JPH1110288A - 連続鋳造薄鋳片及びその鋳造方法 - Google Patents
連続鋳造薄鋳片及びその鋳造方法Info
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- JPH1110288A JPH1110288A JP16296897A JP16296897A JPH1110288A JP H1110288 A JPH1110288 A JP H1110288A JP 16296897 A JP16296897 A JP 16296897A JP 16296897 A JP16296897 A JP 16296897A JP H1110288 A JPH1110288 A JP H1110288A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 双ドラム式連続鋳造による薄鋳片の表面割れ
およびドラム周面に設けた窪みの凸転写に起因した表面
疵を防止すると共に、窪みの形成工程を簡略化および窪
みの寿命延長を図る。 【解決手段】 互いに反対方向に回転する一対の冷却ド
ラム１，１の間隙の上部に形成された湯溜まり部３に、
溶湯を連続的に供給して薄鋳片Ｃに連続鋳造する方法に
おいて、前記冷却ドラム１，１の周面に直径が４００〜
２０００μｍ、深さが１０〜２００μｍの窪みを３０〜
７０％の面積率で形成し、シールチャンバー４内におけ
る窒素ガスに占めるアルゴンガスの比率を調整すること
により、薄鋳片Ｃの表面に直径が４００〜２０００μ
ｍ、高さが１０〜１５０μm の凹凸を形成すると共に、
凹凸の傾斜面と薄鋳片の表面とでなす角度を５〜４０ｄ
ｅｇの範囲に制御する。
およびドラム周面に設けた窪みの凸転写に起因した表面
疵を防止すると共に、窪みの形成工程を簡略化および窪
みの寿命延長を図る。 【解決手段】 互いに反対方向に回転する一対の冷却ド
ラム１，１の間隙の上部に形成された湯溜まり部３に、
溶湯を連続的に供給して薄鋳片Ｃに連続鋳造する方法に
おいて、前記冷却ドラム１，１の周面に直径が４００〜
２０００μｍ、深さが１０〜２００μｍの窪みを３０〜
７０％の面積率で形成し、シールチャンバー４内におけ
る窒素ガスに占めるアルゴンガスの比率を調整すること
により、薄鋳片Ｃの表面に直径が４００〜２０００μ
ｍ、高さが１０〜１５０μm の凹凸を形成すると共に、
凹凸の傾斜面と薄鋳片の表面とでなす角度を５〜４０ｄ
ｅｇの範囲に制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は双ドラム式連続鋳造
装置等によって製造される薄鋳片および薄鋳片を連続鋳
造する方法に関するものである。
装置等によって製造される薄鋳片および薄鋳片を連続鋳
造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】連続鋳造によってホットストリップと同
等かそれに近い厚さの鋳片を製造する装置として、例え
ば双ドラム式連続鋳造装置が知られている。この装置
は、図１に示すように、軸を水平にし互いに接近して並
行に設置され、且つ互いに逆方向に回転する一対の冷却
ドラム１、１と、冷却ドラム１、１の両端面に圧着され
たサイド堰２、２（仮想線で示す）とを主要な構成部材
としている。
等かそれに近い厚さの鋳片を製造する装置として、例え
ば双ドラム式連続鋳造装置が知られている。この装置
は、図１に示すように、軸を水平にし互いに接近して並
行に設置され、且つ互いに逆方向に回転する一対の冷却
ドラム１、１と、冷却ドラム１、１の両端面に圧着され
たサイド堰２、２（仮想線で示す）とを主要な構成部材
としている。
【０００３】冷却ドラム１、１とサイド堰２、２とで形
成された湯溜まり部３の上方にはシールチャンバー４が
設けられ、シールチャンバー４内には不活性ガスが供給
