JPH1076704A - ビーム光走査装置および画像形成装置 - Google Patents
ビーム光走査装置および画像形成装置Info
- Publication number
- JPH1076704A JPH1076704A JP8233198A JP23319896A JPH1076704A JP H1076704 A JPH1076704 A JP H1076704A JP 8233198 A JP8233198 A JP 8233198A JP 23319896 A JP23319896 A JP 23319896A JP H1076704 A JPH1076704 A JP H1076704A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light beam
- light
- scanning
- scanned
- detecting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 35
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 23
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 173
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 52
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims description 34
- 230000032683 aging Effects 0.000 abstract description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 16
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 6
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 230000004044 response Effects 0.000 description 5
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 238000003705 background correction Methods 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000011112 process operation Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000007723 transport mechanism Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N1/0473—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position in subscanning direction, e.g. picture start or line-to-line synchronisation
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/113—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors
- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/19—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays
- H04N1/191—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using multi-element arrays the array comprising a one-dimensional array, or a combination of one-dimensional arrays, or a substantially one-dimensional array, e.g. an array of staggered elements
- H04N1/1911—Simultaneously or substantially simultaneously scanning picture elements on more than one main scanning line, e.g. scanning in swaths
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/024—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof deleted
- H04N2201/02406—Arrangements for positioning elements within a head
- H04N2201/02439—Positioning method
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/0471—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors
- H04N2201/04712—Detection of scanning velocity or position using dedicated detectors using unbroken arrays of detectors, i.e. detectors mounted on the same substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04734—Detecting at frequent intervals, e.g. once per line for sub-scan control
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04701—Detection of scanning velocity or position
- H04N2201/04744—Detection of scanning velocity or position by detecting the scanned beam or a reference beam
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04753—Control or error compensation of scanning position or velocity
- H04N2201/04758—Control or error compensation of scanning position or velocity by controlling the position of the scanned image area
- H04N2201/0476—Control or error compensation of scanning position or velocity by controlling the position of the scanned image area using an optical, electro-optical or acousto-optical element
- H04N2201/04762—Control or error compensation of scanning position or velocity by controlling the position of the scanned image area using an optical, electro-optical or acousto-optical element using a reflecting element
-
- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N2201/00—Indexing scheme relating to scanning, transmission or reproduction of documents or the like, and to details thereof
- H04N2201/04—Scanning arrangements
- H04N2201/047—Detection, control or error compensation of scanning velocity or position
- H04N2201/04753—Control or error compensation of scanning position or velocity
- H04N2201/04794—Varying the control or compensation during the scan, e.g. using continuous feedback or from line to line
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Multimedia (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】光学系の組立てに特別な精度を必要とせずに高
精度でビーム光の通過位置を検知でき、しかも、環境変
化や経時変化などによって光学系に変化が生じても常に
所定の位置に制御する。 【解決手段】マルチビーム光学系を用いたデジタル複写
機において、感光体ドラムの表面と同等の位置に配設さ
れたビーム光位置検知センサ３８によりポリゴンモータ
３６によって回転されるポリゴンミラーで走査される各
ビーム光の通過位置を検知し、ＣＰＵ５１は、この検知
結果を基にビーム光位置検知センサ出力処理回路４０を
用いて制御量を演算してガルバノミラー駆動回路３９ａ
〜３９ｄを介してガルバノミラー３３ａ〜３３ｄをそれ
ぞれ駆動して各ビーム光の位置を制御する。
精度でビーム光の通過位置を検知でき、しかも、環境変
化や経時変化などによって光学系に変化が生じても常に
所定の位置に制御する。 【解決手段】マルチビーム光学系を用いたデジタル複写
機において、感光体ドラムの表面と同等の位置に配設さ
れたビーム光位置検知センサ３８によりポリゴンモータ
３６によって回転されるポリゴンミラーで走査される各
ビーム光の通過位置を検知し、ＣＰＵ５１は、この検知
結果を基にビーム光位置検知センサ出力処理回路４０を
用いて制御量を演算してガルバノミラー駆動回路３９ａ
〜３９ｄを介してガルバノミラー３３ａ〜３３ｄをそれ
ぞれ駆動して各ビーム光の位置を制御する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば、複数の
レーザビーム光により単一の感光体ドラム上を同時に走
査露光して上記感光体ドラム上に単一の静電潜像を形成
するためのビーム光走査装置、および、これを用いたデ
ジタル複写機やレーザプリンタなどの画像形成装置に関
する。
レーザビーム光により単一の感光体ドラム上を同時に走
査露光して上記感光体ドラム上に単一の静電潜像を形成
するためのビーム光走査装置、および、これを用いたデ
ジタル複写機やレーザプリンタなどの画像形成装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、たとえば、レーザビーム光による
走査露光と電子写真プロセスとにより画像形成を行なう
デジタル複写機が種々開発されている。
走査露光と電子写真プロセスとにより画像形成を行なう
デジタル複写機が種々開発されている。
【０００３】そして、最近では、さらに画像形成速度の
高速化を図るために、マルチビーム方式、つまり、複数
のレーザビーム光を発生させ、これら複数のレーザビー
ム光により複数ラインずつの同時走査が行なわれるよう
にしたデジタル複写機が開発されている。
高速化を図るために、マルチビーム方式、つまり、複数
のレーザビーム光を発生させ、これら複数のレーザビー
ム光により複数ラインずつの同時走査が行なわれるよう
にしたデジタル複写機が開発されている。
【０００４】このようなマルチビーム方式のデジタル複
写機においては、レーザビーム光を発生する複数の半導
体レーザ発振器、これら複数のレーザ発振器から出力さ
れる各レーザビーム光を感光体ドラムへ向けて反射し、
各レーザビーム光により感光体ドラム上を走査するポリ
ゴンミラーなどの多面回転ミラー、および、コリメータ
レンズやｆ−θレンズなどを主体に構成される、ビーム
光走査装置としての光学系ユニットを備えている。
写機においては、レーザビーム光を発生する複数の半導
体レーザ発振器、これら複数のレーザ発振器から出力さ
れる各レーザビーム光を感光体ドラムへ向けて反射し、
各レーザビーム光により感光体ドラム上を走査するポリ
ゴンミラーなどの多面回転ミラー、および、コリメータ
レンズやｆ−θレンズなどを主体に構成される、ビーム
光走査装置としての光学系ユニットを備えている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光学系ユニットの構成では、感光体ドラム上（被走査
面）で複数のビーム光相互の位置関係を理想的な位置関
係にするのは非常に困難で、これを実現するためには、
非常に高い部品精度と組立精度が要求され、装置のコス
トアップの要因となっていた。
光学系ユニットの構成では、感光体ドラム上（被走査
面）で複数のビーム光相互の位置関係を理想的な位置関
係にするのは非常に困難で、これを実現するためには、
非常に高い部品精度と組立精度が要求され、装置のコス
トアップの要因となっていた。
【０００６】また、理想の位置関係に組立てたとして
も、温度変化や湿度変化などの環境変化、あるいは、経
時変化によってレンズの形状がわずかに変化したり、部
品相互の位置関係がわずかに変化するだけで、ビーム光
相互の位置関係が狂ってしまい、高品質な画像を形成す
ることができなくなる。したがって、このような光学系
を実現するためには、これらの変化に強い構造や部品を
用いる必要があった。
も、温度変化や湿度変化などの環境変化、あるいは、経
時変化によってレンズの形状がわずかに変化したり、部
品相互の位置関係がわずかに変化するだけで、ビーム光
相互の位置関係が狂ってしまい、高品質な画像を形成す
ることができなくなる。したがって、このような光学系
を実現するためには、これらの変化に強い構造や部品を
用いる必要があった。
【０００７】ここで、マルチビームにおいて、位置ずれ
したビーム光を用いて画像を形成した場合に起り得る画
像不良について、図３２および図３３を用いて説明す
る。
したビーム光を用いて画像を形成した場合に起り得る画
像不良について、図３２および図３３を用いて説明す
る。
【０００８】たとえば、図３２（ａ）に示すような
「Ｔ」の文字を形成する場合、ビーム光の通過位置が、
所定の位置からはずれていると、図３２（ｂ）に示すよ
うな画像になってしまう。この図の例は、４つのビーム
光ａ〜ｄを用いた場合で、ビーム光ｂの通過位置が所定
位置からはずれ、ビーム光ａとｂの間隔が狭く、ビーム
光ｂとｃの間隔が広くなった例である。
「Ｔ」の文字を形成する場合、ビーム光の通過位置が、
所定の位置からはずれていると、図３２（ｂ）に示すよ
うな画像になってしまう。この図の例は、４つのビーム
光ａ〜ｄを用いた場合で、ビーム光ｂの通過位置が所定
位置からはずれ、ビーム光ａとｂの間隔が狭く、ビーム
光ｂとｃの間隔が広くなった例である。
【０００９】図３３（ａ）は、それぞれのビームの発光
タイミングが、正しく制御されていない場合の画像の例
である。図より明らかなように、ビーム光相互の発光タ
イミングが正しく制御されないと、主走査方向の画像形
成位置が狂い、縦線がまっすぐに形成されない。
タイミングが、正しく制御されていない場合の画像の例
である。図より明らかなように、ビーム光相互の発光タ
イミングが正しく制御されないと、主走査方向の画像形
成位置が狂い、縦線がまっすぐに形成されない。
【００１０】図３３（ｂ）は、ビーム光の通過位置とビ
ーム光の発光タイミングの両方が正しく制御されていな
い場合の画像で、副走査方向の画像不良と、主走査方向
の画像不良が同時に起こっている。
ーム光の発光タイミングの両方が正しく制御されていな
い場合の画像で、副走査方向の画像不良と、主走査方向
の画像不良が同時に起こっている。
【００１１】このように、マルチビームで画像を形成す
る際には、複数のビーム光の通過位置を検知するビーム
光位置検知センサの傾きを高精度に取り付けて副走査方
向のビーム光通過位置を所定の間隔になるように制御す
ることと、主走査方向の画像形成位置を揃えるために、
それぞれのビーム光の発光タイミングを制御する必要が
ある。
る際には、複数のビーム光の通過位置を検知するビーム
光位置検知センサの傾きを高精度に取り付けて副走査方
向のビーム光通過位置を所定の間隔になるように制御す
ることと、主走査方向の画像形成位置を揃えるために、
それぞれのビーム光の発光タイミングを制御する必要が
ある。
【００１２】そこで、本発明は、光学系の組立てに特別
な精度を必要とせずに高精度でビーム光の通過位置を検
知でき、しかも、環境変化や経時変化などによって光学
系に変化が生じても常に所定の位置に制御でき、よって
常に高画質を維持することができるビーム光走査装置お
よび画像形成装置を提供することを目的とする。
な精度を必要とせずに高精度でビーム光の通過位置を検
知でき、しかも、環境変化や経時変化などによって光学
系に変化が生じても常に所定の位置に制御でき、よって
常に高画質を維持することができるビーム光走査装置お
よび画像形成装置を提供することを目的とする。
【００１３】また、本発明は、複数のビーム光を用いる
場合、光学系の組立てに特別な精度を必要とせずに高精
度でビーム光の通過位置を検知でき、しかも、環境変化
や経時変化などによって光学系に変化が生じても、被走
査面における各ビーム光相互の位置関係を常に理想的な
位置に制御でき、よって常に高画質を維持することがで
きるビーム光走査装置および画像形成装置を提供するこ
とを目的とする。
場合、光学系の組立てに特別な精度を必要とせずに高精
度でビーム光の通過位置を検知でき、しかも、環境変化
や経時変化などによって光学系に変化が生じても、被走
査面における各ビーム光相互の位置関係を常に理想的な
位置に制御でき、よって常に高画質を維持することがで
きるビーム光走査装置および画像形成装置を提供するこ
とを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明のビーム光走査装
置は、ビーム光を出力するビーム光発生手段と、このビ
ーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査面へ向
けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査す
る走査手段と、前記被走査面の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知するビーム光位置検知手段と、このビ
ーム光位置検知手段の複数の光検知部からの検知結果に
基づいて前記走査手段により走査されるビーム光の前記
被走査面における通過位置を所定位置に制御する制御手
段とを具備している。
置は、ビーム光を出力するビーム光発生手段と、このビ
ーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査面へ向
けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査す
る走査手段と、前記被走査面の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知するビーム光位置検知手段と、このビ
ーム光位置検知手段の複数の光検知部からの検知結果に
基づいて前記走査手段により走査されるビーム光の前記
被走査面における通過位置を所定位置に制御する制御手
段とを具備している。
【００１５】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら発生されたビーム光を被走査面に向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の主走査方向において
同じ位置でそれぞれ検知する複数の検知部を有するビー
ム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段からの
検知結果に基づいて前記走査手段により走査されるビー
ム光の前記被走査面における通過位置を制御する制御手
段とを具備している。
発生するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら発生されたビーム光を被走査面に向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の主走査方向において
同じ位置でそれぞれ検知する複数の検知部を有するビー
ム光位置検知手段と、このビーム光位置検知手段からの
検知結果に基づいて前記走査手段により走査されるビー
ム光の前記被走査面における通過位置を制御する制御手
段とを具備している。
【００１６】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビーム
光発生手段から出力された複数のビーム光を被走査面へ
向けて反射し、前記複数のビーム光により前記被走査面
を走査する走査手段と、前記被走査面の近傍に配設さ
れ、前記走査手段により走査されるビーム光を、前記ビ
ーム光の走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置
された複数の光検知部で検知するビーム光位置検知手段
と、前記複数のビーム光発生手段のうちの１つを選択し
て１つのビーム光を発光させる選択手段と、この選択手
段で選択されて発光されたビーム光が前記走査手段によ
り走査された際、前記ビーム光位置検知手段の複数の光
検知部の検知結果に基づいて、前記ビーム光が、前記複
数の光検知部のうち前記ビーム光の目標位置に対応する
位置の隣り合う２つの光検知部の間を通過するように制
御する制御手段とを具備している。
出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビーム
光発生手段から出力された複数のビーム光を被走査面へ
向けて反射し、前記複数のビーム光により前記被走査面
を走査する走査手段と、前記被走査面の近傍に配設さ
れ、前記走査手段により走査されるビーム光を、前記ビ
ーム光の走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置
された複数の光検知部で検知するビーム光位置検知手段
と、前記複数のビーム光発生手段のうちの１つを選択し
て１つのビーム光を発光させる選択手段と、この選択手
段で選択されて発光されたビーム光が前記走査手段によ
り走査された際、前記ビーム光位置検知手段の複数の光
検知部の検知結果に基づいて、前記ビーム光が、前記複
数の光検知部のうち前記ビーム光の目標位置に対応する
位置の隣り合う２つの光検知部の間を通過するように制
御する制御手段とを具備している。
【００１７】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の同一形状の光検
知部と、この複数の同一形状の光検知部を挟むように配
置された２つ以上の光検知部とで検知するビーム光位置
検知手段と、このビーム光位置検知手段の前記複数の同
一形状の光検知部と前記２つ以上の光検知部からのそれ
ぞれの検知結果に基づいて前記走査手段により走査され
るビーム光の前記被走査面における通過位置を所定位置
に制御する制御手段とを具備している。
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の同一形状の光検
知部と、この複数の同一形状の光検知部を挟むように配
