JPH1078224A - マイクロ波加熱装置 - Google Patents
マイクロ波加熱装置Info
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- JPH1078224A JPH1078224A JP23265596A JP23265596A JPH1078224A JP H1078224 A JPH1078224 A JP H1078224A JP 23265596 A JP23265596 A JP 23265596A JP 23265596 A JP23265596 A JP 23265596A JP H1078224 A JPH1078224 A JP H1078224A
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- microwave
- heating chamber
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 マイクロ波と蒸気とで加熱調理する場合に、
加熱室の結露を低減できるマイクロ波加熱装置を提供す
ることを目的とする。 【解決手段】 加熱室3には、マイクロ波発生手段11
からのマイクロ波9の照射をうけて発熱し蓄熱する蓄熱
板28a,28bを設け、蒸気10の供給に先立って蓄
熱板28a,28bを予熱することによって、蒸気10
を庫内に供給した際の結露の発生を低減でき、マイクロ
波9による均一な加熱を実現できる。また、マグネトロ
ン8を冷却して温まった温風Wを庫内に供給して蒸気が
吹き込まれた庫内を攪拌しているので、結露発生を抑制
するとともに庫内の温度を均一に制御するのに有効であ
る。
加熱室の結露を低減できるマイクロ波加熱装置を提供す
ることを目的とする。 【解決手段】 加熱室3には、マイクロ波発生手段11
からのマイクロ波9の照射をうけて発熱し蓄熱する蓄熱
板28a,28bを設け、蒸気10の供給に先立って蓄
熱板28a,28bを予熱することによって、蒸気10
を庫内に供給した際の結露の発生を低減でき、マイクロ
波9による均一な加熱を実現できる。また、マグネトロ
ン8を冷却して温まった温風Wを庫内に供給して蒸気が
吹き込まれた庫内を攪拌しているので、結露発生を抑制
するとともに庫内の温度を均一に制御するのに有効であ
る。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品の品質を維持
しつつ速やかに加熱調理するマイクロ波加熱装置に関す
るものである。
しつつ速やかに加熱調理するマイクロ波加熱装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】この種のマイクロ波加熱装置は、図20
に示すように構成されている。マイクロ波加熱装置本体
1〔以下、本体と称す〕には、被加熱物2を収容する加
熱室3と、この加熱室3の外部に設けられた蒸気発生装
置4とが設けられている。蒸気発生装置4は外周面にシ
ーズヒータ5を取り付けた蒸気発生室6と、この蒸気発
生室6に連通した給水タンク7とで構成されている。
に示すように構成されている。マイクロ波加熱装置本体
1〔以下、本体と称す〕には、被加熱物2を収容する加
熱室3と、この加熱室3の外部に設けられた蒸気発生装
置4とが設けられている。蒸気発生装置4は外周面にシ
ーズヒータ5を取り付けた蒸気発生室6と、この蒸気発
生室6に連通した給水タンク7とで構成されている。
【0003】被加熱物2は、マグネトロン8からの発生
するマイクロ波9と、シーズヒータ5で暖められて蒸気
発生室6から加熱室3に流れ込んだ蒸気10とによって
加熱調理される。
するマイクロ波9と、シーズヒータ5で暖められて蒸気
発生室6から加熱室3に流れ込んだ蒸気10とによって
加熱調理される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このようにマイクロ波
9と蒸気10とで加熱調理することによって、マイクロ
波9の単独調理の場合に比べて、蒸気により食品が保室
され、また蒸気によって均一に加熱されることで食品を
良好に加熱調理することができる。
9と蒸気10とで加熱調理することによって、マイクロ
波9の単独調理の場合に比べて、蒸気により食品が保室
され、また蒸気によって均一に加熱されることで食品を
良好に加熱調理することができる。
【0005】しかし、従来のマイクロ波加熱装置では、
図21に示すようにシーズヒータ5に通電してから実際
に蒸気が発生するまでに2分から4分の立ち上がり時間
を要し、調理に時間がかかると共に、シーズヒータ5へ
の通電を終了しても1〜2分間は加熱室3に蒸気10が
供給され続けるため、被加熱物2を加熱室3から取り出
す際に危険である。
図21に示すようにシーズヒータ5に通電してから実際
に蒸気が発生するまでに2分から4分の立ち上がり時間
を要し、調理に時間がかかると共に、シーズヒータ5へ
の通電を終了しても1〜2分間は加熱室3に蒸気10が
供給され続けるため、被加熱物2を加熱室3から取り出
す際に危険である。
【0006】さらに、蒸気10が加熱室3に供給される
と、加熱室3の壁面に蒸気10が接触して結露が発生す
る。このような結露が発生すると、マイクロ波9が結露
に吸収されて加熱室3の庫内での電波分布に不均一が発
生し、マイクロ波9による均一な加熱ができない。
と、加熱室3の壁面に蒸気10が接触して結露が発生す
る。このような結露が発生すると、マイクロ波9が結露
に吸収されて加熱室3の庫内での電波分布に不均一が発
生し、マイクロ波9による均一な加熱ができない。
【0007】さらに、上記のように結露が発生したまま
では、加熱室3が不衛生になり易いと云う問題がある。
本発明はマイクロ波9と蒸気10とで加熱調理する場合
に、加熱室3の結露を低減できるマイクロ波加熱装置を
提供することを目的とする。
では、加熱室3が不衛生になり易いと云う問題がある。
本発明はマイクロ波9と蒸気10とで加熱調理する場合
に、加熱室3の結露を低減できるマイクロ波加熱装置を
提供することを目的とする。
【0008】また、本発明はマイクロ波9と蒸気10と
で加熱調理する場合に、迅速に調理でき、食品の取り出
し時に蒸気の発生が無くて安全で、しかも加熱室3の結
露を低減できるマイクロ波加熱装置を提供することを目
的とする。
で加熱調理する場合に、迅速に調理でき、食品の取り出
し時に蒸気の発生が無くて安全で、しかも加熱室3の結
露を低減できるマイクロ波加熱装置を提供することを目
的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明のマイクロ波加熱
装置は、加熱室には、マイクロ波発生手段からのマイク
ロ波の照射をうけて発熱し蓄熱する蓄熱板を設けことを
特徴とする。
装置は、加熱室には、マイクロ波発生手段からのマイク
ロ波の照射をうけて発熱し蓄熱する蓄熱板を設けことを
特徴とする。
【0010】この本発明によると、加熱室に供給された
蒸気による結露を低減することができ、マイクロ波によ
る均一な加熱調理を実現できるマイクロ波加熱装置が得
られる。
蒸気による結露を低減することができ、マイクロ波によ
る均一な加熱調理を実現できるマイクロ波加熱装置が得
られる。
【0011】
【発明の実施の形態】請求項1記載のマイクロ波加熱装
置は、被加熱物を収容する加熱室にマイクロ波を照射す
るマイクロ波発生手段と、加熱室に蒸気を供給する蒸気
発生手段とを有するマイクロ波加熱装置であって、前記
加熱室には、マイクロ波発生手段からのマイクロ波の照
射をうけて発熱し蓄熱する蓄熱板を設け、加熱室におけ
る前記蒸気による結露を低減することを特徴とする。
置は、被加熱物を収容する加熱室にマイクロ波を照射す
るマイクロ波発生手段と、加熱室に蒸気を供給する蒸気
発生手段とを有するマイクロ波加熱装置であって、前記
加熱室には、マイクロ波発生手段からのマイクロ波の照
射をうけて発熱し蓄熱する蓄熱板を設け、加熱室におけ
る前記蒸気による結露を低減することを特徴とする。
【0012】請求項2記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項1において、蒸気発生手段は、蒸気発生室の外側に
配置された励磁コイルと、蒸気発生室の内側に配置され
た発泡状または繊維状の金属体とで構成され、前記金属
体の上端に給水タンクからの水を滴下するよう構成した
ことを特徴とする。
求項1において、蒸気発生手段は、蒸気発生室の外側に
配置された励磁コイルと、蒸気発生室の内側に配置され
た発泡状または繊維状の金属体とで構成され、前記金属
体の上端に給水タンクからの水を滴下するよう構成した
ことを特徴とする。
【0013】請求項3記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項1,請求項2において、蓄熱板を、加熱室を形成す
る上下左右と奥端側の面のうちの少なくとも1つの面に
設けたことを特徴とする。
求項1,請求項2において、蓄熱板を、加熱室を形成す
る上下左右と奥端側の面のうちの少なくとも1つの面に
設けたことを特徴とする。
【0014】請求項4記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項1,請求項2において、蓄熱板を、加熱室における
