JPH11106833A - 連続熱処理炉 - Google Patents
連続熱処理炉Info
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- JPH11106833A JPH11106833A JP27445097A JP27445097A JPH11106833A JP H11106833 A JPH11106833 A JP H11106833A JP 27445097 A JP27445097 A JP 27445097A JP 27445097 A JP27445097 A JP 27445097A JP H11106833 A JPH11106833 A JP H11106833A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、雰囲気ガスの消費量を低減できる連
続熱処理炉を提供することを目的とする。 【解決手段】熱処理炉２の入口３と出口４に隣接させて
夫々にシール室10，15を設け、熱処理炉２の内部を金属
ストリップ５を搬送させながら熱処理する連続熱処理炉
１であつて、シール室10の入口と出口に異方向回転する
一対のシールロール11，12を設け、シール室15の入口と
出口に異方向回転する一対のシールロール16，17を設
け、シール室10，15内に圧力が30ｍｍＡｑ以上になるよ
うにシールガスを供給することを特徴とする。
続熱処理炉を提供することを目的とする。 【解決手段】熱処理炉２の入口３と出口４に隣接させて
夫々にシール室10，15を設け、熱処理炉２の内部を金属
ストリップ５を搬送させながら熱処理する連続熱処理炉
１であつて、シール室10の入口と出口に異方向回転する
一対のシールロール11，12を設け、シール室15の入口と
出口に異方向回転する一対のシールロール16，17を設
け、シール室10，15内に圧力が30ｍｍＡｑ以上になるよ
うにシールガスを供給することを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属ストリップを
連続的に熱処理する連続熱処理炉に関する。
連続的に熱処理する連続熱処理炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、ステンレス鋼板、アルミニュ
ウム板、銅板、各種合金板等、これらの金属ストリップ
を焼鈍処理、溶体化処理、光輝処理するのに竪型又は横
型の連続熱処理炉が使用される。これらの連続熱処理炉
は、例えば、図２に示すように、連続熱処理炉１００の
入口１０１から出口１０２側に金属ストリップ１１０を
搬送しながら熱処理している。この場合、連続熱処理炉
１００内で金属ストリップ１１０が酸化するのを防止す
るために、ＣＯ、水素、窒素、ＮＸガス、ＲＸガス、等
の、単独ガスあるいは混合ガスが雰囲気ガスとして使用
されている。この雰囲気ガスが炉外にできるだけ洩れな
いように連続熱処理炉１００の入口１０１側に一対のし
ーるロールと出口１０２側に一対のシールロール１０６
が備えられている（特開平３−２５３５１９号公報参
照）。
ウム板、銅板、各種合金板等、これらの金属ストリップ
を焼鈍処理、溶体化処理、光輝処理するのに竪型又は横
型の連続熱処理炉が使用される。これらの連続熱処理炉
は、例えば、図２に示すように、連続熱処理炉１００の
入口１０１から出口１０２側に金属ストリップ１１０を
搬送しながら熱処理している。この場合、連続熱処理炉
１００内で金属ストリップ１１０が酸化するのを防止す
るために、ＣＯ、水素、窒素、ＮＸガス、ＲＸガス、等
の、単独ガスあるいは混合ガスが雰囲気ガスとして使用
されている。この雰囲気ガスが炉外にできるだけ洩れな
いように連続熱処理炉１００の入口１０１側に一対のし
ーるロールと出口１０２側に一対のシールロール１０６
が備えられている（特開平３−２５３５１９号公報参
照）。
【０００３】このような場合、連続熱処理炉１００の雰
囲気を維持するために、炉内に導入される雰囲気ガス、
例えば、水素：７５％と窒素：２５％との混合ガス量を
時間当り１５０Ｎｍ３が必要である。この時の炉内のＰ
１の圧力が５０ｍｍＡｑである。また、ここに使用され
る水素量は時間当り１１２．５Ｎｍ３が必要である。
囲気を維持するために、炉内に導入される雰囲気ガス、
例えば、水素：７５％と窒素：２５％との混合ガス量を
時間当り１５０Ｎｍ３が必要である。この時の炉内のＰ
１の圧力が５０ｍｍＡｑである。また、ここに使用され
る水素量は時間当り１１２．５Ｎｍ３が必要である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような連続熱処理
