JPH11106425A - スチレン類重合体の精製方法 - Google Patents
スチレン類重合体の精製方法Info
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- JPH11106425A JPH11106425A JP9272896A JP27289697A JPH11106425A JP H11106425 A JPH11106425 A JP H11106425A JP 9272896 A JP9272896 A JP 9272896A JP 27289697 A JP27289697 A JP 27289697A JP H11106425 A JPH11106425 A JP H11106425A
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Abstract
去する方法を提供する。 【解決手段】ハロゲン化マグネシウム、芳香族ジエステ
ル及びチタン化合物からなる遷移金属触媒成分と有機ア
ルミニウム化合物およびアルコキシシラン化合物からな
る触媒系を用いてスチレン類を重合して得たスチレン類
重合体を、芳香族炭化水素化合物中に溶解させた状態
で、酸を含んだ下記一般式〔1〕 【化1】R−OH 〔1〕(式中R
は炭素数4〜10の直鎖アルキル基、分岐アルキル基)
で表されるアルコールで処理した後、水で洗浄すること
によりスチレン類重合体を精製する。
Description
精製方法に関する。詳しくは、特定の触媒を用いてスチ
レン類を重合して得たスチレン類重合体の精製方法に関
する。
は高い融点を持ち、例えば沸騰メチルエチルケトン抽出
による不溶分割合が93.2%のアイソタクチックポリ
スチレンは223.1℃(特開平2−158608)で
熱物性に優れている。従来から、遷移金属化合物と有機
金属化合物からなる触媒を用いてスチレン類を重合して
立体規則性を有するスチレン類の重合体を製造できるこ
とは知られているが(例えばマクロモレキュラーシンセ
シス(Macromolecular Synthesis)、1、1(196
3))、非常に低活性である。アイソタクチックポリス
チレンの製造方法として、三塩化チタンとトリエチルア
ルミニウムからなる触媒成分に第三成分としてエーテル
類を添加した触媒系でスチレンを重合し、融点が223
℃の重合体が得られている(特開平3−66709)。
また、ハロゲン化マグネシウムにハロゲン化チタンを担
持し、芳香族カルボン酸モノエステルを電子供与体とし
て用いた触媒成分と有機アルミニウム化合物からなる触
媒系(例えば、特開昭62−174212、特開昭62
−277410、特開昭63−75011)では融点が
224℃のスチレン重合体が得られている。
残渣が含まれており、これを除去する重合体の精製法は
知られているが(例えば特開昭63−75012)、充
分な精製が行われてはおらず、重合体の用途が限定され
てしまう問題があった。
レン類重合体は、重合後、触媒残渣を効率よく除去する
ことが是非とも必要となり、このための除去方法の開発
が望まれていた。
を解決する方法について鋭意検討し、本発明を完成し
た。
ム、芳香族ジエステル及びチタン化合物からなる遷移金
属触媒成分と有機アルミニウム化合物およびアルコキシ
シラン化合物からなる触媒系を用いてスチレン類を重合
して得たスチレン類重合体を、芳香族炭化水素化合物中
に溶解させた状態で、酸を含んだ下記一般式〔1〕
は炭素数4〜10の直鎖アルキル基、分岐アルキル基)
で表されるアルコールで処理した後、水で洗浄すること
を特徴とするスチレン類重合体の精製方法である。
分を製造するのに用いるハロゲン化マグネシウムとして
は塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、あるいはそれ
らとエーテル、モノエステルとの錯体、あるいは塩化マ
グネシウムと臭化マグネシウムの共晶体などが利用でき
る。
フタレンジカルボン酸、アントラセンジカルボン酸およ
びその誘導体と炭素数1〜12の脂肪族アルコール、核
置換されることもあるフェノールまたは炭素数7〜12
の芳香族アルコールとのエステルが好ましく利用でき、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジプロ
ピル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジオクチル、フタル
酸ジデシル、フタル酸ジフェニル、フタル酸ジベンジ
