JPH1083959A - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
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- JPH1083959A JPH1083959A JP9273725A JP27372597A JPH1083959A JP H1083959 A JPH1083959 A JP H1083959A JP 9273725 A JP9273725 A JP 9273725A JP 27372597 A JP27372597 A JP 27372597A JP H1083959 A JPH1083959 A JP H1083959A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学素子の汚染を防止するための不活性ガス
を大量に消費することのない露光装置を提供する。 【解決手段】 遠紫外線もしくはエキシマレーザ光を光
源１からの露光光として利用してウエハ４を露光する露
光装置において、露光光路中に配置されるレンズ２ａ，
２ｂ，２ｃの少なくとも一方の面側を窒素ガス雰囲気と
するための容器２ｄと、容器２ｄ内の酸素濃度を所定の
値に維持するように容器２ｄに供給される窒素ガスの供
給量を制御する窒素ガス供給装置８を有する。
を大量に消費することのない露光装置を提供する。 【解決手段】 遠紫外線もしくはエキシマレーザ光を光
源１からの露光光として利用してウエハ４を露光する露
光装置において、露光光路中に配置されるレンズ２ａ，
２ｂ，２ｃの少なくとも一方の面側を窒素ガス雰囲気と
するための容器２ｄと、容器２ｄ内の酸素濃度を所定の
値に維持するように容器２ｄに供給される窒素ガスの供
給量を制御する窒素ガス供給装置８を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、雰囲気ガスを活性
化しやすい遠紫外線もしくはエキシマレーザ光を露光光
として利用して基板を露光する露光装置に関するもので
ある。
化しやすい遠紫外線もしくはエキシマレーザ光を露光光
として利用して基板を露光する露光装置に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置製造用の露光装置において、
遠紫外線やエキシマレーザ光を露光用の照明光とするも
のは知られている。一般に、強力な遠紫外線やエキシマ
レーザ光は雰囲気ガスを活性化しやすいので、これらの
露光装置では、光源レンズ系や投影レンズ系等の光学系
の周囲の雰囲気ガスの酸素や有機物等が露光光によって
活性化され、その化学反応によって該光学系の光学素子
の表面が汚染されることがある。そこで、このような露
光装置では、光学系を収納する容器の空気を窒素ガス等
の不活性ガスで置換することにより各光学素子の汚染を
防ぐことが、例えば特開平２−２１０８１３号公報で提
案されている。
遠紫外線やエキシマレーザ光を露光用の照明光とするも
のは知られている。一般に、強力な遠紫外線やエキシマ
レーザ光は雰囲気ガスを活性化しやすいので、これらの
露光装置では、光源レンズ系や投影レンズ系等の光学系
の周囲の雰囲気ガスの酸素や有機物等が露光光によって
活性化され、その化学反応によって該光学系の光学素子
の表面が汚染されることがある。そこで、このような露
光装置では、光学系を収納する容器の空気を窒素ガス等
の不活性ガスで置換することにより各光学素子の汚染を
防ぐことが、例えば特開平２−２１０８１３号公報で提
案されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来で
は、光学系を収容する容器への不活性ガスの供給につい
ての充分な配慮がなされておらず、露光光が通過しても
問題のない程度まで容器内の酸素や不純物を除去するた
めに不活性ガスを大量に消費していた。
は、光学系を収容する容器への不活性ガスの供給につい
ての充分な配慮がなされておらず、露光光が通過しても
問題のない程度まで容器内の酸素や不純物を除去するた
めに不活性ガスを大量に消費していた。
【０００４】本発明は、このような従来技術の未解決の
課題に鑑みなされたものであり、その目的は、光学素子
の汚染を防止するための不活性ガスを大量に消費するこ