炉１００では、操業中に炉内に異常が起きて炉内圧が急
激に下がった場合でも、出入口１０１，１０２から外気
を吸い込まないように、連続熱処理炉１内の圧力を外気
より高く維持させている。
炉１００では、操業中に炉内に異常が起きて炉内圧が急
激に下がった場合でも、出入口１０１，１０２から外気
を吸い込まないように、連続熱処理炉１内の圧力を外気
より高く維持させている。
【０００５】従って、出入口１０１，１０２の隙間から
一部の雰囲気ガスが炉外に常に放出されている。よって
雰囲気ガスを常に補充しておかなければならず、高価な
雰囲気ガスの消費量を多く要する。そこで、本発明は、
雰囲気ガスの消費量を低減できる連続熱処理炉を提供す
ることを目的とする。
一部の雰囲気ガスが炉外に常に放出されている。よって
雰囲気ガスを常に補充しておかなければならず、高価な
雰囲気ガスの消費量を多く要する。そこで、本発明は、
雰囲気ガスの消費量を低減できる連続熱処理炉を提供す
ることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段、及び発明の効果】請求項
１記載の発明は、熱処理炉の入口と出口に隣接させて夫
々にシール室を設け、前記熱処理炉の内部を金属ストリ
ップを搬送させながら熱処理する連続熱処理炉であつ
て、前記夫々のシール室の入口と出口に異方向回転する
一対のシールロールを夫々に設け、前記シール室内にシ
ールガスを供給することを特徴とする。
１記載の発明は、熱処理炉の入口と出口に隣接させて夫
々にシール室を設け、前記熱処理炉の内部を金属ストリ
ップを搬送させながら熱処理する連続熱処理炉であつ
て、前記夫々のシール室の入口と出口に異方向回転する
一対のシールロールを夫々に設け、前記シール室内にシ
ールガスを供給することを特徴とする。
【０００７】請求項１記載の発明によると、熱処理炉の
入口と出口に隣接させてシール室が設けてあるから熱処
理炉内と熱処理炉外との間がシールガスによりシールさ
れる。なお、シール室の入口および出口に一対のシール
ロールが夫々に設けてあるから炉側および外側とのシー
ル効率が高くなり、よって熱処理炉内の雰囲気ガス、例
えば、ＣＯ、水素、窒素、ＮＸガス、ＲＸガス、等の、
単独ガスあるいは混合ガスが炉の外に放出され難くな
る。
入口と出口に隣接させてシール室が設けてあるから熱処
理炉内と熱処理炉外との間がシールガスによりシールさ
れる。なお、シール室の入口および出口に一対のシール
ロールが夫々に設けてあるから炉側および外側とのシー
ル効率が高くなり、よって熱処理炉内の雰囲気ガス、例
えば、ＣＯ、水素、窒素、ＮＸガス、ＲＸガス、等の、
単独ガスあるいは混合ガスが炉の外に放出され難くな
る。
【０００８】また、シール室から外側に常に放出される
ガスはシールガスであるから、熱処理炉の雰囲気ガスと
異なる窒素のような安価なシールガスが使用できる。従
って、雰囲気ガスが炉外にほとんど放出されなくなるか
ら雰囲気ガスの使用量を低減することができる。
ガスはシールガスであるから、熱処理炉の雰囲気ガスと
異なる窒素のような安価なシールガスが使用できる。従
って、雰囲気ガスが炉外にほとんど放出されなくなるか
ら雰囲気ガスの使用量を低減することができる。
【０００９】請求項２記載の発明は、請求項１記載の連
続熱処理炉において、前記シール室内の圧力が前記熱処
理室内の圧力より低いことを特徴とする。請求項２記載
の発明によると、シールガスが熱処理炉内へ侵入し難く
なり、熱処理炉内の雰囲気ガスが汚染されるのを防止で
きる。
続熱処理炉において、前記シール室内の圧力が前記熱処
理室内の圧力より低いことを特徴とする。請求項２記載
の発明によると、シールガスが熱処理炉内へ侵入し難く
なり、熱処理炉内の雰囲気ガスが汚染されるのを防止で
きる。
【００１０】また、シールガスが熱処理炉内に侵入しな
い範囲内であれば、熱処理炉内の圧力とシール室内の差
圧が少ない方が雰囲気ガスの使用量が少なくてすむの
で、その方が望ましい。請求項３記載の発明は、請求項
２記載の連続熱処理炉において、前記シール室内の圧力
が３０ｍｍＡｑ以上を有することを特徴とする。
い範囲内であれば、熱処理炉内の圧力とシール室内の差
圧が少ない方が雰囲気ガスの使用量が少なくてすむの
で、その方が望ましい。請求項３記載の発明は、請求項
２記載の連続熱処理炉において、前記シール室内の圧力
が３０ｍｍＡｑ以上を有することを特徴とする。
【００１１】請求項３記載の発明によると、炉内の急激
な圧力低下によっても、外気を熱処理炉内に吸い込むこ
とが防止できる。なお、雰囲気ガスの組成によっては外
気が熱処理炉内に侵入すると爆発が生じることがあり、
熱処理炉内に外気が侵入することは望ましくない。