ル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、2−メチルフタ
ル酸ジメチル、2−メチルフタル酸ジエチル、2−メチ
ルフタル酸ジプロピル、2−メチルフタル酸ジブチル、
3−メチルフタル酸ジメチル、3−メチルフタル酸ジエ
チル、3−メチルフタル酸ジプロピル、3−メチルフタ
ル酸ジブチル、ナフタレンジカルボン酸ジメチル、ナフ
タレンジカルボン酸ジエチル、ナフタレンジカルボン酸
ジプロピル、ナフタレンジカルボン酸ジブチル、アント
ラセンジカルボン酸ジメチル、アントラセンジカルボン
酸ジエチル、アントラセンジカルボン酸ジプロピル、ま
たはアントラセンジカルボン酸ジブチルなどの他に、2
つのエステル結合を形成するアルコールが異なるフタル
酸ブチルベンジル、またはフタル酸エチルヘキシルなど
のジエステルが例示できる。
合物としては、四価のチタンもしくは三価のチタンのハ
ロゲン化物が挙げられ、ハロゲンとしては、フッ素、塩
素、臭素、ヨウ素が例示でき、好ましくは塩素が挙げら
れる。特に好ましくは四塩化チタンが例示できる。また
一部のハロゲンがアルコキシ基にかわったものも利用で
きる。
と芳香族ジエステルとチタン化合物からなる遷移金属触
媒成分を製造する方法については特に制限はなく、全て
の成分を共粉砕し、必要に応じ炭化水素化合物またはハ
ロゲン化炭化水素化合物中で加熱処理する方法、または
ハロゲン化マグネシウムを不活性溶媒中でアルコールな
どの電子供与性化合物の存在下で溶解させ、芳香族ジエ
ステルの存在下あるいは不存在下にチタン化合物と接触
させて析出させることで得られる担体に、更に芳香族ジ
エステルで処理した後にチタン化合物を担持するか、も
しくは芳香族ジエステルと同時にチタン化合物を担持す
る方法等で製造することができる。ここで用いるチタン
化合物は予め芳香族ジエステルと錯体を形成させて利用
することもできる。
合は0.1:1〜1:0.1(モル比)が好ましく、特
に好ましくは0.3:1〜1:0.3(モル比)であ
る。この範囲外では、その触媒を用いて重合したとき、
活性及び得られる重合体の立体規則性が極めて低下す
る。またハロゲン化マグネシウムに対するチタン化合物
の割合としては1:0.001〜1:1(重量比)程度
が好ましい。
ミルで行われ、粉砕時間としては数時間〜数百時間、粉
砕温度としては−70〜100℃が好ましい。特に好ま
しい粉砕時間は数時間〜数十時間、粉砕温度は−10〜
50℃である。
じ炭素数1〜12の炭化水素化合物あるいはその水素の
1〜全部が塩素、臭素、沃素で置換した化合物中で、好
ましくは50℃〜150℃で加熱処理される。特に好ま
しい温度は70〜130℃である。共粉砕物に対する炭
化水素化合物の使用割合としては1/1〜1/100
(wt/vol比)で行うのが一般的である。
溶媒でハロゲン化マグネシウムを溶解させた後、所定の
温度で析出させる溶解−析出法(例えばファインケミカ
ル、第23巻、第1号、32頁(1994))が好まし
く利用でき、より好ましくは、0℃以下の温度でハロゲ
ン化マグネシウム溶解液とチタン化合物とを接触させた
後、100℃以上まで、徐々に温度を上昇させることに
よって担体の析出を行う方法が用いられる。
シシラン化合物としては下記一般式〔2〕
Rは炭素数1〜12のアルキル基、炭素数3〜20のシ
クロアルキル基、ノルボルニル基、炭素数6〜20のア
リール基から選ばれる。R’は炭素数1〜12のアルキ
ル基、nは1〜3の整数)で表されるものである。
ル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチ
ル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチ
ル基、ヘキシル基、シクロブチル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、フェニル基な
どが挙げられる。またR’としては、メチル基、エチル
基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル
基、iso−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基などが挙げられる。
して例えば、シクロヘキシルメチルジメトキシシラン、
シクロヘキシルエチルジメトキシシラン、シクロヘキシ
ル−iso−プロピルジメトキシシラン、シクロヘキシ
ル−tert−ブチルジメトキシシラン、シクロヘキシ