置された２つ以上の光検知部とで検知するビーム光位置
検知手段と、このビーム光位置検知手段の前記複数の同
一形状の光検知部と前記２つ以上の光検知部からのそれ
ぞれの検知結果に基づいて前記走査手段により走査され
るビーム光の前記被走査面における通過位置を所定位置
に制御する制御手段とを具備している。
【００１８】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直前に
配設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の
通過を検知するビーム光通過検知手段と、このビーム光
通過検知手段でビーム光の通過を検知した後、前記ビー
ム光位置検知手段で検知される複数の光検知部からの出
力を積分する積分手段と、この積分手段の積分結果を基
にして前記走査手段により走査されるビーム光の前記被
走査面における通過位置を所定位置に制御する制御手段
とを具備している。
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直前に
配設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の
通過を検知するビーム光通過検知手段と、このビーム光
通過検知手段でビーム光の通過を検知した後、前記ビー
ム光位置検知手段で検知される複数の光検知部からの出
力を積分する積分手段と、この積分手段の積分結果を基
にして前記走査手段により走査されるビーム光の前記被
走査面における通過位置を所定位置に制御する制御手段
とを具備している。
【００１９】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直前に
配設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の
通過を検知する第１のビーム光通過検知手段と、前記ビ
ーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直後に配
設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の通
過を検知する第２のビーム光通過検知手段と、前記第１
のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した
後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からの出力を積分する積分手段と、前記第２のビー
ム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した後、前記
積分手段の積分結果をアナログ信号からデジタル信号に
変換する変換手段と、この変換手段で変換されたデジタ
ル信号を基にして前記走査手段により走査されるビーム
光の前記被走査面における通過位置を所定位置に制御す
る制御手段とを具備している。
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直前に
配設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の
通過を検知する第１のビーム光通過検知手段と、前記ビ
ーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直後に配
設され、前記走査手段によって走査されるビーム光の通
過を検知する第２のビーム光通過検知手段と、前記第１
のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した
後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からの出力を積分する積分手段と、前記第２のビー
ム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した後、前記
積分手段の積分結果をアナログ信号からデジタル信号に
変換する変換手段と、この変換手段で変換されたデジタ
ル信号を基にして前記走査手段により走査されるビーム
光の前記被走査面における通過位置を所定位置に制御す
る制御手段とを具備している。
【００２０】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部の隣
り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差動増
幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段
と、このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知
した後、前記差動増幅手段からの出力を積分する積分手
段と、この積分手段の積分結果を基にして前記走査手段
により走査されるビーム光の前記被走査面における通過
位置を所定位置に制御する制御手段とを具備している。
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部の隣
り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差動増
幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段
と、このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知
した後、前記差動増幅手段からの出力を積分する積分手
段と、この積分手段の積分結果を基にして前記走査手段
により走査されるビーム光の前記被走査面における通過
位置を所定位置に制御する制御手段とを具備している。
【００２１】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部の隣
り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差動増
幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知する第１のビーム光通過検知
手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走
査方向直後に配設され、前記走査手段によって走査され
るビーム光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手
段と、前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通
過を検知した後、前記差動増幅手段からの出力を積分す
る積分手段と、前記第２のビーム光通過検知手段でビー
ム光の通過を検知した後、前記積分手段の積分結果をア
ナログ信号からデジタル信号に変換する変換手段と、こ
の変換手段で変換されたデジタル信号を基にして前記走
査手段により走査されるビーム光の前記被走査面におけ
る通過位置を所定位置に制御する制御手段とを具備して
いる。
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部の隣
り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差動増
幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知する第１のビーム光通過検知
手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走
査方向直後に配設され、前記走査手段によって走査され
るビーム光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手
段と、前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通
過を検知した後、前記差動増幅手段からの出力を積分す
る積分手段と、前記第２のビーム光通過検知手段でビー
ム光の通過を検知した後、前記積分手段の積分結果をア
ナログ信号からデジタル信号に変換する変換手段と、こ
の変換手段で変換されたデジタル信号を基にして前記走
査手段により走査されるビーム光の前記被走査面におけ
る通過位置を所定位置に制御する制御手段とを具備して
いる。
【００２２】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部から
のそれぞれの出力に応じて前記走査手段により走査され
るビーム光の前記被走査面における通過位置の変更量を
制御する制御手段とを具備している。
出力するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段か
ら出力されたビーム光を被走査面へ向けて反射し、前記
ビーム光により前記被走査面を走査する走査手段と、前
記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走査
されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほ
ぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部から
のそれぞれの出力に応じて前記走査手段により走査され
るビーム光の前記被走査面における通過位置の変更量を
制御する制御手段とを具備している。
【００２３】本発明のビーム光走査装置は、ビーム光を
出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビーム
光発生手段から出力される複数のビーム光を被走査面へ
向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査
する走査手段と、前記被走査面の近傍に配設され、前記
走査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の
走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複
数の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位
置検知手段と、前記複数のビーム光発生手段のうちの１
つを選択して１つのビーム光を発光させる選択手段と、
この選択手段で選択されて発光されたビーム光が前記走
査手段により走査された際、前記ビーム光位置検知手段
で検知される複数の光検知部からのそれぞれの出力に基
づいて前記走査手段により走査されるビーム光の前記ビ
ーム光位置検知手段における通過位置を変更する変更手
段と、前記選択手段を用いて前記複数のビーム発生手段
で発生させるビーム光を所定の順番で発光させ、前記変
更手段で変更された前記ビーム光位置検知手段における
通過位置を前記所定の順番で確認し、前記複数のビーム
発生手段で発生される各ビーム光の前記ビーム光位置検
知手段における通過位置が目標位置となるように制御す
る制御手段とを具備している。
出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビーム
光発生手段から出力される複数のビーム光を被走査面へ
向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を走査
する走査手段と、前記被走査面の近傍に配設され、前記
走査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の
走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複
数の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位
置検知手段と、前記複数のビーム光発生手段のうちの１
つを選択して１つのビーム光を発光させる選択手段と、
この選択手段で選択されて発光されたビーム光が前記走
査手段により走査された際、前記ビーム光位置検知手段
で検知される複数の光検知部からのそれぞれの出力に基
づいて前記走査手段により走査されるビーム光の前記ビ
ーム光位置検知手段における通過位置を変更する変更手
段と、前記選択手段を用いて前記複数のビーム発生手段
で発生させるビーム光を所定の順番で発光させ、前記変
更手段で変更された前記ビーム光位置検知手段における
通過位置を前記所定の順番で確認し、前記複数のビーム
発生手段で発生される各ビーム光の前記ビーム光位置検
知手段における通過位置が目標位置となるように制御す
る制御手段とを具備している。
【００２４】本発明の画像形成装置は、ビーム光により
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部からのそれぞれの出力に基づいて前記走査手
段により走査されるビーム光の前記像担持体上における
通過位置を所定位置に制御する制御手段とを具備してい
る。
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部からのそれぞれの出力に基づいて前記走査手
段により走査されるビーム光の前記像担持体上における
通過位置を所定位置に制御する制御手段とを具備してい
る。
【００２５】本発明の画像形成装置は、複数のビーム光
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビー
ム光発生手段から出力された複数のビーム光を像担持体
上へ向けて反射し、前記複数のビーム光により前記像担
持体上を走査する走査手段と、前記像担持体上の被走査
位置の近傍に配設され、前記走査手段により走査される
ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直角
方向に並列して配置された複数の光検知部で検知し、検
知結果を出力するビーム光位置検知手段と、前記複数の
ビーム光発生手段のうちの１つを選択して１つのビーム
光を発光させる選択手段と、この選択手段で選択されて
発光されたビーム光が前記走査手段により走査された
際、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からのそれぞれの出力に基づいて、前記ビーム光
が、前記複数の光検知部のうち前記ビーム光の目標位置
に対応する位置の隣り合う２つの光検知部の間を通過す
るように制御する制御手段とを具備している。
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビー
ム光発生手段から出力された複数のビーム光を像担持体
上へ向けて反射し、前記複数のビーム光により前記像担
持体上を走査する走査手段と、前記像担持体上の被走査
位置の近傍に配設され、前記走査手段により走査される
ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直角
方向に並列して配置された複数の光検知部で検知し、検
知結果を出力するビーム光位置検知手段と、前記複数の
ビーム光発生手段のうちの１つを選択して１つのビーム
光を発光させる選択手段と、この選択手段で選択されて
発光されたビーム光が前記走査手段により走査された
際、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からのそれぞれの出力に基づいて、前記ビーム光
が、前記複数の光検知部のうち前記ビーム光の目標位置
に対応する位置の隣り合う２つの光検知部の間を通過す
るように制御する制御手段とを具備している。
【００２６】本発明の画像形成装置は、ビーム光により
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
同一形状の光検知部と、この複数の同一形状の光検知部
を挟むように配置された２つ以上の光検知部とで検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される前記複数の同一形状
の光検知部と前記２つ以上の光検知部からのそれぞれの
出力に基づいて前記走査手段により走査されるビーム光
の前記像担持体上における通過位置を所定位置に制御す
る制御手段とを具備している。
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
同一形状の光検知部と、この複数の同一形状の光検知部
を挟むように配置された２つ以上の光検知部とで検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、この
ビーム光位置検知手段で検知される前記複数の同一形状
の光検知部と前記２つ以上の光検知部からのそれぞれの
出力に基づいて前記走査手段により走査されるビーム光
の前記像担持体上における通過位置を所定位置に制御す
る制御手段とを具備している。
【００２７】本発明の画像形成装置は、ビーム光により
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段
と、このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知
した後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の
光検知部からの出力を積分する積分手段と、この積分手
段の積分結果を基にして前記走査手段により走査される
ビーム光の前記像担持体上における通過位置を所定位置
に制御する制御手段とを具備している。
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知するビーム光通過検知手段
と、このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知
した後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の
光検知部からの出力を積分する積分手段と、この積分手
段の積分結果を基にして前記走査手段により走査される
ビーム光の前記像担持体上における通過位置を所定位置
に制御する制御手段とを具備している。
【００２８】本発明の画像形成装置は、ビーム光により
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知する第１のビーム光通過検知
手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走
査方向直後に配設され、前記走査手段によって走査され
るビーム光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手
段と、前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通
過を検知した後、前記ビーム光位置検知手段で検知され
る複数の光検知部からの出力を積分する積分手段と、前
記第２のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知
した後、前記積分手段の積分結果をアナログ信号からデ
ジタル信号に変換する変換手段と、この変換手段で変換
されたデジタル信号を基にして前記走査手段により走査
されるビーム光の前記像担持体上における通過位置を所
定位置に制御する制御手段とを具備している。
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の
走査方向直前に配設され、前記走査手段によって走査さ
れるビーム光の通過を検知する第１のビーム光通過検知
手段と、前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走
査方向直後に配設され、前記走査手段によって走査され
るビーム光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手
段と、前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通
過を検知した後、前記ビーム光位置検知手段で検知され
る複数の光検知部からの出力を積分する積分手段と、前
記第２のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知
した後、前記積分手段の積分結果をアナログ信号からデ
ジタル信号に変換する変換手段と、この変換手段で変換
されたデジタル信号を基にして前記走査手段により走査
されるビーム光の前記像担持体上における通過位置を所
定位置に制御する制御手段とを具備している。
【００２９】本発明の画像形成装置は、ビーム光により
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動
増幅する差動増幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の
前記ビーム光の走査方向直前に配設され、前記走査手段
によって走査されるビーム光の通過を検知するビーム光
通過検知手段と、このビーム光通過検知手段でビーム光
の通過を検知した後、前記差動増幅手段からの出力を積
分する積分手段と、この積分手段の積分結果を基にして
前記走査手段により走査されるビーム光の前記像担持体
上における通過位置を所定位置に制御する制御手段とを
具備している。
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動
増幅する差動増幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の
前記ビーム光の走査方向直前に配設され、前記走査手段
によって走査されるビーム光の通過を検知するビーム光
通過検知手段と、このビーム光通過検知手段でビーム光
の通過を検知した後、前記差動増幅手段からの出力を積
分する積分手段と、この積分手段の積分結果を基にして
前記走査手段により走査されるビーム光の前記像担持体
上における通過位置を所定位置に制御する制御手段とを
具備している。
【００３０】本発明の画像形成装置は、ビーム光により
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動
増幅する差動増幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の
前記ビーム光の走査方向直前に配設され、前記走査手段
によって走査されるビーム光の通過を検知する第１のビ
ーム光通過検知手段と、前記ビーム光位置検知手段の前
記ビーム光の走査方向直後に配設され、前記走査手段に
よって走査されるビーム光の通過を検知する第２のビー
ム光通過検知手段と、前記第１のビーム光通過検知手段
でビーム光の通過を検知した後、前記差動増幅手段から
の出力を積分する積分手段と、前記第２のビーム光通過
検知手段でビーム光の通過を検知した後、前記積分手段
の積分結果をアナログ信号からデジタル信号に変換する
変換手段と、この変換手段で変換されたデジタル信号を
基にして前記走査手段により走査されるビーム光の前記
像担持体上における通過位置を所定位置に制御する制御
手段とを具備している。
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走査
手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走査
方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数の
光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置検
知手段と、このビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動
増幅する差動増幅手段と、前記ビーム光位置検知手段の
前記ビーム光の走査方向直前に配設され、前記走査手段
によって走査されるビーム光の通過を検知する第１のビ
ーム光通過検知手段と、前記ビーム光位置検知手段の前
記ビーム光の走査方向直後に配設され、前記走査手段に
よって走査されるビーム光の通過を検知する第２のビー
ム光通過検知手段と、前記第１のビーム光通過検知手段
でビーム光の通過を検知した後、前記差動増幅手段から