とのない露光装置を提供することにある。
課題に鑑みなされたものであり、その目的は、光学素子
の汚染を防止するための不活性ガスを大量に消費するこ
とのない露光装置を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、遠紫外線もしくはエキシマレーザ光
（レーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 ）を光源（光源１；２１）からの
露光光として利用して基板（ウエハ４；２４）を露光す
る露光装置において、前記光源から前記基板に至る露光
光路中に配置される光学素子（レンズ２ａ，２ｂ，２
ｃ；２２ａ，２２ｂ）の少なくとも一方の面側を不活性
ガス（窒素ガス）雰囲気とするための容器（容器２ｄ；
２２ｄ）と、前記容器内の酸素濃度を所定の値に維持す
るように前記容器に供給される不活性ガスの供給量を制
御するガス供給量制御手段（窒素ガス供給装置８；２
８）を有することを特徴としている。
めに、本発明は、遠紫外線もしくはエキシマレーザ光
（レーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 ）を光源（光源１；２１）からの
露光光として利用して基板（ウエハ４；２４）を露光す
る露光装置において、前記光源から前記基板に至る露光
光路中に配置される光学素子（レンズ２ａ，２ｂ，２
ｃ；２２ａ，２２ｂ）の少なくとも一方の面側を不活性
ガス（窒素ガス）雰囲気とするための容器（容器２ｄ；
２２ｄ）と、前記容器内の酸素濃度を所定の値に維持す
るように前記容器に供給される不活性ガスの供給量を制
御するガス供給量制御手段（窒素ガス供給装置８；２
８）を有することを特徴としている。
【０００６】前記ガス供給量制御手段は、前記容器内の
酸素濃度が所定値に減少した際に、前記容器に供給され
る不活性ガスの供給量を減少させるとより好ましい。
酸素濃度が所定値に減少した際に、前記容器に供給され
る不活性ガスの供給量を減少させるとより好ましい。
【０００７】また、本発明は、遠紫外線もしくはエキシ
マレーザ光（レーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 ）を光源（光源１；２
１）からの露光光として利用して基板（ウエハ２４）を
露光する露光装置において、前記光源から前記基板に至
る露光光路中に配置される光学素子（レンズ２ａ，２
ｂ，２ｃ；２２ａ，２２ｂ）の少なくとも一方の面側を
不活性ガス（窒素ガス）雰囲気とするための容器（容器
２ｄ；２２ｄ）と、前記容器内の酸素濃度を検出する酸
素濃度検出器（センサ２８ｆ）と、前記酸素濃度検出器
が検出した酸素濃度に応じて前記容器に供給される不活
性ガスの供給量を制御するガス供給量制御手段（窒素ガ
ス供給装置８；２８）を有することを特徴としている。
マレーザ光（レーザ光Ｌ1 ，Ｌ2 ）を光源（光源１；２
１）からの露光光として利用して基板（ウエハ２４）を
露光する露光装置において、前記光源から前記基板に至
る露光光路中に配置される光学素子（レンズ２ａ，２
ｂ，２ｃ；２２ａ，２２ｂ）の少なくとも一方の面側を
不活性ガス（窒素ガス）雰囲気とするための容器（容器
２ｄ；２２ｄ）と、前記容器内の酸素濃度を検出する酸
素濃度検出器（センサ２８ｆ）と、前記酸素濃度検出器
が検出した酸素濃度に応じて前記容器に供給される不活
性ガスの供給量を制御するガス供給量制御手段（窒素ガ
ス供給装置８；２８）を有することを特徴としている。
【０００８】前記ガス供給量制御手段は、前記酸素濃度
検出器が前記容器内の酸素濃度が所定値に減少したこと
を検出した際に、前記容器に供給される不活性ガスの供
給量を減少させるとよい。前記酸素濃度検出器は、前記
容器内の酸素濃度が所定値に減少したことを検出した後
も記容器内の酸素濃度の検出を継続するとよい。
検出器が前記容器内の酸素濃度が所定値に減少したこと
を検出した際に、前記容器に供給される不活性ガスの供
給量を減少させるとよい。前記酸素濃度検出器は、前記
容器内の酸素濃度が所定値に減少したことを検出した後
も記容器内の酸素濃度の検出を継続するとよい。
【０００９】さらに、前記ガス供給量制御手段は、前記
容器内の酸素濃度が所定値に減少したことを検出した後