ルペンチルジメトキシシラン、シクロヘキシルヘキシル
ジメトキシシラン、シクロブチルメチルジメトキシシラ
ン、シクロブチルエチルジメトキシシラン、シクロブチ
ル−iso−プロピルジメトキシシラン、シクロブチル
−tert−ブチルジメトキシシラン、シクロブチルペ
ンチルジメトキシシラン、シクロブチルヘキシルジメト
キシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニ
ルエチルジメトキシシラン、フェニル−iso−プロピ
ルジメトキシシラン、フェニル−tert−ブチルジメ
トキシシラン、フェニルペンチルジメトキシシラン、フ
ェニルヘキシルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキ
シシラン、ジシクロヘキシルジメトキシシラン、ジメチ
ルジメトキシシラン、メチルエチルジメトキシシラン、
エチル−tert−ブチルジメトキシシラン、ジプロピ
ルジメトキシシラン、シクロヘキシルメチルジエトキシ
シラン、シクロヘキシルエチルジエトキシシラン、シク
ロヘキシル−iso−プロピルジエトキシシラン、シク
ロヘキシル−tert−ブチルジエトキシシラン、シク
ロヘキシルペンチルジエトキシシラン、シクロヘキシル
ヘキシルジエトキシシラン、シクロヘキシルメチルジ−
tert−ブトキシシラン、シクロヘキシルエチルジ−
tert−ブトキシシラン、シクロヘキシル−iso−
プロピルジ−tert−ブトキシシラン、シクロヘキシ
ル−tert−ブチルジ−tert−ブトキシシラン、
シクロヘキシルペンチルジ−tert−ブトキシシラ
ン、シクロヘキシルヘキシルジ−tert−ブトキシシ
ラン、シクロヘキシルメチルメトキシエトキシシラン、
シクロヘキシルエチルメトキシエトキシシラン、シクロ
ヘキシル−iso−プロピルメトキシエトキシシラン、
シクロヘキシル−tert−ブチルメトキシエトキシシ
ラン、シクロヘキシルペンチルメトキシエトキシシラ
ン、シクロヘキシルヘキシルメトキシエトキシシラン、
シクロヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、プロピルトリエトキシシラン、またはn−
デシルエチルジブトキシシラン等が例示できる。
ム化合物としては、好ましくはトリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウ
ム、トリブチルアルミニウムなどのトリアルキルアルミ
ニウム、またはその1〜2個の炭化水素残基が塩素また
は臭素で置換されたジエチルアルミニウムクロライド、
エチルアルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニ
ウムハライド、またはこれらの混合物が例示される。特
に好ましくは、トリイソブチルアルミニウム、トリエチ
ルアルミニウム、トリメチルアルミニウム、ジエチルア
ルミニウムクロライド等が挙げられる。
アルミニウムの使用割合としては、好ましくは1:1〜
1:10000(モル比)、特に好ましくは1:1〜
1:1000(モル比)である。また遷移金属触媒成分
中のチタンに対する上記アルコキシシランの使用割合と
しては、好ましくは1:1〜1:10000(モル
比)、特に好ましくは1:1〜1:1000(モル比)
である。
ては、スチレン、o−メチルスチレン、p−メチルスチ
レン、2,4−ジメチルスチレン、o−エチルスチレ
ン、p−エチルスチレン、2,4−ジエチルスチレン、
o−クロロスチレン、p−クロロスチレン、α−メチル
スチレン、2−ビニルナフタレン、またはα−メチル−
2−ビニルナフタレンなどが挙げられる。これらスチレ
ン類は単独重合だけでなく、2種類以上のスチレン類の
共重合に用いても良い。
−オレフィンまたはジエン化合物とのランダムあるいは
ブロック共重合に用いても良く、その際使用されるα−
オレフィンとしては、例えばエチレン、プロピレン、ブ
テン−1、ペンテン−1、ヘキセン−1、4−メチル−
1−ペンテン等が、またジエン化合物としては1,3−
ブタジエン、1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,
4−ヘキサジエン、エチリデンノルボルネン、ジシクロ
ペンタジエン等が挙げられる。
ては特に制限は無く、ポリマーが溶媒中に溶解している
溶液重合、或いはポリマーが溶媒中に縣濁しているスラ
リー重合など公知の種々の方法が採用できる。この重合
の際使用される重合溶媒としては、例えばブタン、ペン
