JPH1090182A - 有機物の分析装置 - Google Patents
有機物の分析装置Info
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- JPH1090182A JPH1090182A JP8266691A JP26669196A JPH1090182A JP H1090182 A JPH1090182 A JP H1090182A JP 8266691 A JP8266691 A JP 8266691A JP 26669196 A JP26669196 A JP 26669196A JP H1090182 A JPH1090182 A JP H1090182A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/252—Tubes for spot-analysing by electron or ion beams; Microanalysers
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/244—Detection characterized by the detecting means
- H01J2237/2445—Photon detectors for X-rays, light, e.g. photomultipliers
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- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】電子線を照射して試料分析を行う装置に於い
て、１μｍ以下の領域であっても測定を可能とし、又有
機物の識別、同定精度の向上を図るものである。 【解決手段】有機物を含んだ試料に電子線を照射する為
の照射部と、該試料から発する蛍光のスペクトルを検出
する為のスペクトル検出部と、特定の有機物に電子線を
照射した時の蛍光の基準スペクトルの形状を記憶してお
く為の記憶部と、この記憶された前記基準スペクトルと
前記検出されたスペクトルとの形状の比較により試料の
有機物の識別・同定を行う判断部とを有し、光よりエネ
ルギの高い電子線を照射し分析を行うことで、試料から
は紫外線領域でも広範囲のスペクトルの蛍光が発せら
れ、該蛍光より得られた測定スペクトルパターンと予め
記憶させておいた基準スペクトルパターンとの形状比較
をし、有機物の識別・同定を行う。
て、１μｍ以下の領域であっても測定を可能とし、又有
機物の識別、同定精度の向上を図るものである。 【解決手段】有機物を含んだ試料に電子線を照射する為
の照射部と、該試料から発する蛍光のスペクトルを検出
する為のスペクトル検出部と、特定の有機物に電子線を
照射した時の蛍光の基準スペクトルの形状を記憶してお
く為の記憶部と、この記憶された前記基準スペクトルと
前記検出されたスペクトルとの形状の比較により試料の
有機物の識別・同定を行う判断部とを有し、光よりエネ
ルギの高い電子線を照射し分析を行うことで、試料から
は紫外線領域でも広範囲のスペクトルの蛍光が発せら
れ、該蛍光より得られた測定スペクトルパターンと予め
記憶させておいた基準スペクトルパターンとの形状比較
をし、有機物の識別・同定を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料、特に有機物
の試料に電子線を照射し、試料から発せられる蛍光を分
光して試料の分析を行う有機物の試料分析装置に関する
ものである。
の試料に電子線を照射し、試料から発せられる蛍光を分
光して試料の分析を行う有機物の試料分析装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の有機物の分析装置としては、核磁
気共鳴法（ＮＭＲ）、赤外分光法、ラマン分光法、紫外
線励起蛍光分光法、ＥＳＣＡ（ＸＰＳ）法等が知られて
いる。
気共鳴法（ＮＭＲ）、赤外分光法、ラマン分光法、紫外
線励起蛍光分光法、ＥＳＣＡ（ＸＰＳ）法等が知られて
いる。
【０００３】又、紫外線励起蛍光分光法を用いた有機物
の識別・同定方法に関しては日立評論 ＶＯＬ．７３
Ｎｏ．９（１９９１．９）の「顕微蛍光法による微小有
幾異物分析装置」に記載されている方法が知られてい
る。
の識別・同定方法に関しては日立評論 ＶＯＬ．７３
Ｎｏ．９（１９９１．９）の「顕微蛍光法による微小有
幾異物分析装置」に記載されている方法が知られてい
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】然し乍ら上記した核磁
気共鳴法（ＮＭＲ）、赤外分光法、ラマン分光法、紫外
線励起蛍光分光法、ＥＳＣＡ（ＸＰＳ）法では、試料上
で測定可能な領域が、核磁気共鳴法（ＮＭＲ）では１０
０μｍ以上、赤外分光法では７μｍ以上、紫外線励起蛍
光分光法では１μｍ以上、ラマン分析法では１μｍ以
上、ＥＳＣＡ（ＸＰＳ）法では１０μｍ以上であり、い
ずれの方法も１μｍ以下の微少領域での有機物分析を行
うことができないという欠点を有していた。
気共鳴法（ＮＭＲ）、赤外分光法、ラマン分光法、紫外
線励起蛍光分光法、ＥＳＣＡ（ＸＰＳ）法では、試料上
で測定可能な領域が、核磁気共鳴法（ＮＭＲ）では１０
０μｍ以上、赤外分光法では７μｍ以上、紫外線励起蛍
光分光法では１μｍ以上、ラマン分析法では１μｍ以
上、ＥＳＣＡ（ＸＰＳ）法では１０μｍ以上であり、い
ずれの方法も１μｍ以下の微少領域での有機物分析を行
うことができないという欠点を有していた。
【０００５】又、紫外線励起蛍光分光法を用いた有機物
の識別・同定方法に関しては上記文献に見られる様に、
紫外線を照射して発する蛍光の波長域が狭く、例えば３
６０ｎｍの紫外線で照射しても、発する蛍光は４５０ｎ
ｍ近傍からの蛍光に限られ、有機物の特定に必要な情報
が制限されるという問題点を有していた。
の識別・同定方法に関しては上記文献に見られる様に、
紫外線を照射して発する蛍光の波長域が狭く、例えば３