の出力を積分する積分手段と、前記第２のビーム光通過
検知手段でビーム光の通過を検知した後、前記積分手段
の積分結果をアナログ信号からデジタル信号に変換する
変換手段と、この変換手段で変換されたデジタル信号を
基にして前記走査手段により走査されるビーム光の前記
像担持体上における通過位置を所定位置に制御する制御
手段とを具備している。
【００３１】本発明の画像形成装置は、ビーム光により
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍の位置に配設され、前
記走査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光
の走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された
複数の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光
位置検知手段と、このビーム光位置検知手段で検知され
る複数の光検知部からのそれぞれの出力に応じて前記走
査手段により走査されるビーム光の前記像担持体上にお
ける通過位置の変更量を制御する制御手段とを具備して
いる。
像担持体上を走査露光することにより前記像担持体上に
画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光を出力
するビーム光発生手段と、このビーム光発生手段から出
力されたビーム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビ
ーム光により前記像担持体上を走査する走査手段と、前
記像担持体上の被走査位置の近傍の位置に配設され、前
記走査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光
の走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された
複数の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光
位置検知手段と、このビーム光位置検知手段で検知され
る複数の光検知部からのそれぞれの出力に応じて前記走
査手段により走査されるビーム光の前記像担持体上にお
ける通過位置の変更量を制御する制御手段とを具備して
いる。
【００３２】本発明の画像形成装置は、複数のビーム光
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビー
ム光発生手段から出力される複数のビーム光を像担持体
上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体上
を走査する走査手段と、前記像担持体上の被走査位置の
近傍の位置に配設され、前記走査手段により走査される
ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直角
方向に並列して配置された複数の光検知部で検知し、検
知結果を出力するビーム光位置検知手段と、前記複数の
ビーム光発生手段のうちの１つを選択して１つのビーム
光を発光させる選択手段と、この選択手段で選択されて
発光されたビーム光が前記走査手段により走査された
際、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からのそれぞれの出力に基づいて前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記ビーム光位置検知手段にお
ける通過位置を変更する変更手段と、前記選択手段を用
いて前記複数のビーム発生手段で発生させるビーム光を
所定の順番で発光させ、前記変更手段で変更された前記
ビーム光位置検知手段における通過位置を前記所定の順
番で確認し、前記複数のビーム発生手段で発生される各
ビーム光の前記ビーム光位置検知手段における通過位置
が目標位置となるように制御する制御手段とを具備して
いる。
により像担持体上を走査露光することにより前記像担持
体上に画像を形成する画像形成装置であって、ビーム光
を出力する複数のビーム光発生手段と、この複数のビー
ム光発生手段から出力される複数のビーム光を像担持体
上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体上
を走査する走査手段と、前記像担持体上の被走査位置の
近傍の位置に配設され、前記走査手段により走査される
ビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対してほぼ直角
方向に並列して配置された複数の光検知部で検知し、検
知結果を出力するビーム光位置検知手段と、前記複数の
ビーム光発生手段のうちの１つを選択して１つのビーム
光を発光させる選択手段と、この選択手段で選択されて
発光されたビーム光が前記走査手段により走査された
際、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からのそれぞれの出力に基づいて前記走査手段によ
り走査されるビーム光の前記ビーム光位置検知手段にお
ける通過位置を変更する変更手段と、前記選択手段を用
いて前記複数のビーム発生手段で発生させるビーム光を
所定の順番で発光させ、前記変更手段で変更された前記
ビーム光位置検知手段における通過位置を前記所定の順
番で確認し、前記複数のビーム発生手段で発生される各
ビーム光の前記ビーム光位置検知手段における通過位置
が目標位置となるように制御する制御手段とを具備して
いる。
【００３３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。
て図面を参照して説明する。
【００３４】図１は、本実施の形態に係るビーム光走査
装置が適用される画像形成装置としてデジタル複写機の
構成を示すものである。すなわち、このデジタル複写機
は、たとえば、画像読取手段としてのスキャナ部１、お
よび、画像形成手段としてのプリンタ部２から構成され
ている。スキャナ部１は、図示矢印方向に移動可能な第
１キャリジ３と第２キャリジ４、結像レンズ５、およ
び、光電変換素子６などから構成されている。
装置が適用される画像形成装置としてデジタル複写機の
構成を示すものである。すなわち、このデジタル複写機
は、たとえば、画像読取手段としてのスキャナ部１、お
よび、画像形成手段としてのプリンタ部２から構成され
ている。スキャナ部１は、図示矢印方向に移動可能な第
１キャリジ３と第２キャリジ４、結像レンズ５、およ
び、光電変換素子６などから構成されている。
【００３５】図１において、原稿Ｏは透明ガラスからな
る原稿台７上に下向きに置かれ、その原稿Ｏの載置基準
は原稿台７の短手方向の正面右側がセンタ基準になって
いる。原稿Ｏは、開閉自在に設けられた原稿固定カバー
８によって原稿台７上に押さえつけられる。
る原稿台７上に下向きに置かれ、その原稿Ｏの載置基準
は原稿台７の短手方向の正面右側がセンタ基準になって
いる。原稿Ｏは、開閉自在に設けられた原稿固定カバー
８によって原稿台７上に押さえつけられる。
【００３６】原稿Ｏは光源９によって照明され、その反
射光はミラー１０，１１，１２、および結像レンズ５を
介して光電変換素子６の受光面に集光されるように構成
されている。ここで、上記光源９およびミラー１０を搭
載した第１キャリジ３と、ミラー１１，１２を搭載した
第２キャリジ４は、光路長を一定にするように２：１の
相対速度で移動するようになっている。第１キャリジ３
および第２キャリジ４は、キャリジ駆動用モータ（図示
せず）によって読取タイミング信号に同期して右から左
方向に移動する。
射光はミラー１０，１１，１２、および結像レンズ５を
介して光電変換素子６の受光面に集光されるように構成
されている。ここで、上記光源９およびミラー１０を搭
載した第１キャリジ３と、ミラー１１，１２を搭載した
第２キャリジ４は、光路長を一定にするように２：１の
相対速度で移動するようになっている。第１キャリジ３
および第２キャリジ４は、キャリジ駆動用モータ（図示
せず）によって読取タイミング信号に同期して右から左
方向に移動する。
【００３７】以上のようにして、原稿台７上に載置され
た原稿Ｏの画像は、スキャナ部１によって１ラインごと
に順次読取られ、その読取り出力は、図示しない画像処
理部において画像の濃淡を示す８ビットのデジタル画像
信号に変換される。
た原稿Ｏの画像は、スキャナ部１によって１ラインごと
に順次読取られ、その読取り出力は、図示しない画像処
理部において画像の濃淡を示す８ビットのデジタル画像
信号に変換される。
【００３８】プリンタ部２は、光学系ユニット１３、お
よび、被画像形成媒体である用紙Ｐ上に画像形成が可能
な電子写真方式を組合わせた画像形成部１４から構成さ
れている。すなわち、原稿Ｏからスキャナ部１で読取ら
れた画像信号は、図示しない画像処理部で処理が行なわ
れた後、半導体レーザ発振器からのレーザビーム光（以
降、単にビーム光と称す）に変換される。ここに、本実
施の形態では、半導体レーザ発振器を複数個（２個以
上）使用するマルチビーム光学系を採用している。
よび、被画像形成媒体である用紙Ｐ上に画像形成が可能
な電子写真方式を組合わせた画像形成部１４から構成さ
れている。すなわち、原稿Ｏからスキャナ部１で読取ら
れた画像信号は、図示しない画像処理部で処理が行なわ
れた後、半導体レーザ発振器からのレーザビーム光（以
降、単にビーム光と称す）に変換される。ここに、本実
施の形態では、半導体レーザ発振器を複数個（２個以
上）使用するマルチビーム光学系を採用している。
【００３９】光学系ユニット１３の構成については後で
詳細を説明するが、ユニット内に設けられた複数の半導
体レーザ発振器は、図示しない画像処理部から出力され
るレーザ変調信号にしたがって発光動作し、これらから
出力される複数のビーム光は、ポリゴンミラーで反射さ
れて走査光となり、ユニット外部へ出力されるようにな
っている。
詳細を説明するが、ユニット内に設けられた複数の半導
体レーザ発振器は、図示しない画像処理部から出力され
るレーザ変調信号にしたがって発光動作し、これらから
出力される複数のビーム光は、ポリゴンミラーで反射さ
れて走査光となり、ユニット外部へ出力されるようにな
っている。
【００４０】光学系ユニット１３から出力される複数の
ビーム光は、像担持体としての感光体ドラム１５上の露
光位置Ｘの地点に必要な解像度を持つスポットの走査光
として結像され、走査露光される。これによって、感光
体ドラム１５上には、画像信号に応じた静電潜像が形成
される。
ビーム光は、像担持体としての感光体ドラム１５上の露
光位置Ｘの地点に必要な解像度を持つスポットの走査光
として結像され、走査露光される。これによって、感光
体ドラム１５上には、画像信号に応じた静電潜像が形成
される。
【００４１】感光体ドラム１５の周辺には、その表面を
帯電する帯電チャージャ１６、現像器１７、転写チャー
ジャ１８、剥離チャージャ１９、および、クリーナ２０
などが配設されている。感光体ドラム１７は、駆動モー
タ（図示せず）により所定の外周速度で回転駆動され、
その表面に対向して設けられている帯電チャージャ１６
によって帯電される。帯電された感光体ドラム１５上の
露光位置Ｘの地点に複数のビーム光（走査光）がスポッ
ト結像される。
帯電する帯電チャージャ１６、現像器１７、転写チャー
ジャ１８、剥離チャージャ１９、および、クリーナ２０
などが配設されている。感光体ドラム１７は、駆動モー
タ（図示せず）により所定の外周速度で回転駆動され、
その表面に対向して設けられている帯電チャージャ１６
によって帯電される。帯電された感光体ドラム１５上の
露光位置Ｘの地点に複数のビーム光（走査光）がスポッ
ト結像される。
【００４２】感光体ドラム１５上に形成された静電潜像
は、現像器１７からのトナー（現像剤）により現像され
る。現像によりトナー像を形成された感光体ドラム１５
は、転写位置の地点で給紙系によりタイミングをとって
供給される用紙Ｐ上に転写チャージャ１８によって転写
される。
は、現像器１７からのトナー（現像剤）により現像され
る。現像によりトナー像を形成された感光体ドラム１５
は、転写位置の地点で給紙系によりタイミングをとって
供給される用紙Ｐ上に転写チャージャ１８によって転写
される。
【００４３】上記給紙系は、底部に設けられた給紙カセ
ット２１内の用紙Ｐを、給紙ローラ２２と分離ローラ２
３とにより１枚ずつ分離して供給する。そして、レジス
トローラ２４まで送られ、所定のタイミングで転写位置
まで供給される。転写チャージャ１８の下流側には、用
紙搬送機構２５、定着器２６、画像形成済みの用紙Ｐを
排出する排紙ローラ２７が配設されている。これによ
り、トナー像が転写された用紙Ｐは、定着器２６でトナ
ー像が定着され、その後、排紙ローラ２７を経て外部の
排紙トレイ２８に排紙される。
ット２１内の用紙Ｐを、給紙ローラ２２と分離ローラ２
３とにより１枚ずつ分離して供給する。そして、レジス
トローラ２４まで送られ、所定のタイミングで転写位置
まで供給される。転写チャージャ１８の下流側には、用
紙搬送機構２５、定着器２６、画像形成済みの用紙Ｐを
排出する排紙ローラ２７が配設されている。これによ
り、トナー像が転写された用紙Ｐは、定着器２６でトナ
ー像が定着され、その後、排紙ローラ２７を経て外部の
排紙トレイ２８に排紙される。
【００４４】また、用紙Ｐへの転写が終了した感光体ド
ラム１５は、その表面の残留トナーがクリーナ２０によ
って取り除かれて、初期状態に復帰し、次の画像形成の
待機状態となる。
ラム１５は、その表面の残留トナーがクリーナ２０によ
って取り除かれて、初期状態に復帰し、次の画像形成の
待機状態となる。
【００４５】以上のプロセス動作を繰り返すことによ
り、画像形成動作が連続的に行なわれる。
り、画像形成動作が連続的に行なわれる。
【００４６】以上説明したように、原稿台７上に置かれ
た原稿Ｏは、スキャナ部１で読取られ、その読取り情報
は、プリンタ部２で一連の処理を施された後、用紙Ｐ上
にトナー画像として記録されるものである。
た原稿Ｏは、スキャナ部１で読取られ、その読取り情報
は、プリンタ部２で一連の処理を施された後、用紙Ｐ上
にトナー画像として記録されるものである。
【００４７】次に、光学系ユニット１３について説明す
る。
る。
【００４８】図２は、光学系ユニット１３の構成と感光
体ドラム１５の位置関係を示している。光学系ユニット
１３は、たとえば、４つの半導体レーザ発振器３１ａ，
３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを内蔵していて、それぞれのレ
ーザ発振器３１ａ〜３１ｄが、同時に１走査ラインずつ
の画像形成を行なうことで、ポリゴンミラーの回転数を
極端に上げることなく、高速の画像形成を可能としてい
る。
体ドラム１５の位置関係を示している。光学系ユニット
１３は、たとえば、４つの半導体レーザ発振器３１ａ，
３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを内蔵していて、それぞれのレ
ーザ発振器３１ａ〜３１ｄが、同時に１走査ラインずつ
の画像形成を行なうことで、ポリゴンミラーの回転数を
極端に上げることなく、高速の画像形成を可能としてい
る。
【００４９】すなわち、レーザ発振器３１ａはレーザド
ライバ３２ａで駆動され、出力されるビーム光は、図示
しないコリメータレンズを通過した後、光路変更手段と
してのガルバノミラー３３ａに入射する。ガルバノミラ
ー３３ａで反射されたビーム光は、ハーフミラー３４ａ
とハーフミラー３４ｂを通過し、多面回転ミラーとして
のポリゴンミラー３５に入射する。
ライバ３２ａで駆動され、出力されるビーム光は、図示
しないコリメータレンズを通過した後、光路変更手段と
してのガルバノミラー３３ａに入射する。ガルバノミラ
ー３３ａで反射されたビーム光は、ハーフミラー３４ａ
とハーフミラー３４ｂを通過し、多面回転ミラーとして
のポリゴンミラー３５に入射する。
【００５０】ポリゴンミラー３５は、ポリゴンモータド
ライバ３７で駆動されるポリゴンモータ３６によって一
定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー
３５からの反射光は、ポリゴンモータ３６の回転数で定
まる角速度で、一定方向に走査することになる。ポリゴ
ンミラー３５によって走査されたビーム光は、図示しな
いｆ−θレンズのｆ−θ特性により、これを通過するこ
とによって、一定速度で、ビーム光位置検知手段として
のビーム光位置検知センサ３８の受光面、および、感光
体ドラム１５上を走査することになる。
ライバ３７で駆動されるポリゴンモータ３６によって一
定速度で回転されている。これにより、ポリゴンミラー
３５からの反射光は、ポリゴンモータ３６の回転数で定
まる角速度で、一定方向に走査することになる。ポリゴ
ンミラー３５によって走査されたビーム光は、図示しな
いｆ−θレンズのｆ−θ特性により、これを通過するこ
とによって、一定速度で、ビーム光位置検知手段として
のビーム光位置検知センサ３８の受光面、および、感光
体ドラム１５上を走査することになる。
【００５１】レーザ発振器３１ｂはレーザドライバ３２
ｂで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコリ
メータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｂで反
射し、さらにハーフミラー３４ａで反射する。ハーフミ
ラー３４ａからの反射光は、ハーフミラー３４ｂを通過
し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３
５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａの場合と
同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度で
ビーム光位置検知センサ３８の受光面および感光体ドラ
ム１５上を走査する。
ｂで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコリ
メータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｂで反
射し、さらにハーフミラー３４ａで反射する。ハーフミ
ラー３４ａからの反射光は、ハーフミラー３４ｂを通過
し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３
５以降の経路は、上述したレーザ発振器３１ａの場合と
同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、一定速度で
ビーム光位置検知センサ３８の受光面および感光体ドラ
ム１５上を走査する。
【００５２】レーザ発振器３１ｃはレーザドライバ３２
ｃで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコリ
メータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｃで反
射し、さらにハーフミラー３４ｃを通過し、ハーフミラ
ー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポ
リゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器
３１ａ，３１ｂの場合と同じで、図示しないｆ−θレン
ズを通過し、一定速度でビーム光位置検知センサ３８の
受光面および感光体ドラム１５上を走査する。レーザ発
振器３１ｄはレーザドライバ３２ｄで駆動され、出力さ
れるビーム光は、図示しないコリメータレンズを通過し
た後、ガルバノミラー３３ｄで反射し、さらにハーフミ
ラー３４ｃで反射し、ハーフミラー３４ｂで反射し、ポ
リゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降
の経路は、上述したレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１
ｃの場合と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、
一定速度でビーム光位置検知センサ３８の受光面および
感光体ドラム１５上を走査する。
ｃで駆動され、出力されるビーム光は、図示しないコリ
メータレンズを通過した後、ガルバノミラー３３ｃで反
射し、さらにハーフミラー３４ｃを通過し、ハーフミラ
ー３４ｂで反射し、ポリゴンミラー３５に入射する。ポ
リゴンミラー３５以降の経路は、上述したレーザ発振器
３１ａ，３１ｂの場合と同じで、図示しないｆ−θレン
ズを通過し、一定速度でビーム光位置検知センサ３８の
受光面および感光体ドラム１５上を走査する。レーザ発
振器３１ｄはレーザドライバ３２ｄで駆動され、出力さ
れるビーム光は、図示しないコリメータレンズを通過し
た後、ガルバノミラー３３ｄで反射し、さらにハーフミ
ラー３４ｃで反射し、ハーフミラー３４ｂで反射し、ポ
リゴンミラー３５に入射する。ポリゴンミラー３５以降
の経路は、上述したレーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１
ｃの場合と同じで、図示しないｆ−θレンズを通過し、
一定速度でビーム光位置検知センサ３８の受光面および
感光体ドラム１５上を走査する。
【００５３】このようにして、別々のレーザ発振器３１
ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力された各ビーム光
は、ハーフミラー３４ａ，３４ｂ，３４ｃで合成され、
４つのビーム光がポリゴンミラー３５の方向に進むこと
になる。
ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから出力された各ビーム光
は、ハーフミラー３４ａ，３４ｂ，３４ｃで合成され、
４つのビーム光がポリゴンミラー３５の方向に進むこと
になる。
【００５４】したがって、４つのビーム光は、同時に感
光体ドラム１５上を走査することができ、従来のシング
ルビームの場合に比べ、ポリゴンミラー３５の回転数が
同じである場合、４倍の速度で画像を記録することが可
能となる。
光体ドラム１５上を走査することができ、従来のシング
ルビームの場合に比べ、ポリゴンミラー３５の回転数が
同じである場合、４倍の速度で画像を記録することが可
能となる。
【００５５】ガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，
３３ｄは、副走査方向のビーム光相互間の位置関係を調
整（制御）するためのものであり、それぞれを駆動する
ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，３９ｃ，３９
ｄが接続されている。
３３ｄは、副走査方向のビーム光相互間の位置関係を調
整（制御）するためのものであり、それぞれを駆動する
ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，３９ｃ，３９
ｄが接続されている。
【００５６】ビーム光位置検知センサ３８は、上記４つ
のビーム光の通過位置と通過タイミングを検知するため
のものであり、その受光面が感光体ドラム１５の表面と
同等になるよう、感光体ドラム１５の端部近傍に配設さ
れている。このビーム光位置検知センサ３８からの検知
信号を基に、それぞれのビーム光に対応するガルバノミ
ラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御（副走査方
向の画像形成位置制御）、レーザ発振器３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄの発光パワー（強度）の制御、およ
び、発光タイミングの制御（主走査方向の画像形成位置
制御）が行なわれる（詳細は後述する）。これらの制御
を行なうための信号を生成するために、ビーム光位置検
知センサ３８には、ビーム光位置検知センサ出力処理回
路４０が接続されている。
のビーム光の通過位置と通過タイミングを検知するため
のものであり、その受光面が感光体ドラム１５の表面と
同等になるよう、感光体ドラム１５の端部近傍に配設さ