される。湯溜まり部３にタンディッシュ５から溶湯を連
続的に供給することにより、溶湯は冷却ドラム１との接
触部で凝固シェルを形成し、凝固シェルは冷却ドラム
１、１の回転に伴ってキッシングポイント６で圧着され
薄鋳片Ｃとなる。
成された湯溜まり部３の上方にはシールチャンバー４が
設けられ、シールチャンバー４内には不活性ガスが供給
される。湯溜まり部３にタンディッシュ５から溶湯を連
続的に供給することにより、溶湯は冷却ドラム１との接
触部で凝固シェルを形成し、凝固シェルは冷却ドラム
１、１の回転に伴ってキッシングポイント６で圧着され
薄鋳片Ｃとなる。
【０００４】薄鋳片Ｃは板厚が１〜７mm程度と薄いた
め、その表面は凝固シェルの形成状態の影響を著しく受
け、急冷による凝固シェル厚の不均一等により表面割れ
が発生するという問題がある。表面割れの発生を防止す
るために、冷却ドラム周面にショットブラスト、フォト
エッチ、レーザー加工等により多数の窪みを設ける技術
が、例えば特開昭６０−１８４４４９号公報に開示され
ている。
め、その表面は凝固シェルの形成状態の影響を著しく受
け、急冷による凝固シェル厚の不均一等により表面割れ
が発生するという問題がある。表面割れの発生を防止す
るために、冷却ドラム周面にショットブラスト、フォト
エッチ、レーザー加工等により多数の窪みを設ける技術
が、例えば特開昭６０−１８４４４９号公報に開示され
ている。
【０００５】この窪みによって冷却ドラムと凝固シェル
との間に断熱層となるガスギャップを形成することで溶
湯の緩慢な冷却を行い、また窪みに溶湯を適度に入り込
ませて鋳片表面に凸転写を形成させ、凸転写の周縁から
凝固を開始させることで凝固シェル厚の均一化を図るこ
とができる。
との間に断熱層となるガスギャップを形成することで溶
湯の緩慢な冷却を行い、また窪みに溶湯を適度に入り込
ませて鋳片表面に凸転写を形成させ、凸転写の周縁から
凝固を開始させることで凝固シェル厚の均一化を図るこ
とができる。
【０００６】また、湯溜まり部の溶湯表面の酸化を防止
するために、湯溜まり部にシールチャンバーを設け、チ
ャンバー内にアルゴンガスを供給する技術が、例えば特
開昭６３−１７７９４５号公報に開示されている。しか
しアルゴンガスを供給した場合は、窪み内のアルゴンガ
スの膨張によって、鋳片表面に凸転写を形成することが
できない。
するために、湯溜まり部にシールチャンバーを設け、チ
ャンバー内にアルゴンガスを供給する技術が、例えば特
開昭６３−１７７９４５号公報に開示されている。しか
しアルゴンガスを供給した場合は、窪み内のアルゴンガ
スの膨張によって、鋳片表面に凸転写を形成することが
できない。
【０００７】湯溜まり部の溶湯表面の酸化を防止すると
共に、鋳片表面に凸転写を形成する技術として、チャン
バー内に溶湯に可溶な窒素ガスを供給する技術が、例え
ば特開平３−７７７４７号公報に開示されている。しか
し、この技術によって鋳片表面割れを防止するに必要な
凸転写を形成すると、鋳片表面に凸転写に起因した光沢
むらや表面疵等（以下、単に表面疵という）が発生す
る。
共に、鋳片表面に凸転写を形成する技術として、チャン
バー内に溶湯に可溶な窒素ガスを供給する技術が、例え
ば特開平３−７７７４７号公報に開示されている。しか
し、この技術によって鋳片表面割れを防止するに必要な
凸転写を形成すると、鋳片表面に凸転写に起因した光沢
むらや表面疵等（以下、単に表面疵という）が発生す
る。
【０００８】薄鋳片の表面割れと表面疵の両方を防止す
る技術として、鋳片の表面割れ防止用と、表面疵防止用
の２種類の窪みを設けると共に、窪みの傾斜角度を４０
°以下と小さくする技術が、例えば特開平６−３２８２
０４号公報に開示されている。
る技術として、鋳片の表面割れ防止用と、表面疵防止用
の２種類の窪みを設けると共に、窪みの傾斜角度を４０
°以下と小さくする技術が、例えば特開平６−３２８２