６０ｎｍの紫外線で照射しても、発する蛍光は４５０ｎ
ｍ近傍からの蛍光に限られ、有機物の特定に必要な情報
が制限されるという問題点を有していた。
【０００６】本発明は斯かる実情に鑑み、１μｍ以下の
領域であっても測定が可能であり、而も有機物の特定に
必要な情報が多く得られる様にし、有機物の識別・同定
精度の向上を図るものである。
領域であっても測定が可能であり、而も有機物の特定に
必要な情報が多く得られる様にし、有機物の識別・同定
精度の向上を図るものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、有機物を含ん
だ試料に電子線を照射する為の照射部と、該試料から発
する蛍光のスペクトルを検出する為のスペクトル検出部
と、特定の有機物に電子線を照射した時の蛍光の基準ス
ペクトルの形状を記憶しておく為の記憶部と、この記憶
された前記基準スペクトルと前記検出されたスペクトル
との形状の比較により試料の有機物の識別・同定を行う
判断部とを有する有機物の試料分析装置に係り、又前記
スペクトルの形状の比較は、少なくとも、スペクトルの
ピークの数、各ピーク位置の波長、ピークの半値幅、各
ピーク値の差又は比の各要素の比較により行う有機物の
試料分析装置に係り、又更に前記スペクトルの形状の比
較は、電子線照射による電子線損傷によるスペクトル形
状の変化も考慮して比較する有機物の分析装置に係るも
のであり、本発明では電子線を照射し、この電子線で発
する蛍光を分析することにより有機物の識別・同定を行
うもので、１μｍ以下の領域であっても測定が可能で、
ごく微小な領域での測定を可能とし、又光よりエネルギ
の高い電子線を照射し分析を行うので、試料からは紫外
線領域でも広範囲のスペクトルの蛍光が発せられ、多く
の情報が得られ、有機物の識別・同定の精度が向上す
る。
だ試料に電子線を照射する為の照射部と、該試料から発
する蛍光のスペクトルを検出する為のスペクトル検出部
と、特定の有機物に電子線を照射した時の蛍光の基準ス
ペクトルの形状を記憶しておく為の記憶部と、この記憶
された前記基準スペクトルと前記検出されたスペクトル
との形状の比較により試料の有機物の識別・同定を行う
判断部とを有する有機物の試料分析装置に係り、又前記
スペクトルの形状の比較は、少なくとも、スペクトルの
ピークの数、各ピーク位置の波長、ピークの半値幅、各
ピーク値の差又は比の各要素の比較により行う有機物の
試料分析装置に係り、又更に前記スペクトルの形状の比
較は、電子線照射による電子線損傷によるスペクトル形
状の変化も考慮して比較する有機物の分析装置に係るも
のであり、本発明では電子線を照射し、この電子線で発
する蛍光を分析することにより有機物の識別・同定を行
うもので、１μｍ以下の領域であっても測定が可能で、
ごく微小な領域での測定を可能とし、又光よりエネルギ
の高い電子線を照射し分析を行うので、試料からは紫外
線領域でも広範囲のスペクトルの蛍光が発せられ、多く
の情報が得られ、有機物の識別・同定の精度が向上す
る。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
実施の形態を説明する。
【０００９】真空試料室１内に試料１１が載置される試
料支持部２が設けられ、該試料支持部２は水平方向Ｘ−
Ｙの２方向に移動可能であると共に上下方向に昇降可能
である。前記試料支持部２に対して楕円曲面の集光ミラ
ー３が設けられ、該集光ミラー３を挾み前記試料支持部
２に対峙させ電子銃を含む電子光学系４が配設される。
前記集光ミラー３には前記電子光学系４からの電子線が
通過できる様に通過孔５が形成されている。尚、電子光
学系４には、電子光学系の他に、電子線集束の為の集束
レンズ、走査の為の偏向コイル等があるが図示は省略す
る。
料支持部２が設けられ、該試料支持部２は水平方向Ｘ−
Ｙの２方向に移動可能であると共に上下方向に昇降可能
である。前記試料支持部２に対して楕円曲面の集光ミラ
ー３が設けられ、該集光ミラー３を挾み前記試料支持部
２に対峙させ電子銃を含む電子光学系４が配設される。
前記集光ミラー３には前記電子光学系４からの電子線が
通過できる様に通過孔５が形成されている。尚、電子光
学系４には、電子光学系の他に、電子線集束の為の集束
レンズ、走査の為の偏向コイル等があるが図示は省略す
る。
【００１０】前記真空試料室１側壁の前記集光ミラー３
に対向し、該集光ミラー３の反射光軸上に射出窓が設け
られ、該射出窓には凹レンズ６が蛍光の透過と真空シー
ルの２つの役割の為設けられている。前記真空試料室１
の外部、前記集光ミラー３の反射光軸上に前記凹レンズ
６側より反射光学素子７、絞り８、分光器９が配設さ
れ、該分光器９に対峙し該分光器９の出射面上にマルチ
チャンネル検出器１０を配設する。該マルチチャンネル
検出器１０は多数の光電素子を直線上に並べたラインセ
ンサ、或は多数の光電素子を２次元的に配設した面受光
センサを具備している。該マルチチャンネル検出器１０
からの検出信号はスペクトル検出部１３に入力され、該
スペクトル検出部１３の検出結果は比較判断部１４に入
力される。又該比較判断部１４にはスペクトル記憶部１
５が接続され、該スペクトル記憶部１５には比較の基準
となるスペクトルパターン、即ち種々の有機物について
事前に検出したのスペクトルパターンが、予め基準スペ
クトルパターンとして設定入力されている。又、蛍光分
析の為の分光器９及びマルチチャンネル検出器１０とは
別に、電子線照射により発するＸ線のスペクトルを検出
する為の分析器を用意しておき、Ｘ線のスペクトルを併
用することにより、元素の違いの情報が追加され、より
識別・同定が正確になる。即ち、高分子でも、Ｓ，Ｆや
Ｓｉ，Ｃｌを含む材料もあり、又、毛髪やふけの様な生
体高分子では、Ｃｌ，Ｃａ，Ｓ，Ｋ，Ｎａ等が検出で
き、識別・同定により有効となる。その場合には、前記
スペクトル記憶部１５には、予め、各物質に対応した蛍
光の基準スペクトルと特性Ｘ線の基準スペクトルとを記