タン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカ
ン、シクロペンタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素
化合物や、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭
化水素化合物が挙げられる。
ウムにチタン化合物を担持した遷移金属触媒成分の使用
量については、特に制限は無いが、重合系全体に対し
て、遷移金属触媒成分が、0.001〜10ミリモル/
リットル、通常は0.01〜1ミリモル/リットル程度
が適当である。
しくは常温〜100℃であり、重合時間は重合温度、触
媒量等により異なるが、通常数分〜24時間、好ましく
は10分〜10時間である。上記重合反応中、水素等の
分子量調節剤の存在下で重合することも可能である。
たスチレン類重合体を、芳香族炭化水素化合物中に溶解
させ、酸を含んだ前記一般式〔1〕で表されるアルコー
ルで処理した後、水で洗浄することにある。
する芳香族炭化水素化合物としてはトルエン、o−キシ
レン、m−キシレン、p−キシレン、1,2,3−トリ
メチルベンゼン、1,2,4−トリメチルベンゼン、メ
シチレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、トリエ
チルベンゼン等が挙げられ、好ましくはトルエンが用い
られる。本発明で用いる酸は例えば塩酸、硫酸、硝酸、
酢酸等が挙げられ、好ましくは塩酸が用いられる。本発
明で用いる前記一般式〔1〕で表されるアルコールは例
えばn−ブタノール、iso−ブタノール、tert−
ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、ヘプタノー
ル、オクタノール等が挙げられ、好ましくはn−ブタノ
ールが用いられる。
〔1〕で表されるアルコールで、スチレン類重合体を芳
香族炭化水素化合物中に溶解した溶液を処理する際、単
位重合体当たりの芳香族炭化水素化合物の使用量として
は、芳香族炭化水素化合物中の重合体濃度として、通常
0.001g/リットル〜1000g/リットル、好ま
しくは0.01g/リットル〜500g/リットルの範
囲である。アルコール中の酸濃度としては、通常0.0
001モル/リットル〜500モル/リットル、好まし
くは0.001モル/リットル〜50モル/リットルの
範囲である。アルコールは単独で用いるだけでなく、2
種類以上のアルコール混合体で用いても良く、また、ア
ルコールに対して100体積%未満の水を含んでいても
良い。スチレン類重合体の溶解した溶液に対する酸を含
んだアルコールの使用割合としては、通常1:0.00
1〜1:1000体積比、好ましくは1:0.01〜
1:100体積比の範囲が適当である。処理温度として
は、通常0℃〜500℃、好ましくは40〜300℃の
範囲が適当であるが、酸を含んだアルコールでスチレン
類重合体の溶解した溶液を処理する際に、重合体の析出
が無いことが好ましい。処理時間は、通常1分〜100
時間であり、好ましくは数分〜10時間である。
した溶液を水で洗浄する際、水の使用量、及び洗浄温度
について特に制限は無いが、重合体を溶解した溶液に対
する水の使用量として、1:0.01〜1:1000体
積比の範囲が、洗浄温度としては、0℃〜200℃の範
囲が適当であるが、スチレン類重合体を溶解した溶液を
水で洗浄する際に、スチレン類重合体の析出が無いこと
が好ましい。
水で洗浄された溶液中のスチレン類重合体は、大量の
水、メタノール等の貧溶媒中で析出し、回収することが
できる。上記処理洗浄は、酸化防止剤存在下で行うこと
も可能である。
明する。
電気炉内において850℃で処理し、重量減少が見られ
なくなった後の残留分の重量から求め、重量割合として
表した。
12mmの鋼球9kgの入った内容積4リットルの粉砕
用ポットを4個装備した振動ミルを用意し、各ポットに
窒素雰囲気中で塩化マグネシウム300g、フタル酸ジ
イソブチル75ml、四塩化チタン75mlを加え40
時間粉砕した。
コに入れトルエン60mlを加え114℃で120分間
撹拌処理し、次いで静置して上澄液を除去した。次いで
n−ヘプタン100mlで20℃で3回、固形分を洗浄
しさらに100mlのn−ヘプタンに分散して遷移金属
触媒成分スラリーとした。得られた遷移金属触媒成分は
チタンを1.9wt%含有し、フタル酸ジイソブチルを
14.2wt%含有していた。
した撹拌装置を備えたオートクレーブ内に、上記により