れている。このビーム光位置検知センサ３８からの検知
信号を基に、それぞれのビーム光に対応するガルバノミ
ラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御（副走査方
向の画像形成位置制御）、レーザ発振器３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄの発光パワー（強度）の制御、およ
び、発光タイミングの制御（主走査方向の画像形成位置
制御）が行なわれる（詳細は後述する）。これらの制御
を行なうための信号を生成するために、ビーム光位置検
知センサ３８には、ビーム光位置検知センサ出力処理回
路４０が接続されている。
【００５７】次にビーム光位置検知センサ３８について
説明する。
説明する。
【００５８】図３は、ビーム光位置検知センサ３８の構
造とビーム光の走査方向の関係を示している。４つの半
導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから
のビーム光は、左から右へとポリゴンミラー３５の回転
によって走査され、ビーム光位置検知センサ３８上を横
切る。
造とビーム光の走査方向の関係を示している。４つの半
導体レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄから
のビーム光は、左から右へとポリゴンミラー３５の回転
によって走査され、ビーム光位置検知センサ３８上を横
切る。
【００５９】ビーム光位置検知センサ３８は、縦に長い
Ｓ１，Ｓ２とこのＳ１，Ｓ２に挟まれるように配置され
たＳＡ，ＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦ，ＳＧのセンサ
（受光）パターンから構成されている。
Ｓ１，Ｓ２とこのＳ１，Ｓ２に挟まれるように配置され
たＳＡ，ＳＢ，ＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＦ，ＳＧのセンサ
（受光）パターンから構成されている。
【００６０】図に示すように、Ｓ１，Ｓ２のセンサパタ
ーンは、ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄの位置に関係な
くポリゴンミラー３５によって走査されるビーム光が必
ず横切るように、ビーム光の走査方向に対して垂直方向
に長く形成されている。例えば、本実施例では、ビーム
光の走査方向のサイズが２００μｍであるのに対し、ビ
ーム光の走査方向に垂直な方向のサイズは２０００μｍ
である。
ーンは、ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄの位置に関係な
くポリゴンミラー３５によって走査されるビーム光が必
ず横切るように、ビーム光の走査方向に対して垂直方向
に長く形成されている。例えば、本実施例では、ビーム
光の走査方向のサイズが２００μｍであるのに対し、ビ
ーム光の走査方向に垂直な方向のサイズは２０００μｍ
である。
【００６１】センサパターンＳＡ〜ＳＧは、図に示すよ
うに、センサパターンＳ１とＳ２の間に積み重なるよう
に配置されており、ビーム光の走査方向のサイズは６０
０μｍである。また、センサパターン間には微少なギャ
ップが形成されている。
うに、センサパターンＳ１とＳ２の間に積み重なるよう
に配置されており、ビーム光の走査方向のサイズは６０
０μｍである。また、センサパターン間には微少なギャ
ップが形成されている。
【００６２】図４は、ビーム光位置検知センサ３８のセ
ンサパターンＳＡ〜ＳＧのパターン形状を拡大して示し
たものである。
ンサパターンＳＡ〜ＳＧのパターン形状を拡大して示し
たものである。
【００６３】センサパターンＳＢ〜ＳＦのパターン形状
は、例えば３２．３×６００μｍの長方形であり、ビー
ム光の走査方向に垂直に１０μｍの微少なギャップＧが
形成されている。従って、ギャップ間の配置ピッチは４
２．３μｍになっている。また、センサパターンＳＡと
ＳＢ、センサパターンＳＦとＳＧのギャップも１０μｍ
になるように配置されている。
は、例えば３２．３×６００μｍの長方形であり、ビー
ム光の走査方向に垂直に１０μｍの微少なギャップＧが
形成されている。従って、ギャップ間の配置ピッチは４
２．３μｍになっている。また、センサパターンＳＡと
ＳＢ、センサパターンＳＦとＳＧのギャップも１０μｍ
になるように配置されている。
【００６４】このビーム光位置検知センサ３８の出力を
用いた制御の詳細は後述するが、４２．３μｍピッチに
形成されたギャップが、ビーム光ａ，ｂ，ｃ，ｄの通過
位置を所定のピッチ（本実施例では４２．３μｍ）間隔
に制御するための目標となる。即ち、ビーム光ａはセン
サパターンＳＢとＳＣによって形成されたギャップＧ
（Ｂ−Ｃ）が、ビーム光ｂはセンサパターンＳＣとＳＤ
によって形成されたギャップＧ（Ｃ−Ｄ）、ビーム光ｃ
はセンサパターンＳＤとＳＥによって形成されたギャッ
プＧ（Ｄ−Ｅ）が、ビーム光ｄはセンサパターンＳＥと
ＳＦによって形成されたギャップＧ（Ｅ−Ｆ）がそれぞ
れ通過位置の目標となる。
用いた制御の詳細は後述するが、４２．３μｍピッチに
形成されたギャップが、ビーム光ａ，ｂ，ｃ，ｄの通過
位置を所定のピッチ（本実施例では４２．３μｍ）間隔
に制御するための目標となる。即ち、ビーム光ａはセン
サパターンＳＢとＳＣによって形成されたギャップＧ
（Ｂ−Ｃ）が、ビーム光ｂはセンサパターンＳＣとＳＤ
によって形成されたギャップＧ（Ｃ−Ｄ）、ビーム光ｃ
はセンサパターンＳＤとＳＥによって形成されたギャッ
プＧ（Ｄ−Ｅ）が、ビーム光ｄはセンサパターンＳＥと
ＳＦによって形成されたギャップＧ（Ｅ−Ｆ）がそれぞ
れ通過位置の目標となる。
【００６５】次に、図５を用いて、このようなセンサパ
ターンを有したビーム光位置検知センサ３８の特徴につ
いて説明する。
ターンを有したビーム光位置検知センサ３８の特徴につ
いて説明する。
【００６６】先に説明したように、本ビーム光位置検知
センサ３８は、その受光面が感光体ドラム１５と同等の
位置になるよう、感光体ドラム１５の端部近傍あるい
は、ポリゴンミラー３５で光を折り返した同等の位置に
配設されるものである。このように配置されたビーム光
位置検知センサ３８で、ビームの通過位置を正確に捉え
るには、先に説明したセンサパターンが、ビームの通過
方向に対して、直角平行に配置されるのが理想である。
しかし、実際には、ビーム光位置検知センサ３８の取り
付けには多少の傾きが生じる。
センサ３８は、その受光面が感光体ドラム１５と同等の
位置になるよう、感光体ドラム１５の端部近傍あるい
は、ポリゴンミラー３５で光を折り返した同等の位置に
配設されるものである。このように配置されたビーム光
位置検知センサ３８で、ビームの通過位置を正確に捉え
るには、先に説明したセンサパターンが、ビームの通過
方向に対して、直角平行に配置されるのが理想である。
しかし、実際には、ビーム光位置検知センサ３８の取り
付けには多少の傾きが生じる。
【００６７】このような取り付け位置が理想の位置に対
して傾いてしまうことに対し、本発明のビーム光位置検
知センサ３８においては、センサパターンの配置を、ビ
ーム光ごとの通過位置を検知するためのポイントがビー
ム光の通過方向に対してずれないように配置することに
よって、ビーム光位置検知センサ３８が多少傾いて取り
付けられたとしても、検知ピッチの狂いが最小限に抑え
られるよう構成されている。
して傾いてしまうことに対し、本発明のビーム光位置検
知センサ３８においては、センサパターンの配置を、ビ
ーム光ごとの通過位置を検知するためのポイントがビー
ム光の通過方向に対してずれないように配置することに
よって、ビーム光位置検知センサ３８が多少傾いて取り
付けられたとしても、検知ピッチの狂いが最小限に抑え
られるよう構成されている。
【００６８】さらに、後に詳細に説明するが、このビー
ム光位置検知センサ３８の出力を処理する回路に積分回
路が付加されているため、ビーム光位置検知センサ３８
がどのように傾いても、ビーム光の通過位置検知結果に
及ぼす影響を最小限に抑えることができる。
ム光位置検知センサ３８の出力を処理する回路に積分回
路が付加されているため、ビーム光位置検知センサ３８
がどのように傾いても、ビーム光の通過位置検知結果に
及ぼす影響を最小限に抑えることができる。
【００６９】図５の（ａ）は、本発明のビーム光位置検
知センサ３８がビーム光の走査方向に対して傾いて取り
付けられた場合のセンサパターンとビーム光の走査位置
の関係を示したものである。但し、図では、ビーム光位
置検知センサ３８に対してビーム光の走査方向が傾いて
いるように表現している。図中のビーム光ａ，ｂ，ｃ，
ｄの走査ラインは理想の間隔（４２．３μｍピッチ）に
制御された場合のものである。
知センサ３８がビーム光の走査方向に対して傾いて取り
付けられた場合のセンサパターンとビーム光の走査位置
の関係を示したものである。但し、図では、ビーム光位
置検知センサ３８に対してビーム光の走査方向が傾いて
いるように表現している。図中のビーム光ａ，ｂ，ｃ，
ｄの走査ラインは理想の間隔（４２．３μｍピッチ）に
制御された場合のものである。
【００７０】また、センサパターンの間には、本センサ
パターンにおける制御目標ポイント（白丸）を示した。
このポイントは後に詳細に説明するように、積分回路の
効果により、ビーム光が斜めに入射されてもパターン間
の真ん中（中間）になる。
パターンにおける制御目標ポイント（白丸）を示した。
このポイントは後に詳細に説明するように、積分回路の
効果により、ビーム光が斜めに入射されてもパターン間
の真ん中（中間）になる。
【００７１】さて、図から明らかなように、理想的な間
隔（４２．３μｍピッチ）に制御された走査ラインの軌
跡は、本センサパターン上の制御目標のほぼ中心を通る
ことになる。即ち、本発明のビーム光位置検知センサ３
８は、多少傾いて取り付けられたとしても、その検出精
度に与える影響が極めて少ないのである。
隔（４２．３μｍピッチ）に制御された走査ラインの軌
跡は、本センサパターン上の制御目標のほぼ中心を通る
ことになる。即ち、本発明のビーム光位置検知センサ３
８は、多少傾いて取り付けられたとしても、その検出精
度に与える影響が極めて少ないのである。
【００７２】例えば、ビーム光位置検知センサ３８が、
ビーム光の走査ラインに対して、５度傾いて取り付けら
れた場合、本来４２．３μｍピッチを目標に制御される
べき各ビーム光の走査位置ピッチは、傾きが原因となる
ビーム光位置検知センサ３８の検出誤差により、４２．
１４μｍピッチを目標に制御される。この時の誤差は約
０．１６μｍ（０．０３％）であり、この通り制御され
れば、画質に与える影響は極めて小さい。尚、この値は
三角関数を用いて簡単に求めることができるが、ここで
は詳細に説明しない。
ビーム光の走査ラインに対して、５度傾いて取り付けら
れた場合、本来４２．３μｍピッチを目標に制御される
べき各ビーム光の走査位置ピッチは、傾きが原因となる
ビーム光位置検知センサ３８の検出誤差により、４２．
１４μｍピッチを目標に制御される。この時の誤差は約
０．１６μｍ（０．０３％）であり、この通り制御され
れば、画質に与える影響は極めて小さい。尚、この値は
三角関数を用いて簡単に求めることができるが、ここで
は詳細に説明しない。
【００７３】このように本発明のビーム光位置検知セン
サ３８のセンサパターンを用いれば、ビーム光位置検知
センサ３８の傾きに対する取り付け精度が多少悪くとも
正確にビーム光の走査位置を検知することが可能とな
る。
サ３８のセンサパターンを用いれば、ビーム光位置検知
センサ３８の傾きに対する取り付け精度が多少悪くとも
正確にビーム光の走査位置を検知することが可能とな
る。
【００７４】一方、図５の（ｂ）に示すビーム光位置検
知センサ７０は、従来用いられていた本発明のビーム光
位置検知センサ３８と同様の機能を実現するためのセン
サパターンの一例である。
知センサ７０は、従来用いられていた本発明のビーム光
位置検知センサ３８と同様の機能を実現するためのセン
サパターンの一例である。
【００７５】このようなセンサパターンを採用した場
合、ビーム光の走査方向に対して、わずかでも傾いて取
り付けられると、ビームの通過位置を正確に検知できな
いという欠点がある。その原因は、各ビーム光の通過位
置を検知するセンサパターン（この例ではＳ３＊，Ｓ４
＊，Ｓ５＊，Ｓ６＊：＊はａ，ｂを示す）が、ビーム光
の走査方向に対して距離を置いて配置されているところ
にある。即ち、ビーム光の走査方向に対して、距離があ
ればあるほど、わずかな傾きに対しても大きな検出誤差
となる。
合、ビーム光の走査方向に対して、わずかでも傾いて取
り付けられると、ビームの通過位置を正確に検知できな
いという欠点がある。その原因は、各ビーム光の通過位
置を検知するセンサパターン（この例ではＳ３＊，Ｓ４
＊，Ｓ５＊，Ｓ６＊：＊はａ，ｂを示す）が、ビーム光
の走査方向に対して距離を置いて配置されているところ
にある。即ち、ビーム光の走査方向に対して、距離があ
ればあるほど、わずかな傾きに対しても大きな検出誤差
となる。
【００７６】図５の（ｂ）にも図５の（ａ）と同様に、
ビーム光位置検知センサ７０が傾いて取り付けられたこ
とを想定し、理想的な間隔（４２．３μｍピッチ）に制
御された走査ラインの軌跡を示した。図５の（ｂ）から
明らかなように従来のビーム光位置検知センサ７０は、
図５の（ａ）に示す本発明のビーム光位置検知センサ３
８に比べはるかにセンサの取り付け精度を要求されるこ
とが分かる。
ビーム光位置検知センサ７０が傾いて取り付けられたこ
とを想定し、理想的な間隔（４２．３μｍピッチ）に制
御された走査ラインの軌跡を示した。図５の（ｂ）から
明らかなように従来のビーム光位置検知センサ７０は、
図５の（ａ）に示す本発明のビーム光位置検知センサ３
８に比べはるかにセンサの取り付け精度を要求されるこ
とが分かる。
【００７７】例えば、図５の（ａ）のビーム光位置検知
センサ３８と同様に、仮に、図５の（ｂ）のビーム光位
置検知センサ７０が５度傾いて取り付けられ、センサパ
ターンＳ３ａ、Ｓ３ｂとＳ６ａ、Ｓ６ｂの距離が９００
μｍであるとすると、ビーム光ｄの制御目標は、理想の
位置から７８．３４μｍもずれることになる。この値
は、本実施例の目標制御ピッチである４２．３μｍをは
るかに上回る誤差であり、画質に重大な欠点を与える。
従って、このようなセンサを用いる場合、少なくともビ
ーム光走査方向に対する傾きについては、非常に高いセ
ンサ取り付け精度が要求されることになる。
センサ３８と同様に、仮に、図５の（ｂ）のビーム光位
置検知センサ７０が５度傾いて取り付けられ、センサパ
ターンＳ３ａ、Ｓ３ｂとＳ６ａ、Ｓ６ｂの距離が９００
μｍであるとすると、ビーム光ｄの制御目標は、理想の
位置から７８．３４μｍもずれることになる。この値
は、本実施例の目標制御ピッチである４２．３μｍをは
るかに上回る誤差であり、画質に重大な欠点を与える。
従って、このようなセンサを用いる場合、少なくともビ
ーム光走査方向に対する傾きについては、非常に高いセ
ンサ取り付け精度が要求されることになる。
【００７８】従来は、この欠点を補うために多少センサ
の感度を犠牲にしても、極力ビーム光の走査方向のセン
サパターン幅（図中Ｗ）を小さくし、ビーム走査方向に
対し、ビームの通過位置検知ポイントが離れないよう考
慮する必要があった。また、センサの感度不足を補うた
めにビーム光の通過位置を検知する際、レーザ発振器の
パワーを上げたり、ポリゴンモータの回転数を落とすな
どすることが必須であった。
の感度を犠牲にしても、極力ビーム光の走査方向のセン
サパターン幅（図中Ｗ）を小さくし、ビーム走査方向に
対し、ビームの通過位置検知ポイントが離れないよう考
慮する必要があった。また、センサの感度不足を補うた
めにビーム光の通過位置を検知する際、レーザ発振器の
パワーを上げたり、ポリゴンモータの回転数を落とすな
どすることが必須であった。
【００７９】次に、制御系について説明する。
【００８０】図６は、主にマルチビーム光学系の制御を
主体にした制御系を示している。すなわち、５１は全体
的な制御を司る主制御部で、たとえば、ＣＰＵからな
り、これには、メモリ５２、コントロールパネル５３、
外部通信インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５４、レーザドライ
バ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、ポリゴンミラーモ
ータドライバ３７、ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３
９ｂ，３９ｃ，３９ｄ、ビーム光位置検知センサ出力処
理回路４０、同期回路５５、および、画像データインタ
フェイス（Ｉ／Ｆ）５６が接続されている。
主体にした制御系を示している。すなわち、５１は全体
的な制御を司る主制御部で、たとえば、ＣＰＵからな
り、これには、メモリ５２、コントロールパネル５３、
外部通信インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５４、レーザドライ
バ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ、ポリゴンミラーモ
ータドライバ３７、ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３
９ｂ，３９ｃ，３９ｄ、ビーム光位置検知センサ出力処
理回路４０、同期回路５５、および、画像データインタ
フェイス（Ｉ／Ｆ）５６が接続されている。
【００８１】同期回路５５には、画像データＩ／Ｆ５６
が接続されており、画像データＩ／Ｆ５６には、画像処
理部５７およびページメモリ５８が接続されている。画
像処理部５７にはスキャナ部１が接続され、ページメモ
リ５８には外部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５９が接続さ
れている。
が接続されており、画像データＩ／Ｆ５６には、画像処
理部５７およびページメモリ５８が接続されている。画
像処理部５７にはスキャナ部１が接続され、ページメモ
リ５８には外部インタフェイス（Ｉ／Ｆ）５９が接続さ
れている。
【００８２】ここで、画像を形成する際の画像データの
流れを簡単に説明すると、以下のような流れとなる。
流れを簡単に説明すると、以下のような流れとなる。
【００８３】まず、複写動作の場合は、先に説明したよ
うに、原稿台７上にセットされた原稿Ｏの画像は、スキ
ャナ部１で読取られ、画像処理部５７へ送られる。画像
処理部５７は、スキャナ部１からの画像信号に対し、た
とえば、周知のシェーディング補正、各種フィルタリン
グ処理、階調処理、ガンマ補正などを施こす。
うに、原稿台７上にセットされた原稿Ｏの画像は、スキ
ャナ部１で読取られ、画像処理部５７へ送られる。画像
処理部５７は、スキャナ部１からの画像信号に対し、た
とえば、周知のシェーディング補正、各種フィルタリン
グ処理、階調処理、ガンマ補正などを施こす。
【００８４】画像処理部５７からの画像データは、画像
データＩ／Ｆ５６へと送られる。画像データＩ／Ｆ５６
は、４つのレーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３
２ｄへ画像データを振り分ける役割を果たしている。同
期回路５５は、各ビーム光のビーム光位置検知センサ３
８上を通過するタイミングに同期したクロックを発生
し、このクロックに同期して、画像データＩ／Ｆ５６か
ら各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ
へ、画像データをレーザ変調信号として送出する。この
ようにして、各ビーム光の走査と同期を取りながら画像
データを転送することで、主走査方向に同期がとれた
（正しい位置への）画像形成が行なわれる。
データＩ／Ｆ５６へと送られる。画像データＩ／Ｆ５６
は、４つのレーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３
２ｄへ画像データを振り分ける役割を果たしている。同
期回路５５は、各ビーム光のビーム光位置検知センサ３
８上を通過するタイミングに同期したクロックを発生
し、このクロックに同期して、画像データＩ／Ｆ５６か
ら各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，３２ｄ
へ、画像データをレーザ変調信号として送出する。この
ようにして、各ビーム光の走査と同期を取りながら画像
データを転送することで、主走査方向に同期がとれた
（正しい位置への）画像形成が行なわれる。
【００８５】また、同期回路５５には、非画像領域で各
レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを強制的
に発光動作させ、各ビーム光のパワーを制御するための
サンプルタイマや、各ビーム光の画像形成タイミングを
取るために、ビーム光の順にしたがってビーム光位置検
知センサ３８上でそれぞれのレーザ発振器３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる論理回路などが含
まれている。
レーザ発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを強制的
に発光動作させ、各ビーム光のパワーを制御するための
サンプルタイマや、各ビーム光の画像形成タイミングを
取るために、ビーム光の順にしたがってビーム光位置検
知センサ３８上でそれぞれのレーザ発振器３１ａ，３１
ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる論理回路などが含
まれている。
【００８６】コントロールパネル５３は、複写動作の起
動や、枚数設定などを行なうマンマシンインタフェース
である。
動や、枚数設定などを行なうマンマシンインタフェース
である。
【００８７】本デジタル複写機は、複写動作のみでな
く、ページメモリ５８に接続された外部Ｉ／Ｆ５９を介
して外部から入力される画像データをも形成出力できる
構成となっている。なお、外部Ｉ／Ｆ５９から入力され
る画像データは、一旦ページメモリ５８に格納された
後、画像データＩ／Ｆ５６を介して同期回路５５へ送ら
れる。
く、ページメモリ５８に接続された外部Ｉ／Ｆ５９を介
して外部から入力される画像データをも形成出力できる
構成となっている。なお、外部Ｉ／Ｆ５９から入力され
る画像データは、一旦ページメモリ５８に格納された
後、画像データＩ／Ｆ５６を介して同期回路５５へ送ら
れる。
【００８８】また、本デジタル複写機が、たとえば、ネ
ットワークなどを介して外部から制御される場合には、
外部通信Ｉ／Ｆ５４がコントロールパネル５３の役割を
果たす。
ットワークなどを介して外部から制御される場合には、
外部通信Ｉ／Ｆ５４がコントロールパネル５３の役割を
果たす。
【００８９】ガルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，
３９ｃ，３９ｄは、主制御部５１からの指示値にしたが
ってガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを
駆動する回路である。したがって、主制御部５１は、ガ
ルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，３９ｃ，３９ｄ
を介して、ガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３
３ｄの各角度を自由に制御することができる。
３９ｃ，３９ｄは、主制御部５１からの指示値にしたが
ってガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄを
駆動する回路である。したがって、主制御部５１は、ガ
ルバノミラー駆動回路３９ａ，３９ｂ，３９ｃ，３９ｄ
を介して、ガルバノミラー３３ａ，３３ｂ，３３ｃ，３
３ｄの各角度を自由に制御することができる。
【００９０】ポリゴンモータドライバ３７は、先に述べ
た４つのビーム光を走査するポリゴンミラー３５を回転
させるためのポリゴンモータ３６を駆動するドライバで