の前記酸素濃度検出器の検出酸素濃度に基づいて前記容
器に供給される不活性ガスの供給量を減少させた後の不
活性ガスの供給量を制御するとよい。
容器内の酸素濃度が所定値に減少したことを検出した後
の前記酸素濃度検出器の検出酸素濃度に基づいて前記容
器に供給される不活性ガスの供給量を減少させた後の不
活性ガスの供給量を制御するとよい。
【００１０】
【作用】本発明の露光装置では、容器内の酸素濃度を所
定の値に維持するように該容器に供給される不活性ガス
の供給量が制御される。このため、本発明の露光装置に
よれば、不活性ガスの消費量を低減することができる。
定の値に維持するように該容器に供給される不活性ガス
の供給量が制御される。このため、本発明の露光装置に
よれば、不活性ガスの消費量を低減することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図面に基づいて
説明する。
説明する。
【００１２】図１は、第１実施例を説明する説明図であ
って、本実施例の露光装置Ｅ1 は一般にステッパと呼ば
れる縮小投影型の半導体露光装置である。この装置は、
エキシマレーザからなる光源１と、光源１から発せられ
た照明光（露光光）であるレーザ光Ｌ1 を所定の形状の
光束に成形する光学系である光源レンズ系２と、光源レ
ンズ系２によって所定の形状に成形されたレーザ光Ｌ1
で照明されたレチクル３上のパターンを基板であるウエ
ハ４に結像させる投影レンズ系５を有する。光源１はそ
のレーザ出力を制御するレーザ制御装置６を有し、レー
ザ制御装置６は制御手段であるコントローラ７によって
制御される。
って、本実施例の露光装置Ｅ1 は一般にステッパと呼ば
れる縮小投影型の半導体露光装置である。この装置は、
エキシマレーザからなる光源１と、光源１から発せられ
た照明光（露光光）であるレーザ光Ｌ1 を所定の形状の
光束に成形する光学系である光源レンズ系２と、光源レ
ンズ系２によって所定の形状に成形されたレーザ光Ｌ1
で照明されたレチクル３上のパターンを基板であるウエ
ハ４に結像させる投影レンズ系５を有する。光源１はそ
のレーザ出力を制御するレーザ制御装置６を有し、レー
ザ制御装置６は制御手段であるコントローラ７によって
制御される。
【００１３】光源レンズ系２は、レーザ光Ｌ1 の露光光
路に沿って光源１側から順に並べられ、レーザ光Ｌ1 を
所定の形状の光束に成形するための複数のレンズ２ａ，
２ｂ，２ｃを有し、これらは少なくとも一方のレンズ面
が容器２ｄ内のガス雰囲気側となるように容器２ｄに収
容されている。容器２ｄは、露光光路に沿って光源１に
対向する側の端壁に窓２ｅを有し、容器２ｄ内を２つの
内部空間２ｆ，２ｇに分割するための隔壁２ｉを有す
る。なお、容器２ｄはレチクル３（ウエハ４）に対向す
る側の端壁でレンズ２ｃを保持し、レンズ２ｃはレチク
ル３に向ってレーザ光Ｌ1 を放出する第２の窓を兼ねて
いる。
路に沿って光源１側から順に並べられ、レーザ光Ｌ1 を
所定の形状の光束に成形するための複数のレンズ２ａ，
２ｂ，２ｃを有し、これらは少なくとも一方のレンズ面
が容器２ｄ内のガス雰囲気側となるように容器２ｄに収
容されている。容器２ｄは、露光光路に沿って光源１に
対向する側の端壁に窓２ｅを有し、容器２ｄ内を２つの
内部空間２ｆ，２ｇに分割するための隔壁２ｉを有す
る。なお、容器２ｄはレチクル３（ウエハ４）に対向す
る側の端壁でレンズ２ｃを保持し、レンズ２ｃはレチク
ル３に向ってレーザ光Ｌ1 を放出する第２の窓を兼ねて
いる。
【００１４】容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇにそれぞ
れ不活性ガスである窒素ガスを供給する窒素ガス供給装
置８は、図示しない窒素ガス供給源に接続された給気ラ
イン８ａと、給気ライン８ａに設けられた開閉弁である
第１の電磁弁８ｂと、その下流側に接続された第２の開
閉弁である第２の電磁弁８ｃと、これを迂回（バイパ
ス）するバイパスライン８ｄと、該バイパスライン８ｄ
に設けられた第１の絞り弁８ｅと、バイパスライン８ｄ
の下流側に設けられた一対の分岐ライン８ｆ，８ｇと、
分岐ライン８ｆ，８ｇにそれぞれ設けられた第２および
第３の絞り弁８ｉ，８ｈを有し、第２および第３の絞り
弁８ｉ，８ｈの吐出側はそれぞれ客器２ｄの内部空間２