被加熱物の載置位置に対して、この載置位置の上方また
は下方位置の少なくとも一方に配置したことを特徴とす
る。
求項1,請求項2において、蓄熱板を、加熱室における
被加熱物の載置位置に対して、この載置位置の上方また
は下方位置の少なくとも一方に配置したことを特徴とす
る。
【0015】請求項5記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項1,請求項2において、蒸気発生手段による加熱室
への蒸気の供給に先立ってマイクロ波発生手段を運転し
て蓄熱板を規定温度に予熱する制御手段を設けたことを
特徴とする。
求項1,請求項2において、蒸気発生手段による加熱室
への蒸気の供給に先立ってマイクロ波発生手段を運転し
て蓄熱板を規定温度に予熱する制御手段を設けたことを
特徴とする。
【0016】請求項6記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項1,請求項2において、加熱室の下方位置から上方
に向けて加熱室に蒸気を放出する吹き出し口を設けたこ
とを特徴とする。
求項1,請求項2において、加熱室の下方位置から上方
に向けて加熱室に蒸気を放出する吹き出し口を設けたこ
とを特徴とする。
【0017】請求項7記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項1,請求項2において、加熱室の側壁を覆うととも
に蓄熱板の端部を支持する支持棚を設け、支持棚には、
加熱室の側壁の下方位置に形成された蒸気吹き出し口に
対応する位置に上方に向けて蒸気を放出する蒸気方向ガ
イドを形成したことを特徴とする。
求項1,請求項2において、加熱室の側壁を覆うととも
に蓄熱板の端部を支持する支持棚を設け、支持棚には、
加熱室の側壁の下方位置に形成された蒸気吹き出し口に
対応する位置に上方に向けて蒸気を放出する蒸気方向ガ
イドを形成したことを特徴とする。
【0018】請求項8記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項1,請求項2において、蓄熱板の奥行方向の長さを
加熱室の奥行方向の長さよりも短く設定し、加熱室の壁
面と加熱室にセットされた蓄熱板との間に形成された隙
間から、マイクロ波発生手段の発振管を冷却して温まっ
た温風が流入するよう構成したことを特徴とする。
求項1,請求項2において、蓄熱板の奥行方向の長さを
加熱室の奥行方向の長さよりも短く設定し、加熱室の壁
面と加熱室にセットされた蓄熱板との間に形成された隙
間から、マイクロ波発生手段の発振管を冷却して温まっ
た温風が流入するよう構成したことを特徴とする。
【0019】請求項9記載のマイクロ波加熱装置は、請
求項2において、加熱室の側壁の下方位置に形成された
蒸気吹き出し口に蒸気発生手段のボイラー出口を接続
し、前記蒸気吹き出し口の下方レベルを前記ボイラー出
口の下方レベルよりも高くしたことを特徴とする。
求項2において、加熱室の側壁の下方位置に形成された
蒸気吹き出し口に蒸気発生手段のボイラー出口を接続
し、前記蒸気吹き出し口の下方レベルを前記ボイラー出
口の下方レベルよりも高くしたことを特徴とする。
【0020】請求項10記載のマイクロ波加熱装置は、
請求項2において、蒸気発生手段は、給水タンクに取り
付けられた水処理材カートリッジを介してポンプで前記
の給水タンクの水を吸い上げて水の供給を受けるよう構
成したことを特徴とする。
請求項2において、蒸気発生手段は、給水タンクに取り
付けられた水処理材カートリッジを介してポンプで前記
の給水タンクの水を吸い上げて水の供給を受けるよう構
成したことを特徴とする。
【0021】請求項11記載のマイクロ波加熱装置は、
請求項10において、蒸気発生手段または給水タンクか
ら水を吸い上げるポンプの運転時間、または給水量の積
算値に基づいて水処理材カートリッジの交換時期を判定
し、これを報知する制御部を設けたことを特徴とする。
請求項10において、蒸気発生手段または給水タンクか
ら水を吸い上げるポンプの運転時間、または給水量の積
算値に基づいて水処理材カートリッジの交換時期を判定
し、これを報知する制御部を設けたことを特徴とする。
【0022】請求項12記載のマイクロ波加熱装置は、
請求項10において、水処理材カートリッジの交換時期
に近づいたことを検出して運転を停止し、この運転停止
中に再起動の入力操作を検出して規定期間に限って運転
を許可する制御部を設けたことを特徴とする。
請求項10において、水処理材カートリッジの交換時期
に近づいたことを検出して運転を停止し、この運転停止
中に再起動の入力操作を検出して規定期間に限って運転
を許可する制御部を設けたことを特徴とする。
【0023】請求項13記載のマイクロ波加熱装置は、
請求項1,請求項2において、マイクロ波加熱装置本体
の下方位置に、加熱室での結露水と蒸気発生手段でのボ
イラー排水を受ける排水タンクを設けたことを特徴とす
る。
請求項1,請求項2において、マイクロ波加熱装置本体
の下方位置に、加熱室での結露水と蒸気発生手段でのボ
イラー排水を受ける排水タンクを設けたことを特徴とす
る。
【0024】請求項14のマイクロ波加熱装置は、請求
項1,請求項2において、待機中に予熱開始指示を検出
すると、マイクロ波発生手段を蒸気発生手段よりも先行
して運転してマイクロ波発生手段と蒸気発生手段とによ
って第1の目標温度に加熱室を予熱し、規定時間のうち
に操作を検出しない場合には予熱の目標温度を第1の目
標温度よりも低温の第2の目標温度に切り換えて加熱室
を予熱する制御手段を設けたことを特徴とする。
項1,請求項2において、待機中に予熱開始指示を検出
すると、マイクロ波発生手段を蒸気発生手段よりも先行
して運転してマイクロ波発生手段と蒸気発生手段とによ
って第1の目標温度に加熱室を予熱し、規定時間のうち
に操作を検出しない場合には予熱の目標温度を第1の目
標温度よりも低温の第2の目標温度に切り換えて加熱室
を予熱する制御手段を設けたことを特徴とする。
【0025】請求項15記載のマイクロ波加熱装置は、
請求項1,請求項2において、蓄熱板は、板状の陶器ま
たは磁器の全面に釉薬を付けて焼成して構成し、マイク
ロ波の照射をうけて前記の釉薬の部分が発熱し、その熱
が陶器または磁器に蓄熱されることを特徴とする。
請求項1,請求項2において、蓄熱板は、板状の陶器ま
たは磁器の全面に釉薬を付けて焼成して構成し、マイク
ロ波の照射をうけて前記の釉薬の部分が発熱し、その熱
が陶器または磁器に蓄熱されることを特徴とする。
【0026】請求項16記載のマイクロ波加熱装置は、
請求項11,請求項12において、交換時期の設定値を
入力する入力手段を設けたことを特徴とする。以下、本
発明の実施の形態を図1〜図19に基づいて説明する。
請求項11,請求項12において、交換時期の設定値を
入力する入力手段を設けたことを特徴とする。以下、本
発明の実施の形態を図1〜図19に基づいて説明する。
【0027】図1〜図3に示すように、被加熱物2を収
容する加熱室3が内部に形成されている本体1には、加
熱室3と、この加熱室3にマイクロ波を輻射するマイク
ロ波発生手段11と、加熱室3に供給する蒸気を発生す
る蒸気発生手段12などが組み込まれている。
容する加熱室3が内部に形成されている本体1には、加
熱室3と、この加熱室3にマイクロ波を輻射するマイク
ロ波発生手段11と、加熱室3に供給する蒸気を発生す
る蒸気発生手段12などが組み込まれている。
【0028】加熱室3の前面の開口部を開閉する第1の
扉体13は、本体1に開閉自在に枢支されており、加熱
室3への被加熱物2の出し入れの際に開閉操作される。
第1の扉体13の左側に設けられた第2の扉体14は、
後に詳しく説明する蒸気発生手段12で使用する給水タ
ンク15の着脱に際して開閉できるように軸16で本体
1に枢支されている。17は給水タンク15の水位を目
視できるように第2の扉体14に穿設された窓である。
扉体13は、本体1に開閉自在に枢支されており、加熱
室3への被加熱物2の出し入れの際に開閉操作される。
第1の扉体13の左側に設けられた第2の扉体14は、
後に詳しく説明する蒸気発生手段12で使用する給水タ
ンク15の着脱に際して開閉できるように軸16で本体
1に枢支されている。17は給水タンク15の水位を目
視できるように第2の扉体14に穿設された窓である。
【0029】マイクロ波発生手段11は、加熱室3の外
側に配設されたマグネトロン8と、加熱室3の天井部に
配設されたアンテナ18と、マグネトロン8で発生した
マイクロ波をアンテナ18に給電する同軸管19とで構
成されており、マグネトロン8は送風機20で強制空冷
されている。
側に配設されたマグネトロン8と、加熱室3の天井部に
配設されたアンテナ18と、マグネトロン8で発生した
マイクロ波をアンテナ18に給電する同軸管19とで構
成されており、マグネトロン8は送風機20で強制空冷
されている。
【0030】先ず、加熱室3の構造とその内部にセット
される部品について説明する。図4に示すように上下左
右の面と奥端側の面がステンレス板で箱形に形成された
加熱室3の内部には、図5に示すような各部品がセット
される。
される部品について説明する。図4に示すように上下左
右の面と奥端側の面がステンレス板で箱形に形成された
加熱室3の内部には、図5に示すような各部品がセット