ある。主制御部５１は、このポリゴンモータドライバ３
７に対し、回転開始、停止と回転数の切換えを行なうこ
とができる。回転数の切換えは、ビーム光位置検知セン
サ３８でビーム光の通過位置を確認する際に、必要に応
じて、所定の回転速度よりも回転数を落すときに用い
る。
た４つのビーム光を走査するポリゴンミラー３５を回転
させるためのポリゴンモータ３６を駆動するドライバで
ある。主制御部５１は、このポリゴンモータドライバ３
７に対し、回転開始、停止と回転数の切換えを行なうこ
とができる。回転数の切換えは、ビーム光位置検知セン
サ３８でビーム光の通過位置を確認する際に、必要に応
じて、所定の回転速度よりも回転数を落すときに用い
る。
【００９１】レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄは、先に説明した同期回路５５からのビーム光の
走査に同期したレーザ変調信号にしたがってレーザ光を
発光させる以外に、主制御部５１からの強制発光信号に
より、画像データとは無関係に強制的にレーザ発振器３
１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる機能を
持っている。
３２ｄは、先に説明した同期回路５５からのビーム光の
走査に同期したレーザ変調信号にしたがってレーザ光を
発光させる以外に、主制御部５１からの強制発光信号に
より、画像データとは無関係に強制的にレーザ発振器３
１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを発光動作させる機能を
持っている。
【００９２】また、主制御部５１は、それぞれのレーザ
発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが発光動作する
パワーを、各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄに対して設定する。発光パワーの設定は、プロセ
ス条件の変化や、ビーム光の通過位置検知などに応じて
変更される。
発振器３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが発光動作する
パワーを、各レーザドライバ３２ａ，３２ｂ，３２ｃ，
３２ｄに対して設定する。発光パワーの設定は、プロセ
ス条件の変化や、ビーム光の通過位置検知などに応じて
変更される。
【００９３】メモリ５２は、制御に必要な情報を記憶す
るためのものである。たとえば、各ガルバノミラー３３
ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量や、ビーム光の到
来順序などを記憶しておくことで、電源立ち上げ後、即
座に光学系ユニット１３を画像形成が可能な状態にする
ことができる。
るためのものである。たとえば、各ガルバノミラー３３
ａ，３３ｂ，３３ｃ，３３ｄの制御量や、ビーム光の到
来順序などを記憶しておくことで、電源立ち上げ後、即
座に光学系ユニット１３を画像形成が可能な状態にする
ことができる。
【００９４】次に、ビーム光の通過（走査）位置制御に
ついて詳細に説明する。
ついて詳細に説明する。
【００９５】図７は、ビーム光の通過位置を制御するた
めのビーム光位置検知センサ３８、ビーム光位置検知セ
ンサ出力処理回路４０、主制御部５１、ガルバノミラー
駆動回路３９ａ〜３９ｄ、ガルバノミラー３３ａ〜３３
ｄ、レーザドライバ３２ａ〜３２ｄ、ポリゴンモータド
ライバ３７、ポリゴンモータ３６の関係を示すものであ
る。
めのビーム光位置検知センサ３８、ビーム光位置検知セ
ンサ出力処理回路４０、主制御部５１、ガルバノミラー
駆動回路３９ａ〜３９ｄ、ガルバノミラー３３ａ〜３３
ｄ、レーザドライバ３２ａ〜３２ｄ、ポリゴンモータド
ライバ３７、ポリゴンモータ３６の関係を示すものであ
る。
【００９６】先に説明したように、センサパターンＳ
１，Ｓ２からはビームが通過したことを示すパルス状の
信号が出力される。また、センサパターンＳＡ〜ＳＧか
らは、ビーム光の通過位置に応じてそれぞれ独立した信
号出力が出力される。
１，Ｓ２からはビームが通過したことを示すパルス状の
信号が出力される。また、センサパターンＳＡ〜ＳＧか
らは、ビーム光の通過位置に応じてそれぞれ独立した信
号出力が出力される。
【００９７】図７に示すようにセンサパターンＳＡ〜Ｓ
Ｇからの独立した信号出力は、それぞれ増幅器Ａ〜Ｇに
入力され増幅される。この増幅率は、主制御部５１に内
蔵されるＣＰＵによって指定される。
Ｇからの独立した信号出力は、それぞれ増幅器Ａ〜Ｇに
入力され増幅される。この増幅率は、主制御部５１に内
蔵されるＣＰＵによって指定される。
【００９８】増幅されたセンサパターンＳＡ〜ＳＧから
の出力信号は、選択回路（アナログスイッチ）４１に入
力される。選択回路４１は、主制御部（ＣＰＵ）５１か
らの指示により積分器４２へ入力する信号を選択する。
選択回路４１にて選択されたセンサパターン出力は積分
器４２に入力され積分される。
の出力信号は、選択回路（アナログスイッチ）４１に入
力される。選択回路４１は、主制御部（ＣＰＵ）５１か
らの指示により積分器４２へ入力する信号を選択する。
選択回路４１にて選択されたセンサパターン出力は積分
器４２に入力され積分される。
【００９９】一方、センサパターンＳ１から出力される
パルス状の信号も、積分器４２に入力されている。この
センサパターンＳ１からのパルス状の信号は、積分器４
２をリセットするとともに、このパルス信号の終了とと
もに積分器４２に新たな積分動作を開始させる。尚、積
分器４２の役割は、ノイズの除去作用と、ビーム光位置
検知センサ３８の取り付け傾きの影響除去であるが詳し
くは後述する。
パルス状の信号も、積分器４２に入力されている。この
センサパターンＳ１からのパルス状の信号は、積分器４
２をリセットするとともに、このパルス信号の終了とと
もに積分器４２に新たな積分動作を開始させる。尚、積
分器４２の役割は、ノイズの除去作用と、ビーム光位置
検知センサ３８の取り付け傾きの影響除去であるが詳し
くは後述する。
【０１００】積分器４２の出力は、Ａ／Ｄ変換器４３へ
と入力される。Ａ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換動作は、
センサパターンＳ２からのパルス状の信号出力によって
開始される。即ち、ビーム光がセンサパターンＳ２を通
過するタイミングでＡ／Ｄ変換が開始される。
と入力される。Ａ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換動作は、
センサパターンＳ２からのパルス状の信号出力によって
開始される。即ち、ビーム光がセンサパターンＳ２を通
過するタイミングでＡ／Ｄ変換が開始される。
【０１０１】このように、センサパターンＳ１からのパ
ルス信号により、ビーム光がビーム光の通過位置を検知
するセンサパターンＳＡ〜ＳＧを通過する直前に積分器
４２をリセットすると同時に積分動作を開始させ、ビー
ム光がビームの通過位置を検知するセンサパターン（Ｓ
Ａ〜ＳＧ）上をビーム光が通過している間は、積分器４
２はビーム光の通過位置を示す信号を積分する。そし
て、ビーム光がビーム光の通過位置を検知するセンサパ
ターン（ＳＡ〜ＳＧ）上を通過し終えた直後にセンサパ
ターンＳ２からのパルス信号をトリガに、積分器４２で
積分した結果をＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換すること
により、ノイズのないビーム光位置検知センサ３８の取
り付け傾きの影響が除去されたセンサ信号をデジタル信
号に変換することができる。
ルス信号により、ビーム光がビーム光の通過位置を検知
するセンサパターンＳＡ〜ＳＧを通過する直前に積分器
４２をリセットすると同時に積分動作を開始させ、ビー
ム光がビームの通過位置を検知するセンサパターン（Ｓ
Ａ〜ＳＧ）上をビーム光が通過している間は、積分器４
２はビーム光の通過位置を示す信号を積分する。そし
て、ビーム光がビーム光の通過位置を検知するセンサパ
ターン（ＳＡ〜ＳＧ）上を通過し終えた直後にセンサパ
ターンＳ２からのパルス信号をトリガに、積分器４２で
積分した結果をＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換すること
により、ノイズのないビーム光位置検知センサ３８の取
り付け傾きの影響が除去されたセンサ信号をデジタル信
号に変換することができる。
【０１０２】尚、Ａ／Ｄ変換を終了したＡ／Ｄ変換器４
３は、主制御部５１に対し、処理が終了したことを示す
割込信号（ＩＮＴ）を出力する。
３は、主制御部５１に対し、処理が終了したことを示す
割込信号（ＩＮＴ）を出力する。
【０１０３】このようにしてデジタル信号に変換された
ビーム光位置検知センサ３８からのビーム光位置検知信
号は主制御部５１のＣＰＵに入力され、ビーム光の通過
位置が判断される。
ビーム光位置検知センサ３８からのビーム光位置検知信
号は主制御部５１のＣＰＵに入力され、ビーム光の通過
位置が判断される。
【０１０４】さて、このようにして得られたビーム光位
置検知信号に基づいて、主制御部５１では、ガルバノミ
ラー３３ａ〜３３ｄの制御量が演算される。その演算結
果は、必要に応じてメモリ５２に記憶される。主制御部
５１は、この演算結果をガルバノミラー駆動回路３９ａ
〜３９ｄへ送出する。
置検知信号に基づいて、主制御部５１では、ガルバノミ
ラー３３ａ〜３３ｄの制御量が演算される。その演算結
果は、必要に応じてメモリ５２に記憶される。主制御部
５１は、この演算結果をガルバノミラー駆動回路３９ａ
〜３９ｄへ送出する。
【０１０５】ガルバノミラー駆動回路３９ａ〜３９ｄに
は、図７に示したように、この演算結果のデータを保持
するためのラッチ４４ａ〜４４ｄが設けられており、主
制御部５１が一旦データを書込むと、次にデータを更新
するまでは、その値を保持するようになっている。ラッ
チ４４ａ〜４４ｄに保持されているデータは、Ｄ／Ａ変
換器４５ａ〜４５ｄによりアナログ信号（電圧）に変換
され、ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄを駆動するための
ドライバ４６ａ〜４６ｄに入力される。ドライバ４６ａ
〜４６ｄは、Ｄ／Ａ変換器４５ａ〜４５ｄから入力され
たアナログ信号（電圧）にしたがってガルバノミラー３
３ａ〜３３ｄを駆動制御する。
は、図７に示したように、この演算結果のデータを保持
するためのラッチ４４ａ〜４４ｄが設けられており、主
制御部５１が一旦データを書込むと、次にデータを更新
するまでは、その値を保持するようになっている。ラッ
チ４４ａ〜４４ｄに保持されているデータは、Ｄ／Ａ変
換器４５ａ〜４５ｄによりアナログ信号（電圧）に変換
され、ガルバノミラー３３ａ〜３３ｄを駆動するための
ドライバ４６ａ〜４６ｄに入力される。ドライバ４６ａ
〜４６ｄは、Ｄ／Ａ変換器４５ａ〜４５ｄから入力され
たアナログ信号（電圧）にしたがってガルバノミラー３
３ａ〜３３ｄを駆動制御する。
【０１０６】尚、本実施例では、センサパターンＳＡ〜
ＳＧの増幅された出力信号は、選択手段（アナログスイ
ッチ）４１によりその一つのみが選択され積分され、Ａ
／Ｄ変換されているため、一度にセンサパターンＳＡ〜
ＳＧの出力信号を主制御部５１に入力することはできな
い。従って、ビーム光がどこを通過しているか分からな
い状態においては、アナログスイッチ（選択回路）４１
を順次切り替え、センサパターンＳＡ〜ＳＧのすべての
センサパターンからの出力信号を主制御部５１に入力し
て、ビーム光の通過位置を判定する必要がある。
ＳＧの増幅された出力信号は、選択手段（アナログスイ
ッチ）４１によりその一つのみが選択され積分され、Ａ
／Ｄ変換されているため、一度にセンサパターンＳＡ〜
ＳＧの出力信号を主制御部５１に入力することはできな
い。従って、ビーム光がどこを通過しているか分からな
い状態においては、アナログスイッチ（選択回路）４１
を順次切り替え、センサパターンＳＡ〜ＳＧのすべての
センサパターンからの出力信号を主制御部５１に入力し
て、ビーム光の通過位置を判定する必要がある。
【０１０７】しかし、一旦、どのあたりをビーム光が通
過しているかが認識できると、ガルバノミラー（３３ａ
〜３４ｄ）を極端に動かさない限り、ビーム光の通過す
る位置はほぼ予想でき、常にすべてのセンサパターン出
力信号を主制御部（ＣＰＵ）５１に入力する必要はな
い。尚、詳細の処理に関しては、フローチャートを用い
て後に説明する。
過しているかが認識できると、ガルバノミラー（３３ａ
〜３４ｄ）を極端に動かさない限り、ビーム光の通過す
る位置はほぼ予想でき、常にすべてのセンサパターン出
力信号を主制御部（ＣＰＵ）５１に入力する必要はな
い。尚、詳細の処理に関しては、フローチャートを用い
て後に説明する。
【０１０８】図８は、センサパターンＳＢ〜ＳＦのうち
隣り合う２つの信号出力の差を増幅する差動増幅器を用
いた例である。図に示すように、それぞれのセンサパタ
ーン出力には、上記増幅器Ｂ〜Ｆに代えて、センサパタ
ーンＳＢとＳＣの出力信号を差動増幅する差動増幅器Ｂ
−Ｃ、センサパターンＳＣとＳＤの出力信号を差動増幅
する差動増幅器Ｃ−Ｄ、センサパターンＳＤとＳＥの出
力信号を差動増幅する差動増幅器Ｄ−Ｅ、センサパター
ンＳＥとＳＦの出力信号を差動増幅する差動増幅器Ｅ−
ＦをセンサパターンＳＢ〜ＳＦに接続している。
隣り合う２つの信号出力の差を増幅する差動増幅器を用
いた例である。図に示すように、それぞれのセンサパタ
ーン出力には、上記増幅器Ｂ〜Ｆに代えて、センサパタ
ーンＳＢとＳＣの出力信号を差動増幅する差動増幅器Ｂ
−Ｃ、センサパターンＳＣとＳＤの出力信号を差動増幅
する差動増幅器Ｃ−Ｄ、センサパターンＳＤとＳＥの出
力信号を差動増幅する差動増幅器Ｄ−Ｅ、センサパター
ンＳＥとＳＦの出力信号を差動増幅する差動増幅器Ｅ−
ＦをセンサパターンＳＢ〜ＳＦに接続している。
【０１０９】これらの差動増幅器（Ｂ−Ｃ、Ｃ−Ｄ、Ｄ
−Ｅ、Ｅ−Ｆ）は、上記例と同様に選択回路（アナログ
スイッチ）４１に入力されており、以下の信号の流れは
先の図７の場合と同じである。
−Ｅ、Ｅ−Ｆ）は、上記例と同様に選択回路（アナログ
スイッチ）４１に入力されており、以下の信号の流れは
先の図７の場合と同じである。
【０１１０】以下、図９を用いて、図８の回路動作にお
けるビーム光の通過位置とビーム光位置検知センサ３８
の出力、差動増幅器（Ｂ−Ｃ、Ｃ−Ｄ、Ｄ−Ｅ、Ｅ−
Ｆ）の出力、積分器４２の出力の関係を説明する。尚、
図７の回路動作については、差動増幅器がなく、一つの
センサパターン出力を増幅、積分、Ａ／Ｄ変換する点が
異なるだけであるので詳細説明は省略する。
けるビーム光の通過位置とビーム光位置検知センサ３８
の出力、差動増幅器（Ｂ−Ｃ、Ｃ−Ｄ、Ｄ−Ｅ、Ｅ−
Ｆ）の出力、積分器４２の出力の関係を説明する。尚、
図７の回路動作については、差動増幅器がなく、一つの
センサパターン出力を増幅、積分、Ａ／Ｄ変換する点が
異なるだけであるので詳細説明は省略する。
【０１１１】図９の（ａ）は、ビーム光がセンサパター
ンＳＢとＳＣのちょうど真ん中を通過している場合を示
しており、図９の（ｂ）はビーム光が図９の（ａ）の場
合よりもセンサパターンＳＢよりを通過している場合を
示している。図９の（ｃ）は、ビーム光位置検知センサ
３８がビーム光の通過方向に対して傾いて取り付けられ
ている場合を示している。以下それぞれの場合のビーム
光位置検知センサ３８の出力、差動増幅器（Ｂ−Ｃ）の
出力、積分器４２の出力について説明する。
ンＳＢとＳＣのちょうど真ん中を通過している場合を示
しており、図９の（ｂ）はビーム光が図９の（ａ）の場
合よりもセンサパターンＳＢよりを通過している場合を
示している。図９の（ｃ）は、ビーム光位置検知センサ
３８がビーム光の通過方向に対して傾いて取り付けられ
ている場合を示している。以下それぞれの場合のビーム
光位置検知センサ３８の出力、差動増幅器（Ｂ−Ｃ）の
出力、積分器４２の出力について説明する。
【０１１２】図９の（ａ）の場合の回路動作：まずビー
ム光はセンサパターンＳ１をよぎり、センサパターンＳ
１からパルス状の信号が出力される。このパルス状の信
号は、図に示すように積分器４２をリセットし、その出
力を「０」にする。従って、センサパターンＳ１をビー
ム光がよぎることにより、前回の検知結果をリセット
し、新たな検知結果を積分することになる。
ム光はセンサパターンＳ１をよぎり、センサパターンＳ
１からパルス状の信号が出力される。このパルス状の信
号は、図に示すように積分器４２をリセットし、その出
力を「０」にする。従って、センサパターンＳ１をビー
ム光がよぎることにより、前回の検知結果をリセット
し、新たな検知結果を積分することになる。
【０１１３】ビーム光がセンサパターンＳＢとＳＣの真
ん中を通過している場合、センサパターンＳＢとＳＣの
出力の大きさは、図９の（ａ）に示すように等しいもの
となる。但し、センサパターンの出力は非常に微小であ
るため、図９の（ａ）に示すように多少のノイズ成分が
重畳されていることがある。
ん中を通過している場合、センサパターンＳＢとＳＣの
出力の大きさは、図９の（ａ）に示すように等しいもの
となる。但し、センサパターンの出力は非常に微小であ
るため、図９の（ａ）に示すように多少のノイズ成分が
重畳されていることがある。
【０１１４】このような信号が、差動増幅器Ｂ−Ｃに入
力され、その差が増幅される。センサパターンＳＢとＳ
Ｃの出力がほぼ等しいこの場合、差動増幅器Ｂ−Ｃの出
力は、図９の（ａ）に示すようにほぼ「０」となるが、
若干のノイズ成分が重畳することがある。このようにし
て得られた差動増幅結果が、選択回路（アナログスイッ
チ）４１を通して積分器４２に入力される。
力され、その差が増幅される。センサパターンＳＢとＳ
Ｃの出力がほぼ等しいこの場合、差動増幅器Ｂ−Ｃの出
力は、図９の（ａ）に示すようにほぼ「０」となるが、
若干のノイズ成分が重畳することがある。このようにし
て得られた差動増幅結果が、選択回路（アナログスイッ
チ）４１を通して積分器４２に入力される。
【０１１５】積分器４２は、この差動増幅器Ｂ−Ｃの出
力を積分し、その結果を次のＡ／Ｄ変換器４３へと出力
するが、積分器４２の出力は、図９の（ａ）に示すよう
にノイズ成分が除去された信号となる。これは、積分に
よって、差動増幅結果に重畳している高周波成分のノイ
ズが除去されるからである。このようにしてビーム光の
通過と同時に、センサパターンＳＢとＳＣの出力差が増
幅され、さらに積分されてＡ／Ｄ変換器４３に入力され
る。
力を積分し、その結果を次のＡ／Ｄ変換器４３へと出力
するが、積分器４２の出力は、図９の（ａ）に示すよう
にノイズ成分が除去された信号となる。これは、積分に
よって、差動増幅結果に重畳している高周波成分のノイ
ズが除去されるからである。このようにしてビーム光の
通過と同時に、センサパターンＳＢとＳＣの出力差が増
幅され、さらに積分されてＡ／Ｄ変換器４３に入力され
る。
【０１１６】一方、Ａ／Ｄ変換器４３には、センサパタ
ーンＳ２の出力が入力されており、ビーム光がセンサパ
ターンＳＢ，ＳＣ部分を通過し終えたタイミングで、図
９の（ａ）に示すようなパルス状の信号がセンサパター
ンＳ２からＡ／Ｄ変換器４３へ出力される。Ａ／Ｄ変換
器４３はこのパルス状の信号をトリガに、積分器４２の
出力のＡ／Ｄ変換を開始する。従って、Ａ／Ｄ変換器４
３はノイズ成分の除去されたＳ／Ｎ比の良いアナログビ
ーム通過位置情報をデジタル信号にタイムリーに変換す
ることができる。
ーンＳ２の出力が入力されており、ビーム光がセンサパ
ターンＳＢ，ＳＣ部分を通過し終えたタイミングで、図
９の（ａ）に示すようなパルス状の信号がセンサパター
ンＳ２からＡ／Ｄ変換器４３へ出力される。Ａ／Ｄ変換
器４３はこのパルス状の信号をトリガに、積分器４２の
出力のＡ／Ｄ変換を開始する。従って、Ａ／Ｄ変換器４
３はノイズ成分の除去されたＳ／Ｎ比の良いアナログビ
ーム通過位置情報をデジタル信号にタイムリーに変換す
ることができる。
【０１１７】図９の（ｂ）の場合の回路動作：基本的な
動作は図９の（ａ）と同じであるが、ビーム光の通過位
置がセンサパターンＳＢ側に寄っている分だけセンサパ
ターンＳＢの出力が大きく、センサパターンＳＣの出力
が小さくなる。従って差動増幅器Ｂ−Ｃの出力は、その
差分だけプラスになる。さて、積分器４２は、図９の
（ａ）の場合と同様に、ビーム光がセンサパターンＳ１
を通過するタイミングでリセットされており、その後
に、このような差動増幅結果が積分器４２に入力され
る。積分器４２は入力（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）がプ
ラス側である間は、その出力を徐々にプラス側に大きく
していく。そして、入力（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）が
「０」に戻ると、その値を保つ。従って、積分器４２の
出力には、ビーム光の通過位置の偏り具合が表れる。
動作は図９の（ａ）と同じであるが、ビーム光の通過位
置がセンサパターンＳＢ側に寄っている分だけセンサパ
ターンＳＢの出力が大きく、センサパターンＳＣの出力
が小さくなる。従って差動増幅器Ｂ−Ｃの出力は、その
差分だけプラスになる。さて、積分器４２は、図９の
（ａ）の場合と同様に、ビーム光がセンサパターンＳ１
を通過するタイミングでリセットされており、その後
に、このような差動増幅結果が積分器４２に入力され
る。積分器４２は入力（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）がプ
ラス側である間は、その出力を徐々にプラス側に大きく
していく。そして、入力（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）が
「０」に戻ると、その値を保つ。従って、積分器４２の
出力には、ビーム光の通過位置の偏り具合が表れる。
【０１１８】この積分結果を、図９の（ａ）の場合と同
じように、ビーム光のセンサパターンＳ２が通過するタ
イミングでＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換することによ
り、正確なビーム通過位置がタイムリーにデジタル情報
に変換される。
じように、ビーム光のセンサパターンＳ２が通過するタ
イミングでＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換することによ
り、正確なビーム通過位置がタイムリーにデジタル情報
に変換される。
【０１１９】図９の（ｃ）の場合の回路動作：基本的な
動作は図９の（ａ）、図９の（ｂ）の場合と同じである
が、ビーム光がビーム光位置検知センサ３８を斜めに通
過する分、センサパターンＳＢ，ＳＣの出力、差動増幅
器Ｂ−Ｃの出力、積分器４２の出力に特徴がある。
動作は図９の（ａ）、図９の（ｂ）の場合と同じである
が、ビーム光がビーム光位置検知センサ３８を斜めに通
過する分、センサパターンＳＢ，ＳＣの出力、差動増幅
器Ｂ−Ｃの出力、積分器４２の出力に特徴がある。
【０１２０】図９の（ｃ）に示すとおり、ビーム光はセ
ンサパターンＳ１を通過した後、センサパターンＳＢと
ＳＣ部分をセンサパターンＳＣ側から斜めに入射し、セ
ンサパターンＳＢとＳＣのほぼ中央を通過した後、セン
サパターンＳＢ側を斜めに通過している。このようにビ
ーム光が通過すると、センサパターンＳＢの出力は図９
の（ｃ）に示すごとく、ビーム光が入射した直後は小さ
く、ビーム光の通過と共に大きくなる。一方、センサパ
ターンＳＣの出力は、ビーム光が入射した直後は大き
く、ビーム光の通過と共に徐々に小さくなる。
ンサパターンＳ１を通過した後、センサパターンＳＢと
ＳＣ部分をセンサパターンＳＣ側から斜めに入射し、セ
ンサパターンＳＢとＳＣのほぼ中央を通過した後、セン
サパターンＳＢ側を斜めに通過している。このようにビ
ーム光が通過すると、センサパターンＳＢの出力は図９
の（ｃ）に示すごとく、ビーム光が入射した直後は小さ
く、ビーム光の通過と共に大きくなる。一方、センサパ
ターンＳＣの出力は、ビーム光が入射した直後は大き
く、ビーム光の通過と共に徐々に小さくなる。
【０１２１】このようなセンサパターンＳＢ，ＳＣの出
力が入力される差動増幅器Ｂ−Ｃの出力は、図９の