ｆ，２ｇに接続されている。
れ不活性ガスである窒素ガスを供給する窒素ガス供給装
置８は、図示しない窒素ガス供給源に接続された給気ラ
イン８ａと、給気ライン８ａに設けられた開閉弁である
第１の電磁弁８ｂと、その下流側に接続された第２の開
閉弁である第２の電磁弁８ｃと、これを迂回（バイパ
ス）するバイパスライン８ｄと、該バイパスライン８ｄ
に設けられた第１の絞り弁８ｅと、バイパスライン８ｄ
の下流側に設けられた一対の分岐ライン８ｆ，８ｇと、
分岐ライン８ｆ，８ｇにそれぞれ設けられた第２および
第３の絞り弁８ｉ，８ｈを有し、第２および第３の絞り
弁８ｉ，８ｈの吐出側はそれぞれ客器２ｄの内部空間２
ｆ，２ｇに接続されている。
【００１５】第１の電磁弁８ｂは、レーザ制御装置６の
出力によって光源１が駆動あるいは停止されると同時に
コントローラ７の出力信号によって開閉されるものであ
り、第２の電磁弁８ｃは、光源１が駆動されると同時に
第１の電磁弁８ｂとともに開かれて、所定の流量の窒素
ガスを分岐ライン８ｆ，８ｇに供給し、コントローラ７
に設定されたプログラムである窒素供給プログラムによ
って制御され、容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇの酸素
濃度を検出するセンサの出力に基づいて閉じられる。
出力によって光源１が駆動あるいは停止されると同時に
コントローラ７の出力信号によって開閉されるものであ
り、第２の電磁弁８ｃは、光源１が駆動されると同時に
第１の電磁弁８ｂとともに開かれて、所定の流量の窒素
ガスを分岐ライン８ｆ，８ｇに供給し、コントローラ７
に設定されたプログラムである窒素供給プログラムによ
って制御され、容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇの酸素
濃度を検出するセンサの出力に基づいて閉じられる。
【００１６】第１の絞り弁８ｅは、第１の電磁弁８ｂが
開かれた後、常時バイパスライン８ｄを経て所定の流量
の窒素ガスを容器２ｄの内部空問２ｆ，２ｇに供給す
る。第２，第３の絞り弁８ｉ，８ｈは、それぞれ分岐ラ
イン８ｆ，８ｇから容器２ｄの内部空間２ｆ，２ｇに供
給される窒素ガスの流量（の比率）を調節するものであ
る。
開かれた後、常時バイパスライン８ｄを経て所定の流量
の窒素ガスを容器２ｄの内部空問２ｆ，２ｇに供給す
る。第２，第３の絞り弁８ｉ，８ｈは、それぞれ分岐ラ
イン８ｆ，８ｇから容器２ｄの内部空間２ｆ，２ｇに供
給される窒素ガスの流量（の比率）を調節するものであ
る。
【００１７】第２の電磁弁８ｃを閉じるタイミングは、
図２のタイムチャートＡ〜Ｄに示すような窒素供給プロ
グラムによって制御される。露光装置Ｅ1 において露光
が終了し、光源１の駆動が停止されると同時に、第１の
電磁弁８ｂが閉じられて、窒素ガスの供給が停止され
る。
図２のタイムチャートＡ〜Ｄに示すような窒素供給プロ
グラムによって制御される。露光装置Ｅ1 において露光
が終了し、光源１の駆動が停止されると同時に、第１の
電磁弁８ｂが閉じられて、窒素ガスの供給が停止され
る。
【００１８】図２のタイムチャートＡに示す窒素供給プ
ログラムは、光源１の駆動開始時刻ｔ0 において第１お
よび第２の電磁弁８ｂ，８ｃを開き、大流量値ｑ1 で示
す供給量の窒素ガスを容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇ
に供給し、各内部空間２ｆ，２ｇの雰囲気の酸素濃度を
速かに低下させた後、酸素濃度が所定値となる時刻ｔ 1
において第２の電磁弁８ｃを閉じる。光源１がエキシマ
レーザである場合は、光源１を駆動したのちに所定の出
力のレーザ光が得られるまでに数分以上の時間を必要と
する。前述の時刻ｔ1 は、このような光源１の立上り時
間に対応する。
ログラムは、光源１の駆動開始時刻ｔ0 において第１お
よび第２の電磁弁８ｂ，８ｃを開き、大流量値ｑ1 で示
す供給量の窒素ガスを容器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇ
に供給し、各内部空間２ｆ，２ｇの雰囲気の酸素濃度を
速かに低下させた後、酸素濃度が所定値となる時刻ｔ 1
において第２の電磁弁８ｃを閉じる。光源１がエキシマ
レーザである場合は、光源１を駆動したのちに所定の出
