JPH108274A - 液体によるストリップの表面処理装置 - Google Patents

液体によるストリップの表面処理装置

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JPH108274A
JPH108274A JP9058843A JP5884397A JPH108274A JP H108274 A JPH108274 A JP H108274A JP 9058843 A JP9058843 A JP 9058843A JP 5884397 A JP5884397 A JP 5884397A JP H108274 A JPH108274 A JP H108274A
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strip
liquid
panel
processing
treating
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JP9058843A
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Peter Gravert
グラフェ−ルト ペーター
Guenther Hiden
ヒデン ギュンター
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Andritz Patentverwaltungs GmbH
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    • C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G3/00—Apparatus for cleaning or pickling metallic material
    • C23G3/02—Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously
    • C23G3/023—Apparatus for cleaning or pickling metallic material for cleaning wires, strips, filaments continuously by spraying
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】 【課題】上面開放型の処理槽を用いて処理効率の高いス
トリップ表面処理装置を提供する。 【解決手段】ロール状に巻いた長尺の金属ストリップを
引き出しながら、カバー（２０）を掛けた長い処理槽
（３）内で酸洗いする場合のように、液体を用いてスト
リップ（１）の表面を処理する装置において、パネル
（１６）を、酸洗い液等の処理液（５）に浸かった状態
で、ストリップの上方にストリップと略平行に保持し、
これにより、処理液の液浴を、パネルより下側の処理領
域と、パネルより上側の処理液の還流領域とに分離する
よう構成したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液体を用いてスト
リップの表面を処理するための装置であって、特に、ロ
ール状に巻いた長尺の金属ストリップを引き出しなが
ら、カバーを掛けた長い処理槽内で酸洗いするような装
置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、酸洗いプラントの如く、液浴を用
いてこのようなストリップを処理するプラントにおいて
は、深さが約１００〜２００ｍｍ、長さが約１０〜４０
ｍの個別の浴が用いられていた。その場合、処理すべき
ストリップ材料の表面の処理液の反応速度は、ストリッ
プ表面の液体境界層を低減させることによって改善され
るため、近年はなるべく浅い液浴を用いる傾向にあり、
そのため、レイノルズ数を高くすると共に、せん断効果
を高めることによって液体境界層を低減させるよう、大
きな管状の浴が用いられるようになっている。
【０００３】しかしながら、そのような浴の平均深さ
は、ストリップの最大移動速度によって決定される最低
限値までしか低減できない。また、移動するストリップ
の引きずり作用により、処理液は処理槽内でストリップ
の移動方向と同一方向の流れを生じるようになる。その
結果、浴の深さは、ストリップが存在する部分では増加
し、これに対応して、ストリップの入口側では減少する