される。
【0031】最初に、第1の扉体13を開放した状態で
天板21がセットされる。天板21はアンテナ18が露
出しないように設けられている。この天板21は奥端に
形成された突起21aを加熱室3の奥端面の上部に穿設
されている孔22に挿入し、天板21の前端の両側に一
体に形成されている弾性部21bの突起21cを加熱室
3の左右壁面の上部に穿設されている孔23に係合させ
てセットされる。
天板21がセットされる。天板21はアンテナ18が露
出しないように設けられている。この天板21は奥端に
形成された突起21aを加熱室3の奥端面の上部に穿設
されている孔22に挿入し、天板21の前端の両側に一
体に形成されている弾性部21bの突起21cを加熱室
3の左右壁面の上部に穿設されている孔23に係合させ
てセットされる。
【0032】次に、加熱室3の左右壁面の内側に支持棚
24a,24bがセットされる。支持棚24a,24b
の上部は図6に示すように前記天板21の弾性部21b
に係合して保持されている。この支持棚24a,24b
には支持レール25が一体に成形されている。
24a,24bがセットされる。支持棚24a,24b
の上部は図6に示すように前記天板21の弾性部21b
に係合して保持されている。この支持棚24a,24b
には支持レール25が一体に成形されている。
【0033】なお、支持棚24aと支持棚24bとは使
い勝手を考慮して同一形状のものが使用されている。多
数の孔26が形成された載置皿27は、支持棚24a,
24bの支持レール25に沿って加熱室3に挿入され、
この載置皿27の上に被加熱物2が載せられる。支持棚
24a,24bには、載置皿27がセットされた位置に
対して、上下に蓄熱板28a,28bがセットされる。
い勝手を考慮して同一形状のものが使用されている。多
数の孔26が形成された載置皿27は、支持棚24a,
24bの支持レール25に沿って加熱室3に挿入され、
この載置皿27の上に被加熱物2が載せられる。支持棚
24a,24bには、載置皿27がセットされた位置に
対して、上下に蓄熱板28a,28bがセットされる。
【0034】この蓄熱板28a,28bは、図7に示す
ように板状のムライトクオーツ磁器29の全面に釉薬3
0を付けて焼成して構成したもので、マイクロ波の照射
をうけると釉薬30の部分が発熱し、その熱がムライト
クオーツ磁器29に蓄熱される。
ように板状のムライトクオーツ磁器29の全面に釉薬3
0を付けて焼成して構成したもので、マイクロ波の照射
をうけると釉薬30の部分が発熱し、その熱がムライト
クオーツ磁器29に蓄熱される。
【0035】蒸気発生手段12は図8に示すように構成
されている。蒸気発生手段12は、本体1に取り付けら
れたボイラー31と、このボイラー31の外側に巻装さ
れた配置された励磁コイル32と、ボイラー31の内側
に配置された発泡状または繊維状の金属体33と、本体
1に対して着脱自在の給水タンク15などで構成されて
いる。
されている。蒸気発生手段12は、本体1に取り付けら
れたボイラー31と、このボイラー31の外側に巻装さ
れた配置された励磁コイル32と、ボイラー31の内側
に配置された発泡状または繊維状の金属体33と、本体
1に対して着脱自在の給水タンク15などで構成されて
いる。
【0036】本体1に対しての給水タンク15の装着
は、第2の扉体14を開放した状態で給水タンク15を
底板34に載せて押し込むと、本体1の側に取り付けら
れた接続口35に給水タンク15のノズル36が挿入さ
れて、本体1の側に取り付けられたフック37が給水タ
ンク15に係合して移動が規制されて完了する。
は、第2の扉体14を開放した状態で給水タンク15を
底板34に載せて押し込むと、本体1の側に取り付けら
れた接続口35に給水タンク15のノズル36が挿入さ
れて、本体1の側に取り付けられたフック37が給水タ
ンク15に係合して移動が規制されて完了する。
【0037】接続口35は管38aを介してポンプ39
の吸込口に接続され、ポンプ39の吐出口は管38bを
介してボイラー31の上部に接続されて、金属体33の
上部に給水タンク15からの水が滴下される。
の吸込口に接続され、ポンプ39の吐出口は管38bを
介してボイラー31の上部に接続されて、金属体33の
上部に給水タンク15からの水が滴下される。
【0038】なお、給水タンク15には水処理材カート
リッジ(イオン交換樹脂カートリッジ)40が取り付け
られており、ポンプ39が運転されると水処理材カート
リッジ40を介して給水タンク15の水を吸い上げて、
水道水のスケール成分を除去した水がボイラー31に供
給される。
リッジ(イオン交換樹脂カートリッジ)40が取り付け
られており、ポンプ39が運転されると水処理材カート
リッジ40を介して給水タンク15の水を吸い上げて、
水道水のスケール成分を除去した水がボイラー31に供
給される。
【0039】金属体33は円筒状で、金属体33の上端
には円板状の素焼きチップ41を載せ、素焼きチップ4
1の上に耐熱性のセラミックペーパ42が載置されてい
る。素焼きチップ41は保水性は良好であるけれども吸
水速度がそれ程に速くない。これに対してセラミックペ
ーパ42は保水性は期待できないが吸水速度が速い。
には円板状の素焼きチップ41を載せ、素焼きチップ4
1の上に耐熱性のセラミックペーパ42が載置されてい
る。素焼きチップ41は保水性は良好であるけれども吸
水速度がそれ程に速くない。これに対してセラミックペ
ーパ42は保水性は期待できないが吸水速度が速い。
【0040】したがって、ボイラー31の上部から滴下
された水は、速やかにセラミックペーパ42に吸い取ら
れてセラミックペーパ42の全域に拡散し、セラミック
ペーパ42から素焼きチップ41に均一に吸水され、素
焼きチップ41から金属体33を介して水が流下する。
された水は、速やかにセラミックペーパ42に吸い取ら
れてセラミックペーパ42の全域に拡散し、セラミック
ペーパ42から素焼きチップ41に均一に吸水され、素
焼きチップ41から金属体33を介して水が流下する。
【0041】励磁コイル32を励磁すると、金属体33
が誘導加熱されて迅速に高温状態となるので、この金属
体33を流下する水は途中で直ちに蒸発して蒸気吐出口
43から蒸気10となって吹き出す。
が誘導加熱されて迅速に高温状態となるので、この金属
体33を流下する水は途中で直ちに蒸発して蒸気吐出口
43から蒸気10となって吹き出す。
【0042】蒸気吐出口43から吹き出した蒸気10
は、次のように構成された吹き出し口を介して加熱室3
の下方位置から上方に向けて放出される。蒸気吐出口4
3は、前記の加熱室3の左壁面3aの下部に穿設されて
いる蒸気吹き出し口44に対向して取り付けられてお
り、また、支持棚24aには蒸気吹き出し口44に対応
する部分に、図3と図5にも示すように出口が上向きの
蒸気方向ガイド45が一体に形成されている。したがっ
て、蒸気吐出口43から吹き出した蒸気10は蒸気方向
ガイド45を介して加熱室3の上方に向けて放出され
る。
は、次のように構成された吹き出し口を介して加熱室3
の下方位置から上方に向けて放出される。蒸気吐出口4
3は、前記の加熱室3の左壁面3aの下部に穿設されて
いる蒸気吹き出し口44に対向して取り付けられてお
り、また、支持棚24aには蒸気吹き出し口44に対応
する部分に、図3と図5にも示すように出口が上向きの
蒸気方向ガイド45が一体に形成されている。したがっ
て、蒸気吐出口43から吹き出した蒸気10は蒸気方向
ガイド45を介して加熱室3の上方に向けて放出され
る。
【0043】図9は搭載されている電気回路を示す。マ
イクロコンピュータで構成されている制御部46は、調
理処理ルーチン47と予熱・スタンバイルーチン48と
カートリッジ交換時期報知ルーチン49などで構成され
ている。
イクロコンピュータで構成されている制御部46は、調
理処理ルーチン47と予熱・スタンバイルーチン48と
カートリッジ交換時期報知ルーチン49などで構成され
ている。
【0044】載置皿27に被加熱物2をセットして調理
する調理処理ルーチン47に入るまでは、制御部46は
予熱・スタンバイルーチン48を実施して加熱室3が予
熱されている。
する調理処理ルーチン47に入るまでは、制御部46は
予熱・スタンバイルーチン48を実施して加熱室3が予
熱されている。
【0045】〔予熱・スタンバイルーチン〕待機状態で
実施される予熱・スタンバイルーチン48は、図10に
示すように構成されている。
実施される予熱・スタンバイルーチン48は、図10に
示すように構成されている。
【0046】待機状態になったと判定した制御部46
は、入力キー群50の何れかまたは第1の扉体13の開
放操作をドアスイッチ51で検出するまで、時間経過に
したがって図10に示すAモードからBモード、Bモー
ドからCモードへ自動的に切り換えられる。
は、入力キー群50の何れかまたは第1の扉体13の開
放操作をドアスイッチ51で検出するまで、時間経過に
したがって図10に示すAモードからBモード、Bモー
ドからCモードへ自動的に切り換えられる。
【0047】Aモードでは、次のようにして加熱室3の
庫内温度が“ 70 ± 10 ℃ ”に温度制御される。具体
的には、加熱室3の上部には図3と図4に示すように温
度センサ52が設置されており、図10の(b)(d)