力のレーザ光が得られるまでに数分以上の時間を必要と
する。前述の時刻ｔ1 は、このような光源１の立上り時
間に対応する。
【００１９】時刻ｔ1 において第２の電磁弁８ｃが閉じ
られると、窒素ガスはバイパスライン８ｄのみを経て容
器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇに供給されるため、窒素
ガスの供給量は小流量値（定常値）ｑ2 に低下する。時
刻ｔ2 において露光装置の露光が終了し、光源１の駆動
が停止されると、これと同時に第１の電磁弁８ｂが閉じ
られて窒素ガスの供給が停止される。なお、小流量値ｑ
2 は容器２から漏出する窒素ガスを補うのに充分であれ
ばよい。
られると、窒素ガスはバイパスライン８ｄのみを経て容
器２ｄの各内部空間２ｆ，２ｇに供給されるため、窒素
ガスの供給量は小流量値（定常値）ｑ2 に低下する。時
刻ｔ2 において露光装置の露光が終了し、光源１の駆動
が停止されると、これと同時に第１の電磁弁８ｂが閉じ
られて窒素ガスの供給が停止される。なお、小流量値ｑ
2 は容器２から漏出する窒素ガスを補うのに充分であれ
ばよい。
【００２０】すなわち、タイムチャートＡは、前述のセ
ンサによって検出された酸素濃度が所定の値に減少した
時刻ｔ1 において第２の電磁弁８ｃを閉じるように設定
した窒素供給プログラムを示している。また、タイムチ
ャートＢは、上記酸素濃度が所定の値に減少した時刻ｔ
1 から所定の時間遅れΔｔを経た時刻ｔ4 において第２
の電磁弁８ｃを閉じるように設定した窒素供給プログラ
ムを示している。タイムチャートＣは、前述のタイムチ
ャートＡ，Ｂの時刻ｔ1 またはｔ4 において第２の電磁
弁８ｃを閉じた後、これを間欠的に開くことによって容
器２ｄから漏出する窒素ガスを補充する窒素供給プログ
ラムを示すもので、この場合はバイパスライン８ｄを必
要としない。
ンサによって検出された酸素濃度が所定の値に減少した
時刻ｔ1 において第２の電磁弁８ｃを閉じるように設定
した窒素供給プログラムを示している。また、タイムチ
ャートＢは、上記酸素濃度が所定の値に減少した時刻ｔ
1 から所定の時間遅れΔｔを経た時刻ｔ4 において第２
の電磁弁８ｃを閉じるように設定した窒素供給プログラ
ムを示している。タイムチャートＣは、前述のタイムチ
ャートＡ，Ｂの時刻ｔ1 またはｔ4 において第２の電磁
弁８ｃを閉じた後、これを間欠的に開くことによって容
器２ｄから漏出する窒素ガスを補充する窒素供給プログ
ラムを示すもので、この場合はバイパスライン８ｄを必
要としない。
【００２１】また、タイムチャートＤは、前述のセンサ
によって検出された酸素濃度が所定の値ｄ1 に減少した
時刻ｔ1 において第２の電磁弁８ｃを閉じたのちも時刻
ｔ5まで前記センサによる測定を継続し、これによって
容器２ｄの酸素濃度を所定の値に維持するのに必要な窒
素ガスの供給量を実測し、これに基づいて窒素ガスの補
充量を設定する窒素供給プログラムを示すものである。
によって検出された酸素濃度が所定の値ｄ1 に減少した
時刻ｔ1 において第２の電磁弁８ｃを閉じたのちも時刻
ｔ5まで前記センサによる測定を継続し、これによって
容器２ｄの酸素濃度を所定の値に維持するのに必要な窒
素ガスの供給量を実測し、これに基づいて窒素ガスの補
充量を設定する窒素供給プログラムを示すものである。
【００２２】本実施例によれば、光源１の駆動開始とと
もに大流量の窒素ガスを光源レンズ系の容器２ｄ内へ供
給し、容器２ｄ内の空気を短時間で窒素ガスによって置
換させると共に、容器２ｄ内の酸素濃度が所定の値に低
減したのちに窒素ガスの供給量を縮小することで、大量
の窒素ガスを消費することなく容器の空気を迅速に窒素
ガスと置換させることができる。
もに大流量の窒素ガスを光源レンズ系の容器２ｄ内へ供
給し、容器２ｄ内の空気を短時間で窒素ガスによって置
換させると共に、容器２ｄ内の酸素濃度が所定の値に低
減したのちに窒素ガスの供給量を縮小することで、大量
の窒素ガスを消費することなく容器の空気を迅速に窒素
ガスと置換させることができる。
【００２３】図３は、第２実施例を説明する図であっ
て、本実施例の露光装置Ｅ2 は、第１実施例と同様に、
エキシマレーザからなる光源２１と、光源２１から発せ