な圧力低下によっても、外気を熱処理炉内に吸い込むこ
とが防止できる。なお、雰囲気ガスの組成によっては外
気が熱処理炉内に侵入すると爆発が生じることがあり、
熱処理炉内に外気が侵入することは望ましくない。
【００１２】また、シール室内の圧力を熱処理炉内の圧
力より低くした理由は、シールガスが加熱炉に侵入しな
いようにするためである。また、シールガスが熱処理炉
内に侵入しない範囲内であれば、熱処理炉内の圧力とシ
ール室内の差圧が少ない方が雰囲気ガスの使用量が少な
くてすむので、その方が望ましい。
力より低くした理由は、シールガスが加熱炉に侵入しな
いようにするためである。また、シールガスが熱処理炉
内に侵入しない範囲内であれば、熱処理炉内の圧力とシ
ール室内の差圧が少ない方が雰囲気ガスの使用量が少な
くてすむので、その方が望ましい。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図に基づい
て説明する。図１は連続熱処理炉の断面図である。図１
に示すように、連続熱処理炉１は、熱処理炉２とシール
室１０，１５から構成している。
て説明する。図１は連続熱処理炉の断面図である。図１
に示すように、連続熱処理炉１は、熱処理炉２とシール
室１０，１５から構成している。
【００１４】熱処理炉２は、入口３と出口４が備えてお
り、入口３に隣接させて鉄板で被われたシール室１０が
設けてある。また、出口４に隣接させて同様にシール室
１５が設けてある。このシール室１０の入口側に異方向
に回転する一対のシールロール１１と出口側に異方向に
回転する一対のシールロール１２が設けてある。同様に
シール室１５の入口側に異方向に回転する一対のシール
ロール１６と出口側に異方向に回転する一対のシールロ
ール１７が設けてある。
り、入口３に隣接させて鉄板で被われたシール室１０が
設けてある。また、出口４に隣接させて同様にシール室
１５が設けてある。このシール室１０の入口側に異方向
に回転する一対のシールロール１１と出口側に異方向に
回転する一対のシールロール１２が設けてある。同様に
シール室１５の入口側に異方向に回転する一対のシール
ロール１６と出口側に異方向に回転する一対のシールロ
ール１７が設けてある。
【００１５】また、シール室１０にはシールガスの供給
口２１とシール室１５にはシールガスの供給口２２が設
けてある。さらに、熱処理炉２には雰囲気ガス供給口２
３と循環経路２４を設け、循環経路２４の途中に雰囲気
ガス再生装置２５が設けてある。なお、再生ガスの循環
は図示していない送風機により行われる。
口２１とシール室１５にはシールガスの供給口２２が設
けてある。さらに、熱処理炉２には雰囲気ガス供給口２
３と循環経路２４を設け、循環経路２４の途中に雰囲気
ガス再生装置２５が設けてある。なお、再生ガスの循環
は図示していない送風機により行われる。
【００１６】５は、熱処理炉２内を入口３から出口４に
搬送される金属ストリップである。次に、連続熱処理炉
１の動作を説明する 熱処理炉２内に水素：７５％と窒素：２５％を混合した
雰囲気ガスを雰囲気ガス供給口２３から供給すると共
に、シール室１０内およびシール室１５内にシール用の
窒素をシールガス供給口２１，２２から夫々に供給す
る。この時に熱処理炉２内の圧力Ｐ２が５５ｍｍＡｑに
対して、シール室１０，１５内の圧力Ｐ１が５０ｍｍＡ
ｑになるように雰囲気ガスとシールガスを供給する。
搬送される金属ストリップである。次に、連続熱処理炉
１の動作を説明する 熱処理炉２内に水素：７５％と窒素：２５％を混合した
雰囲気ガスを雰囲気ガス供給口２３から供給すると共
に、シール室１０内およびシール室１５内にシール用の
窒素をシールガス供給口２１，２２から夫々に供給す
る。この時に熱処理炉２内の圧力Ｐ２が５５ｍｍＡｑに
対して、シール室１０，１５内の圧力Ｐ１が５０ｍｍＡ
ｑになるように雰囲気ガスとシールガスを供給する。
【００１７】また、ヒータ７により加熱室内を適正な熱
処理温度に加熱する。その後、金属ストリップ５を一対
のシールロール１１，１２，１６，１７の間を通して入
口側から出口側に搬送しながら光輝焼鈍等の熱処理を行
なう。このようにして一定時間熱処理を行なうと、雰囲
気ガス中に不純物が混入して雰囲気ガスが汚れてしま
う。そこで、循環経路２４に雰囲気ガスを強制循環させ
て雰囲気ガス再生装置２５により再生し、熱処理炉２内
に雰囲気ガスを戻してやる。
処理温度に加熱する。その後、金属ストリップ５を一対
のシールロール１１，１２，１６，１７の間を通して入
口側から出口側に搬送しながら光輝焼鈍等の熱処理を行
なう。このようにして一定時間熱処理を行なうと、雰囲
気ガス中に不純物が混入して雰囲気ガスが汚れてしま