（ｃ）に示すごとく、ビーム光の入射直後は、マイナス
側に大きく、その後、徐々に出力は小さくなり、ビーム
光がセンサパターンＳＢとＳＣの中間を通過するところ
でほぼ「０」となる。そして、その後、徐々にプラス側
に大きくなり、ビーム光が通過し終わる直前にプラス側
の最大値となる。
力が入力される差動増幅器Ｂ−Ｃの出力は、図９の
（ｃ）に示すごとく、ビーム光の入射直後は、マイナス
側に大きく、その後、徐々に出力は小さくなり、ビーム
光がセンサパターンＳＢとＳＣの中間を通過するところ
でほぼ「０」となる。そして、その後、徐々にプラス側
に大きくなり、ビーム光が通過し終わる直前にプラス側
の最大値となる。
【０１２２】このような差動増幅器Ｂ−Ｃの出力が入力
される積分器４２の出力は、ビーム光が入射した直後か
らマイナス側に大きくなって行く。そして、差動増幅器
Ｂ−Ｃの出力がほぼ「０」になる地点までマイナスの値
は大きくなる。その後、差動増幅器Ｂ−Ｃの出力がプラ
ス側に転じると、徐々にマイナスの値は小さくなり、ビ
ームが通過し終わる地点では、ほぼ「０」になる。
される積分器４２の出力は、ビーム光が入射した直後か
らマイナス側に大きくなって行く。そして、差動増幅器
Ｂ−Ｃの出力がほぼ「０」になる地点までマイナスの値
は大きくなる。その後、差動増幅器Ｂ−Ｃの出力がプラ
ス側に転じると、徐々にマイナスの値は小さくなり、ビ
ームが通過し終わる地点では、ほぼ「０」になる。
【０１２３】これは、ビーム光がビーム光位置検知セン
サ３８を斜めによぎってはいるが、平均して見れば、セ
ンサパターンＳＢとＳＣの真ん中を通過しているからで
ある。従って、ビーム光がセンサパターンＳ２を通過す
ることによってＡ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換動作が開
始されるが、この場合、積分される値は「０」であり、
ビーム通過位置を示すデジタルデータも「０」、即ちセ
ンサパターンＳＢとＳＣの真ん中をビーム光が通過して
いるものとして処理される。
サ３８を斜めによぎってはいるが、平均して見れば、セ
ンサパターンＳＢとＳＣの真ん中を通過しているからで
ある。従って、ビーム光がセンサパターンＳ２を通過す
ることによってＡ／Ｄ変換器４３のＡ／Ｄ変換動作が開
始されるが、この場合、積分される値は「０」であり、
ビーム通過位置を示すデジタルデータも「０」、即ちセ
ンサパターンＳＢとＳＣの真ん中をビーム光が通過して
いるものとして処理される。
【０１２４】以上、ビーム光の通過位置と、センサパタ
ーンＳ１，Ｓ２，ＳＢ，ＳＣの出力、差動増幅器Ｂ−Ｃ
の出力、積分器４２の出力、Ａ／Ｄ変換器４３の動作に
ついて説明した。センサパターンＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ
Ｆ、差動増幅器Ｃ−Ｄ、差動増幅器Ｄ−Ｅ、差動増幅器
Ｅ−Ｆの動作は、基本的にセンサパターンＳＢ，ＳＣと
差動増幅器Ｂ−Ｃの動作と同じであるので個々の動作説
明は省略する。
ーンＳ１，Ｓ２，ＳＢ，ＳＣの出力、差動増幅器Ｂ−Ｃ
の出力、積分器４２の出力、Ａ／Ｄ変換器４３の動作に
ついて説明した。センサパターンＳＣ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ
Ｆ、差動増幅器Ｃ−Ｄ、差動増幅器Ｄ−Ｅ、差動増幅器
Ｅ−Ｆの動作は、基本的にセンサパターンＳＢ，ＳＣと
差動増幅器Ｂ−Ｃの動作と同じであるので個々の動作説
明は省略する。
【０１２５】次に、図１０、図１１を用いてビーム光の
通過位置とＡ／Ｄ変換器４３の出力との関係を説明す
る。
通過位置とＡ／Ｄ変換器４３の出力との関係を説明す
る。
【０１２６】図１０のグラフの縦軸は、図７に対応する
Ａ／Ｄ変換器（１２ｂｉｔ）４３の出力の大きさを示
し、横軸はビーム光の通過位置を示している。横軸のビ
ーム光通過位置は、左へ行くほどビーム光がセンサパタ
ーンＳＧ側を通過していることを示し、右へ行くほどビ
ーム光がセンサパターンＳＡ側を通過していることを示
している。
Ａ／Ｄ変換器（１２ｂｉｔ）４３の出力の大きさを示
し、横軸はビーム光の通過位置を示している。横軸のビ
ーム光通過位置は、左へ行くほどビーム光がセンサパタ
ーンＳＧ側を通過していることを示し、右へ行くほどビ
ーム光がセンサパターンＳＡ側を通過していることを示
している。
【０１２７】例えば、ビーム光が、センサパターンＳＣ
の真上を通過した場合の増幅器Ａ，Ｅ，Ｆ，Ｇの出力
は、グラフから分かるとおり０００Ｈ（最小）となる。
増幅器Ｃの出力は、ビーム光がセンサパターンＳＣの中
心を通過するのであるから、その出力は最大（ＦＦＦ
Ｈ）となる。また、その両隣の増幅器Ｂ，Ｄの出力は、
最大の出力の約１／５程度の出力になる。
の真上を通過した場合の増幅器Ａ，Ｅ，Ｆ，Ｇの出力
は、グラフから分かるとおり０００Ｈ（最小）となる。
増幅器Ｃの出力は、ビーム光がセンサパターンＳＣの中
心を通過するのであるから、その出力は最大（ＦＦＦ
Ｈ）となる。また、その両隣の増幅器Ｂ，Ｄの出力は、
最大の出力の約１／５程度の出力になる。
【０１２８】また、例えば、このビーム光がセンサパタ
ーンＳＣの中心からややセンサパターンＳＤ側を通過し
たとすると、増幅器Ｄの出力が大きくなり、増幅器Ｂ，
Ｃの出力が小さくなる。このようにしてそれぞれの増幅
器出力をモニタすることによって、ビーム光がどこを通
過しているかを知ることができる。尚、図１０のグラフ
下部には、おおよそのビーム通過位置を示すビーム光位
置検知センサ３８のセンサパターンとビーム光の通過位
置の関係を示している。
ーンＳＣの中心からややセンサパターンＳＤ側を通過し
たとすると、増幅器Ｄの出力が大きくなり、増幅器Ｂ，
Ｃの出力が小さくなる。このようにしてそれぞれの増幅
器出力をモニタすることによって、ビーム光がどこを通
過しているかを知ることができる。尚、図１０のグラフ
下部には、おおよそのビーム通過位置を示すビーム光位
置検知センサ３８のセンサパターンとビーム光の通過位
置の関係を示している。
【０１２９】さて、このようなビームの通過位置に対す
る各増幅器（Ａ〜Ｇ）の出力特性グラフの上にビーム光
ａ，ｂ，ｃ，ｄの通過位置の目標を示すと、ビーム光ａ
は、センサパターンＳＢとＳＣのちょうど中間となり、
増幅器Ｂ、増幅器Ｃの出力が等しくなる所である。同様
にビーム光ｂ，ｃ，ｄは、それぞれセンサパターンＳＣ
とＳＤ、センサパターンＳＤとＳＥ、センサパターンＳ
ＥとＳＦのちょうど中間であり、それぞれ増幅器Ｃと増
幅器Ｄ、増幅器Ｄと増幅器Ｅ、増幅器Ｅと増幅器Ｆの出
力が等しくなる所である。
る各増幅器（Ａ〜Ｇ）の出力特性グラフの上にビーム光
ａ，ｂ，ｃ，ｄの通過位置の目標を示すと、ビーム光ａ
は、センサパターンＳＢとＳＣのちょうど中間となり、
増幅器Ｂ、増幅器Ｃの出力が等しくなる所である。同様
にビーム光ｂ，ｃ，ｄは、それぞれセンサパターンＳＣ
とＳＤ、センサパターンＳＤとＳＥ、センサパターンＳ
ＥとＳＦのちょうど中間であり、それぞれ増幅器Ｃと増
幅器Ｄ、増幅器Ｄと増幅器Ｅ、増幅器Ｅと増幅器Ｆの出
力が等しくなる所である。
【０１３０】次に、図８のように差動増幅器（Ｂ−Ｃ，
Ｃ−Ｄ，Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆ）を用いた場合のＡ／Ｄ変換器
４３の出力の関係を図１１を用いて説明する。但し、セ
ンサパターンＳＡ及びＳＧについては、図７の場合と同
様に増幅器Ａ，Ｇを用いている。
Ｃ−Ｄ，Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆ）を用いた場合のＡ／Ｄ変換器
４３の出力の関係を図１１を用いて説明する。但し、セ
ンサパターンＳＡ及びＳＧについては、図７の場合と同
様に増幅器Ａ，Ｇを用いている。
【０１３１】差動増幅器（Ｂ−Ｃ，Ｃ−Ｄ，Ｄ−Ｅ，Ｅ
−Ｆ）の出力は、プラスとマイナスの両方向に出る可能
性があり、そのときのＡ／Ｄ変換器４３の出力は、以下
のようになる。即ち、差動増幅器（Ｂ−Ｃ，Ｃ−Ｄ，Ｄ
−Ｅ，Ｅ−Ｆ）の出力がプラス側の場合、差動増幅器の
出力が大きくなるにつれ、Ａ／Ｄ変換器４３の出力（Ａ
／Ｄ変換値）は０００Ｈ（最小値）から７ＦＦＨ（最大
値）の値を出力する。一方、差動増幅器（Ｂ−Ｃ，Ｃ−
Ｄ，Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆ）の出力がマイナス側の場合、Ａ／
Ｄ変換器４３の出力（Ａ／Ｄ変換値）は８００Ｈ（最小
値）からＦＦＦＨ（最大値）までの値を出力する。この
場合、差動増幅器出力の絶対値が大きい方が、８００Ｈ
（最小値）側に対応し、差動増幅器の出力が「０」に近
い方が、ＦＦＦＨ（最大値）側に対応する。
−Ｆ）の出力は、プラスとマイナスの両方向に出る可能
性があり、そのときのＡ／Ｄ変換器４３の出力は、以下
のようになる。即ち、差動増幅器（Ｂ−Ｃ，Ｃ−Ｄ，Ｄ
−Ｅ，Ｅ−Ｆ）の出力がプラス側の場合、差動増幅器の
出力が大きくなるにつれ、Ａ／Ｄ変換器４３の出力（Ａ
／Ｄ変換値）は０００Ｈ（最小値）から７ＦＦＨ（最大
値）の値を出力する。一方、差動増幅器（Ｂ−Ｃ，Ｃ−
Ｄ，Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆ）の出力がマイナス側の場合、Ａ／
Ｄ変換器４３の出力（Ａ／Ｄ変換値）は８００Ｈ（最小
値）からＦＦＦＨ（最大値）までの値を出力する。この
場合、差動増幅器出力の絶対値が大きい方が、８００Ｈ
（最小値）側に対応し、差動増幅器の出力が「０」に近
い方が、ＦＦＦＨ（最大値）側に対応する。
【０１３２】ここでは、センサパターンＳＢとＳＣの差
動増幅器Ｂ−Ｃの出力がＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換
された場合について具体的に説明する。
動増幅器Ｂ−Ｃの出力がＡ／Ｄ変換器４３でＡ／Ｄ変換
された場合について具体的に説明する。
【０１３３】センサパターンＳＢの出力は差動増幅器Ｂ
−Ｃのプラス端子に接続されており、センサパターンＳ
Ｃの出力は差動増幅器Ｂ−Ｃのマイナス端子に接続され
ている。従って、差動増幅器Ｂ−Ｃの出力は、図１１に
示すようにビーム光がセンサパターンＳＢの中心付近を
通過するときが最も大きくなり、Ａ／Ｄ変換器４３での
Ａ／Ｄ変換値は７ＦＦＨとなる。これは、センサパター
ンＳＢの出力が、この付近で最も大きくなるからであ
る。
−Ｃのプラス端子に接続されており、センサパターンＳ
Ｃの出力は差動増幅器Ｂ−Ｃのマイナス端子に接続され
ている。従って、差動増幅器Ｂ−Ｃの出力は、図１１に
示すようにビーム光がセンサパターンＳＢの中心付近を
通過するときが最も大きくなり、Ａ／Ｄ変換器４３での
Ａ／Ｄ変換値は７ＦＦＨとなる。これは、センサパター
ンＳＢの出力が、この付近で最も大きくなるからであ
る。
【０１３４】また、この位置からビーム光がセンサパタ
ーンＳＡ側にずれてもセンサパターンＳＣ側にずれても
Ａ／Ｄ変換値（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）は小さくな
る。
ーンＳＡ側にずれてもセンサパターンＳＣ側にずれても
Ａ／Ｄ変換値（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）は小さくな
る。
【０１３５】さらにビーム光の通過位置がセンサパター
ンＳＡ側にずれた場合を考えると、センサパターンＳＢ
もＳＣもビーム光の通過を検知できなくなり、Ａ／Ｄ変
換値（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）はほぼ「０」になる。
ンＳＡ側にずれた場合を考えると、センサパターンＳＢ
もＳＣもビーム光の通過を検知できなくなり、Ａ／Ｄ変
換値（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）はほぼ「０」になる。
【０１３６】また、反対にビーム光の通過位置がセンサ
パターンＳＣ側にずれた場合を考えると、Ａ／Ｄ変換値
（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）は徐々に減少し、ビーム光
がセンサパターンＳＢとＳＣのちょうど間を通過すると
きその値が「０」になる。これは、センサパターンＳＢ
とＳＣの出力が等しくなるからである。本実施例では、
このポイントがビーム光ａの通過目標点となる。
パターンＳＣ側にずれた場合を考えると、Ａ／Ｄ変換値
（差動増幅器Ｂ−Ｃの出力）は徐々に減少し、ビーム光
がセンサパターンＳＢとＳＣのちょうど間を通過すると
きその値が「０」になる。これは、センサパターンＳＢ
とＳＣの出力が等しくなるからである。本実施例では、
このポイントがビーム光ａの通過目標点となる。
【０１３７】さらにビーム光の通過ポイントがセンサパ
ターンＳＣ側にずれると、差動増幅器Ｂ−Ｃの出力はマ
イナス出力となり、Ａ／Ｄ変換値は０００ＨからＦＦＦ
Ｈへと変化し、その後、Ａ／Ｄ変換値は、徐々に減って
いく。さらに、ビーム光の通過位置がセンサパターンＳ
Ｃの中心付近になると差動増幅器Ｂ−Ｃの出力はマイナ
スの最大となり、このときのＡ／Ｄ変換値は８００Ｈと
なる。
ターンＳＣ側にずれると、差動増幅器Ｂ−Ｃの出力はマ
イナス出力となり、Ａ／Ｄ変換値は０００ＨからＦＦＦ
Ｈへと変化し、その後、Ａ／Ｄ変換値は、徐々に減って
いく。さらに、ビーム光の通過位置がセンサパターンＳ
Ｃの中心付近になると差動増幅器Ｂ−Ｃの出力はマイナ
スの最大となり、このときのＡ／Ｄ変換値は８００Ｈと
なる。
【０１３８】さらにビーム光の通過位置がセンサパター
ンＳＤ側にずれると、今度は差動増幅器Ｂ−Ｃ出力のマ
イナスの値が小さくなり、Ａ／Ｄ変換値は８００Ｈから
増加していき、最終的には、ＦＦＦＨから０００Ｈに変
化する。これは、ビーム光の通過位置がセンサパターン
ＳＤ（ＳＥ）側にずれ過ぎてセンサパターンＳＢ，ＳＣ
ともにビームの通過を検知できず、その出力が双方とも
に「０」となり、両方の出力に差がでなくなるからであ
る。
ンＳＤ側にずれると、今度は差動増幅器Ｂ−Ｃ出力のマ
イナスの値が小さくなり、Ａ／Ｄ変換値は８００Ｈから
増加していき、最終的には、ＦＦＦＨから０００Ｈに変
化する。これは、ビーム光の通過位置がセンサパターン
ＳＤ（ＳＥ）側にずれ過ぎてセンサパターンＳＢ，ＳＣ
ともにビームの通過を検知できず、その出力が双方とも
に「０」となり、両方の出力に差がでなくなるからであ
る。
【０１３９】次に、ガルバノミラー３３の制御特性につ
いて説明する。
いて説明する。
【０１４０】図１２、図１３は、ガルバノミラー駆動回
路３９ａ〜３９ｄに与えるデータと、ビーム光位置検知
センサ３８上（つまり、感光体ドラム１５上）でのビー
ム光通過位置との関係を示している。図７、図８に示し
たように、ガルバノミラー駆動回路３９ａ〜３９ｄのＤ
／Ａ変換器４５ａ〜４５ｄの入力は１６ビットである。
路３９ａ〜３９ｄに与えるデータと、ビーム光位置検知
センサ３８上（つまり、感光体ドラム１５上）でのビー
ム光通過位置との関係を示している。図７、図８に示し
たように、ガルバノミラー駆動回路３９ａ〜３９ｄのＤ
／Ａ変換器４５ａ〜４５ｄの入力は１６ビットである。
【０１４１】図１２は、この１６ビットデータの上位８
ビット入力に対するビーム光通過位置の変化の様子を示
したものである。図に示すように、ビーム光の通過位置
は、データ００Ｈ〜ＦＦＨに対し２０００μｍ（２ｍ
ｍ）移動する。図に示すように、００Ｈ付近とＦＦＨ付
近の入力に対しては、ガルバノミラー３３の応答範囲を
超えており、ビーム光の通過位置は変化しない。
ビット入力に対するビーム光通過位置の変化の様子を示
したものである。図に示すように、ビーム光の通過位置
は、データ００Ｈ〜ＦＦＨに対し２０００μｍ（２ｍ
ｍ）移動する。図に示すように、００Ｈ付近とＦＦＨ付
近の入力に対しては、ガルバノミラー３３の応答範囲を
超えており、ビーム光の通過位置は変化しない。
【０１４２】しかし、入力がおおよそ１８ＨからＥ８Ｈ
の範囲では、ほぼ入力に対してビーム光の通過位置はリ
ニアに変化しており、その割合は１ＬＳＢ当たり約１０
μｍの距離に相当する。
の範囲では、ほぼ入力に対してビーム光の通過位置はリ
ニアに変化しており、その割合は１ＬＳＢ当たり約１０
μｍの距離に相当する。
【０１４３】図１３は、ガルバノミラー駆動回路３９の
Ｄ／Ａ変換器６５の下位８ビット入力に対するビーム光
通過位置の変化の様子を示したものである。ただし、こ
の図は、上位８ビットの入力として、上述したビーム光
の通過位置がリニアに変化する範囲の値が入力されてい
る場合の下位８ビットの入力に対するビーム光の通過位
置の変化を表している。図から明らかなように、下位８
ビットに対しては、００ＨからＦＦＨまで約１０μｍ、
ビーム光の通過位置が変化し、１ＬＳＢ当たりでは０．
０４μｍの変化となる。
Ｄ／Ａ変換器６５の下位８ビット入力に対するビーム光
通過位置の変化の様子を示したものである。ただし、こ
の図は、上位８ビットの入力として、上述したビーム光
の通過位置がリニアに変化する範囲の値が入力されてい
る場合の下位８ビットの入力に対するビーム光の通過位
置の変化を表している。図から明らかなように、下位８
ビットに対しては、００ＨからＦＦＨまで約１０μｍ、
ビーム光の通過位置が変化し、１ＬＳＢ当たりでは０．
０４μｍの変化となる。
【０１４４】このようにして、主制御部５１は、ガルバ
ノミラー駆動回路３９に対して、１６ビットのデータを
与えることで、ビーム光位置検知センサ３８上、すなわ
ち、感光体ドラム１５上のビーム光通過位置を分解能が
約０．０４μｍで、約２０００μｍ（２ｍｍ）の範囲で
移動させることができる。
ノミラー駆動回路３９に対して、１６ビットのデータを
与えることで、ビーム光位置検知センサ３８上、すなわ
ち、感光体ドラム１５上のビーム光通過位置を分解能が
約０．０４μｍで、約２０００μｍ（２ｍｍ）の範囲で
移動させることができる。
【０１４５】次に、プリンタ部２の電源投入時における
概略的な動作について、図１４に示すフローチャートを
参照して説明する。なお、スキャナ部１の動作について
は省略する。
概略的な動作について、図１４に示すフローチャートを
参照して説明する。なお、スキャナ部１の動作について
は省略する。
【０１４６】本複写機の電源が投入されると、主制御部
５１は、定着器２６内の定着ローラを回転させるととも
に、定着器２６の加熱制御を開始する（Ｓ１，Ｓ２）。
次に、副走査方向のビーム光通過位置制御ルーチンを実
行し、ビーム光の通過位置を所定の位置になるよう制御
する（Ｓ３）。
５１は、定着器２６内の定着ローラを回転させるととも
に、定着器２６の加熱制御を開始する（Ｓ１，Ｓ２）。
次に、副走査方向のビーム光通過位置制御ルーチンを実
行し、ビーム光の通過位置を所定の位置になるよう制御
する（Ｓ３）。
【０１４７】ビーム光の通過位置が正しく制御される
と、主走査方向の同期引込みを実行し、同時に各ビーム
光が所望のパワーで発光するように、ＡＰＣ（オートパ
ワーコントロール）制御がハード的に実行される（Ｓ
４）。次に、感光体ドラム１５を回転させ、感光体ドラ
ム１５の表面などの条件を一定にするなどのプロセス関
連の初期化を実行する（Ｓ５）。
と、主走査方向の同期引込みを実行し、同時に各ビーム
光が所望のパワーで発光するように、ＡＰＣ（オートパ
ワーコントロール）制御がハード的に実行される（Ｓ
４）。次に、感光体ドラム１５を回転させ、感光体ドラ
ム１５の表面などの条件を一定にするなどのプロセス関
連の初期化を実行する（Ｓ５）。
【０１４８】このように、一連の初期化を実行した後
は、定着器２６の温度が所定の温度に上昇するまで、定
着ローラを回転し続け、待機状態となる（Ｓ６）。定着
器２６の温度が所定の温度まで上昇すると、定着ローラ
の回転を停止し（Ｓ７）、複写指令待ち状態となる（Ｓ
８）。
は、定着器２６の温度が所定の温度に上昇するまで、定
着ローラを回転し続け、待機状態となる（Ｓ６）。定着
器２６の温度が所定の温度まで上昇すると、定着ローラ
の回転を停止し（Ｓ７）、複写指令待ち状態となる（Ｓ
８）。
【０１４９】主制御部５１は、コントロールパネル５３
から複写（プリント）指令を受信すると、複写動作を実
行し（Ｓ９）、複写動作が終了すると、再び複写指令待
ち状態となる（Ｓ８）。また、複写指令待ちの状態（Ｓ
８）で、ビーム光通過位置制御ルーチンを実行後、たと
えば、３０分が経過すると（Ｓ１０）、自動的にビーム
光通過位置制御ルーチンを再び実行する（Ｓ１１）。こ
れが終了すると、再び複写指令待ち状態になる（Ｓ
８）。
から複写（プリント）指令を受信すると、複写動作を実
行し（Ｓ９）、複写動作が終了すると、再び複写指令待
ち状態となる（Ｓ８）。また、複写指令待ちの状態（Ｓ
８）で、ビーム光通過位置制御ルーチンを実行後、たと
えば、３０分が経過すると（Ｓ１０）、自動的にビーム
光通過位置制御ルーチンを再び実行する（Ｓ１１）。こ
れが終了すると、再び複写指令待ち状態になる（Ｓ
８）。
【０１５０】次に、図１４のステップＳ３，Ｓ１１にお
けるビーム光通過位置制御ルーチンの概略動作につい
て、図１５を用いて説明する。
けるビーム光通過位置制御ルーチンの概略動作につい
て、図１５を用いて説明する。
【０１５１】まず、主制御部５１は、ポリゴンモータ３
６をオンし、ポリゴンミラー３５を所定の回転数で回転
させる（Ｓ２０）。
６をオンし、ポリゴンミラー３５を所定の回転数で回転
させる（Ｓ２０）。
【０１５２】主制御部５１は、メモリ５２から最新のガ
ルバノミラー３３ａ〜３３ｄの駆動値を読み出し、その
値に基づいて、それぞれのガルバノミラー３３ａ〜３３
ｄを駆動する（Ｓ２１）。
ルバノミラー３３ａ〜３３ｄの駆動値を読み出し、その
値に基づいて、それぞれのガルバノミラー３３ａ〜３３
ｄを駆動する（Ｓ２１）。
【０１５３】次に、主制御部５１は、ビーム光ａの通過
位置制御を行う（Ｓ２２）。ここでの制御内容は、ビー
ム光ａの通過位置を検知し、その通過位置が規定値内に
入っているかどうかをチェックし、規定値内に入ってい
なければ、ガルバノミラー３３ａの角度を変更し、規定
値内に入っていれば、ビーム光ａの通過位置が規定値内
に入っていることを示すフラグを立てるという内容であ
る。
位置制御を行う（Ｓ２２）。ここでの制御内容は、ビー
ム光ａの通過位置を検知し、その通過位置が規定値内に
入っているかどうかをチェックし、規定値内に入ってい
なければ、ガルバノミラー３３ａの角度を変更し、規定
値内に入っていれば、ビーム光ａの通過位置が規定値内
に入っていることを示すフラグを立てるという内容であ
る。
【０１５４】続いて、主制御部５１は、ビーム光ｂ、ビ
ーム光ｃ、ビーム光ｄについても、ビーム光ａの場合と
同様に、それぞれのビーム光（ｂ，ｃ，ｄ）の通過位置
を検知し、その通過位置が規定値内に入っているかどう
かをチェックし、規定値内に入っていなければ、それぞ
れのガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの角度を変更し、規
定値内に入っていれば、それぞれのビーム光の通過位置
が規定値内に入っていることを示すフラグを立てる（Ｓ
２３，Ｓ２４，Ｓ２５）。
ーム光ｃ、ビーム光ｄについても、ビーム光ａの場合と
同様に、それぞれのビーム光（ｂ，ｃ，ｄ）の通過位置
を検知し、その通過位置が規定値内に入っているかどう
かをチェックし、規定値内に入っていなければ、それぞ
れのガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの角度を変更し、規
定値内に入っていれば、それぞれのビーム光の通過位置
が規定値内に入っていることを示すフラグを立てる（Ｓ
２３，Ｓ２４，Ｓ２５）。
【０１５５】このようにして、各ビーム光（ａ，ｂ，
ｃ，ｄ）の通過位置制御を行った上で、主制御部５１
は、それぞれのフラグをチェックし、ビーム光通過位置
制御を終了するか否かを判定する（Ｓ２６）。即ち、す
べてのフラグが立っていれば、ビーム通過位置制御を終
了し、どれか一つのフラグでも立っていなければ、Ｓ２
２に戻り、各ビーム光の通過位置制御を行う。
ｃ，ｄ）の通過位置制御を行った上で、主制御部５１
は、それぞれのフラグをチェックし、ビーム光通過位置
制御を終了するか否かを判定する（Ｓ２６）。即ち、す
べてのフラグが立っていれば、ビーム通過位置制御を終
了し、どれか一つのフラグでも立っていなければ、Ｓ２
２に戻り、各ビーム光の通過位置制御を行う。