憶しておき、測定された蛍光スペクトルとＸ線スペクト
ルの各スペクトルを、それぞれスペクトル記憶部１５に
記憶された各スペクトルと比較して、物質の識別・同定
を行うものである。前記比較判断部１４の判断結果は表
示装置１６に表示される。
に対向し、該集光ミラー３の反射光軸上に射出窓が設け
られ、該射出窓には凹レンズ６が蛍光の透過と真空シー
ルの２つの役割の為設けられている。前記真空試料室１
の外部、前記集光ミラー３の反射光軸上に前記凹レンズ
６側より反射光学素子７、絞り８、分光器９が配設さ
れ、該分光器９に対峙し該分光器９の出射面上にマルチ
チャンネル検出器１０を配設する。該マルチチャンネル
検出器１０は多数の光電素子を直線上に並べたラインセ
ンサ、或は多数の光電素子を２次元的に配設した面受光
センサを具備している。該マルチチャンネル検出器１０
からの検出信号はスペクトル検出部１３に入力され、該
スペクトル検出部１３の検出結果は比較判断部１４に入
力される。又該比較判断部１４にはスペクトル記憶部１
５が接続され、該スペクトル記憶部１５には比較の基準
となるスペクトルパターン、即ち種々の有機物について
事前に検出したのスペクトルパターンが、予め基準スペ
クトルパターンとして設定入力されている。又、蛍光分
析の為の分光器９及びマルチチャンネル検出器１０とは
別に、電子線照射により発するＸ線のスペクトルを検出
する為の分析器を用意しておき、Ｘ線のスペクトルを併
用することにより、元素の違いの情報が追加され、より
識別・同定が正確になる。即ち、高分子でも、Ｓ，Ｆや
Ｓｉ，Ｃｌを含む材料もあり、又、毛髪やふけの様な生
体高分子では、Ｃｌ，Ｃａ，Ｓ，Ｋ，Ｎａ等が検出で
き、識別・同定により有効となる。その場合には、前記
スペクトル記憶部１５には、予め、各物質に対応した蛍
光の基準スペクトルと特性Ｘ線の基準スペクトルとを記
憶しておき、測定された蛍光スペクトルとＸ線スペクト
ルの各スペクトルを、それぞれスペクトル記憶部１５に
記憶された各スペクトルと比較して、物質の識別・同定
を行うものである。前記比較判断部１４の判断結果は表
示装置１６に表示される。
【００１１】前記反射光学素子７は、入射端面が円形で
射出端面がナイフエッヂ状であり、円柱を入射端面から
射出端面に向かって一方向に漸次偏平としたプリズム、
或は中空体である。前記反射光学素子７がプリズムであ
る場合は、少なくとも前記試料１１から発せられる蛍光
を透過可能な材料であり、入射端面、射出端面を除き表
面には反射層がコーティング、例えばアルミニウムが蒸
着されている。又、反射光学素子７が中空体である場合
は内壁面に反射層、例えばアルミ蒸着層を形成したもの
である。前記絞り８には前記反射光学素子７の射出端面
と略同じ大きさのスリット孔が穿設されている。
射出端面がナイフエッヂ状であり、円柱を入射端面から
射出端面に向かって一方向に漸次偏平としたプリズム、
或は中空体である。前記反射光学素子７がプリズムであ
る場合は、少なくとも前記試料１１から発せられる蛍光
を透過可能な材料であり、入射端面、射出端面を除き表
面には反射層がコーティング、例えばアルミニウムが蒸
着されている。又、反射光学素子７が中空体である場合
は内壁面に反射層、例えばアルミ蒸着層を形成したもの
である。前記絞り８には前記反射光学素子７の射出端面
と略同じ大きさのスリット孔が穿設されている。
【００１２】測定光束１２に対する反射光学素子７の位
置に関しては、測定光束１２の入射位置と入射端面とが
合致していればよく、測定光束１２の光軸と反射光学素
子７の光軸は厳密には一致していなくてもよく、反射光
学素子７の配置については厳しい精度が要求されること
はない。
置に関しては、測定光束１２の入射位置と入射端面とが
合致していればよく、測定光束１２の光軸と反射光学素
子７の光軸は厳密には一致していなくてもよく、反射光
学素子７の配置については厳しい精度が要求されること
はない。
【００１３】以下、作動を説明する。
【００１４】前記電子線が試料支持部２に照射されるこ
とで前記試料１１より蛍光が発せられ、該蛍光は前記集
光ミラー３により集光され、前記凹レンズ６に向かって
反射される。前記集光ミラー３で集光反射された蛍光、
即ち測定光束１２は前記凹レンズ６を透過することで測
定光束１２の広がり角度が小さくなり、集光点が延ばさ
れる。
とで前記試料１１より蛍光が発せられ、該蛍光は前記集
光ミラー３により集光され、前記凹レンズ６に向かって
反射される。前記集光ミラー３で集光反射された蛍光、
即ち測定光束１２は前記凹レンズ６を透過することで測
定光束１２の広がり角度が小さくなり、集光点が延ばさ
れる。
【００１５】前記反射光学素子７に入射した測定光束１
２は、該反射光学素子７の漸次偏平化される面で複数回
反射されることにより、前記射出端面より射出される。
而して、前記反射光学素子７の入射端面の形状、面積を
前記凹レンズ６を通して入射される測定光束１２の状態
に合わせて決定すれば、前記反射光学素子７の入射端面
より入射した測定光束１２は全て射出端面より無駄なく
射出される。前記絞り８を通過することで測定光束１２
周囲の外乱光が除去され、測定光束１２は全て前記分光
器９に有効に入射させることができる。
２は、該反射光学素子７の漸次偏平化される面で複数回
反射されることにより、前記射出端面より射出される。
而して、前記反射光学素子７の入射端面の形状、面積を
前記凹レンズ６を通して入射される測定光束１２の状態
に合わせて決定すれば、前記反射光学素子７の入射端面
より入射した測定光束１２は全て射出端面より無駄なく
射出される。前記絞り８を通過することで測定光束１２
周囲の外乱光が除去され、測定光束１２は全て前記分光
器９に有効に入射させることができる。
【００１６】前記分光器９は測定光束１２を分光し、分
光された各光束は前記マルチチャンネル検出器１０の異
なる受光素子上に集光される。該マルチチャンネル検出
器１０の各受光素子は、分光された各波長の光強度に対
応した信号を前記スペクトル検出部１３に出力し、該ス
ペクトル検出部１３はスペクトル検出部１３の検出結果