こととなり、処理液の液面は傾斜することになる。スト
リップの移動速度が高速になると（例えば、平均深さ２
００ｍｍ、長さ２０ｍの浴で、ストリップの移動速度が
約２００ｍ／ｍｉｎ程度）、処理液は処理槽へのストリ
ップの入口部分からは持ち去られ、そのため、ストリッ
プが処理液内に浸かっている長さは短縮され、処理槽の
長さが充分に活用できないことになる。従って、そのよ
うにストリップの入口部分で処理液が持ち去られて空に
なるのを防止するために、浴の平均液面高さを増加させ
る必要がある。そのため、上面開放型の処理槽の効率限
界は、引きずり作用による浴の長さの短縮と平均深さの
増加による処理効果の減少とを比較考量した上での最適
値に設定されることになる。
【０００４】平均深さの浅い浴を用いて高速で処理を行
なう手段としては、従来、密閉型処理槽を用いたものが
知られている。その場合の浴の深さは、処理槽の高さに
よって制限される。処理槽内から処理液が持ち出される
のを防止するため、ヨーロッパ特許０６５５５１９Ａ１
に示されているように、処理槽からのストリップの出口
部分を、処理中に生じる前記引きずり作用による液圧上
昇に対して流体力学的にシールする必要がある。このよ
うな流体力学的なシールのためには、上面開放型の処理
槽に比べて多大のエネルギー入力を必要とする。更にま
た、処理槽のストリップの出口部分をシールしたことに
よって速度水頭圧が高くなり、そのため、必要とされる
新鮮な処理液の供給が困難となると共に、エネルギー消
費量も増加する。
【０００５】密閉型の処理槽を用いれば、処理液の蒸散
は低減し、従ってまた、処理温度の維持に必要なエネル
ギー量も低減する。しかしながら、このことは、特に酸
洗いプラントにおいて、追加設備を用いて熱分解によっ
て酸を回収するような場合には、必ずしも利点にはなら
ない。何故なら、処理タンク内で気化できなかった液体
の量が、回収のために必要なエネルギー消費を増大させ
るからである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、密閉
型処理槽が有する上記の如き欠点を回避するため、上面
開放型の処理液浴を用いて、その処理効率を改善するこ
とにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明は、
カバーを掛けた上面開放型の長い処理槽内で、長尺の金
属ストリップを酸洗い液等の処理液に浸けた状態で長手
方向に移動させながら表面処理する装置において、パネ
ルを、処理液に浸かった状態で、ストリップの上方にス
トリップと略平行に保持し、これにより、処理液の液浴
を、パネルより下側の処理領域と、パネルより上側の処
理液の還流領域とに分離するよう構成したことを特徴と
する。このように構成することにより、酸洗い液等の処
理液がパネルで仕切られ、パネルより上側の処理液がス
トリップの入口側へ効率よく還流せしめられると共に、
ストリップが存在する領域の処理液の液高は低減せしめ
られ、結果的に、浴の平均深さを減少させることが可能
となる。上記の如く本発明においてパネルを用いたこと
による更なる利点は、浴の深さが実質的に低減されるた
め処理液の表面の自由度が増大すること、ストリップに
よる処理液の引きずり作用を利用して処理液の部分的な
循環が促進されること、処理槽内での処理液の攪拌が促
進できることなどである。
【０００８】上記パネルを処理槽の略全長にわたって設
け、処理槽のストリップの入口側及び出口側において上
記パネルと処理槽の壁面との間もしくはパネル自体に形
成された開口部のみを通じて、酸洗い液等の処理液がパ
ネルより下側の処理領域と上側の還流領域の間を循環す
るように構成することによって、極めて良好な効果を得
ることができる。
【０００９】処理槽が極めて長い場合には、上記パネル
として、複数枚の個別の小型のパネルを順番に所定のギ
ャップを隔てて配列したものを用い、当該ギャップを通
じて、酸洗い液等の処理液がパネルより下側の処理領域
と上側の還流領域の間を循環するよう構成することが推
奨される。このように構成することにより、処理槽内の
個々の区域における処理液の循環が促進されると共に、
処理槽から処理液を抜くときに処理液の排出が円滑にな
されるようになる。同様の効果は、上記パネルに多数の
孔を明け、それらの孔を通じて、酸洗い液等の処理液が
パネルより下側の処理領域と上側の還流領域の間を循環
するよう構成することによっても達成できる。