に示すように予熱スタートPからマグネトロン8と送風
機20を運転を開始する。
庫内温度が“ 70 ± 10 ℃ ”に温度制御される。具体
的には、加熱室3の上部には図3と図4に示すように温
度センサ52が設置されており、図10の(b)(d)
に示すように予熱スタートPからマグネトロン8と送風
機20を運転を開始する。
【0048】庫内にマイクロ波が輻射されると、上下の
蓄熱板28a,28bの全面が発熱する。なお、PPS
(ポリフェニレンサルファイド)製の支持棚24a,2
4bもマイクロ波の輻射をうけて蓄熱板28a,28b
よりも温度は低いが発熱する。
蓄熱板28a,28bの全面が発熱する。なお、PPS
(ポリフェニレンサルファイド)製の支持棚24a,2
4bもマイクロ波の輻射をうけて蓄熱板28a,28b
よりも温度は低いが発熱する。
【0049】送風機20が運転されることによって、マ
グネトロン8を冷却して温まった温風Wの一部が、図6
に示すように加熱室3の奥端面に穿設された孔53(図
4を参照)から加熱室3に放出される。この放出された
空気Waは、加熱室3の上面3bと天板21の間を、天
板21に形成された仕切り壁21dでガイドされながら
加熱室3の前面側に送られて天板21の前端部から、蓄
熱板28aの前端と第1の扉体13との間の隙間Sを通
って右側から載置皿27がセットされている空間に流れ
込む。
グネトロン8を冷却して温まった温風Wの一部が、図6
に示すように加熱室3の奥端面に穿設された孔53(図
4を参照)から加熱室3に放出される。この放出された
空気Waは、加熱室3の上面3bと天板21の間を、天
板21に形成された仕切り壁21dでガイドされながら
加熱室3の前面側に送られて天板21の前端部から、蓄
熱板28aの前端と第1の扉体13との間の隙間Sを通
って右側から載置皿27がセットされている空間に流れ
込む。
【0050】この載置皿27がセットされている空間の
空気は、加熱室3の上面3bの左側に穿設された吸い出
し口54から次のように排出される。吸い出し口54は
天板21に形成されているダクト21eを介して蓄熱板
28aと天板21との間に連通しており、載置皿27が
セットされている空間の空気Wbは、左側から蓄熱板2
8aと天板21との間に流れて吸い出し口21eから排
出される。
空気は、加熱室3の上面3bの左側に穿設された吸い出
し口54から次のように排出される。吸い出し口54は
天板21に形成されているダクト21eを介して蓄熱板
28aと天板21との間に連通しており、載置皿27が
セットされている空間の空気Wbは、左側から蓄熱板2
8aと天板21との間に流れて吸い出し口21eから排
出される。
【0051】このようにして、送風機20の運転によっ
て加熱室3の空気が攪拌される。マグネトロン8は温度
センサ52の検出温度が 80 ℃になるまで続けられる。
図10の(a)は加熱室3の庫内温度を表している。送
風機20はマグネトロン8の停止後も暫くは部品冷却の
ために運転が続けられる。マグネトロン8の停止中も定
期的に送風機20が運転されて加熱室3の空気を攪拌し
ており、温度センサ52の検出温度が 60 ℃にまで低下
したことを検出すると制御部46はマグネトロン8を運
転して庫内温度が“ 70 ± 10 ℃ ”に温度制御されて
いる。
て加熱室3の空気が攪拌される。マグネトロン8は温度
センサ52の検出温度が 80 ℃になるまで続けられる。
図10の(a)は加熱室3の庫内温度を表している。送
風機20はマグネトロン8の停止後も暫くは部品冷却の
ために運転が続けられる。マグネトロン8の停止中も定
期的に送風機20が運転されて加熱室3の空気を攪拌し
ており、温度センサ52の検出温度が 60 ℃にまで低下
したことを検出すると制御部46はマグネトロン8を運
転して庫内温度が“ 70 ± 10 ℃ ”に温度制御されて
いる。
【0052】図10の(c)は励磁コイルドライバ55
を介して励磁コイル32を駆動している期間を示してお
り、温度センサ52の検出温度が 80 ℃の間近( 80 ℃
−Δ)になってから 80 ℃になるまで励磁コイル32を
駆動して蒸気発生手段12のボイラー31を予熱してい
る。
を介して励磁コイル32を駆動している期間を示してお
り、温度センサ52の検出温度が 80 ℃の間近( 80 ℃
−Δ)になってから 80 ℃になるまで励磁コイル32を
駆動して蒸気発生手段12のボイラー31を予熱してい
る。
【0053】Aモードの運転時間が規定時間になっても
待機中である場合は、制御部46は省エネルギを目的と
してBモードを実行して目標温度を“ 70 ± 10 ℃ ”
から“ 60 ± 10 ℃ ”に低くして同様に温度制御す
る。
待機中である場合は、制御部46は省エネルギを目的と
してBモードを実行して目標温度を“ 70 ± 10 ℃ ”
から“ 60 ± 10 ℃ ”に低くして同様に温度制御す
る。
【0054】Bモードの運転時間が規定時間になっても
待機中である場合は、制御部46は省エネルギを目的と
してCモードを実行し温度制御を終了する。なお、Bモ
ードとCモードの何れのモードにおいても、第1の扉体
13が閉塞している状態で入力キー群50の何れかのキ
ーが操作されたことを検出すると、直ちにAモードに復
帰して予熱を実施するように構成されている。
待機中である場合は、制御部46は省エネルギを目的と
してCモードを実行し温度制御を終了する。なお、Bモ
ードとCモードの何れのモードにおいても、第1の扉体
13が閉塞している状態で入力キー群50の何れかのキ
ーが操作されたことを検出すると、直ちにAモードに復
帰して予熱を実施するように構成されている。
【0055】〔調理処理ルーチン〕調理処理ルーチン4
7では、マグネトロン8の運転パターンと励磁コイルド
ライバ55の運転パターンを、入力キー群50から入力
されたデータに基づいて選択して、マイクロ波9と蒸気
10とを併用して被加熱物を適正に調理する。
7では、マグネトロン8の運転パターンと励磁コイルド
ライバ55の運転パターンを、入力キー群50から入力
されたデータに基づいて選択して、マイクロ波9と蒸気
10とを併用して被加熱物を適正に調理する。
【0056】具体的には、図11〜図14のような運転
パターンの一つを選択して調理される。図11に示す運
転パターンは、蒸気発生手段12の蒸気発生の立ち上が
りが10秒前後と素早いので、マイクロ波動作の開始と
ほぼ同時に蒸気発生手段12の蒸気を加熱室3に供給し
て殆どの加熱調理時間中はマイクロ波と蒸気の併用で加
熱調理が行われ、被加熱物である食品の水分の蒸発を抑
えてしっとりとした仕上がり状態を実現できる。
パターンの一つを選択して調理される。図11に示す運
転パターンは、蒸気発生手段12の蒸気発生の立ち上が
りが10秒前後と素早いので、マイクロ波動作の開始と
ほぼ同時に蒸気発生手段12の蒸気を加熱室3に供給し
て殆どの加熱調理時間中はマイクロ波と蒸気の併用で加
熱調理が行われ、被加熱物である食品の水分の蒸発を抑
えてしっとりとした仕上がり状態を実現できる。
【0057】この場合に、調理処理ルーチンの実行より
も前から予熱・スタンバイルーチンが実行されて加熱室
3の庫内が温められているため、調理処理ルーチンを開
始して直ちに蒸気10を加熱室3に供給しても、加熱室
3の壁面の結露が発生しない。
も前から予熱・スタンバイルーチンが実行されて加熱室
3の庫内が温められているため、調理処理ルーチンを開
始して直ちに蒸気10を加熱室3に供給しても、加熱室
3の壁面の結露が発生しない。
【0058】結露が発生しないため、不必要な電波吸収
が発生しないとともに、加熱室3の庫内でのマイクロ波
の分布が結露の影響で不均一になることがなく、良好な
加熱状態が得られる。
が発生しないとともに、加熱室3の庫内でのマイクロ波
の分布が結露の影響で不均一になることがなく、良好な
加熱状態が得られる。
【0059】さらに、加熱室3に供給された蒸気10
は、支持棚24aに一体に形成されている蒸気方向ガイ
ド45を介して加熱室3の上方に向けて放出されるの
で、食品に直接に当たることもなく、庫内の温度分布が
均一になって食品の全体を包み込むように加熱できる。
は、支持棚24aに一体に形成されている蒸気方向ガイ
ド45を介して加熱室3の上方に向けて放出されるの
で、食品に直接に当たることもなく、庫内の温度分布が
均一になって食品の全体を包み込むように加熱できる。
【0060】なお、予熱・スタンバイルーチンが実行さ
れることによって調理処理ルーチンで加熱室3に蒸気1
0が供給された時点で結露が発生しない点については、
その他の運転パターンの場合にも同様である。
れることによって調理処理ルーチンで加熱室3に蒸気1
0が供給された時点で結露が発生しない点については、
その他の運転パターンの場合にも同様である。
【0061】図12に示す運転パターンは、冷凍食品を
加熱調理する場合に選択される運転パターンである。食
品が凍っている間、すなわち、食品温度がマイナスの間
はマイクロ波だけで加熱し、食品の解凍が進んで食品温
度がプラスに転じた時点から蒸気発生手段12を運転し
て、マイクロ波と蒸気の併用で加熱調理を行う。食品か
らの水分の蒸発は食品温度がプラスに転じた頃から始ま
るが、食品の周囲を蒸気で包込みながら調理することに
より、これも食品の水分の蒸発を抑えてしっとりとした
仕上がり状態を実現できる。