から全波長の出力値である測定スペクトルパターンを前
記比較判断部１４に出力する。該比較判断部１４は測定
スペクトルパターンを一旦前記スペクトル記憶部１５に
記憶させる。
光された各光束は前記マルチチャンネル検出器１０の異
なる受光素子上に集光される。該マルチチャンネル検出
器１０の各受光素子は、分光された各波長の光強度に対
応した信号を前記スペクトル検出部１３に出力し、該ス
ペクトル検出部１３はスペクトル検出部１３の検出結果
から全波長の出力値である測定スペクトルパターンを前
記比較判断部１４に出力する。該比較判断部１４は測定
スペクトルパターンを一旦前記スペクトル記憶部１５に
記憶させる。
【００１７】前述した様に、前記スペクトル記憶部１５
には各物質毎に電子線を照射した際の基準スペクトルパ
ターンが設定入力されている、前記測定スペクトルパタ
ーンと設定されている基準スペクトルパターンとをパタ
ーンマッチング等の手法により比較して測定スペクトル
パターンに対応した有機物の識別・同定を行う。
には各物質毎に電子線を照射した際の基準スペクトルパ
ターンが設定入力されている、前記測定スペクトルパタ
ーンと設定されている基準スペクトルパターンとをパタ
ーンマッチング等の手法により比較して測定スペクトル
パターンに対応した有機物の識別・同定を行う。
【００１８】又、前述の様にパターンマッチング等の手
段により、直接、測定スペクトルパターンと基準スペク
トルパターンとの比較を行う代わりに、各物質毎に下記
に示す様な各要素をテーブルの形で記憶しておき、この
各要素について比較することにより有機物の識別・同定
を行う様に簡易に構成してもよい。
段により、直接、測定スペクトルパターンと基準スペク
トルパターンとの比較を行う代わりに、各物質毎に下記
に示す様な各要素をテーブルの形で記憶しておき、この
各要素について比較することにより有機物の識別・同定
を行う様に簡易に構成してもよい。
【００１９】 ピークの数 各ピークの数及びそのピーク値により、比較的高いレベ
ルの高ピーク値を◎で示し、ピーク値のレベルが小さく
なっている順序に従い、中ピーク値を○マーク、低ピー
ク値を△マークで示す。
ルの高ピーク値を◎で示し、ピーク値のレベルが小さく
なっている順序に従い、中ピーク値を○マーク、低ピー
ク値を△マークで示す。
【００２０】 ピーク波長 各ピークの波長を示す。
【００２１】 各ピークの半値幅 各ピークの半値幅は、後述する様に、試料が電子線照射
によりダメージを受けても半値幅の変化が少ないことを
確かめている。又、スペクトルパターンのピーク数、ピ
ーク波長が類似する有機物でも、各ピークの半値幅には
明瞭な違いがあり、この半値幅の要素をも加味すること
により、より高精度で有機物を識別・同定することがで
きる。
によりダメージを受けても半値幅の変化が少ないことを
確かめている。又、スペクトルパターンのピーク数、ピ
ーク波長が類似する有機物でも、各ピークの半値幅には
明瞭な違いがあり、この半値幅の要素をも加味すること
により、より高精度で有機物を識別・同定することがで
きる。
【００２２】 ピーク値の比 最も高いレベルのピーク値とその他のピーク値との比を
示す。この比により、ピークの数、ピーク波長が類似す
る有機物であっても、この比の要素をも加味することに
より、より高精度に有機物を識別・同定することができ
る。
示す。この比により、ピークの数、ピーク波長が類似す
る有機物であっても、この比の要素をも加味することに
より、より高精度に有機物を識別・同定することができ
る。
【００２３】発明者は、各種有機物の蛍光スペクトルを
検出し、この蛍光スペクトルに基づき上記の要素を各有
機物で検出し、上記の要素をそれぞれ基準スペクトルの
要素と比較すると、スペクトルパターンが近似する有機
物であっても明瞭に識別・同定をすることができること
を実験的に確かめている。上記各要素で比較すれば、基
準スペクトルパターンを記憶するスペクトル記憶部１５
の容量も小さくでき、且、比較部での比較演算も容易に
行うことができ、有機物の識別・同定をより短時間で実
行することができる。
検出し、この蛍光スペクトルに基づき上記の要素を各有
機物で検出し、上記の要素をそれぞれ基準スペクトルの
要素と比較すると、スペクトルパターンが近似する有機
物であっても明瞭に識別・同定をすることができること
を実験的に確かめている。上記各要素で比較すれば、基
準スペクトルパターンを記憶するスペクトル記憶部１５
の容量も小さくでき、且、比較部での比較演算も容易に
行うことができ、有機物の識別・同定をより短時間で実
行することができる。
【００２４】又、電子線が照射されたことで、試料１１
は電子線によるダメージがあり、その後更に電子線を照
射して得られる測定スペクトルパターンは、先に得た測
定スペクトルパターンに対して変化を示す。この電子線
の照射により生じるスペクトルの変化をも記憶してお
き、この記憶されたスペクトル変化も比較すると更に有
機物の識別・同定を高精度に行うことができる。
は電子線によるダメージがあり、その後更に電子線を照
射して得られる測定スペクトルパターンは、先に得た測
定スペクトルパターンに対して変化を示す。この電子線
の照射により生じるスペクトルの変化をも記憶してお
き、この記憶されたスペクトル変化も比較すると更に有
機物の識別・同定を高精度に行うことができる。
【００２５】尚、各有機物質でのスペクトルパターンの
例と、その各要素の検出結果を図２〜図７に示す。
例と、その各要素の検出結果を図２〜図７に示す。
【００２６】又、図に示すスペクトル線図に於いて最初
の測定スペクトルパターンと２回目のダメージを受けた
測定スペクトルパターンとの比較を容易にする為、蛍光
強度のスケールを適宜変えてある。
の測定スペクトルパターンと２回目のダメージを受けた
測定スペクトルパターンとの比較を容易にする為、蛍光
強度のスケールを適宜変えてある。
【００２７】図２はポリエーテル・サルホンのスペクト
ルを示しており、測定スペクトルパターンのピークの