得られた遷移金属触媒成分1.0gとトリイソブチルア
ルミニウム8.3g、シクロヘキシルメチルジメトキシ
シラン0.76gおよびヘプタン500mlを入れ、室
温で10分撹拌した。スチレン200mlを添加し、水
素1.0kgf/cm2 ゲージ圧をオートクレーブ内に
加えた後、激しく撹拌しながら70℃に昇温した。2時
間後、メタノール200mlとアセト酢酸メチル10m
lを加えて触媒を失活し、ポリマーを水洗した後濾取乾
燥した。得られたポリマーは94.0gであり、融点は
224℃であった。このポリマー中の灰分は2960p
pmであった。沸騰メチルエチルケトン抽出によるポリ
マーの不溶分割合は94.8%であった。
拌装置を備えたフラスコ内に、上記重合において得られ
た重合体90gとトルエン1リットルを導入し、撹拌し
ながら加熱還流を30分間行い均一溶液とした。0.5
モル/リットルの塩酸/n−ブタノール溶液500ml
(含水量、16ml)をフラスコ内に添加し、撹拌しな
がら1時間加熱還流を行った。85℃に加温した水80
0mlを加え、フラスコ内温度が80℃ないし85℃を
保ちながら30分間撹拌を行った後、水層を分離して水
洗を行った。この水洗を4回繰り返した後、メタノール
1500mlをフラスコ内に滴下して重合体を析出させ
て濾取回収した後、乾燥した。得られたポリマー中の灰
分は、15ppmであった。
ラスコ内に、実施例1の(スチレンの重合)において得
られた重合体21.5gとキシレン300mlを導入
し、撹拌しながら加熱還流を30分間行い均一溶液とし
た。pH=1の塩酸水溶液150mlをフラスコ内に添
加し、撹拌しながら1時間加熱還流を行った後、水層を
除去して酸処理を行った。この酸処理を2回行った後、
85℃に加温した水200mlを加え、フラスコ内温度
が80℃ないし85℃を保ちながら30分間撹拌を行っ
た。水層を除去して水洗を行い、この水洗を3回繰り返
した後、メタノール500mlをフラスコ内に滴下して
重合体を析出させて濾取回収した後、乾燥した。得られ
たポリマー中の灰分は、225ppmであった。
ン類の重合体を効率良く精製することができ、工業的に
価値がある。
である。
Claims (1)
- 【請求項1】ハロゲン化マグネシウム、芳香族ジエステ
ル及びチタン化合物からなる遷移金属触媒成分と有機ア
ルミニウム化合物およびアルコキシシラン化合物からな
る触媒系を用いてスチレン類を重合して得たスチレン類
重合体を、芳香族炭化水素化合物中に溶解させた状態
で、酸を含んだ下記一般式〔1〕 【化1】R−OH 〔1〕(式中R
は炭素数4〜10の直鎖アルキル基、分岐アルキル基)
で表されるアルコールで処理した後、水で洗浄すること
を特徴とするスチレン類重合体の精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9272896A JPH11106425A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | スチレン類重合体の精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP9272896A JPH11106425A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | スチレン類重合体の精製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11106425A true JPH11106425A (ja) | 1999-04-20 |
Family
ID=17520276
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9272896A Pending JPH11106425A (ja) | 1997-10-06 | 1997-10-06 | スチレン類重合体の精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11106425A (ja) |
-
1997
- 1997-10-06 JP JP9272896A patent/JPH11106425A/ja active Pending
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Legal Events
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