加熱調理する場合に選択される運転パターンである。食
品が凍っている間、すなわち、食品温度がマイナスの間
はマイクロ波だけで加熱し、食品の解凍が進んで食品温
度がプラスに転じた時点から蒸気発生手段12を運転し
て、マイクロ波と蒸気の併用で加熱調理を行う。食品か
らの水分の蒸発は食品温度がプラスに転じた頃から始ま
るが、食品の周囲を蒸気で包込みながら調理することに
より、これも食品の水分の蒸発を抑えてしっとりとした
仕上がり状態を実現できる。
【0062】図13に示す運転パターンは、マイクロ波
動作の開始とほぼ同時に蒸気発生手段12の蒸気を加熱
室3に供給し、蒸気発生手段12の方がマイクロ波より
も早く終了している。この場合には、調理の終了時には
加熱室3の蒸気の量が減少した状態になり、食品を取り
出す際に高温の蒸気に触れることもなく取り扱い易い。
動作の開始とほぼ同時に蒸気発生手段12の蒸気を加熱
室3に供給し、蒸気発生手段12の方がマイクロ波より
も早く終了している。この場合には、調理の終了時には
加熱室3の蒸気の量が減少した状態になり、食品を取り
出す際に高温の蒸気に触れることもなく取り扱い易い。
【0063】図14に示す運転パターンは、冷凍食品を
加熱調理する場合に選択される別の運転パターンであ
る。食品が凍っている間は高出力のマイクロ波と低出力
の蒸気発生手段12の蒸気とで加熱調理し、食品の解凍
が進んで食品温度がプラスに転じた時点からマイクロ波
を中出力に低下させるとともに蒸気発生手段12の蒸気
を中出力に上昇させる。そして食品の温度が中程度まで
上昇した時点から、マイクロ波を低出力にするとともに
蒸気発生手段12の蒸気を高出力に上昇させる。この場
合には、食品の全体を均一に、しかも食品の水分の蒸発
を抑えてしっとりとした仕上がり状態を実現できる。
加熱調理する場合に選択される別の運転パターンであ
る。食品が凍っている間は高出力のマイクロ波と低出力
の蒸気発生手段12の蒸気とで加熱調理し、食品の解凍
が進んで食品温度がプラスに転じた時点からマイクロ波
を中出力に低下させるとともに蒸気発生手段12の蒸気
を中出力に上昇させる。そして食品の温度が中程度まで
上昇した時点から、マイクロ波を低出力にするとともに
蒸気発生手段12の蒸気を高出力に上昇させる。この場
合には、食品の全体を均一に、しかも食品の水分の蒸発
を抑えてしっとりとした仕上がり状態を実現できる。
【0064】〔カートリッジ交換時期報知ルーチン〕制
御部46はポンプ39の運転時間を図15に示すルーチ
ンで処理して水処理材の交換時期を報知するように構成
されている。使用に際しては、交換報知の設定時間Aと
蒸気発生手段12の運転禁止の設定時間B〔但し、B≧
A〕とが設定される。
御部46はポンプ39の運転時間を図15に示すルーチ
ンで処理して水処理材の交換時期を報知するように構成
されている。使用に際しては、交換報知の設定時間Aと
蒸気発生手段12の運転禁止の設定時間B〔但し、B≧
A〕とが設定される。
【0065】#1で設定時間A,Bを初期設定するかど
うかをチェックし、初期設定しない場合には#2が実行
される。#1で初期設定した場合には#3でレジスタの
内容がリセットされてから#2が実行される。
うかをチェックし、初期設定しない場合には#2が実行
される。#1で初期設定した場合には#3でレジスタの
内容がリセットされてから#2が実行される。
【0066】#2ではポンプ39が運転中かどうかがチ
ェックされる。#2で運転中と判定された場合には、#
4で#3でリセットした前記のレジスタにポンプ39の
運転時間をカウントして#5を実行する。#2で運転中
でないと判定された場合には、#4を実行せずに#5を
実行する。
ェックされる。#2で運転中と判定された場合には、#
4で#3でリセットした前記のレジスタにポンプ39の
運転時間をカウントして#5を実行する。#2で運転中
でないと判定された場合には、#4を実行せずに#5を
実行する。
【0067】#5では前記の#4で運転時間をカウント
したレジスタの内容(T)と交換報知の設定時間Aとを
比較し、“T≧A”の場合には#6で操作パネルの表示
器56に水処理材の交換指示のサインを表示して#7を
実行する。#5で“T<A”と判定された場合には次い
で#7を実行する。
したレジスタの内容(T)と交換報知の設定時間Aとを
比較し、“T≧A”の場合には#6で操作パネルの表示
器56に水処理材の交換指示のサインを表示して#7を
実行する。#5で“T<A”と判定された場合には次い
で#7を実行する。
【0068】#7では蒸気発生手段12の運転指示のフ
ラグが設定されているかどうかをチェックし、この運転
指示のフラグが設定されていないと判定した場合には#
8でポンプ39と蒸気発生手段12の運転を停止する。
#7で運転指示のフラグが設定されていると判定した場
合には、#9で前記の#4で運転時間をカウントしたレ
ジスタの内容(T)と設定時間Bとを比較し、“T≧
B”の場合には#10で操作パネルの表示器56に蒸気
発生手段12の運転禁止のサインを表示して#8を実行
する。#9で“T<B”と判定された場合には次いで#
11を実行してポンプ39と蒸気発生手段12の運転を
実施する。
ラグが設定されているかどうかをチェックし、この運転
指示のフラグが設定されていないと判定した場合には#
8でポンプ39と蒸気発生手段12の運転を停止する。
#7で運転指示のフラグが設定されていると判定した場
合には、#9で前記の#4で運転時間をカウントしたレ
ジスタの内容(T)と設定時間Bとを比較し、“T≧
B”の場合には#10で操作パネルの表示器56に蒸気
発生手段12の運転禁止のサインを表示して#8を実行
する。#9で“T<B”と判定された場合には次いで#
11を実行してポンプ39と蒸気発生手段12の運転を
実施する。
【0069】なお、設定時間Aは使用場所の水質に応じ
て据付けの際に入力キー群50からキーインされてい
る。具体的には、使用場所の水質を硬度試薬で測定し、
測定で得られた硬度を入力キー群50からキーインす
る。より具体的には、硬度試薬で硬度50,100,2
00の何れかに測定結果が得られると、運用情報キーイ
ンモードに切り換えてから測定で得られた硬度をキーイ
ンする。ここでは、扉体13を開いた状態で入力キー群
50から特定キー(例えば、調理開始スイッチ)を押し
続けたままの状態で特定のコードをキーインすることに
よって制御部46が運用情報キーインモードに切り換わ
る。測定結果が硬度50の場合には、“5”“0”がキ
ーインされると、制御部46は600リットルの水の給
水に必要なポンプ39の運転時間に応じたカウント値を
設定時間Aとして図15のルーチンを実行する。
て据付けの際に入力キー群50からキーインされてい
る。具体的には、使用場所の水質を硬度試薬で測定し、
測定で得られた硬度を入力キー群50からキーインす
る。より具体的には、硬度試薬で硬度50,100,2
00の何れかに測定結果が得られると、運用情報キーイ
ンモードに切り換えてから測定で得られた硬度をキーイ
ンする。ここでは、扉体13を開いた状態で入力キー群
50から特定キー(例えば、調理開始スイッチ)を押し
続けたままの状態で特定のコードをキーインすることに
よって制御部46が運用情報キーインモードに切り換わ
る。測定結果が硬度50の場合には、“5”“0”がキ
ーインされると、制御部46は600リットルの水の給
水に必要なポンプ39の運転時間に応じたカウント値を
設定時間Aとして図15のルーチンを実行する。
【0070】測定結果が硬度100の場合には、制御部
46は300リットルの水の給水に必要なポンプ39の
運転時間に応じたカウント値を設定時間Aとして図15
のルーチンを実行する。
46は300リットルの水の給水に必要なポンプ39の
運転時間に応じたカウント値を設定時間Aとして図15
のルーチンを実行する。
【0071】測定結果が硬度200の場合には、制御部
46は150リットルの水の給水に必要なポンプ39の
運転時間に応じたカウント値を設定時間Aとして図15
のルーチンを実行する。
46は150リットルの水の給水に必要なポンプ39の
運転時間に応じたカウント値を設定時間Aとして図15
のルーチンを実行する。
【0072】〔保安ルーチン〕本体1には、図8に示す
ように給水タンク15が正しくセットされていることを
検出する着脱センサ57と、給水タンク15に組み込ま
れているマグネットフロート58を検出するフロートセ
ンサ59とが設けられている。
ように給水タンク15が正しくセットされていることを
検出する着脱センサ57と、給水タンク15に組み込ま
れているマグネットフロート58を検出するフロートセ
ンサ59とが設けられている。
【0073】図16に示すように、制御部46は電源が
オンしたことを#12で検出すると、着脱センサ57を
#13でチェックし、フロートセンサ59を#14でチ
ェックした上で入力キー群50の内のスタートキーが操
作されたかどうかを#15でチェックする。
オンしたことを#12で検出すると、着脱センサ57を
#13でチェックし、フロートセンサ59を#14でチ
ェックした上で入力キー群50の内のスタートキーが操
作されたかどうかを#15でチェックする。
【0074】したがって、蒸気発生手段12は給水タン
ク15が正しく本体1にセットされており、かつ最低限
以上の水が残されている場合に限って、#15でスター