数、ピーク値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比は以下
の通りである。
ルを示しており、測定スペクトルパターンのピークの
数、ピーク値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比は以下
の通りである。
【００２８】 ピークの数 ２ ピーク値 ◎ △ ピーク値の波長（ｎｍ） ３３０ ４７７．３ ピーク値の半値幅 ４３．３ ９０．７５ ピーク値の比 ０．３３
【００２９】図３はポリサルホンのスペクトルを示して
おり、測定スペクトルパターンのピークの数、ピーク
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比（次のピーク値／
最初のピーク値）は以下の通りである。
おり、測定スペクトルパターンのピークの数、ピーク
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比（次のピーク値／
最初のピーク値）は以下の通りである。
【００３０】 ピークの数 ２ ピーク値 △ ◎ ピーク値の波長（ｎｍ） ３５１．２ ４５７．１ ピーク値の半値幅 ５７．７ ７３．４ ピーク値の比 ２．７５
【００３１】図４はポリエチレンのスペクトルを示して
おり、実線は最初の測定スペクトルパターン、破線は２
回目の測定スペクトルパターンを示している。最初の測
定スペクトルパターンのピークの数、ピーク値、ピーク
値の半値幅、ピーク値の比は以下の通りである。
おり、実線は最初の測定スペクトルパターン、破線は２
回目の測定スペクトルパターンを示している。最初の測
定スペクトルパターンのピークの数、ピーク値、ピーク
値の半値幅、ピーク値の比は以下の通りである。
【００３２】 ピークの数 ２ ピーク値 ◎ ○ ピーク値の波長（ｎｍ） ２８９ ４４１ ピーク値の半値幅 ４１ １３０ ピーク値の比 ０．８８ 又、２回目のスペクトルパターンのピークの数、ピーク
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 １ ピーク値 ◎ ピーク値の波長（ｎｍ） ５１０ ピーク値の半値幅 １３０ ピーク値の比 ダメージによる変化 最初と２回目のスペクト
ルの変化は、最初の２つのピーク値がなくなり、代わり
に長波長側に１つのピーク値が現れる。
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 １ ピーク値 ◎ ピーク値の波長（ｎｍ） ５１０ ピーク値の半値幅 １３０ ピーク値の比 ダメージによる変化 最初と２回目のスペクト
ルの変化は、最初の２つのピーク値がなくなり、代わり
に長波長側に１つのピーク値が現れる。
【００３３】図５はポリプロピレンのスペクトルを示し
ており、実線は最初の測定スペクトルパターン、破線は
２回目の測定スペクトルパターンを示している。最初の
測定スペクトルパターンのピークの数、ピーク値、ピー
ク値の半値幅、ピーク値の比は以下の通りである。
ており、実線は最初の測定スペクトルパターン、破線は
２回目の測定スペクトルパターンを示している。最初の
測定スペクトルパターンのピークの数、ピーク値、ピー
ク値の半値幅、ピーク値の比は以下の通りである。
【００３４】 ピークの数 ２ ピーク値 ◎ ○ ピーク値の波長（ｎｍ） ２８３ ４３８ ピーク値の半値幅 ２８．８ ８６．６ ピーク値の比 ０．８７ 又、２回目のスペクトルパターンのピークの数、ピーク
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 １ ピーク値 ◎ ピーク値の波長（ｎｍ） ５１９ ピーク値の半値幅 １１５ ピーク値の比 ダメージによる変化 最初と２回目のスペクト
ルの変化は、最初の２つのピーク値がなくなり、代わり
に長波長側に１つのピーク値が現れる。
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 １ ピーク値 ◎ ピーク値の波長（ｎｍ） ５１９ ピーク値の半値幅 １１５ ピーク値の比 ダメージによる変化 最初と２回目のスペクト
ルの変化は、最初の２つのピーク値がなくなり、代わり
に長波長側に１つのピーク値が現れる。
【００３５】図６はポリスチレンのスペクトルを示して
おり、実線は最初の測定スペクトルパターン、破線は２
回目の測定スペクトルパターンを示している。最初の測
定スペクトルパターンのピークの数、ピーク値、ピーク
値の半値幅、ピーク値の比は以下の通りである。
おり、実線は最初の測定スペクトルパターン、破線は２
回目の測定スペクトルパターンを示している。最初の測
定スペクトルパターンのピークの数、ピーク値、ピーク
値の半値幅、ピーク値の比は以下の通りである。
【００３６】 ピークの数 １ ピーク値 ◎ ピーク値の波長（ｎｍ） ３０９ ピーク値の半値幅 ４６．２ ピーク値の比 又、２回目のスペクトルパターンのピークの数、ピーク
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 ２ ピーク値 ○ △ ピーク値の波長（ｎｍ） ３０９ ４８１ ピーク値の半値幅 ４６ ７１．５ ピーク値の比 １５．２ ダメージによる変化 最初と２回目のスペクトルの変化は、最初のス ペクトルのピーク値が低下し、４８１ｎｍの波 長で２つ目のピークが現れる。
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 ２ ピーク値 ○ △ ピーク値の波長（ｎｍ） ３０９ ４８１ ピーク値の半値幅 ４６ ７１．５ ピーク値の比 １５．２ ダメージによる変化 最初と２回目のスペクトルの変化は、最初のス ペクトルのピーク値が低下し、４８１ｎｍの波 長で２つ目のピークが現れる。
【００３７】図７はポリエチレン・テレフタレートのス
ペクトルを示しており、実線は最初の測定スペクトルパ
ターン、破線は２回目の測定スペクトルパターンを示し