られた照明光であるレーザ光Ｌ2 を所定の光束に成形す
る光学系である光源レンズ系２２と、光源レンズ系２２
によって所定の光束に成形されたレーザ光Ｌ2 で照明さ
れたレチクル２３のパターンをウエハ２４に結像させる
投影レンズ系２５からなる。光源２１はそのレーザ出力
を制御するレーザ制御装置２６を有し、レーザ制御装置
２６は制御手段であるコントローラ２７によって制御さ
れる。
て、本実施例の露光装置Ｅ2 は、第１実施例と同様に、
エキシマレーザからなる光源２１と、光源２１から発せ
られた照明光であるレーザ光Ｌ2 を所定の光束に成形す
る光学系である光源レンズ系２２と、光源レンズ系２２
によって所定の光束に成形されたレーザ光Ｌ2 で照明さ
れたレチクル２３のパターンをウエハ２４に結像させる
投影レンズ系２５からなる。光源２１はそのレーザ出力
を制御するレーザ制御装置２６を有し、レーザ制御装置
２６は制御手段であるコントローラ２７によって制御さ
れる。
【００２４】光源レンズ系２２は、レーザ光Ｌ2 の露光
光路に沿って光源２１側から順に並べられ、レーザ光Ｌ
2 を所定の光束に成形するためのレンズ２２ａ，２２ｂ
を有し、これらは少なくとも一方のレンズ面が容器２２
ｄ内のガス雰囲気側となるように容器２２ｄに収容さ
れ、容器２２ｄは露光光路に沿って光源２１に対向する
側の端壁に窓２２ｅ有している。また、容器２２ｄはレ
チクル２３（ウエハ２４）に対向する側の端壁でレンズ
２２ｂを保持し、レンズ２２ｂはレチクル２３に向って
レーザ光Ｌ2 を放出する第２の窓を兼ねている。
光路に沿って光源２１側から順に並べられ、レーザ光Ｌ
2 を所定の光束に成形するためのレンズ２２ａ，２２ｂ
を有し、これらは少なくとも一方のレンズ面が容器２２
ｄ内のガス雰囲気側となるように容器２２ｄに収容さ
れ、容器２２ｄは露光光路に沿って光源２１に対向する
側の端壁に窓２２ｅ有している。また、容器２２ｄはレ
チクル２３（ウエハ２４）に対向する側の端壁でレンズ
２２ｂを保持し、レンズ２２ｂはレチクル２３に向って
レーザ光Ｌ2 を放出する第２の窓を兼ねている。
【００２５】容器２２ｄの内部空間２２ｆに不活性ガス
である窒素ガスを供給する窒素ガス供給装置２８は、図
示しない窒素ガス供給源から容器２２ｄの内部空間２２
ｆに窒素ガスを供給する給気ライン２８ａと、該給気ラ
イン２８ａに直列に設けられた開閉弁である第１の電磁
弁２８ｂおよび可変弁２８ｃと、容器２２ｄの内部空間
２２ｆから雰囲気ガスを排出する排気ライン２８ｈと、
これに設けられた第２の電磁弁２８ｇと、容器２２ｄの
内部空問２２ｆの酸素濃度を検出するセンサ２８ｆを有
している。
である窒素ガスを供給する窒素ガス供給装置２８は、図
示しない窒素ガス供給源から容器２２ｄの内部空間２２
ｆに窒素ガスを供給する給気ライン２８ａと、該給気ラ
イン２８ａに直列に設けられた開閉弁である第１の電磁
弁２８ｂおよび可変弁２８ｃと、容器２２ｄの内部空間
２２ｆから雰囲気ガスを排出する排気ライン２８ｈと、
これに設けられた第２の電磁弁２８ｇと、容器２２ｄの
内部空問２２ｆの酸素濃度を検出するセンサ２８ｆを有
している。
【００２６】給気ライン２８ａはレーザ光Ｌ2 の露光光
路に沿って容器２２ｄの光源側端壁とレンズ２２ａの間
から容器２２ｄ内に窒素ガスを供給し、排気ライン２８
ｈはレーザ光Ｌ2 の露光光路に沿って容器２２ｄのレチ
クル側端壁とレンズ２２ａの間から容器２２ｄ内の窒素
ガスを排気している。このため、窒素ガスは容器２２ｄ
内をレーザ光Ｌ2 の露光光路に沿って上流側（光源２１
側）から下流側（レチクル２３側）に流れ、レンズ２２
ａの周囲を充分な窒素雰囲気に維持する。
路に沿って容器２２ｄの光源側端壁とレンズ２２ａの間
から容器２２ｄ内に窒素ガスを供給し、排気ライン２８
ｈはレーザ光Ｌ2 の露光光路に沿って容器２２ｄのレチ
クル側端壁とレンズ２２ａの間から容器２２ｄ内の窒素
ガスを排気している。このため、窒素ガスは容器２２ｄ
内をレーザ光Ｌ2 の露光光路に沿って上流側（光源２１
側）から下流側（レチクル２３側）に流れ、レンズ２２
ａの周囲を充分な窒素雰囲気に維持する。
【００２７】この実施例では、図３から明らかなよう
に、容器２２ｄ内に完全に収納されているレンズ（図３
の実施例では、容器２２ｄ内に完全に収納されているレ
ンズはレンズ２２ａのみである）は、容器２２ｄに対す