【００１０】上記パネルの断面形状を山型（Ｖ字型）と
することにより、パネルが平坦なストリップと部分的に
接触するのを防止できると共に、処理槽から処理液を抜
くときに処理液の排出効果を向上させることができる。
【００１１】また、上記パネルのストリップに対向する
面に横桁を取り付けることによって、ストリップの引き
ずり作用によって生じる液流にブレーキ作用を与えるこ
とが可能になると共に、処理領域の処理液に乱流を生じ
させ、その結果として処理効率を向上させることができ
る。
【００１２】本発明のように、液浴をパネルによって処
理領域と還流領域とに分離することによって、新鮮な処
理液をそれが必要とされる領域へ特定して供給できるよ
うになるという利点も得られる。即ち、酸洗い液等の処
理液を、処理槽の側壁に設けた供給口からノズルの噴射
力を利用してパネルの下側の処理領域へ向けて噴出する
ように構成したり、処理槽の底面からストリップの下側
へ供給するよう構成したりすることが推奨される。処理
液はノズルを通じてストリップの入口部分へ供給するの
が望ましい。そうすることにより、パネルによって形成
される還流領域を通じて戻ってくる処理液がストリップ
に接触するよりも先に、新たに供給された新鮮な処理液
がストリップの長手方向に沿って流れ、ストリップと最
初に接触させることが可能となるからである。
【００１３】ノズルによる処理液の供給を一層好適なら
しめるため、ノズルをストリップの移動方向に対して斜
めに逆行する方向へ向けて取り付けることが推奨され
る。そうすることにより、ストリップによる処理液の引
きずり作用を低減せしめ、ストリップが存在する領域の
液高を更に減少させ得るものである。
【００１４】本発明の望ましい実施例においては、上記
パネルを処理槽のカバーと連結して取り付け、カバーを
明けるときパネルも一緒に持ち上げられるよう構成し、
更にまた、上記パネルを、その取付け部において一定の
範囲内で上方へ移動可能なよう保持し、パネルとストリ
ップが衝突したときパネルがストリップを回避できるよ
うに構成することが推奨される。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつゝ本発明の
具体例について説明する。図１は、本発明に係る酸洗い
処理装置の長手方向に沿った縦断面図、図２は、図１に
示した酸洗い処理装置のＡ−Ａ線に沿った縦断面図、図
３は、図１に示した酸洗い処理装置の平面図、図４は、
もう一つの異なった実施例の平面図、図５は、図１に示
した酸洗い処理装置とは異なった実施例の図２と同様の
縦断面図、図６は、横桁（よこげた）付きパネルを備え
た実施例の模式図である。なお、図示したプラントは、
いずれも本発明の原理を説明するために、大幅に簡略化
して描いてある。
【００１６】図１には、適宜のパイプ、ポンプ、熱交換
器、循環タンク等を備えた酸洗い処理装置の一例が模式
的に描いてある。処理すべきストリップ１は、ピンチロ
ーラ２により酸洗い処理装置内へ導入され、処理槽３内
の液浴中に漬けられた後、他端に設けたピンチローラ４
によって酸洗い処理装置外へ引き出されるようになって
いる。処理液５は、ポンプ８により循環タンク６から熱
交換器９を経てパイプ７へ送り出され、処理槽３の底面
に設けた供給口１０及び側面に設けた供給口１１を通じ
て処理槽３内へ供給される。処理槽３内の処理液は、ス
トリップの入口側及び出口側の石材ブロックから成るオ
ーバーフロー堰１２ａ及び１２ｂから溢れ、回収溝１３
ａ及び１３ｂに集められ、パイプ１４ａ及び１４ｂを通
じて循環タンク６に還流するようになっている。処理槽
３の底面の処理液供給口１０は、ストリップ１の移動方
向（図中、矢符１５で示す）に対して斜めに逆行する方
向に向けられ、ストリップ１の引きずり作用による液流
を打ち消すようになっている。処理槽３中には、本発明
による一つの連続的なパネルの一形態としてのパネル１
６が設けられる。矢符１７は、ストリップ１の引きずり
作用によって引き起こされるパネル１６の周りの液流を
示している。
【００１７】図２には、図１に示した酸洗い処理装置の
図１中Ａ−Ａ線に沿った断面が示されている。処理液の
液面は１８で示してある。処理槽３の側壁に設けた処理
液供給口１１は、パネル１６とストリップ１との間の領
域に処理液５を供給するように配置されている。パネル
１６は、連結部１９を介してカバー２０により保持さ
れ、処理槽の側辺に設けた石材製の支持ブロック２１上
に載せられるようになっている（図１も参照）。