ている。最初の測定スペクトルパターンのピークの数、
ピーク値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比は以下の通
りである。
ペクトルを示しており、実線は最初の測定スペクトルパ
ターン、破線は２回目の測定スペクトルパターンを示し
ている。最初の測定スペクトルパターンのピークの数、
ピーク値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比は以下の通
りである。
【００３８】 ピークの数 ２ ピーク値 ◎ △ ピーク値の波長（ｎｍ） ３５５．８ ４９１ ピーク値の半値幅 ９２．８ １４４ ピーク値の比 ０．１８ 又、２回目のスペクトルパターンのピークの数、ピーク
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 １ ピーク値 ○ ピーク値の波長（ｎｍ） ３５５．８ ピーク値の半値幅 ９２．８ ピーク値の比 ダメージによる変化 最初と２回目のスペクト
ルの変化は、最初のスペクトルの第１のピーク値が低下
し、最初のスペクトルの第２のピーク値が消える。
値、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージによる
変化は以下の通りである。 ピークの数 １ ピーク値 ○ ピーク値の波長（ｎｍ） ３５５．８ ピーク値の半値幅 ９２．８ ピーク値の比 ダメージによる変化 最初と２回目のスペクト
ルの変化は、最初のスペクトルの第１のピーク値が低下
し、最初のスペクトルの第２のピーク値が消える。
【００３９】而して、図２〜図７で示した如き基準スペ
クトルパターンを前記スペクトル記憶部１５に記録さ
せ、該基準スペクトルパターンと試料１１に電子線を照
射して得られた測定スペクトルパターンをパターンマッ
チングによる比較、或はピークの数、ピーク値、ピーク
値の波長、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージ
による変化等のスペクトルの要素を比較することで試料
の識別・同定が行える。
クトルパターンを前記スペクトル記憶部１５に記録さ
せ、該基準スペクトルパターンと試料１１に電子線を照
射して得られた測定スペクトルパターンをパターンマッ
チングによる比較、或はピークの数、ピーク値、ピーク
値の波長、ピーク値の半値幅、ピーク値の比、ダメージ
による変化等のスペクトルの要素を比較することで試料
の識別・同定が行える。
【００４０】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、電子線
による試料分析を行うので極微小な領域での分析が可能
となると共に電子線は光に比較してエネルギが高く、照
射した試料からは紫外線領域でも広範囲のスペクトルの
蛍光が得られ、有機物の識別・同定が高精度で可能とな
るという優れた効果を発揮する。
による試料分析を行うので極微小な領域での分析が可能
となると共に電子線は光に比較してエネルギが高く、照
射した試料からは紫外線領域でも広範囲のスペクトルの
蛍光が得られ、有機物の識別・同定が高精度で可能とな
るという優れた効果を発揮する。
【図１】本発明の実施の形態を示す概略構成図である。
【図２】本発明の実施の対象であるポリエーテル・サル
ホンのスペクトル線図である。
ホンのスペクトル線図である。
【図３】同前ポリサルホンのスペクトル線図である。
【図４】同前ポリエチレンのスペクトル線図である。
【図５】同前ポリプロピレンのスペクトル線図である。
【図６】同前ポリスチレンのスペクトル線図である。
【図７】同前ポリエチレン・テレフタレートのスペクト
ル線図である。
ル線図である。
１ 真空試料室 ２ 試料支持部 ３ 集光ミラー ４ 電子光学系 ５ 通過孔 ６ 凹レンズ ７ 反射光学素子 ８ 絞り ９ 分光器 １０ マルチチャンネル検出器 １１ 試料 １２ 測定光束 １３ スペクトル検出部 １４ 比較判断部 １５ スペクトル記憶部 １６ 表示装置
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成８年９月２６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、有機物を含ん
だ試料に電子線を照射する為の照射部と、該試料から発
する蛍光のスペクトルを検出する為のスペクトル検出部
と、特定の有機物に電子線を照射した時の蛍光の基準ス
ペクトルの形状を記憶しておく為の記憶部と、この記憶
された前記基準スペクトルと前記検出されたスペクトル
との形状の比較により試料の有機物の識別・同定を行う
判断部とを有する有機物の試料分析装置に係り、又前記
スペクトルの形状の比較は、少なくとも、スペクトルの
ピークの数、各ピーク位置の波長、ピークの半値幅、各
ピーク値の差又は比の各要素の比較により行う有機物の
試料分析装置に係り、又更に前記スペクトルの形状の比
較は、電子線照射による電子線損傷によるスペクトル形
状の変化も考慮して比較する有機物の分析装置に係るも
のであり、又更に前記記憶部には、特定の物質に電子線
を照射した時発生する特性Ｘ線の基準スペクトルをも記
憶する様にした有機物の分析装置に係るものであり、本
発明では電子線を照射し、この電子線で発する蛍光を分
析することにより有機物の識別・同定を行うもので、１
μｍ以下の領域であっても測定が可能で、ごく微小な領
域での測定を可能とし、又光よりエネルギの高い電子線
を照射し分析を行うので、試料からは紫外線領域でも広
範囲のスペクトルの蛍光が発せられ、多くの情報が得ら
れ、有機物の識別・同定の精度が向上する。
だ試料に電子線を照射する為の照射部と、該試料から発
する蛍光のスペクトルを検出する為のスペクトル検出部
と、特定の有機物に電子線を照射した時の蛍光の基準ス
ペクトルの形状を記憶しておく為の記憶部と、この記憶
された前記基準スペクトルと前記検出されたスペクトル
との形状の比較により試料の有機物の識別・同定を行う