る給気ライン２８ａの給気口より光源側にはなく、容器
２２ｄに対する排気ライン２８ｈの排気口よりレチクル
側にもない。
に、容器２２ｄ内に完全に収納されているレンズ（図３
の実施例では、容器２２ｄ内に完全に収納されているレ
ンズはレンズ２２ａのみである）は、容器２２ｄに対す
る給気ライン２８ａの給気口より光源側にはなく、容器
２２ｄに対する排気ライン２８ｈの排気口よりレチクル
側にもない。
【００２８】第１の電磁弁２８ｂおよび可変弁２８ｃ
は、光源２１の駆動開始と同時に開かれて容器２２ｄの
内部空間２２ｆに所定の大流量値の窒素ガスを供給し、
センサ２８ｆによって検出される酸素濃度が所定の値に
減少したとき、可変弁２８ｃが切換えられて、窒素ガス
の供給量を所定の小流量値（定常値）に減少させる。な
お、光源２１の駆動開始と同時に、第２の電磁弁２８ｇ
を開き、排気ライン２８ｈから容器２２ｄの内部空間２
２ｆの空気を排出すれば、窒素ガスによる置換をより一
層迅速に行うことができる。
は、光源２１の駆動開始と同時に開かれて容器２２ｄの
内部空間２２ｆに所定の大流量値の窒素ガスを供給し、
センサ２８ｆによって検出される酸素濃度が所定の値に
減少したとき、可変弁２８ｃが切換えられて、窒素ガス
の供給量を所定の小流量値（定常値）に減少させる。な
お、光源２１の駆動開始と同時に、第２の電磁弁２８ｇ
を開き、排気ライン２８ｈから容器２２ｄの内部空間２
２ｆの空気を排出すれば、窒素ガスによる置換をより一
層迅速に行うことができる。
【００２９】本実施例は、バイパスラインを必要とせ
ず、また、容器２２ｄの密封状態に応じて可変弁２８ｃ
を数段階に切換えることによって補充用の窒素ガスの流
量を変化させることができる。
ず、また、容器２２ｄの密封状態に応じて可変弁２８ｃ
を数段階に切換えることによって補充用の窒素ガスの流
量を変化させることができる。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、紫外線もしくはエキシ
マレーザ光を光源からの露光光として利用して基板を露
光する露光装置において、容器内の雰囲気を少量の不活
性ガスによって不活性ガス雰囲気に維持することがで
き、光学素子の汚染を防止するための不活性ガスを大量
に消費することのない露光装置を提供できる。
マレーザ光を光源からの露光光として利用して基板を露
光する露光装置において、容器内の雰囲気を少量の不活
性ガスによって不活性ガス雰囲気に維持することがで
き、光学素子の汚染を防止するための不活性ガスを大量
に消費することのない露光装置を提供できる。
【図１】第１実施例を説明する説明図である。
【図２】図１の装置を制御するタイムチャートの様々な
例を示す図である。
例を示す図である。
【図３】第２実施例を説明する説明図である。
Ｌ1 ，Ｌ2 レーザ光 １，２１ 光源 ２，２２ 光源レンズ系 ２ｄ，２２ｄ 容器 ３，２３ レチクル ４，２４ ウエハ ５，２５ 投影レンズ系 ６，２６ レーザ制御装置 ７，２７ コントローラ ８，２８ 窒素ガス供給装置 ８ａ，２８ａ 給気ライン ８ｂ，２８ｂ 第１の電磁弁 ８ｃ，２８ｇ 第２の電磁弁 ８ｄ バイパスライン ８ｅ 第１の絞り弁 ８ｉ 第２の絞り弁 ８ｈ 第３の絞り弁 ２８ｃ 可変弁 ２８ｆ センサ ２８ｈ 排気ライン
Claims (6)
- 【請求項１】 遠紫外線もしくはエキシマレーザ光を光
源からの露光光として利用して基板を露光する露光装置
において、前記光源から前記基板に至る露光光路中に配
置される光学素子の少なくとも一方の面側を不活性ガス
雰囲気とするための容器と、前記容器内の酸素濃度を所
定の値に維持するように前記容器に供給される不活性ガ
スの供給量を制御するガス供給量制御手段を有すること
を特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記ガス供給量制御手段は、前記容器内
の酸素濃度が所定値に減少した際に、前記容器に供給さ
れる不活性ガスの供給量を減少させることを特徴とする
請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 遠紫外線もしくはエキシマレーザ光を光
源からの露光光として利用して基板を露光する露光装置
において、前記光源から前記基板に至る露光光路中に配