【００１８】図３は、図１に示した酸洗い処理装置の平
面図であるが、処理槽３の部分ではカバーとストリップ
を取り除いた状態で示してある。この図に示したパネル
２２は、孔明き板の形態を有するものである。処理槽３
の側壁に設けた処理液供給口１１は、ストリップ１の移
動方向１５に対して斜めに逆行する方向に向けられ、ス
トリップ１の引きずり作用による液流を打ち消すように
なっている。
【００１９】図４は、図３と同様に、図１に示した酸洗
い処理装置の平面図であるが、非連続的な形態のパネル
２３を用いた実施例を示している。
【００２０】図５は、図２と同様に、図１に示した酸洗
い処理装置の図１中Ａ−Ａ線に沿った断面図であるが、
山型のパネル２４を用いた実施例を示している。
【００２１】図６は、酸洗い処理装置中のストリップ１
と、ピンチローラ４と、パネル１６を抜き出して描いた
ものである。この実施例においては、パネル１６に横桁
２５が取り付けられており、これらの横桁が液流にブレ
ーキ作用を及ぼすと共に乱流を生じさせ、その結果とし
て酸洗い効率を向上させるものである。
【００２２】以上、酸洗いプラントを例にとって本発明
を説明したが、本発明は、処理液を満たしたタンク中を
ストリップを高速で移動させながら処理を行なうプロセ
ス一般に広く利用し得るものである。
【００２３】
【発明の効果】上記の如き構成を有する本発明によると
きは、酸洗い液等の処理液がパネルで仕切られ、パネル
より上側の処理液がストリップの入口側へ効率よく還流
せしめられると共に、ストリップが存在する領域の処理
液の液高は低減せしめられ、結果的に、浴の平均深さを
減少させることが可能となり、そのため、上面開放型の
処理液浴を用いて、その処理効率を大幅に改善すること
が可能となる。また、浴の深さが実質的に低減されるた
め処理液の表面の自由度が増大すること、ストリップに
よる処理液の引きずり作用を利用して処理液の部分的な
循環が促進されること、処理槽内での処理液の攪拌が促
進できることなどによっても、処理効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る酸洗い処理装置の長手方向に沿っ
た縦断面図である。
【図２】図１に示した酸洗い処理装置のＡ−Ａ線に沿っ
た縦断面図である。
【図３】図１に示した酸洗い処理装置の平面図である。
【図４】もう一つの異なった実施例の平面図である。
【図５】図１に示した酸洗い処理装置とは異なった実施
例の図２と同様の縦断面図である。
【図６】横桁付きパネルを備えた実施例の模式図であ
る。
【符号の説明】
１───────ストリップ ２───────ピンチローラ ３───────処理槽 ４───────ピンチローラ ５───────処理液 ６───────循環タンク ７───────パイプ ８───────ポンプ ９───────熱交換器 １０，１１───処理液供給口 １２ａ，１２ｂ─オーバーフロー堰 １３ａ，１３ｂ─回収溝 １４ａ，１４ｂ─パイプ １５──────ストリップの移動方向 １６──────パネル １７──────液流 １８──────液面 １９──────連結部 ２０──────カバー ２１──────支持ブロック ２２──────孔明きパネル ２３──────非連続的なパネル ２４──────山型（Ｖ字型）パネル ２５──────横桁

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】カバー（２０）を掛けた上面開放型の長い
    処理槽（３）内で、長尺の金属ストリップ（１）を酸洗
    い液等の処理液（５）に浸けた状態で長手方向に移動さ
    せながら表面処理する装置において、 パネル（１６）を、処理液（５）に浸かった状態で、ス
    トリップ（１）の上方にストリップ（１）と略平行に保
    持し、これにより、処理液の液浴を、パネルより下側の
    処理領域と、パネルより上側の処理液の還流領域とに分
    離するよう構成したことを特徴とする液体によるストリ
    ップの表面処理装置。
  2. 【請求項２】上記パネル（１６）が処理槽の略全長にわ
    たって設けられ、処理槽のストリップの入口側及び出口
    側において上記パネルと処理槽の壁面との間もしくはパ
    ネル自体に形成された開口部のみを通じて、酸洗い液等
    の処理液がパネルより下側の処理領域と上側の還流領域
    の間を循環するように構成したことを特徴とする請求項