０４号公報に開示されている。
【０００９】しかし、この技術によっても表面割れと表
面疵の両方の発生を十分に防止できない。また、この技
術では２種類の窪みを設けるため工程が煩雑になり、し
かも２種類のうち１種類の窪みは、深さが１００μm 以
下と浅いため、磨滅により寿命が短いという問題があ
る。
面疵の両方の発生を十分に防止できない。また、この技
術では２種類の窪みを設けるため工程が煩雑になり、し
かも２種類のうち１種類の窪みは、深さが１００μm 以
下と浅いため、磨滅により寿命が短いという問題があ
る。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、薄鋳
片の表面割れおよび凸転写に起因した表面疵の両方を防
止すると共に、窪みの形成工程の簡略化および窪みの寿
命延長を図ることを課題とする。
片の表面割れおよび凸転写に起因した表面疵の両方を防
止すると共に、窪みの形成工程の簡略化および窪みの寿
命延長を図ることを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する本発
明の連続鋳造薄鋳片は、表面に直径が４００〜２０００
μｍ、高さが１０〜１５０μm の凹凸が３０〜７０％の
面積率で形成されており、該凹凸の傾斜面と薄鋳片の表
面とでなす角度αが４０deg 以下であることを特徴とす
る。
明の連続鋳造薄鋳片は、表面に直径が４００〜２０００
μｍ、高さが１０〜１５０μm の凹凸が３０〜７０％の
面積率で形成されており、該凹凸の傾斜面と薄鋳片の表
面とでなす角度αが４０deg 以下であることを特徴とす
る。
【００１２】本発明の薄鋳片連続鋳造方法は、互いに反
対方向に回転する一対の冷却ドラムの間隙の上部に形成
された湯溜まり部に、溶湯を連続的に供給して薄鋳片に
連続鋳造する方法において、前記冷却ドラムの周面に直
径が４００〜２０００μｍ、深さが１０〜２００μｍの
窪みを３０〜７０％の面積率で形成し、前記湯溜まり部
の溶湯上面の雰囲気を窒素ガスまたは窒素ガスにアルゴ
ンガスを混合した雰囲気とし、前記窪みの傾斜面と冷却
ドラムの表面とでなす角度β (deg)と前記雰囲気中のア
ルゴンガスの体積比ｙ(%) が下記（１）式または（２）
式を満足することを特徴とする。 ０＜β≦４０の場合、 ０＜ｙ≦０．１ ・・・・（１）式
対方向に回転する一対の冷却ドラムの間隙の上部に形成
された湯溜まり部に、溶湯を連続的に供給して薄鋳片に
連続鋳造する方法において、前記冷却ドラムの周面に直
径が４００〜２０００μｍ、深さが１０〜２００μｍの
窪みを３０〜７０％の面積率で形成し、前記湯溜まり部
の溶湯上面の雰囲気を窒素ガスまたは窒素ガスにアルゴ
ンガスを混合した雰囲気とし、前記窪みの傾斜面と冷却
ドラムの表面とでなす角度β (deg)と前記雰囲気中のア
ルゴンガスの体積比ｙ(%) が下記（１）式または（２）
式を満足することを特徴とする。 ０＜β≦４０の場合、 ０＜ｙ≦０．１ ・・・・（１）式
【数２】
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明は、薄鋳片に発生する表面
割れを防止するため、冷却ドラム周面にショットブラス
ト、フォトエッチ、レーザー加工等により、多数の窪み
を設ける。窪みの直径は４００〜２０００μｍ、深さは
１０〜２００μｍ、面積率は３０〜７０％とする。ま
た、湯溜まり部の溶湯表面の酸化を防止すると共に、鋳
片表面に窪みの凸転写を形成するために、湯溜まり部の
溶湯上面を溶湯に可溶な窒素ガスまたは窒素ガスにアル
ゴンガスを混合した雰囲気とする。
割れを防止するため、冷却ドラム周面にショットブラス
ト、フォトエッチ、レーザー加工等により、多数の窪み
を設ける。窪みの直径は４００〜２０００μｍ、深さは
１０〜２００μｍ、面積率は３０〜７０％とする。ま
た、湯溜まり部の溶湯表面の酸化を防止すると共に、鋳