置される光学素子の少なくとも一方の面側を不活性ガス
雰囲気とするための容器と、前記容器内の酸素濃度を検
出する酸素濃度検出器と、前記酸素濃度検出器が検出し
た酸素濃度に応じて前記容器に供給される不活性ガスの
供給量を制御するガス供給量制御手段を有することを特
徴とする露光装置。 - 【請求項４】 前記ガス供給量制御手段は、前記酸素濃
度検出器が前記容器内の酸素濃度が所定値に減少したこ
とを検出した際に、前記容器に供給される不活性ガスの
供給量を減少させることを特徴とする請求項３記載の露
光装置。 - 【請求項５】 前記酸素濃度検出器は、前記容器内の酸
素濃度が所定値に減少したことを検出した後も記容器内
の酸素濃度の検出を継続することを特徴とする請求項４
記載の露光装置。 - 【請求項６】 前記ガス供給量制御手段は、前記容器内
の酸素濃度が所定値に減少したことを検出した後の前記
酸素濃度検出器の検出酸素濃度に基づいて前記容器に供
給される不活性ガスの供給量を減少させた後の不活性ガ
スの供給量を制御することを特徴とする請求項５記載の
露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9273725A JP3072277B2 (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9273725A JP3072277B2 (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | 露光装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP05023564A Division JP3084332B2 (ja) | 1993-01-19 | 1993-01-19 | 露光装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1083959A true JPH1083959A (ja) | 1998-03-31 |
| JP3072277B2 JP3072277B2 (ja) | 2000-07-31 |
Family
ID=17531700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9273725A Expired - Fee Related JP3072277B2 (ja) | 1997-09-19 | 1997-09-19 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3072277B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246283A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-30 | Canon Inc | デバイス製造装置 |
| JP2008004969A (ja) * | 2002-09-13 | 2008-01-10 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
-
1997
- 1997-09-19 JP JP9273725A patent/JP3072277B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002246283A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-30 | Canon Inc | デバイス製造装置 |
| JP4585702B2 (ja) * | 2001-02-14 | 2010-11-24 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| JP2008004969A (ja) * | 2002-09-13 | 2008-01-10 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3072277B2 (ja) | 2000-07-31 |
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