【０１５６】ここで、このような制御フローにおけるガ
ルバノミラー（３３ａ〜３３ｄ）の挙動について簡単に
説明する。
ルバノミラー（３３ａ〜３３ｄ）の挙動について簡単に
説明する。
【０１５７】ガルバノミラー（３３ａ〜３３ｄ）は、先
に説明したように、主制御部５１からの制御値に従って
その角度を変え、走査されるビーム光の通過位置を変更
するのであるが、主制御部５１からの指示に対し、すぐ
に応答できるとは限らない。即ち、主制御部５１から制
御データが出力され、そのデータがラッチ（４４ａ〜４
４ｄ）でラッチされ、さらにＤ／Ａ変換器（４５ａ〜４
５ｄ）でＤ／Ａ変換されてその大きさに比例した駆動信
号がドライバ（４６ａ〜４６ｄ）から出力されるまでの
時間が、「ｎｓ」または「μｓ」単位のオーダであるの
に対し、例えば、本実施例に用いているガルバノミラー
（３３ａ〜３３ｄ）の応答時間は、４〜５ｍｓのオーダ
であるという問題がある。
に説明したように、主制御部５１からの制御値に従って
その角度を変え、走査されるビーム光の通過位置を変更
するのであるが、主制御部５１からの指示に対し、すぐ
に応答できるとは限らない。即ち、主制御部５１から制
御データが出力され、そのデータがラッチ（４４ａ〜４
４ｄ）でラッチされ、さらにＤ／Ａ変換器（４５ａ〜４
５ｄ）でＤ／Ａ変換されてその大きさに比例した駆動信
号がドライバ（４６ａ〜４６ｄ）から出力されるまでの
時間が、「ｎｓ」または「μｓ」単位のオーダであるの
に対し、例えば、本実施例に用いているガルバノミラー
（３３ａ〜３３ｄ）の応答時間は、４〜５ｍｓのオーダ
であるという問題がある。
【０１５８】ここでの応答時間とは、新たな駆動信号に
対し、ガルバノミラー（３３ａ〜３３ｄ）の角度変化が
始まり、ある時間移動（振動）した後、その移動（振
動）が収まって、新たな角度に落ち着くまでの時間を指
す。従って、主制御部５１は、ガルバノミラー（３３ａ
〜３３ｄ）に対し、新たな制御データを送出した後、そ
の制御結果を確認するためには、少なくともこの応答時
間が経過した後に、ビーム光の通過位置を確認する必要
がある。
対し、ガルバノミラー（３３ａ〜３３ｄ）の角度変化が
始まり、ある時間移動（振動）した後、その移動（振
動）が収まって、新たな角度に落ち着くまでの時間を指
す。従って、主制御部５１は、ガルバノミラー（３３ａ
〜３３ｄ）に対し、新たな制御データを送出した後、そ
の制御結果を確認するためには、少なくともこの応答時
間が経過した後に、ビーム光の通過位置を確認する必要
がある。
【０１５９】図１５から明らかなように、本発明におい
ては、あるガルバノミラーを制御したその効果の確認
は、他のビーム光位置検知動作あるいはガルバノミラー
制御動作を行った後に行うようになっており、十分にガ
ルバノミラーが応答に要する時間が経過した後、効果を
確認するようになっている。
ては、あるガルバノミラーを制御したその効果の確認
は、他のビーム光位置検知動作あるいはガルバノミラー
制御動作を行った後に行うようになっており、十分にガ
ルバノミラーが応答に要する時間が経過した後、効果を
確認するようになっている。
【０１６０】例えば、Ｓ２１，Ｓ２２，Ｓ２３，Ｓ２４
の各ステップにおいて、少なくとも一つの増幅器あるい
は差動増幅器の出力をポリゴンミラー３５の面数分（例
えば８面分）だけ取得するのに要する時間は、一走査に
要する時間が３３０μｓの場合、２．６４ｍｓとなる。
従って、あるガルバノミラーを制御した後、他の３つの
ビーム光の通過位置を検知した後、その効果を確認する
には、少なくとも７．９２ｍｓの時間間隔があり、ガル
バノミラーの移動（振動）は、すでに収まっている状態
でのビーム光通過位置が確認できることになる。尚、増
幅器あるいは差動増幅器の出力をポリゴンミラー３５の
面数だけ取得するのは、ポリゴンミラー３５の面倒れ成
分を除去するためである。
の各ステップにおいて、少なくとも一つの増幅器あるい
は差動増幅器の出力をポリゴンミラー３５の面数分（例
えば８面分）だけ取得するのに要する時間は、一走査に
要する時間が３３０μｓの場合、２．６４ｍｓとなる。
従って、あるガルバノミラーを制御した後、他の３つの
ビーム光の通過位置を検知した後、その効果を確認する
には、少なくとも７．９２ｍｓの時間間隔があり、ガル
バノミラーの移動（振動）は、すでに収まっている状態
でのビーム光通過位置が確認できることになる。尚、増
幅器あるいは差動増幅器の出力をポリゴンミラー３５の
面数だけ取得するのは、ポリゴンミラー３５の面倒れ成
分を除去するためである。
【０１６１】尚、各制御ステップにおける動作は、図７
のシステムと図８のシステムで異なるので、個別に詳細
に説明する。
のシステムと図８のシステムで異なるので、個別に詳細
に説明する。
【０１６２】図１６、図１７は、図７のシステムにおけ
る図１５のステップＳ２１の動作を詳細に説明するため
のフローチャートである。即ち、図７のシステムを用い
た場合のビーム光ａの通過位置制御を説明するためのフ
ローチャートである。先に説明したように、図７のシス
テムにおけるビーム光の通過位置とＡ／Ｄ変換の出力と
の関係は図１０のようになるので、図１０も参照して説
明する。
る図１５のステップＳ２１の動作を詳細に説明するため
のフローチャートである。即ち、図７のシステムを用い
た場合のビーム光ａの通過位置制御を説明するためのフ
ローチャートである。先に説明したように、図７のシス
テムにおけるビーム光の通過位置とＡ／Ｄ変換の出力と
の関係は図１０のようになるので、図１０も参照して説
明する。
【０１６３】まず、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ３０１）。これにより、ビーム
光ａは、ポリゴンミラー３５の回転により周期的にビー
ム光位置検知センサ３８上を走査することになる。
ａを強制発光させる（Ｓ３０１）。これにより、ビーム
光ａは、ポリゴンミラー３５の回転により周期的にビー
ム光位置検知センサ３８上を走査することになる。
【０１６４】次に、主制御部５１は、Ａ／Ｄ変換器４３
の出力する割込み信号（ＩＮＴ）に従い各増幅器（Ａ〜
Ｇ）の出力がＡ／Ｄ変換された値を読み込む。尚、通
常、ビーム光（ａ〜ｄ）の走査位置は、ポリゴンミラー
３５の面倒れ成分により、面ごとに若干異なる場合が多
く、その影響を除去するために、ポリゴンミラー３５に
面数と同等な回数、あるいは、その整数倍回連続してＡ
／Ｄ変換された値を読み込むことが望ましい。主制御部
５１は、それぞれの増幅器に対応するＡ／Ｄ変換器４３
からの出力値を平均し、その結果をそれぞれの増幅器の
出力とする。
の出力する割込み信号（ＩＮＴ）に従い各増幅器（Ａ〜
Ｇ）の出力がＡ／Ｄ変換された値を読み込む。尚、通
常、ビーム光（ａ〜ｄ）の走査位置は、ポリゴンミラー
３５の面倒れ成分により、面ごとに若干異なる場合が多
く、その影響を除去するために、ポリゴンミラー３５に
面数と同等な回数、あるいは、その整数倍回連続してＡ
／Ｄ変換された値を読み込むことが望ましい。主制御部
５１は、それぞれの増幅器に対応するＡ／Ｄ変換器４３
からの出力値を平均し、その結果をそれぞれの増幅器の
出力とする。
【０１６５】従って、増幅器Ａ〜Ｇについてそれぞれポ
リゴンミラー３５の面数（８）と同じ回数だけＡ／Ｄ変
換器４３からの出力値を読み込んだとすれば、ビーム光
を５６回走査する必要がある（Ｓ３０２）。
リゴンミラー３５の面数（８）と同じ回数だけＡ／Ｄ変
換器４３からの出力値を読み込んだとすれば、ビーム光
を５６回走査する必要がある（Ｓ３０２）。
【０１６６】主制御部５１は、このようにして得た増幅
器Ａ〜Ｇの出力を比較する（Ｓ３０３）。比較結果によ
り、増幅器Ａの出力が最大であるか否かを判定する（Ｓ
３０４）。その結果、増幅器Ａの出力が最大であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターンＡ上
であるか、または、センサパターンＡに最も近いことを
表している。即ち、図１０におけるエリアＡをビーム光
ａが通過していることを表している。ビーム光ａの目標
通過位置は、センサパターンＳＢとＳＣの中間であるの
で、ガルバノミラー３３ａをビーム光ａがセンサパター
ンＳＧ側を通過するように制御する（Ｓ３０５）。
器Ａ〜Ｇの出力を比較する（Ｓ３０３）。比較結果によ
り、増幅器Ａの出力が最大であるか否かを判定する（Ｓ
３０４）。その結果、増幅器Ａの出力が最大であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターンＡ上
であるか、または、センサパターンＡに最も近いことを
表している。即ち、図１０におけるエリアＡをビーム光
ａが通過していることを表している。ビーム光ａの目標
通過位置は、センサパターンＳＢとＳＣの中間であるの
で、ガルバノミラー３３ａをビーム光ａがセンサパター
ンＳＧ側を通過するように制御する（Ｓ３０５）。
【０１６７】このときの制御量（ビーム光の移動量）
は、１２０μｍ程度とする。制御量を１２０μｍとした
のは、図３、４のセンサパターンで説明したように、セ
ンサパターンＡおよびＧは、制御目標ポイントの領域か
ら両脇に大きなパターンを有しており、このパターン上
をビーム光が通過している場合には、目標ポイントに早
くビーム光の通過位置を近づけるために、比較的大きく
ビーム光の通過位置を変更する必要があるからである。
但し、増幅器Ａの出力が最大で有る場合においても、エ
リアＢに近い範囲をビーム光ａが通過している場合に
は、過剰にビーム光の通過位置を変更してしまう可能性
もある。しかし、トータルの効率を考慮すると、この程
度の移動量は必要である。
は、１２０μｍ程度とする。制御量を１２０μｍとした
のは、図３、４のセンサパターンで説明したように、セ
ンサパターンＡおよびＧは、制御目標ポイントの領域か
ら両脇に大きなパターンを有しており、このパターン上
をビーム光が通過している場合には、目標ポイントに早
くビーム光の通過位置を近づけるために、比較的大きく
ビーム光の通過位置を変更する必要があるからである。
但し、増幅器Ａの出力が最大で有る場合においても、エ
リアＢに近い範囲をビーム光ａが通過している場合に
は、過剰にビーム光の通過位置を変更してしまう可能性
もある。しかし、トータルの効率を考慮すると、この程
度の移動量は必要である。
【０１６８】ステップＳ３０４の判定で、増幅器Ａの出
力が最大でなかった場合には、増幅器Ｇの出力が最大で
あるかを判定する（Ｓ３０６）。
力が最大でなかった場合には、増幅器Ｇの出力が最大で
あるかを判定する（Ｓ３０６）。
【０１６９】この判定で、増幅器Ｇの出力が最大であっ
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｇ上であるか、または、センサパターンＧに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＧをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３０７）。尚、このときの
制御量は、ステップＳ３０５の場合と同様、１２０μｍ
程度の制御量（移動量）が必要である。
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｇ上であるか、または、センサパターンＧに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＧをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３０７）。尚、このときの
制御量は、ステップＳ３０５の場合と同様、１２０μｍ
程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１７０】主制御部５１は、ステップＳ３０６の判定
で増幅器Ｇが最大でなかった場合には、増幅部Ｆが最大
であるかを判定する（Ｓ３０８）。
で増幅器Ｇが最大でなかった場合には、増幅部Ｆが最大
であるかを判定する（Ｓ３０８）。
【０１７１】この判定で、増幅器Ｆの出力が最大であっ
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｆ上であるか、または、センサパターンＦに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＦをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３０９）。尚、このときの
制御量は、目標ポイントとエリアＦの距離を考慮し、１
２０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｆ上であるか、または、センサパターンＦに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＦをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３０９）。尚、このときの
制御量は、目標ポイントとエリアＦの距離を考慮し、１
２０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１７２】主制御部５１は、ステップＳ３０８の判定
で増幅器Ｆが最大でなかった場合には、増幅器Ｅが最大
であるかを判定する（Ｓ３１０）。
で増幅器Ｆが最大でなかった場合には、増幅器Ｅが最大
であるかを判定する（Ｓ３１０）。
【０１７３】この判定で、増幅器Ｅの出力が最大であっ
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｅ上であるか、または、センサパターンＥに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＥをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３１１）。尚、このときの
制御量は、目標ポイントとエリアＥの距離を考慮し、８
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｅ上であるか、または、センサパターンＥに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＥをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３１１）。尚、このときの
制御量は、目標ポイントとエリアＥの距離を考慮し、８
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１７４】主制御部５１は、ステップＳ３１０の判定
で増幅器Ｅが最大でなかった場合には、増幅器Ｄが最大
であるかを判定する（Ｓ３１２）。
で増幅器Ｅが最大でなかった場合には、増幅器Ｄが最大
であるかを判定する（Ｓ３１２）。
【０１７５】この判定で、増幅器Ｄの出力が最大であっ
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｄ上であるか、または、センサパターンＤに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＤをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３１３）。尚、このときの
制御量は、目標ポイントとエリアＤの距離を考慮し、４
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
た場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサパターン
Ｄ上であるか、または、センサパターンＤに最も近いこ
とを表している。即ち、図１０におけるエリアＤをビー
ム光ａが通過していることを表している。従って、この
ような場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントである
センサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビー
ム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノ
ミラー３３ａを制御する（Ｓ３１３）。尚、このときの
制御量は、目標ポイントとエリアＤの距離を考慮し、４
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１７６】ステップＳ３１２の判定で増幅器Ｄの出力
が最大でなかった場合には、増幅器Ｂの出力か増幅器Ｃ
の出力が最大であるかのどちらかである。さて、ここで
最終的な制御目標ポイントについて考えてみる。理想的
なビーム光ａの通過ポイントは、先に述べたように増幅
器Ｂと増幅器Ｃの出力が等しくなるセンサパターンＳＢ
とＳＣのちょうど中間である。しかし、この理想の通過
ポイントにビーム光ａの通過ポイントを完全に一致させ
るのは、非常に困難であり、また、制御に長時間を必要
とする。そこで、本実施例では、この理想のポイントに
対し、±１μｍの範囲であれば、それ以上の精度を求め
ない。これは、この範囲にビーム光の通過位置が制御さ
れていれば、実際の画像上問題が生じないからである。
が最大でなかった場合には、増幅器Ｂの出力か増幅器Ｃ
の出力が最大であるかのどちらかである。さて、ここで
最終的な制御目標ポイントについて考えてみる。理想的
なビーム光ａの通過ポイントは、先に述べたように増幅
器Ｂと増幅器Ｃの出力が等しくなるセンサパターンＳＢ
とＳＣのちょうど中間である。しかし、この理想の通過
ポイントにビーム光ａの通過ポイントを完全に一致させ
るのは、非常に困難であり、また、制御に長時間を必要
とする。そこで、本実施例では、この理想のポイントに
対し、±１μｍの範囲であれば、それ以上の精度を求め
ない。これは、この範囲にビーム光の通過位置が制御さ
れていれば、実際の画像上問題が生じないからである。
【０１７７】そこで主制御部５１は、増幅器Ｂの出力と
増幅器Ｃの出力の差（Ａ／Ｄ変換値の差）を求め、その
値がＣ０Ｈ以下であるか否かを判定する。このＣ０Ｈと
いう値が、像面上で１μｍの距離に相当する（Ｓ３１
４）。
増幅器Ｃの出力の差（Ａ／Ｄ変換値の差）を求め、その
値がＣ０Ｈ以下であるか否かを判定する。このＣ０Ｈと
いう値が、像面上で１μｍの距離に相当する（Ｓ３１
４）。
【０１７８】この判定の結果、増幅器Ｂの出力と増幅器
Ｃの出力の差（Ａ／Ｄ変換値の差）が、Ｃ０Ｈ以下であ
る場合には、ビーム光ａの通過位置が、所定の範囲内に
入っていることを示しているので、ガルバノミラー３３
ａの制御終了フラグＡを立てる（Ｓ３２２）。
Ｃの出力の差（Ａ／Ｄ変換値の差）が、Ｃ０Ｈ以下であ
る場合には、ビーム光ａの通過位置が、所定の範囲内に
入っていることを示しているので、ガルバノミラー３３
ａの制御終了フラグＡを立てる（Ｓ３２２）。
【０１７９】一方、この判定の結果、増幅器Ｂの出力と
増幅器Ｃの出力の差（Ａ／Ｄ変換値の差）が、Ｃ０Ｈ以
下でない場合には、ビーム光ａの通過位置が、所定の範
囲内に入っていないことを示しているので、さらに、ビ
ーム光ａの通過位置を求める必要がある。そのために、
主制御部５１は、増幅器Ｃの出力が最大であるか否かを
判定する（Ｓ３１５）。
増幅器Ｃの出力の差（Ａ／Ｄ変換値の差）が、Ｃ０Ｈ以
下でない場合には、ビーム光ａの通過位置が、所定の範
囲内に入っていないことを示しているので、さらに、ビ
ーム光ａの通過位置を求める必要がある。そのために、
主制御部５１は、増幅器Ｃの出力が最大であるか否かを
判定する（Ｓ３１５）。
【０１８０】その結果、増幅器Ｃの出力が最大でなかっ
た場合には、増幅器Ｂの出力が最大、即ち、ビーム光ａ
がエリアＢを通過しているということになる。このとき
は、さらに、増幅器Ａの出力と増幅器Ｃの出力を比較
し、ビーム光ａの通過位置がエリアＢＡであるのか、エ
リアＢＣであるのかを判定する（Ｓ３１６）。
た場合には、増幅器Ｂの出力が最大、即ち、ビーム光ａ
がエリアＢを通過しているということになる。このとき
は、さらに、増幅器Ａの出力と増幅器Ｃの出力を比較
し、ビーム光ａの通過位置がエリアＢＡであるのか、エ
リアＢＣであるのかを判定する（Ｓ３１６）。
【０１８１】増幅器Ａの出力の方が大きい場合には、ビ
ーム光ａがエリアＢＡを通過していることを示してい
る。従って、このような場合には、ビーム光ａの通過目
標ポイントであるセンサパターンＳＢとＳＣの中間に近
づけるため、ビーム光ａがセンサパターンＳＧ側を通過
するようガルバノミラー３３ａを制御する（Ｓ３１
７）。尚、このときの制御量は、目標ポイントとエリア
ＢＡの距離を考慮し、２０μｍ程度の制御量（移動量）
が必要である。
ーム光ａがエリアＢＡを通過していることを示してい
る。従って、このような場合には、ビーム光ａの通過目
標ポイントであるセンサパターンＳＢとＳＣの中間に近
づけるため、ビーム光ａがセンサパターンＳＧ側を通過
するようガルバノミラー３３ａを制御する（Ｓ３１
７）。尚、このときの制御量は、目標ポイントとエリア
ＢＡの距離を考慮し、２０μｍ程度の制御量（移動量）
が必要である。
【０１８２】増幅器Ｃの出力の方が大きい場合には、ビ
ーム光ａがエリアＢＣを通過していることを示してお
り、現在のビーム光ａ通過ポイントが目標ポイントに近
いことを示している。このような場合には、さらに目標
ポイントに近づけるため、ビーム光ａがセンサパターン
ＳＧ側を通過するようガルバノミラー３３ａを制御する
（Ｓ３１８）。尚、このときの制御量は、すでにビーム
光ａが目標通過ポイントの近くを通過していることを考
慮し、０．５μｍ程度の制御量（移動量）とするのが望
ましい。
ーム光ａがエリアＢＣを通過していることを示してお
り、現在のビーム光ａ通過ポイントが目標ポイントに近
いことを示している。このような場合には、さらに目標
ポイントに近づけるため、ビーム光ａがセンサパターン
ＳＧ側を通過するようガルバノミラー３３ａを制御する
（Ｓ３１８）。尚、このときの制御量は、すでにビーム
光ａが目標通過ポイントの近くを通過していることを考
慮し、０．５μｍ程度の制御量（移動量）とするのが望
ましい。
【０１８３】ステップＳ３１５の判定の結果、増幅器Ｃ
の出力が最大である場合には、増幅器Ｃの出力が最大、
即ち、ビーム光ａがエリアＣを通過しているということ
になる。このときは、さらに、増幅器Ｂの出力と増幅器
Ｄの出力を比較し、ビーム光ａの通過位置がエリアＣＢ
であるのか、エリアＣＤであるのかを判定する（Ｓ３１
９）。
の出力が最大である場合には、増幅器Ｃの出力が最大、
即ち、ビーム光ａがエリアＣを通過しているということ
になる。このときは、さらに、増幅器Ｂの出力と増幅器
Ｄの出力を比較し、ビーム光ａの通過位置がエリアＣＢ
であるのか、エリアＣＤであるのかを判定する（Ｓ３１
９）。
【０１８４】増幅器Ｄの出力の方が大きい場合には、ビ
ーム光ａがエリアＣＤを通過していることを示してい
る。従って、このような場合には、ビーム光ａの通過目
標ポイントであるセンサパターンＳＢとＳＣの中間に近
づけるため、ビーム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過
するようガルバノミラー３３ａを制御する（Ｓ３２
１）。尚、このときの制御量は、目標ポイントエリアＣ
Ｄの距離を考慮し、２０μｍ程度の制御量（移動量）が
必要である。
ーム光ａがエリアＣＤを通過していることを示してい
る。従って、このような場合には、ビーム光ａの通過目
標ポイントであるセンサパターンＳＢとＳＣの中間に近
づけるため、ビーム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過
するようガルバノミラー３３ａを制御する（Ｓ３２
１）。尚、このときの制御量は、目標ポイントエリアＣ
Ｄの距離を考慮し、２０μｍ程度の制御量（移動量）が
必要である。
【０１８５】増幅器Ｂの出力の方が大きい場合には、ビ
ーム光ａがエリアＣＢを通過していることを示してお
り、現在のビーム光ａ通過ポイントが目標ポイントに近
いことを示している。このような場合には、さらに目標
ポイントに近づけるため、ビーム光ａがセンサパターン
ＳＡ側を通過するようガルバノミラー３３ａを制御する
（Ｓ３２０）。尚、このときの制御量は、すでにビーム
光ａが目標通過ポイントの近くを通過していることを考