片表面に窪みの凸転写を形成するために、湯溜まり部の
溶湯上面を溶湯に可溶な窒素ガスまたは窒素ガスにアル
ゴンガスを混合した雰囲気とする。
【００１４】本発明者は上記条件によって製造された薄
鋳片表面の凸転写による凹凸と薄鋳片を圧延した後の薄
板製品の表面疵との関係を詳細に調査した結果、両者の
間に強い相関があることを発見した。図２に示す薄鋳片
Ｃの凹凸の傾斜面ｋ1 と薄鋳片の表面ｓとでなす鋳片の
凹凸角度αが４０ｄｅｇを超えるか、凹凸の直径が４０
０〜２０００μｍの範囲において高さｈが１５０μm を
超えると、圧延時に凸部のメタルが凹部に被さり、その
際に表面のスケ−ル層を巻き込むため凹部に被さったメ
タルは圧着されず、表面疵となって残る。鋳片の凹凸角
度αが４０ｄｅｇ以下であり、かつ凹凸の高さｈが１５
０μm 以下であれば、上記のような現象は起こらず表面
疵は発生しない。
鋳片表面の凸転写による凹凸と薄鋳片を圧延した後の薄
板製品の表面疵との関係を詳細に調査した結果、両者の
間に強い相関があることを発見した。図２に示す薄鋳片
Ｃの凹凸の傾斜面ｋ1 と薄鋳片の表面ｓとでなす鋳片の
凹凸角度αが４０ｄｅｇを超えるか、凹凸の直径が４０
０〜２０００μｍの範囲において高さｈが１５０μm を
超えると、圧延時に凸部のメタルが凹部に被さり、その
際に表面のスケ−ル層を巻き込むため凹部に被さったメ
タルは圧着されず、表面疵となって残る。鋳片の凹凸角
度αが４０ｄｅｇ以下であり、かつ凹凸の高さｈが１５
０μm 以下であれば、上記のような現象は起こらず表面
疵は発生しない。
【００１５】凹凸の直径が４００〜２０００μｍの範囲
において凹凸の高さｈが１０μm 未満であると、鋳片表
面に凸転写を形成させ、凸転写の周縁から凝固を開始さ
せることで凝固シェル厚の均一化を図ることができない
ため、鋳片に表面割れが発生する。凹凸の高さｈが１０
μm 以上であれば、上記のような現象は起こらず表面割
れは発生しない。
において凹凸の高さｈが１０μm 未満であると、鋳片表
面に凸転写を形成させ、凸転写の周縁から凝固を開始さ
せることで凝固シェル厚の均一化を図ることができない
ため、鋳片に表面割れが発生する。凹凸の高さｈが１０
μm 以上であれば、上記のような現象は起こらず表面割
れは発生しない。
【００１６】図２に示す鋳片の凹凸角度αは、窪みの傾
斜面ｋ2 とドラム表面ｄとでなすドラムの窪み角度βと
雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率によって決ま
る。そのため、鋳片の凹凸角度αの調整は、ドラムの窪
み角度βあるいは雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比
率を調整することによって行うことができる。この場
合、鋳片の凹凸角度αは、ドラムの窪み角度βに正比例
し、雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率に反比例す
る。そのため、鋳片の凹凸角度αを小さくするために
は、ドラムの窪み角度βを小さくするか、雰囲気ガスに
占めるアルゴンガスの比率を大きくする。
斜面ｋ2 とドラム表面ｄとでなすドラムの窪み角度βと
雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率によって決ま
る。そのため、鋳片の凹凸角度αの調整は、ドラムの窪
み角度βあるいは雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比
率を調整することによって行うことができる。この場
合、鋳片の凹凸角度αは、ドラムの窪み角度βに正比例
し、雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率に反比例す
る。そのため、鋳片の凹凸角度αを小さくするために