う。そこで、循環経路２４に雰囲気ガスを強制循環させ
て雰囲気ガス再生装置２５により再生し、熱処理炉２内
に雰囲気ガスを戻してやる。
【００１８】このようにして、金属ストリップ５の熱処
理が連続的に行われる。こうすると、シール室１０，１
５内のシールガスの窒素が外に放出される。よって水素
を含む高価な雰囲気ガスを加熱炉２の外に放出させなく
て済む。また、シール室１０，１５内の圧力Ｐ１が５０
ｍｍＡｑに対して熱処理炉２内の圧力Ｐ２が５５ｍｍＡ
ｑに設定してあるからこの５ｍｍＡｑ分に相当する差圧
分の雰囲気ガスだけが熱処理炉２からシール室１０，１
５内に侵入する。
理が連続的に行われる。こうすると、シール室１０，１
５内のシールガスの窒素が外に放出される。よって水素
を含む高価な雰囲気ガスを加熱炉２の外に放出させなく
て済む。また、シール室１０，１５内の圧力Ｐ１が５０
ｍｍＡｑに対して熱処理炉２内の圧力Ｐ２が５５ｍｍＡ
ｑに設定してあるからこの５ｍｍＡｑ分に相当する差圧
分の雰囲気ガスだけが熱処理炉２からシール室１０，１
５内に侵入する。
【００１９】よって、従来は雰囲気ガスとして水素量を
時間当り１１２，５Ｎｍ３使用していたものが本実施の
形態を行なうことにより水素量を時間当り３６Ｎｍ３に
減少させることがでる。このように、熱処理炉２の入口
３と出口４に隣接させてシール室１０，１５が設けてあ
るから熱処理炉２内と外との間がシール室１０，１５内
のシールガスによりシールされる。
時間当り１１２，５Ｎｍ３使用していたものが本実施の
形態を行なうことにより水素量を時間当り３６Ｎｍ３に
減少させることがでる。このように、熱処理炉２の入口
３と出口４に隣接させてシール室１０，１５が設けてあ
るから熱処理炉２内と外との間がシール室１０，１５内
のシールガスによりシールされる。
【００２０】なお、シール室１０，１５の入口および出
口に一対のシールロール１１，１２，１６，１７が夫々
に設けてあるから炉側および外側とのシール効率が高く
なり、熱処理炉２内の雰囲気ガスが炉の外に放出され難
くなる。また、シール室１０，１５から外側に常に放出
されるガスはシールガスであるから、熱処理炉２内の雰
囲気ガスと異なる窒素のような安価なシールガスを使用
できる。従って、雰囲気ガスの使用量を低減させること
ができる。
口に一対のシールロール１１，１２，１６，１７が夫々
に設けてあるから炉側および外側とのシール効率が高く
なり、熱処理炉２内の雰囲気ガスが炉の外に放出され難
くなる。また、シール室１０，１５から外側に常に放出
されるガスはシールガスであるから、熱処理炉２内の雰
囲気ガスと異なる窒素のような安価なシールガスを使用
できる。従って、雰囲気ガスの使用量を低減させること
ができる。
【００２１】さらに、また、シール室１０，１５内の圧
力が熱処理炉２内の圧力より低くした理由は、シールガ
スが熱処理炉２内に侵入しないようにするためである。
そして、シールガスが熱処理炉２内に侵入しない範囲で
あれば熱処理炉２内の圧力とシール室１０，１５内の圧
力差が少ない方が望ましい。
力が熱処理炉２内の圧力より低くした理由は、シールガ
スが熱処理炉２内に侵入しないようにするためである。
そして、シールガスが熱処理炉２内に侵入しない範囲で
あれば熱処理炉２内の圧力とシール室１０，１５内の圧
力差が少ない方が望ましい。
【００２２】さらに、シール室１０，１５内の圧力を３
０ｍｍＡｑ以上にした理由は、圧力が３０ｍｍＡｑに達
しないと炉内の急激な圧力低下により外気を吸い込む恐
れがあるからである。なお、雰囲気ガスの組成によって
は外気が侵入すると爆発が生じることがあるからであ
る。
０ｍｍＡｑ以上にした理由は、圧力が３０ｍｍＡｑに達
しないと炉内の急激な圧力低下により外気を吸い込む恐
れがあるからである。なお、雰囲気ガスの組成によって
は外気が侵入すると爆発が生じることがあるからであ
る。
【００２３】以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、本発明の趣旨の範囲を越えない限り種々の実施が
できる。例えば、実施の形態では横型炉で説明してある
が竪型の連続熱処理炉にも適用できる。
たが、本発明の趣旨の範囲を越えない限り種々の実施が
できる。例えば、実施の形態では横型炉で説明してある
が竪型の連続熱処理炉にも適用できる。
【図１】 実施の形態の連続熱処理炉の要部を表す断面
図。
図。
【図２】 従来例の連続熱処理炉の要部を表す断面図。
１…連続熱処理炉、２…熱処理炉、３…入口、４…出
口、５…金属ストリップ、１０，１５…シール室、１
１，１２，１６，１７…シールロール。
口、５…金属ストリップ、１０，１５…シール室、１
１，１２，１６，１７…シールロール。