判断部とを有する有機物の試料分析装置に係り、又前記
スペクトルの形状の比較は、少なくとも、スペクトルの
ピークの数、各ピーク位置の波長、ピークの半値幅、各
ピーク値の差又は比の各要素の比較により行う有機物の
試料分析装置に係り、又更に前記スペクトルの形状の比
較は、電子線照射による電子線損傷によるスペクトル形
状の変化も考慮して比較する有機物の分析装置に係るも
のであり、又更に前記記憶部には、特定の物質に電子線
を照射した時発生する特性Ｘ線の基準スペクトルをも記
憶する様にした有機物の分析装置に係るものであり、本
発明では電子線を照射し、この電子線で発する蛍光を分
析することにより有機物の識別・同定を行うもので、１
μｍ以下の領域であっても測定が可能で、ごく微小な領
域での測定を可能とし、又光よりエネルギの高い電子線
を照射し分析を行うので、試料からは紫外線領域でも広
範囲のスペクトルの蛍光が発せられ、多くの情報が得ら
れ、有機物の識別・同定の精度が向上する。
Claims (3)
- 【請求項１】 有機物を含んだ試料に電子線を照射する
為の照射部と、該試料から発する蛍光のスペクトルを検
出する為のスペクトル検出部と、特定の有機物に電子線
を照射した時の蛍光の基準スペクトルの形状を記憶して
おく為の記憶部と、この記憶された前記基準スペクトル
と前記検出されたスペクトルとの形状の比較により試料
の有機物の識別・同定を行う判断部とを有することを特
徴とする有機物の分析装置。 - 【請求項２】 前記スペクトルの形状の比較は、少なく
とも、スペクトルのピークの数、各ピーク位置の波長、
ピークの半値幅、各ピーク値の差又は比の各要素の比較
により行う請求項１記載の有機物の分析装置。 - 【請求項３】 前記スペクトルの形状の比較は、電子線
照射による電子線損傷によるスペクトル形状の変化も考
慮して比較する請求項２記載の有機物の分析装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26669196A JP3649823B2 (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 有機物の分析装置 |
| US09/461,826 US6201241B1 (en) | 1996-09-17 | 1999-12-15 | Organic substance analyzer |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26669196A JP3649823B2 (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 有機物の分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1090182A true JPH1090182A (ja) | 1998-04-10 |
| JP3649823B2 JP3649823B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=17434356
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26669196A Expired - Fee Related JP3649823B2 (ja) | 1996-09-17 | 1996-09-17 | 有機物の分析装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6201241B1 (ja) |
| JP (1) | JP3649823B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003058549A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Shinya Fukui | Matiere contenant une substance presentatrice d'informations et procede d'identification, systeme d'identification et dispositif d'identification |
| JP2004502160A (ja) * | 2000-06-26 | 2004-01-22 | ニュー クロメックス，インコーポレイテッド | 放出物を実質的に同時に測定するための装置及び方法 |
| JP2006527858A (ja) * | 2003-06-16 | 2006-12-07 | カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 蛍光検鏡のための方法 |
| JP2007127637A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-24 | Thermo Fisher Scientific Inc | 表面分析用分光装置と分析方法 |
| JP2018072304A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社日立パワーソリューションズ | 回転機診断システムおよび回転機診断方法 |
| WO2024063495A1 (ko) * | 2022-09-21 | 2024-03-28 | 경희대학교 산학협력단 | 커브드 미러 및 이를 포함하는 역광전자 분광장치 |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7411188B2 (en) | 2005-07-11 | 2008-08-12 | Revera Incorporated | Method and system for non-destructive distribution profiling of an element in a film |