は、ドラムの窪み角度βを小さくするか、雰囲気ガスに
占めるアルゴンガスの比率を大きくする。
【００１７】前記のように、鋳片の凹凸角度αはドラム
の窪み角度βに正比例するため、ドラムの窪み角度βと
雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率を調整すること
によっても鋳片の表面疵および表面割れの発生を防止す
ることができる。図３は、ドラムの窪み角度βと雰囲気
ガスに占めるアルゴンガスの体積比率の関係における鋳
片の表面疵および表面割れの発生状況を示す。
の窪み角度βに正比例するため、ドラムの窪み角度βと
雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率を調整すること
によっても鋳片の表面疵および表面割れの発生を防止す
ることができる。図３は、ドラムの窪み角度βと雰囲気
ガスに占めるアルゴンガスの体積比率の関係における鋳
片の表面疵および表面割れの発生状況を示す。
【００１８】図３に示すように、ドラムの窪み角度βが
４０ｄｅｇ以下の場合は、アルゴンガスの比率ｙが下記
（１）式を満足すると、鋳片に表面疵および表面割れの
発生はなく健全な鋳片を製造できる。ドラムの窪み角度
βが４０ｄｅｇを超える場合は、ドラムの窪み角度βと
アルゴンガスの比率ｙの関係が下記（２）式を満足する
と、鋳片に表面疵および表面割れの発生はなく健全な鋳
片を製造できる。 ０＜ｙ≦０．１ ・・・・（１）式
４０ｄｅｇ以下の場合は、アルゴンガスの比率ｙが下記
（１）式を満足すると、鋳片に表面疵および表面割れの
発生はなく健全な鋳片を製造できる。ドラムの窪み角度
βが４０ｄｅｇを超える場合は、ドラムの窪み角度βと
アルゴンガスの比率ｙの関係が下記（２）式を満足する
と、鋳片に表面疵および表面割れの発生はなく健全な鋳
片を製造できる。 ０＜ｙ≦０．１ ・・・・（１）式
【数３】
【００１９】ドラムの窪み角度βが４０ｄｅｇ以下の場
合は、鋳片の凹凸角度αは４０ｄｅｇを超えることはな
いので、アルゴンガスを積極的に混合する必要はない
が、アルゴンガスをその比率が０．１％を超えない範囲
で混合すると、鋳片の凹凸角度αが若干低下するため、
表面疵の発生をより確実に防止できるとともに、製品表
面の光沢度が向上する。
合は、鋳片の凹凸角度αは４０ｄｅｇを超えることはな
いので、アルゴンガスを積極的に混合する必要はない
が、アルゴンガスをその比率が０．１％を超えない範囲
で混合すると、鋳片の凹凸角度αが若干低下するため、
表面疵の発生をより確実に防止できるとともに、製品表
面の光沢度が向上する。
【００２０】鋳片の凹凸角度αおよびドラムの窪み角度
βの値は、例えば二次元の粗度計にて描いたプロフィー
ルから計測することができる。この場合、凹凸が例えば
１００個以上含まれる長さを計測することにより計測値
に代表性があるものとなる。計測したドラムの窪み角度
βに応じてアルゴンガスの比率を図３に示す範囲に調整
する。
βの値は、例えば二次元の粗度計にて描いたプロフィー
ルから計測することができる。この場合、凹凸が例えば
１００個以上含まれる長さを計測することにより計測値
に代表性があるものとなる。計測したドラムの窪み角度
βに応じてアルゴンガスの比率を図３に示す範囲に調整
する。
【００２１】
【実施例】表１に示す成分組成からなるオーステナイト
系ステンレス鋼を図１に示す双ドラム式連続鋳造装置に
より板厚３mmの帯状の薄鋳片に鋳造し、鋳造に引続いて
熱間圧延し、その後に冷間圧延して板厚０．５mmの薄板
製品を製造した。上記薄鋳片を鋳造するに際し、幅８０
０mm、直径１２００mmの冷却ドラムの周面に表２に示す
条件で窪みを加工した。加工方法としてはショットブラ
スト法、フォトエッチング法およびレーザー加工法を用
いた。試験条件およびその結果を表２に示す。