    １に記載の液体によるストリップの表面処理装置。
  3. 【請求項３】上記パネルが、複数枚の個別の小型のパネ
    ル（２３）を順番に所定のギャップを隔てて配列して成
    り、当該ギャップを通じて、酸洗い液等の処理液がパネ
    ルより下側の処理領域と上側の還流領域の間を循環する
    よう構成したことを特徴とする請求項１に記載の液体に
    よるストリップの表面処理装置。
  4. 【請求項４】上記パネル（２２）に多数の孔が明けら
    れ、それらの孔を通じて、酸洗い液等の処理液がパネル
    より下側の処理領域と上側の還流領域の間を循環するよ
    う構成したことを特徴とする請求項１ないし３のうちい
    ずれか一に記載の液体によるストリップの表面処理装
    置。
  5. 【請求項５】上記パネル（２４）の断面形状が山型であ
    ることを特徴とする請求項１ないし４のうちいずれか一
    に記載の液体によるストリップの表面処理装置。
  6. 【請求項６】上記パネルのストリップに対向する面に横
    桁（２５）を取り付けたことを特徴とする請求項１ない
    し５のうちいずれか一に記載の液体によるストリップの
    表面処理装置。
  7. 【請求項７】酸洗い液等の処理液を、処理槽の側壁に設
    けた供給口（１１）からノズルの噴射力を利用して上記
    パネルの下側の処理領域へ向けて噴出するよう構成した
    ことを特徴とする請求項１ないし６のうちいずれか一に
    記載の液体によるストリップの表面処理装置。
  8. 【請求項８】酸洗い液等の処理液を、処理槽の底面に設
    けた供給口（１０）からストリップの下側へ供給するよ
    う構成したことを特徴とする請求項１ないし７のうちい
    ずれか一に記載の液体によるストリップの表面処理装
    置。
  9. 【請求項９】処理液を噴出するノズルを、ストリップの
    移動方向に対して斜めに逆行する方向へ向けて取り付け
    たことを特徴とする請求項７又は８に記載の液体による
    ストリップの表面処理装置。
  10. 【請求項１０】上記パネルを処理槽のカバーと連結して
    取り付け、カバーを明けるときパネルも一緒に持ち上げ
    られるように構成したことを特徴とする請求項１ないし
    ９のうちいずれか一に記載の液体によるストリップの表
    面処理装置。
  11. 【請求項１１】上記パネルが、その取付け部において一
    定の範囲内で上方へ移動可能なよう保持され、パネルと
    ストリップが衝突したときパネルがストリップを回避で
    きるように構成したことを特徴とする請求項１０に記載
    の液体によるストリップの表面処理装置。
JP9058843A 1996-03-14 1997-03-13 液体によるストリップの表面処理装置 Pending JPH108274A (ja)

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AT478/96 1996-03-14
AT0047896A AT403699B (de) 1996-03-14 1996-03-14 Vorrichtung zum oberflächenbehandeln mit flüssigkeiten

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JPH108274A true JPH108274A (ja) 1998-01-13

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US (2) US5853495A (ja)
EP (1) EP0795629B1 (ja)
JP (1) JPH108274A (ja)
KR (1) KR970065774A (ja)
CN (1) CN1087360C (ja)
AT (1) AT403699B (ja)
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CA (1) CA2199768A1 (ja)
DE (1) DE59711779D1 (ja)
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RU (1) RU2192506C2 (ja)
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