トキーの操作を検出すると#16で蒸気発生手段12を
運転する。給水タンク15が正しく本体1にセットされ
ていない場合や、水位が不足の場合には#17で蒸気発
生手段12の運転を停止するして安全を確保している。
ク15が正しく本体1にセットされており、かつ最低限
以上の水が残されている場合に限って、#15でスター
トキーの操作を検出すると#16で蒸気発生手段12を
運転する。給水タンク15が正しく本体1にセットされ
ていない場合や、水位が不足の場合には#17で蒸気発
生手段12の運転を停止するして安全を確保している。
【0075】なお、水処理材カートリッジ40の給水タ
ンク15への取り付けは給水タンク15の蓋15aの部
分の該当個所に下方から押し当てて水処理材カートリッ
ジ40を所定角度回転させてロックさせて取り付けるよ
うに構成したため、水処理材カートリッジ40の交換作
業が容易である。また、蓋15aと水処理材カートリッ
ジ40との接続個所Jが給水タンク15の上限の水位レ
ベルよりも上になるように形成されているため、図17
に示すように水処理材カートリッジ40の装着を忘れて
起動したような場合には、ポンプ39が運転されても蒸
気発生手段12に給水されることが無く、金属体33に
スケール成分を含んだ水を誤って供給して金属体33に
目詰まりが発生するような事態を回避している。
ンク15への取り付けは給水タンク15の蓋15aの部
分の該当個所に下方から押し当てて水処理材カートリッ
ジ40を所定角度回転させてロックさせて取り付けるよ
うに構成したため、水処理材カートリッジ40の交換作
業が容易である。また、蓋15aと水処理材カートリッ
ジ40との接続個所Jが給水タンク15の上限の水位レ
ベルよりも上になるように形成されているため、図17
に示すように水処理材カートリッジ40の装着を忘れて
起動したような場合には、ポンプ39が運転されても蒸
気発生手段12に給水されることが無く、金属体33に
スケール成分を含んだ水を誤って供給して金属体33に
目詰まりが発生するような事態を回避している。
【0076】なお、水処理材カートリッジ40の装着を
忘れた場合には、ポンプ39を運転しても水が金属体3
3に供給されないため、金属体33の温度の異常上昇が
発生する。この実施の形態では、制御部46が金属体3
3の温度をサーマルスイッチ60で監視して、異常な温
度上昇を検出して励磁コイルドライバ55の運転を停止
するように構成されている。
忘れた場合には、ポンプ39を運転しても水が金属体3
3に供給されないため、金属体33の温度の異常上昇が
発生する。この実施の形態では、制御部46が金属体3
3の温度をサーマルスイッチ60で監視して、異常な温
度上昇を検出して励磁コイルドライバ55の運転を停止
するように構成されている。
【0077】また、金属体33に滴下した水が完全に蒸
発しなかった場合には、蒸気発生手段12の蒸気吐出口
43の付近に水の溜りが発生する。この実施の形態で
は、図3および図8に示すように、蒸気吐出口43の底
部のレベルを加熱室3に穿設された蒸気吹き出し口44
のレベルKよりも低レベルに設定したため、上記のよう
に蒸気吐出口43の付近に水の溜りが発生しても、この
水が蒸気吹き出し口44から加熱室3の庫内に流れ込む
ことがない。
発しなかった場合には、蒸気発生手段12の蒸気吐出口
43の付近に水の溜りが発生する。この実施の形態で
は、図3および図8に示すように、蒸気吐出口43の底
部のレベルを加熱室3に穿設された蒸気吹き出し口44
のレベルKよりも低レベルに設定したため、上記のよう
に蒸気吐出口43の付近に水の溜りが発生しても、この
水が蒸気吹き出し口44から加熱室3の庫内に流れ込む
ことがない。
【0078】蒸気吐出口43の付近に発生した水の溜り
は、排水口43aからトラップ61を介して排水タンク
62に流下する。また、加熱室3で発生した排水は、図
4と図8に示すように樋63で受けられて排水タンク6
2に流下するように構成されている。
は、排水口43aからトラップ61を介して排水タンク
62に流下する。また、加熱室3で発生した排水は、図
4と図8に示すように樋63で受けられて排水タンク6
2に流下するように構成されている。
【0079】上記の実施の形態では、水処理材カートリ
ッジ40の交換時期の報知を、ポンプ39の運転時間に
基づいて判定したが、図18に示すように蒸気発生手段
12の運転時間に基づいて判定したり、図19に示すよ
うにポンプ39による給水量に基づいて判定するように
構成しても同様である。図19において、Vはポンプに
よる給水量の積算値、Qはポンプの単位時間当りの設定
流量、Tはサンプリング時間間隔である。
ッジ40の交換時期の報知を、ポンプ39の運転時間に
基づいて判定したが、図18に示すように蒸気発生手段
12の運転時間に基づいて判定したり、図19に示すよ
うにポンプ39による給水量に基づいて判定するように
構成しても同様である。図19において、Vはポンプに
よる給水量の積算値、Qはポンプの単位時間当りの設定
流量、Tはサンプリング時間間隔である。
【0080】上記の各実施の形態では、水処理材カート
リッジ40が交換時期に達したことを検出してボイラー
31とポンプ39を停止し、図15に示した実施の形態
の場合には、水処理材カートリッジ40を新しいものと
交換して#3でリセットした同じレジスタの内容をリセ
ットして#1にリターンし、はじめて運転を継続するこ
とになるが、制御部46を、水処理材カートリッジの交
換時期に近づいたことを検出して運転を停止し、この運
転停止中に再起動の入力操作を検出して規定期間に限っ
て運転を許可するように構成することによって、利用者
が新しい水処理材カートリッジ40を用意する期間にお
いてもこのマイクロ波加熱装置を使用することができ、
稼働効率の向上を期待できる。これは、ボイラー31の
運転時間またはポンプ給水量に基づいて水処理材カート
リッジ40の交換時期を判定している場合も同様であ
る。
リッジ40が交換時期に達したことを検出してボイラー
31とポンプ39を停止し、図15に示した実施の形態
の場合には、水処理材カートリッジ40を新しいものと
交換して#3でリセットした同じレジスタの内容をリセ
ットして#1にリターンし、はじめて運転を継続するこ
とになるが、制御部46を、水処理材カートリッジの交
換時期に近づいたことを検出して運転を停止し、この運
転停止中に再起動の入力操作を検出して規定期間に限っ
て運転を許可するように構成することによって、利用者
が新しい水処理材カートリッジ40を用意する期間にお
いてもこのマイクロ波加熱装置を使用することができ、
稼働効率の向上を期待できる。これは、ボイラー31の
運転時間またはポンプ給水量に基づいて水処理材カート
リッジ40の交換時期を判定している場合も同様であ
る。
【0081】上記の実施の形態の場合には、蓄熱板24
a,24bの2枚を使用したが、加熱室を形成する上下
左右と奥端側の面のうちの少なくとも1つの面に蓄熱板
を設けることによって、蒸気10を庫内に供給した場合
の結露の発生を抑制するのに効果的である。
a,24bの2枚を使用したが、加熱室を形成する上下
左右と奥端側の面のうちの少なくとも1つの面に蓄熱板
を設けることによって、蒸気10を庫内に供給した場合
の結露の発生を抑制するのに効果的である。
【0082】
【発明の効果】請求項1の構成によると、加熱室には、
マイクロ波発生手段からのマイクロ波の照射をうけて発
熱し蓄熱する蓄熱板を設けたため、この蓄熱板を温めた
状態で蒸気を加熱室に供給することによって、結露の発
生を低減することができる。
マイクロ波発生手段からのマイクロ波の照射をうけて発
熱し蓄熱する蓄熱板を設けたため、この蓄熱板を温めた
状態で蒸気を加熱室に供給することによって、結露の発
生を低減することができる。
【0083】請求項2の構成によると、請求項1におい
て、蒸気発生手段は、蒸気発生室の外側に配置された励
磁コイルと、蒸気発生室の内側に配置された発泡状また
は繊維状の金属体とで構成され、前記金属体の上端に給
水タンクからの水を滴下するよう構成したため、結露の
発生を低減できるとともに、加熱室に迅速に蒸気を供給
することができ、調理に要する時間の短縮を実現でき
る。
て、蒸気発生手段は、蒸気発生室の外側に配置された励
磁コイルと、蒸気発生室の内側に配置された発泡状また
は繊維状の金属体とで構成され、前記金属体の上端に給
水タンクからの水を滴下するよう構成したため、結露の
発生を低減できるとともに、加熱室に迅速に蒸気を供給
することができ、調理に要する時間の短縮を実現でき
る。
【0084】請求項3,請求項4の構成によると、請求
項1,請求項2において、蓄熱板を、加熱室を形成する
上下左右と奥端側の面のうちの少なくとも1つの面に設
けたり、加熱室における被加熱物の載置位置に対して、
この載置位置の上方または下方位置の少なくとも一方に
配置したため、庫内に輻射されるマイクロ波で蓄熱板を
効率よく温めることができ、蒸気を供給した場合の結露
防止に有効である。
項1,請求項2において、蓄熱板を、加熱室を形成する
上下左右と奥端側の面のうちの少なくとも1つの面に設
けたり、加熱室における被加熱物の載置位置に対して、
この載置位置の上方または下方位置の少なくとも一方に
配置したため、庫内に輻射されるマイクロ波で蓄熱板を
効率よく温めることができ、蒸気を供給した場合の結露