Claims (3)
- 【請求項１】 熱処理炉の入口と出口に隣接させて夫々
にシール室を設け、前記熱処理炉の内部を金属ストリッ
プを搬送させながら熱処理する連続熱処理炉であつて、 前記夫々のシール室の入口と出口に異方向回転する一対
のシールロールを夫々に設け、前記シール室内にシール
ガスを供給することを特徴とする連続熱処理炉。 - 【請求項２】 前記シール室内の圧力が前記熱処理炉内
の圧力より低いことを特徴とする請求項１記載の連続熱
処理炉。 - 【請求項３】 前記シール室内の圧力が３０ｍｍＡｑ以
上を有することを特徴とする請求項２記載の連続熱処理
炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27445097A JPH11106833A (ja) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | 連続熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27445097A JPH11106833A (ja) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | 連続熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11106833A true JPH11106833A (ja) | 1999-04-20 |
Family
ID=17541868
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27445097A Pending JPH11106833A (ja) | 1997-10-07 | 1997-10-07 | 連続熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11106833A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014505795A (ja) * | 2011-02-04 | 2014-03-06 | アンリツ テクノロジー アンド アセット マネージメント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 金属ストリップの処理のため保護ガス室中の保護ガス雰囲気を制御する方法 |
| WO2018190140A1 (ja) * | 2017-04-13 | 2018-10-18 | Ｊｆｅスチール株式会社 | シール装置 |
-
1997
- 1997-10-07 JP JP27445097A patent/JPH11106833A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014505795A (ja) * | 2011-02-04 | 2014-03-06 | アンリツ テクノロジー アンド アセット マネージメント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 金属ストリップの処理のため保護ガス室中の保護ガス雰囲気を制御する方法 |
| WO2018190140A1 (ja) * | 2017-04-13 | 2018-10-18 | Ｊｆｅスチール株式会社 | シール装置 |
| KR20190126866A (ko) * | 2017-04-13 | 2019-11-12 | 제이에프이 스틸 가부시키가이샤 | 시일 장치 |
| CN110494572A (zh) * | 2017-04-13 | 2019-11-22 | 杰富意钢铁株式会社 | 密封装置 |
| EP3611275A4 (en) * | 2017-04-13 | 2020-02-19 | JFE Steel Corporation | SEAL DEVICE |
| US11401575B2 (en) | 2017-04-13 | 2022-08-02 | Jfe Steel Corporation | Sealing device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20040816 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20060123 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20070717 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071218 |