だけ高温にするこ
とができると共に、気化する時以外は低温にすることが
できるようになり、気化器１０内にたまった原料が熱分
解する事により気化器１０の噴霧ノズル１５がつまった
り、原料が変質するのを防ぐことができ、安定してガス
を供給できるようになる。
【００１２】液体原料としてペンタエトキシタンタルを
使用する場合には、ペンタエトキシタンタルの気化温度
は１７０℃付近なので、通常は、気化器１０の温度を１
８０℃に設定して気化させて、気化させない低温設定は
１５０℃にすることが好ましい。１５０℃以下では長期
間（６ヶ月）変質が認められなかった。１５０℃以下の
理由は、気化温度が１７０℃であり、マージンを取った
ためである。また１５０℃以下であれば常温まで下げる
ことも可能だが、次に１８０℃に加熱されるまでの時間
を短くし、スループットを上げるという意味では１５０
℃が適している。
使用する場合には、ペンタエトキシタンタルの気化温度
は１７０℃付近なので、通常は、気化器１０の温度を１
８０℃に設定して気化させて、気化させない低温設定は
１５０℃にすることが好ましい。１５０℃以下では長期
間（６ヶ月）変質が認められなかった。１５０℃以下の
理由は、気化温度が１７０℃であり、マージンを取った
ためである。また１５０℃以下であれば常温まで下げる
ことも可能だが、次に１８０℃に加熱されるまでの時間
を短くし、スループットを上げるという意味では１５０
℃が適している。
【００１３】また気化器１０を液体でパージ（洗浄）す
る時に温度を下げる事により気化させずにパージする事
ができるようになるので、パージ残りなくパージする事
ができる。パージの原理は、液体原料と同じで、アルコ
ール系にて行い、アルコールの沸点未満の温度下で行
う。ガスラインへのアルコール逆流防止のため、Ｎ2 を
少量、例えば５０ｃｃ程度流すことが望ましい。パージ
後には、ライン６４でＮ2 パージを用いて、アルコール
を蒸発させた方が良い。Ｎ2 パージでは排液受けライン
６６から排気ライン６２へ切り替える。
る時に温度を下げる事により気化させずにパージする事
ができるようになるので、パージ残りなくパージする事
ができる。パージの原理は、液体原料と同じで、アルコ
ール系にて行い、アルコールの沸点未満の温度下で行
う。ガスラインへのアルコール逆流防止のため、Ｎ2 を
少量、例えば５０ｃｃ程度流すことが望ましい。パージ
後には、ライン６４でＮ2 パージを用いて、アルコール
を蒸発させた方が良い。Ｎ2 パージでは排液受けライン
６６から排気ライン６２へ切り替える。
【００１４】なお、気化器１０の下流側、すなわち、気
化ガス供給ライン６１、排気ライン６２等にはテープヒ
ータ７１〜７３を巻いており、気化ガスの液化を防止し
ている。液体原料としてペンタエトキシタンタルを使用
する場合には、１８０℃に保つことが好ましい。
化ガス供給ライン６１、排気ライン６２等にはテープヒ
ータ７１〜７３を巻いており、気化ガスの液化を防止し
ている。液体原料としてペンタエトキシタンタルを使用
する場合には、１８０℃に保つことが好ましい。
【００１５】また、Ｎ2 キャリアガスの余熱のためにキ
ャリアガスライン６３にもテープヒータ７４を巻き付け
てもよい。
ャリアガスライン６３にもテープヒータ７４を巻き付け
てもよい。
【００１６】
【発明の効果】本発明により、気化温度と熱分解温度と
の間に差が小さく、安定してガスを供給することが困難
であった原料（例えば、ペンタエトキシタンタル）等も
薄膜形成に安定して用いる事ができるようになる。
の間に差が小さく、安定してガスを供給することが困難
であった原料（例えば、ペンタエトキシタンタル）等も
薄膜形成に安定して用いる事ができるようになる。
【図１】本発明の一実施の形態のベーパライザを説明す
るための模式図である。
るための模式図である。
【図２】本発明の一実施の形態のベーパライザに使用す
る気化器を説明するための模式的断面図である。
る気化器を説明するための模式的断面図である。
１０…気化器 １３…ガス管 １５…噴霧ノズル １７…ヒータブロック １８…気化ガス導出口 ２１…液体原料タンク ２２…アルコール系液体タンク ３１…流量計 ３２、３３…液体流量計 ４０…温度調節器 ４５…排液受け ５１〜５７…バルブ ６１…気化ガス供給ライン ６２…排気ライン ６３、６８、６９…キャリアガスライン ６５…アルコール系液体供給ライン ７１〜７４…テープヒータ
Claims (1)
- 【請求項１】液体原料を液体のまま流量制御し、その後
気化器で気化させるベーパライザーにおいて、前記気化
器の温度を２つ以上設定できるようにすると共に、気化
させる時だけ高温にするようにしたことを特徴とするベ
ーパライザ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28907197A JPH11106922A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | ベーパライザ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28907197A JPH11106922A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | ベーパライザ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11106922A true JPH11106922A (ja) | 1999-04-20 |
Family
ID=17738458
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28907197A Withdrawn JPH11106922A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | ベーパライザ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11106922A (ja) |
-
1997
- 1997-10-06 JP JP28907197A patent/JPH11106922A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20041207 |