系ステンレス鋼を図１に示す双ドラム式連続鋳造装置に
より板厚３mmの帯状の薄鋳片に鋳造し、鋳造に引続いて
熱間圧延し、その後に冷間圧延して板厚０．５mmの薄板
製品を製造した。上記薄鋳片を鋳造するに際し、幅８０
０mm、直径１２００mmの冷却ドラムの周面に表２に示す
条件で窪みを加工した。加工方法としてはショットブラ
スト法、フォトエッチング法およびレーザー加工法を用
いた。試験条件およびその結果を表２に示す。
【００２２】
【表１】
【００２３】
【表２】
【００２４】鋳造Ｎｏ．１−１、２−１、３−１、４−
１、５−１は、アルゴンガスの比率が大き過ぎた結果、
熱膨張の影響が大きくなり、ドラム表面と薄鋳片表面の
間にガス層が不均一に入り込んでシェルの均一な凝固が
できなくなり、薄鋳片表面に割れが発生した。鋳造Ｎ
ｏ．３−５、４−５、５−５は、アルゴンガスの比率が
小さ過ぎた結果、鋳片の凹凸角度αが４０deg を超えた
ものが発生し、圧延後の薄板製品に表面疵が発生した。
上記以外の場合では、薄鋳片に表面割れの発生はなく、
圧延後の薄板製品にも表面疵は発生しなかった。
１、５−１は、アルゴンガスの比率が大き過ぎた結果、
熱膨張の影響が大きくなり、ドラム表面と薄鋳片表面の
間にガス層が不均一に入り込んでシェルの均一な凝固が
できなくなり、薄鋳片表面に割れが発生した。鋳造Ｎ
ｏ．３−５、４−５、５−５は、アルゴンガスの比率が
小さ過ぎた結果、鋳片の凹凸角度αが４０deg を超えた
ものが発生し、圧延後の薄板製品に表面疵が発生した。
上記以外の場合では、薄鋳片に表面割れの発生はなく、
圧延後の薄板製品にも表面疵は発生しなかった。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、双ドラム式連続鋳造装
置等によって製造される薄鋳片の表面割れを防止すると
ともに、表面割れ防止のために冷却ドラム周面に設けた
窪みの鋳片への凸転写に起因した薄板製品の光沢むらや
表面疵等を確実に防止できる。また、薄鋳片の表面割れ
防止のために冷却ドラム周面に設ける窪みは、１種類で
よいため、窪み加工工程が簡単である。さらには、窪み
深さが１０〜２００と広範囲であるため、窪みの磨滅に
よる寿命が従来のほぼ２倍に延長する。
置等によって製造される薄鋳片の表面割れを防止すると
ともに、表面割れ防止のために冷却ドラム周面に設けた
窪みの鋳片への凸転写に起因した薄板製品の光沢むらや
表面疵等を確実に防止できる。また、薄鋳片の表面割れ
防止のために冷却ドラム周面に設ける窪みは、１種類で
よいため、窪み加工工程が簡単である。さらには、窪み
深さが１０〜２００と広範囲であるため、窪みの磨滅に
よる寿命が従来のほぼ２倍に延長する。
【図１】本発明の実施に用いる双ドラム式連続鋳造装置
の側面図である。
の側面図である。
【図２】鋳片の凹凸角度αおよびドラムの窪み角度βを
説明する図である。
説明する図である。
【図３】薄鋳片の表面性状に及ぼすドラムの窪み角度β
と雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率の関係を示す
図である。
と雰囲気ガスに占めるアルゴンガスの比率の関係を示す
図である。
１…冷却ドラム ２…サイド堰 ３…湯溜まり部 ４…シールチャンバー ５…タンディッシュ ６…キッシングポイント Ｃ…薄鋳片 α…鋳片の凹凸角度 β…ドラムの窪み角度 ｓ…鋳片表面 ｄ…ドラム表面 ｋ1 …凹凸の傾斜面 ｋ2 …窪みの傾斜面 ｈ…凹凸の高さ
Claims (2)
- 【請求項１】 連続鋳造方法によって製造された薄鋳片
であって、該薄鋳片の表面には直径が４００〜２０００
μｍ、高さが１０〜１５０μm の凹凸が３０〜７０％の
面積率で形成されており、該凹凸の傾斜面と薄鋳片の表
面とでなす角度αが４０deg 以下であることを特徴とす
る連続鋳造薄鋳片。 - 【請求項２】 互いに反対方向に回転する一対の冷却ド