| DE102009015341A1 (de) * | 2009-03-27 | 2010-10-07 | Carl Zeiss Ag | Verfahren und Vorrichtungen zur optischen Untersuchung von Proben |
| JP5717375B2 (ja) * | 2010-08-24 | 2015-05-13 | 株式会社ミキモト | 真珠品質の非破壊判定方法 |
| JP5937780B2 (ja) * | 2010-11-11 | 2016-06-22 | ソニー株式会社 | 蛍光スペクトル補正方法及び蛍光スペクトル測定装置 |
| KR101600520B1 (ko) * | 2015-01-28 | 2016-03-08 | 연세대학교 산학협력단 | 광학 분광 분석 장치 |
| ES2952187T3 (es) * | 2017-10-19 | 2023-10-30 | Otsuka Pharma Co Ltd | Rendija de eliminación de luz difractada y sistema óptico de detección de muestras que utiliza la misma |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5206176A (en) | 1990-10-02 | 1993-04-27 | Massachusetts Institute Of Technology | Detection and control of aromatic compounds in combustion effluent |
| US5418826A (en) | 1992-10-11 | 1995-05-23 | Horiba, Ltd. | Fluorescent X-ray qualitative analytical method |
| WO1994018218A1 (en) | 1993-02-01 | 1994-08-18 | Seq, Ltd. | Methods and apparatus for dna sequencing |
| US5712165A (en) | 1994-08-22 | 1998-01-27 | Beth Israel Hospital Administration | Method and apparatus for detecting hydrocarbon oxidation |
| JP3461208B2 (ja) | 1994-09-16 | 2003-10-27 | 株式会社堀場製作所 | 試料に含まれる物質の同定方法および分布測定方法 |
| JP3165615B2 (ja) | 1995-03-17 | 2001-05-14 | 財団法人国際超電導産業技術研究センター | 表面元素分析方法及び装置 |
-
1996
- 1996-09-17 JP JP26669196A patent/JP3649823B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1999
- 1999-12-15 US US09/461,826 patent/US6201241B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004502160A (ja) * | 2000-06-26 | 2004-01-22 | ニュー クロメックス，インコーポレイテッド | 放出物を実質的に同時に測定するための装置及び方法 |
| WO2003058549A1 (fr) * | 2001-12-28 | 2003-07-17 | Shinya Fukui | Matiere contenant une substance presentatrice d'informations et procede d'identification, systeme d'identification et dispositif d'identification |
| CN100350424C (zh) * | 2001-12-28 | 2007-11-21 | 福井真弥 | 信息提示物质含有材料及其识别方法、识别系统以及识别装置 |
| US7365840B2 (en) | 2001-12-28 | 2008-04-29 | Shinya Fukui | Information presenting substance-containing material, and identification method, identification system and device therefor |
| JP2006527858A (ja) * | 2003-06-16 | 2006-12-07 | カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 蛍光検鏡のための方法 |
| JP2007127637A (ja) * | 2005-10-28 | 2007-05-24 | Thermo Fisher Scientific Inc | 表面分析用分光装置と分析方法 |
| JP2018072304A (ja) * | 2016-11-04 | 2018-05-10 | 株式会社日立パワーソリューションズ | 回転機診断システムおよび回転機診断方法 |
| WO2024063495A1 (ko) * | 2022-09-21 | 2024-03-28 | 경희대학교 산학협력단 | 커브드 미러 및 이를 포함하는 역광전자 분광장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3649823B2 (ja) | 2005-05-18 |
| US6201241B1 (en) | 2001-03-13 |
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