防止に有効である。
【0085】請求項5の構成によると、請求項1,請求
項2において、蒸気発生手段による加熱室への蒸気の供
給に先立ってマイクロ波発生手段を運転して蓄熱板を規
定温度に予熱する制御手段を設けたため、蒸気を庫内に
供給する時点においては蓄熱板を規定温度に温まってい
るため、蒸気を供給した場合の結露の発生を確実に抑制
できる。
項2において、蒸気発生手段による加熱室への蒸気の供
給に先立ってマイクロ波発生手段を運転して蓄熱板を規
定温度に予熱する制御手段を設けたため、蒸気を庫内に
供給する時点においては蓄熱板を規定温度に温まってい
るため、蒸気を供給した場合の結露の発生を確実に抑制
できる。
【0086】請求項6の構成によると、請求項1,請求
項2において、加熱室の下方位置から上方に向けて加熱
室に蒸気を放出する吹き出し口を設けたため、庫内に供
給された蒸気は、庫内の上方に吹き上げられて、庫内の
上方から被加熱物がセットされている庫内の下方に移動
し、被加熱物に直接に蒸気が当たるようなことがなく、
被加熱物を均一に加熱調理することができる。
項2において、加熱室の下方位置から上方に向けて加熱
室に蒸気を放出する吹き出し口を設けたため、庫内に供
給された蒸気は、庫内の上方に吹き上げられて、庫内の
上方から被加熱物がセットされている庫内の下方に移動
し、被加熱物に直接に蒸気が当たるようなことがなく、
被加熱物を均一に加熱調理することができる。
【0087】請求項7の構成によると、請求項1,請求
項2において、加熱室の側壁を覆うとともに蓄熱板の端
部を支持する支持棚を設け、支持棚には、加熱室の側壁
の下方位置に形成された蒸気吹き出し口に対応する位置
に上方に向けて蒸気を放出する蒸気方向ガイドを形成し
たため、庫内に供給された蒸気は、庫内の上方に吹き上
げられて、庫内の上方から被加熱物がセットされている
庫内の下方に移動し、被加熱物に直接に蒸気が当たるよ
うなことがなく、被加熱物を均一に加熱調理することが
できる。
項2において、加熱室の側壁を覆うとともに蓄熱板の端
部を支持する支持棚を設け、支持棚には、加熱室の側壁
の下方位置に形成された蒸気吹き出し口に対応する位置
に上方に向けて蒸気を放出する蒸気方向ガイドを形成し
たため、庫内に供給された蒸気は、庫内の上方に吹き上
げられて、庫内の上方から被加熱物がセットされている
庫内の下方に移動し、被加熱物に直接に蒸気が当たるよ
うなことがなく、被加熱物を均一に加熱調理することが
できる。
【0088】請求項8の構成によると、請求項1,請求
項2において、蓄熱板の奥行方向の長さを加熱室の奥行
方向の長さよりも短く設定し、加熱室の壁面と加熱室に
セットされた蓄熱板との間に形成された隙間から、マイ
クロ波発生手段の発振管を冷却して温まった温風が流入
するよう構成したため、空気用の特別な加熱装置を設け
ることなく温風を庫内に供給して蒸気が吹き込まれた庫
内を攪拌することができ、庫内の結露発生を抑制し、か
つ庫内の温度を均一に制御するのに有効である。
項2において、蓄熱板の奥行方向の長さを加熱室の奥行
方向の長さよりも短く設定し、加熱室の壁面と加熱室に
セットされた蓄熱板との間に形成された隙間から、マイ
クロ波発生手段の発振管を冷却して温まった温風が流入
するよう構成したため、空気用の特別な加熱装置を設け
ることなく温風を庫内に供給して蒸気が吹き込まれた庫
内を攪拌することができ、庫内の結露発生を抑制し、か
つ庫内の温度を均一に制御するのに有効である。
【0089】請求項9の構成によると、請求項2におい
て、加熱室の側壁の下方位置に形成された蒸気吹き出し
口に蒸気発生手段のボイラー出口を接続し、前記蒸気吹
き出し口の下方レベルを前記ボイラー出口の下方レベル
よりも高くしたため、蒸気に成らずに流下した水が庫内
に流れることを食い止めることができる。
て、加熱室の側壁の下方位置に形成された蒸気吹き出し
口に蒸気発生手段のボイラー出口を接続し、前記蒸気吹
き出し口の下方レベルを前記ボイラー出口の下方レベル
よりも高くしたため、蒸気に成らずに流下した水が庫内
に流れることを食い止めることができる。
【0090】請求項10の構成によると、請求項2にお
いて、蒸気発生手段は、給水タンクに取り付けられた水
処理材カートリッジを介してポンプで前記の給水タンク
の水を吸い上げて水の供給を受けるよう構成したため、
水処理材カートリッジを装着することを忘れて運転して
も、スケール成分を含んだ水を蒸気を金属体に供給する
ようなことがなく、誤操作による金属体の目詰まりを防
止できる。
いて、蒸気発生手段は、給水タンクに取り付けられた水
処理材カートリッジを介してポンプで前記の給水タンク
の水を吸い上げて水の供給を受けるよう構成したため、
水処理材カートリッジを装着することを忘れて運転して
も、スケール成分を含んだ水を蒸気を金属体に供給する
ようなことがなく、誤操作による金属体の目詰まりを防
止できる。
【0091】請求項11の構成によると、請求項10に
おいて、蒸気発生手段または給水タンクから水を吸い上
げるポンプの運転時間、または給水量の積算値に基づい
て水処理材カートリッジの交換時期を判定し、これを報
知する制御部を設けたため、水処理材カートリッジの交
換時期を越えて運転するような事態の発生を防止するこ
とができ、水処理材カートリッジの機能低下が発生する
前に利用者に水処理材カートリッジの交換を促すことが
でき、長期間にわたって安定した動作を補償できるもの
である。
おいて、蒸気発生手段または給水タンクから水を吸い上
げるポンプの運転時間、または給水量の積算値に基づい
て水処理材カートリッジの交換時期を判定し、これを報
知する制御部を設けたため、水処理材カートリッジの交
換時期を越えて運転するような事態の発生を防止するこ
とができ、水処理材カートリッジの機能低下が発生する
前に利用者に水処理材カートリッジの交換を促すことが
でき、長期間にわたって安定した動作を補償できるもの
である。
【0092】請求項12の構成によると、請求項10に
おいて、水処理材カートリッジの交換時期に近づいたこ
とを検出して運転を停止し、この運転停止中に再起動の
入力操作を検出して規定期間に限って運転を許可する制
御部を設けたため、利用者が新しい水処理材カートリッ
ジを用意する期間においてもこのマイクロ波加熱装置を
使用することができ、稼働効率の向上を期待できる。
おいて、水処理材カートリッジの交換時期に近づいたこ
とを検出して運転を停止し、この運転停止中に再起動の
入力操作を検出して規定期間に限って運転を許可する制
御部を設けたため、利用者が新しい水処理材カートリッ
ジを用意する期間においてもこのマイクロ波加熱装置を
使用することができ、稼働効率の向上を期待できる。
【0093】請求項13の構成によると、請求項1,請
求項2において、マイクロ波加熱装置本体の下方位置
に、加熱室での結露水と蒸気発生手段でのボイラー排水
を受ける排水タンクを設けたため、排水を排水タンクに
集めることができ、操作性が良好である。
求項2において、マイクロ波加熱装置本体の下方位置
に、加熱室での結露水と蒸気発生手段でのボイラー排水
を受ける排水タンクを設けたため、排水を排水タンクに
集めることができ、操作性が良好である。
【0094】請求項14の構成によると、請求項1,請
求項2において、待機中に予熱開始指示を検出すると、
マイクロ波発生手段を蒸気発生手段よりも先行して運転
してマイクロ波発生手段と蒸気発生手段とによって第1
の目標温度に加熱室を予熱し、規定時間のうちに操作を
検出しない場合には予熱の目標温度を第1の目標温度よ
りも低温の第2の目標温度に切り換えて加熱室を予熱す
る制御手段を設けたため、機能を損なうことなく省エネ
ルギー運転を実現できる。
求項2において、待機中に予熱開始指示を検出すると、
マイクロ波発生手段を蒸気発生手段よりも先行して運転
してマイクロ波発生手段と蒸気発生手段とによって第1
の目標温度に加熱室を予熱し、規定時間のうちに操作を
検出しない場合には予熱の目標温度を第1の目標温度よ
りも低温の第2の目標温度に切り換えて加熱室を予熱す
る制御手段を設けたため、機能を損なうことなく省エネ
ルギー運転を実現できる。
【0095】請求項15の構成によると、請求項1,請
求項2において、蓄熱板は、板状の陶器または磁器の全
面に釉薬を付けて焼成して構成したため、マイクロ波の
照射をうけて発熱した熱を効率良く蓄積して、蓄熱板の
面を均一な温度に予熱することができ、蒸気を供給した
場合の結露の発生の抑制に有効である。
求項2において、蓄熱板は、板状の陶器または磁器の全
面に釉薬を付けて焼成して構成したため、マイクロ波の
照射をうけて発熱した熱を効率良く蓄積して、蓄熱板の
面を均一な温度に予熱することができ、蒸気を供給した
場合の結露の発生の抑制に有効である。
【図1】実施の形態のマイクロ波加熱装置の外観図
【図2】同実施の形態のマイクロ波加熱装置の左側面図
【図3】同実施の形態の正面断面図
【図4】同実施の形態の加熱室の庫内付属品を取り外し
た状態を示す斜視図
た状態を示す斜視図
【図5】同実施の形態の庫内付属品の分解斜視図
【図6】同実施の形態の庫内付属品の組み込み斜視図
【図7】同実施の形態の蓄熱板の断面図
【図8】同実施の形態の蒸気発生手段の構成図
【図9】同実施の形態の電気回路の構成図
【図10】同実施の形態の予熱・スタンバイルーチンの
タイムチャート図