ラムの間隙の上部に形成された湯溜まり部に、溶湯を連
続的に供給して薄鋳片に連続鋳造する方法において、前
記冷却ドラムの周面に直径が４００〜２０００μｍ、深
さが１０〜２００μｍの窪みを３０〜７０％の面積率で
形成し、前記湯溜まり部の溶湯上面の雰囲気を窒素ガス
または窒素ガスにアルゴンガスを混合した雰囲気とし、
前記窪みの傾斜面と冷却ドラムの表面とでなす角度β
(deg)と前記雰囲気中のアルゴンガスの体積比ｙ(%) が
下記（１）式または（２）式を満足することを特徴とす
る薄鋳片連続鋳造方法。 ０＜β≦４０の場合、 ０＜ｙ≦０．１ ・・・・（１）式 【数１】
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16296897A JP3583901B2 (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | 連続鋳造薄鋳片及びその鋳造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16296897A JP3583901B2 (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | 連続鋳造薄鋳片及びその鋳造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1110288A true JPH1110288A (ja) | 1999-01-19 |
| JP3583901B2 JP3583901B2 (ja) | 2004-11-04 |
Family
ID=15764707
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16296897A Expired - Fee Related JP3583901B2 (ja) | 1997-06-19 | 1997-06-19 | 連続鋳造薄鋳片及びその鋳造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3583901B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007508942A (ja) * | 2003-10-21 | 2007-04-12 | ティッセンクルップ ニロスタ ゲー エム ベー ハー | 鋳鋼ストリップの製造方法 |
| KR101360660B1 (ko) * | 2011-12-27 | 2014-02-07 | 주식회사 포스코 | 에지 품질이 우수한 오스테나이트계 스테인리스 강판의 제조방법 |
| KR101482461B1 (ko) * | 2013-12-20 | 2015-01-13 | 주식회사 포스코 | 에지 품질이 우수한 오스테나이트계 스테인리스 박판의 제조방법 |
-
1997
- 1997-06-19 JP JP16296897A patent/JP3583901B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
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|---|---|---|---|---|
| JP2007508942A (ja) * | 2003-10-21 | 2007-04-12 | ティッセンクルップ ニロスタ ゲー エム ベー ハー | 鋳鋼ストリップの製造方法 |
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| JP3583901B2 (ja) | 2004-11-04 |
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