タイムチャート図
【図11】同実施の形態の調理処理ルーチンのタイムチ
ャート図
ャート図
【図12】同実施の形態の調理処理ルーチンのタイムチ
ャート図
ャート図
【図13】同実施の形態の調理処理ルーチンのタイムチ
ャート図
ャート図
【図14】同実施の形態の調理処理ルーチンのタイムチ
ャート図
ャート図
【図15】同実施の形態のカートリッジ交換時期報知ル
ーチンのフローチャート図
ーチンのフローチャート図
【図16】同実施の形態の保安ルーチンのフローチャー
ト図
ト図
【図17】同実施の形態において水処理材カートリッジ
の装着を忘れた場合の説明図
の装着を忘れた場合の説明図
【図18】別の実施の形態のカートリッジ交換時期報知
ルーチンのフローチャート図
ルーチンのフローチャート図
【図19】別の実施の形態のカートリッジ交換時期報知
ルーチンのフローチャート図
ルーチンのフローチャート図
【図20】従来のマイクロ波加熱装置の構成図
【図21】同従来例の調理処理のタイムチャート図
【符号の説明】 2 被加熱物 3 加熱室 8 マグネトロン 9 マイクロ波 10 蒸気 11 マイクロ波発生手段 12 蒸気発生手段 15 給水タンク 20 送風機 21 天板 24a,24b 支持棚 27 載置皿 28a,28b 蓄熱板 29 ムライトクオーツ磁器 30 釉薬 31 ボイラー 32 励磁コイル 33 金属体 39 ポンプ 40 水処理材カートリッジ 41 素焼きチップ 42 セラミックペーパ 45 蒸気方向ガイド 46 制御部 62 排水タンク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高橋 豊 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 内山 智美 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 植田 茂樹 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内
Claims (16)
- 【請求項1】被加熱物を収容する加熱室にマイクロ波を
照射するマイクロ波発生手段と、 加熱室に蒸気を供給する蒸気発生手段とを有するマイク
ロ波加熱装置であって、 前記加熱室には、マイクロ波発生手段からのマイクロ波
の照射をうけて発熱し蓄熱する蓄熱板を設け、加熱室に
おける前記蒸気による結露を低減するマイクロ波加熱装
置。 - 【請求項2】蒸気発生手段は、蒸気発生室の外側に配置
された励磁コイルと、蒸気発生室の内側に配置された発
泡状または繊維状の金属体とで構成され、前記金属体の
上端に給水タンクからの水を滴下するよう構成した請求
項1記載のマイクロ波加熱装置。 - 【請求項3】蓄熱板を、加熱室を形成する上下左右と奥
端側の面のうちの少なくとも1つの面に設けた請求項
1,請求項2記載のマイクロ波加熱装置。 - 【請求項4】蓄熱板を、加熱室における被加熱物の載置
位置に対して、この載置位置の上方または下方位置の少
なくとも一方に配置した請求項1,請求項2記載のマイ
クロ波加熱装置。 - 【請求項5】蒸気発生手段による加熱室への蒸気の供給
に先立ってマイクロ波発生手段を運転して蓄熱板を規定
温度に予熱する制御手段を設けた請求項1,請求項2記
載のマイクロ波加熱装置。 - 【請求項6】加熱室の下方位置から上方に向けて加熱室
に蒸気を放出する吹き出し口を設けた請求項1,請求項
2記載のマイクロ波加熱装置。 - 【請求項7】加熱室の側壁を覆うとともに蓄熱板の端部
を支持する支持棚を設け、支持棚には、加熱室の側壁の
下方位置に形成された蒸気吹き出し口に対応する位置に
上方に向けて蒸気を放出する蒸気方向ガイドを形成した
請求項1,請求項2記載のマイクロ波加熱装置。 - 【請求項8】蓄熱板の奥行方向の長さを加熱室の奥行方
向の長さよりも短く設定し、加熱室の壁面と加熱室にセ
ットされた蓄熱板との間に形成された隙間から、マイク
ロ波発生手段の発振管を冷却して温まった温風が流入す
るよう構成した請求項1,請求項2記載のマイクロ波加
熱装置。 - 【請求項9】加熱室の側壁の下方位置に形成された蒸気
吹き出し口に蒸気発生手段のボイラー出口を接続し、前
記蒸気吹き出し口の下方レベルを前記ボイラー出口の下
方レベルよりも高くした請求項2記載のマイクロ波加熱
装置。 - 【請求項10】蒸気発生手段は、給水タンクに取り付け
られた水処理材カートリッジを介してポンプで前記の給
水タンクの水を吸い上げて水の供給を受けるよう構成し
た請求項2記載マイクロ波加熱装置。 - 【請求項11】蒸気発生手段または給水タンクから水を
吸い上げるポンプの運転時間、または給水量の積算値に
基づいて水処理材カートリッジの交換時期を判定し、こ
れを報知する制御部を設けた請求項10記載のマイクロ
波加熱装置。 - 【請求項12】水処理材カートリッジの交換時期に近づ
いたことを検出して運転を停止し、この運転停止中に再
起動の入力操作を検出して規定期間に限って運転を許可
する制御部を設けた請求項10記載のマイクロ波加熱装
置。 - 【請求項13】マイクロ波加熱装置本体の下方位置に、
加熱室での結露水と蒸気発生手段でのボイラー排水を受
ける排水タンクを設けた請求項1,請求項2記載のマイ
クロ波加熱装置。 - 【請求項14】待機中に予熱開始指示を検出すると、マ
イクロ波発生手段を蒸気発生手段よりも先行して運転し
てマイクロ波発生手段と蒸気発生手段とによって第1の
目標温度に加熱室を予熱し、規定時間のうちに操作を検
出しない場合には予熱の目標温度を第1の目標温度より
も低温の第2の目標温度に切り換えて加熱室を予熱する
制御手段を設けた請求項1,請求項2記載のマイクロ波
加熱装置。 - 【請求項15】蓄熱板は、板状の陶器または磁器の全面
に釉薬を付けて焼成して構成し、マイクロ波の照射をう
けて前記の釉薬の部分が発熱し、その熱が陶器または磁
器に蓄熱される請求項1,請求項2記載のマイクロ波加
熱装置。 - 【請求項16】交換時期の設定値を入力する入力手段を
設けた請求項11,請求項12記載のマイクロ波加熱装
置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23265596A JP3553742B2 (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | マイクロ波加熱装置 |
AU40324/97A AU4032497A (en) | 1996-09-03 | 1997-08-29 | Microwave heating device |
EP97937842A EP0952400B1 (en) | 1996-09-03 | 1997-08-29 | Microwave heating device |
PCT/JP1997/003024 WO1998010228A1 (fr) | 1996-09-03 | 1997-08-29 | Dispositif de chauffage par micro-ondes |
CNB971985332A CN1166892C (zh) | 1996-09-03 | 1997-08-29 | 微波加热装置 |
US09/254,080 US6232587B1 (en) | 1996-09-03 | 1997-08-29 | Microwave heating apparatus with a vapor generator and regenerating plates |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23265596A JP3553742B2 (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | マイクロ波加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH1078224A true JPH1078224A (ja) | 1998-03-24 |
JP3553742B2 JP3553742B2 (ja) | 2004-08-11 |
Family
ID=16942715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23265596A Expired - Fee Related JP3553742B2 (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | マイクロ波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3553742B2 (ja) |
Cited By (10)
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---|---|---|---|---|
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-
1996
- 1996-09-03 JP JP23265596A patent/JP3553742B2/ja not_active Expired - Fee Related
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