慮し、０．５μｍ程度の制御量（移動量）とするのが望
ましい。
ーム光ａがエリアＣＢを通過していることを示してお
り、現在のビーム光ａ通過ポイントが目標ポイントに近
いことを示している。このような場合には、さらに目標
ポイントに近づけるため、ビーム光ａがセンサパターン
ＳＡ側を通過するようガルバノミラー３３ａを制御する
（Ｓ３２０）。尚、このときの制御量は、すでにビーム
光ａが目標通過ポイントの近くを通過していることを考
慮し、０．５μｍ程度の制御量（移動量）とするのが望
ましい。
【０１８６】このようにして主制御部５１は、理想の通
過ポイントに対して±１μｍの範囲内にビーム光ａが通
過していない場合（ステップＳ３０５，Ｓ３０７，Ｓ３
０９，Ｓ３１１，Ｓ３１３，Ｓ３１７，Ｓ３１８，Ｓ３
２０，Ｓ３２１）、ガルバノミラー３３ａを所定量制御
し、そのときの値をメモリ５２に書き込む（Ｓ３２
３）。
過ポイントに対して±１μｍの範囲内にビーム光ａが通
過していない場合（ステップＳ３０５，Ｓ３０７，Ｓ３
０９，Ｓ３１１，Ｓ３１３，Ｓ３１７，Ｓ３１８，Ｓ３
２０，Ｓ３２１）、ガルバノミラー３３ａを所定量制御
し、そのときの値をメモリ５２に書き込む（Ｓ３２
３）。
【０１８７】以上のようにして主制御部５１は、ビーム
光ａが理想の通過ポイントに対し、±１μｍの範囲内を
通過している場合にガルバノミラー３３ａの制御終了フ
ラグＡを立て、この範囲外を通過している場合には、そ
の通過位置（エリア）に応じて、ガルバノミラー制御量
を調整し、その値をメモリ５２に書き込む。
光ａが理想の通過ポイントに対し、±１μｍの範囲内を
通過している場合にガルバノミラー３３ａの制御終了フ
ラグＡを立て、この範囲外を通過している場合には、そ
の通過位置（エリア）に応じて、ガルバノミラー制御量
を調整し、その値をメモリ５２に書き込む。
【０１８８】最後に主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａの強制発光を解除し、一連のビーム光ａの通過位置制
御を終える（Ｓ３２４）。
ａの強制発光を解除し、一連のビーム光ａの通過位置制
御を終える（Ｓ３２４）。
【０１８９】尚、すでに図１５で説明したように、ガル
バノミラー３３ａの制御終了フラグＡが立っていない場
合には、再度、ビーム光ａの通過位置制御ルーチンを実
行することになる。即ち、ビーム光ａが理想の通過ポイ
ントに対し、±１μｍの範囲内を通過するまでこのルー
チンは繰り返し実行される。
バノミラー３３ａの制御終了フラグＡが立っていない場
合には、再度、ビーム光ａの通過位置制御ルーチンを実
行することになる。即ち、ビーム光ａが理想の通過ポイ
ントに対し、±１μｍの範囲内を通過するまでこのルー
チンは繰り返し実行される。
【０１９０】図１８〜図２３は、ビーム光ｂ〜ｄについ
ての制御フローを示している。個々の詳細説明は省略す
るが、基本的には、ビーム光ａの場合と同様で、それぞ
れのレーザ発振器３１ｂ〜３１ｄを強制発光させた上
で、各増幅器Ａ〜Ｇの出力を比較し、理想の制御ポイン
トに対して±１μｍの範囲内を通過している場合に、そ
れぞれのガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの制御終了フラ
グＢ〜Ｄを立てる。また、この範囲を通過していない場
合には、それぞれのビーム光（ｂ〜ｄ）がどのエリアを
通過しているのかを判定した上で、その通過エリアに応
じた制御をガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄに対して行
い、その制御値をメモリ５２に書き込む。
ての制御フローを示している。個々の詳細説明は省略す
るが、基本的には、ビーム光ａの場合と同様で、それぞ
れのレーザ発振器３１ｂ〜３１ｄを強制発光させた上
で、各増幅器Ａ〜Ｇの出力を比較し、理想の制御ポイン
トに対して±１μｍの範囲内を通過している場合に、そ
れぞれのガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの制御終了フラ
グＢ〜Ｄを立てる。また、この範囲を通過していない場
合には、それぞれのビーム光（ｂ〜ｄ）がどのエリアを
通過しているのかを判定した上で、その通過エリアに応
じた制御をガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄに対して行
い、その制御値をメモリ５２に書き込む。
【０１９１】図２４、図２５は、図８のシステムにおけ
る図１５のステップＳ２１の動作を詳細に説明するため
のフローチャートである。即ち、図８のシステムを用い
た場合のビーム光ａの通過位置制御を説明するためのフ
ローチャートである。先に説明したように、図８のシス
テムにおけるビーム光の通過位置とＡ／Ｄ変換の出力と
の関係は図１１のようになるので、図１１も参照して説
明する。
る図１５のステップＳ２１の動作を詳細に説明するため
のフローチャートである。即ち、図８のシステムを用い
た場合のビーム光ａの通過位置制御を説明するためのフ
ローチャートである。先に説明したように、図８のシス
テムにおけるビーム光の通過位置とＡ／Ｄ変換の出力と
の関係は図１１のようになるので、図１１も参照して説
明する。
【０１９２】まず、主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａを強制発光させる（Ｓ７０１）。これにより、ビーム
光ａは、ポリゴンミラー３５の回転により周期的にビー
ム光位置検知センサ３８上を走査することになる。
ａを強制発光させる（Ｓ７０１）。これにより、ビーム
光ａは、ポリゴンミラー３５の回転により周期的にビー
ム光位置検知センサ３８上を走査することになる。
【０１９３】次に、主制御部５１は、Ａ／Ｄ変換器４３
の出力する割込み信号（ＩＮＴ）に従い各増幅器並びに
差動増幅器の出力がＡ／Ｄ変換された値を読み込む。
尚、通常、ビーム光の走査位置は、ポリゴンミラー３５
の面倒れ成分により、面ごとに若干異なる場合が多く、
その影響を除去するために、ポリゴンミラー３５の面数
と同等な回数、あるいは、その整数倍回連続してＡ／Ｄ
変換された値を読み込むことが望ましい。主制御部５１
は、それぞれの増幅器並びに差動増幅器に対応するＡ／
Ｄ変換器４３の出力値を平均し、その結果をそれぞれの
増幅器並びに差動増幅器の出力とする（Ｓ７０２）。従
って、増幅器Ａ，Ｇ並びに差動増幅器Ｂ−Ｃ，Ｃ−Ｄ，
Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆについてそれぞれポリゴンの面数（８）
と同じ回数Ａ／Ｄ変換器の値を読み込んだとすれば、ビ
ーム光を４８回走査する必要がある。
の出力する割込み信号（ＩＮＴ）に従い各増幅器並びに
差動増幅器の出力がＡ／Ｄ変換された値を読み込む。
尚、通常、ビーム光の走査位置は、ポリゴンミラー３５
の面倒れ成分により、面ごとに若干異なる場合が多く、
その影響を除去するために、ポリゴンミラー３５の面数
と同等な回数、あるいは、その整数倍回連続してＡ／Ｄ
変換された値を読み込むことが望ましい。主制御部５１
は、それぞれの増幅器並びに差動増幅器に対応するＡ／
Ｄ変換器４３の出力値を平均し、その結果をそれぞれの
増幅器並びに差動増幅器の出力とする（Ｓ７０２）。従
って、増幅器Ａ，Ｇ並びに差動増幅器Ｂ−Ｃ，Ｃ−Ｄ，
Ｄ−Ｅ，Ｅ−Ｆについてそれぞれポリゴンの面数（８）
と同じ回数Ａ／Ｄ変換器の値を読み込んだとすれば、ビ
ーム光を４８回走査する必要がある。
【０１９４】主制御部５１は、このようにして得た増幅
器Ａの出力が１００Ｈより大きいか否かを比較する（Ｓ
７０３）。
器Ａの出力が１００Ｈより大きいか否かを比較する（Ｓ
７０３）。
【０１９５】その結果、増幅器Ａの出力が１００Ｈより
大であった場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサ
パターンＡ上であるか、または、センサパターンＡの近
傍であることを表している。即ち、図１１におけるエリ
アＡをビーム光ａが通過していることを表している。ビ
ーム光ａの目標通過位置は、センサパターンＳＢとＳＣ
の中間であるので、ガルバノミラー３３ａをビーム光ａ
がセンサパターンＳＧ側を通過するように制御する（Ｓ
７０４）。
大であった場合には、ビーム光ａの通過位置が、センサ
パターンＡ上であるか、または、センサパターンＡの近
傍であることを表している。即ち、図１１におけるエリ
アＡをビーム光ａが通過していることを表している。ビ
ーム光ａの目標通過位置は、センサパターンＳＢとＳＣ
の中間であるので、ガルバノミラー３３ａをビーム光ａ
がセンサパターンＳＧ側を通過するように制御する（Ｓ
７０４）。
【０１９６】このときの制御量（ビーム光の移動量）
は、１２０μｍ程度とする。制御量を１２０μｍとした
のは、図３、４のセンサパターンで説明したように、セ
ンサパターンＡおよびＧは、制御目標ポイントの領域か
ら両脇に大きなパターンを有しており、このパターン上
をビーム光が通過している場合には、目標ポイントに早
くビーム光の通過位置を近づけるために、比較的大きく
ビーム光の通過位置を変更する必要があるからである。
但し、増幅器Ａの出力が１００Ｈより大である場合にお
いても、センサパターンＳＢに近い範囲をビーム光ａが
通過している場合には、過剰にビーム光の通過位置を変
更してしまう可能性もある。しかし、トータルの効率を
考慮すると、この程度の移動量は必要である。
は、１２０μｍ程度とする。制御量を１２０μｍとした
のは、図３、４のセンサパターンで説明したように、セ
ンサパターンＡおよびＧは、制御目標ポイントの領域か
ら両脇に大きなパターンを有しており、このパターン上
をビーム光が通過している場合には、目標ポイントに早
くビーム光の通過位置を近づけるために、比較的大きく
ビーム光の通過位置を変更する必要があるからである。
但し、増幅器Ａの出力が１００Ｈより大である場合にお
いても、センサパターンＳＢに近い範囲をビーム光ａが
通過している場合には、過剰にビーム光の通過位置を変
更してしまう可能性もある。しかし、トータルの効率を
考慮すると、この程度の移動量は必要である。
【０１９７】ステップＳ７０３の判定で、増幅器Ａの出
力が１００Ｈより大でなかった場合には、増幅器Ｇの出
力が１００Ｈより大であるかを判定する（Ｓ７０５）。
力が１００Ｈより大でなかった場合には、増幅器Ｇの出
力が１００Ｈより大であるかを判定する（Ｓ７０５）。
【０１９８】この判定で、増幅器Ｇの出力が１００Ｈよ
り大であった場合には、ビーム光ａの通過位置が、セン
サパターンＧ上であるか、または、センサパターンＧの
近傍であることを表している。即ち、図１１におけるエ
リアＧをビーム光ａが通過していることを表している。
従って、このような場合には、ビーム光ａの通過目標ポ
イントであるセンサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけ
るため、ビーム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過する
ようガルバノミラー３３ａを制御する（Ｓ７０６）。
尚、このときの制御量は、Ｓ７０４の場合と同様、１２
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
り大であった場合には、ビーム光ａの通過位置が、セン
サパターンＧ上であるか、または、センサパターンＧの
近傍であることを表している。即ち、図１１におけるエ
リアＧをビーム光ａが通過していることを表している。
従って、このような場合には、ビーム光ａの通過目標ポ
イントであるセンサパターンＳＢとＳＣの中間に近づけ
るため、ビーム光ａがセンサパターンＳＡ側を通過する
ようガルバノミラー３３ａを制御する（Ｓ７０６）。
尚、このときの制御量は、Ｓ７０４の場合と同様、１２
０μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０１９９】主制御部５１は、ステップＳ７０５の判定
で増幅器Ｇの出力が１００Ｈより大でなかった場合に
は、差動増幅器Ｅ−Ｆの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ
以上であるかを判定する（Ｓ７０７）。
で増幅器Ｇの出力が１００Ｈより大でなかった場合に
は、差動増幅器Ｅ−Ｆの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ
以上であるかを判定する（Ｓ７０７）。
【０２００】この判定で、差動増幅器Ｅ−Ｆの値（Ａ／
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光
ａの通過位置が、センサパターンＦ近傍であることを表
している。即ち、図１１におけるエリアＦをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７０８）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＦとの距離を考慮し、１２０
μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光
ａの通過位置が、センサパターンＦ近傍であることを表
している。即ち、図１１におけるエリアＦをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７０８）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＦとの距離を考慮し、１２０
μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０２０１】主制御部５１は、ステップＳ７０７の判定
で差動増幅器Ｅ−Ｆの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でなかった場合には、差動増幅器Ｄ−Ｅの値（Ａ／Ｄ
変換値）が８００Ｈ以上であるかを判定する（７０
９）。
で差動増幅器Ｅ−Ｆの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でなかった場合には、差動増幅器Ｄ−Ｅの値（Ａ／Ｄ
変換値）が８００Ｈ以上であるかを判定する（７０
９）。
【０２０２】この判定で、差動増幅器Ｄ−Ｅの値（Ａ／
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光
ａの通過位置が、センサパターンＥ近傍であることを表
している。即ち、図１１におけるエリアＥをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７０８）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＥとの距離を考慮し、８０μ
ｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光
ａの通過位置が、センサパターンＥ近傍であることを表
している。即ち、図１１におけるエリアＥをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７０８）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＥとの距離を考慮し、８０μ
ｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０２０３】主制御部５１は、ステップＳ７０９の判定
で差動増幅器Ｄ−Ｅの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でなかった場合には、差動増幅器Ｃ−Ｄの値（Ａ／Ｄ
変換値）が８００Ｈ以上であるかを判定する（Ｓ７１
１）。
で差動増幅器Ｄ−Ｅの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でなかった場合には、差動増幅器Ｃ−Ｄの値（Ａ／Ｄ
変換値）が８００Ｈ以上であるかを判定する（Ｓ７１
１）。
【０２０４】この判定で、差動増幅器Ｃ−Ｄの値（Ａ／
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光
ａの通過位置が、センサパターンＤ近傍であることを表
している。即ち、図１１におけるエリアＤをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７１２）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、４０μ
ｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上であった場合には、ビーム光
ａの通過位置が、センサパターンＤ近傍であることを表
している。即ち、図１１におけるエリアＤをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７１２）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、４０μ
ｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０２０５】主制御部５１は、ステップＳ７１１の判定
で差動増幅器Ｃ−Ｄの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でなかった場合には、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ
変換値）が４００Ｈより大で７ＦＦＨ以下であるかを判
定する（Ｓ７１３）。
で差動増幅器Ｃ−Ｄの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でなかった場合には、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ
変換値）が４００Ｈより大で７ＦＦＨ以下であるかを判
定する（Ｓ７１３）。
【０２０６】この判定で、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／
Ｄ変換値）が４００Ｈより大で７ＦＦＨ以下であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントで
あるセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干
センサパターンＳＢ寄りであることを表している。即
ち、図１１におけるエリアＢのエリアＢＡをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＧ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７１４）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、１０μ
ｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
Ｄ変換値）が４００Ｈより大で７ＦＦＨ以下であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントで
あるセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干
センサパターンＳＢ寄りであることを表している。即
ち、図１１におけるエリアＢのエリアＢＡをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＧ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７１４）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、１０μ
ｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０２０７】主制御部５１は、ステップＳ７１３の判定
で差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が４００Ｈよ
り大で７ＦＦＨ以下でなかった場合には、差動増幅器Ｂ
−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が６０Ｈより大で４００Ｈ以
下であるかを判定する（Ｓ７１５）。
で差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が４００Ｈよ
り大で７ＦＦＨ以下でなかった場合には、差動増幅器Ｂ
−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が６０Ｈより大で４００Ｈ以
下であるかを判定する（Ｓ７１５）。
【０２０８】この判定で、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／
Ｄ変換値）が６０Ｈより大で４００Ｈ以下であった場合
には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントであ
るセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干セ
ンサパターンＳＢ寄りであることを表している。即ち、
図１１におけるエリアＢのエリアＢＣをビーム光ａが通
過していることを表している。従って、このような場合
には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサパタ
ーンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａがセ
ンサパターンＳＧ側を通過するようガルバノミラー３３
ａを制御する（Ｓ７１６）。尚、このときの制御量は、
目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、０．５μｍ
程度の制御量（移動量）が必要である。
Ｄ変換値）が６０Ｈより大で４００Ｈ以下であった場合
には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントであ
るセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干セ
ンサパターンＳＢ寄りであることを表している。即ち、
図１１におけるエリアＢのエリアＢＣをビーム光ａが通
過していることを表している。従って、このような場合
には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサパタ
ーンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａがセ
ンサパターンＳＧ側を通過するようガルバノミラー３３
ａを制御する（Ｓ７１６）。尚、このときの制御量は、
目標ポイントとエリアＤとの距離を考慮し、０．５μｍ
程度の制御量（移動量）が必要である。
【０２０９】主制御部５１は、ステップＳ７１５の判定
で差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が６０Ｈより
大で４００Ｈ以下でなかった場合には、差動増幅器Ｂ−
Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以上でＡ００Ｈより
小であるかを判定する（Ｓ７１７）。
で差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が６０Ｈより
大で４００Ｈ以下でなかった場合には、差動増幅器Ｂ−
Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以上でＡ００Ｈより
小であるかを判定する（Ｓ７１７）。
【０２１０】この判定で、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上でＡ００Ｈより小であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントで
あるセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干
センサパターンＳＣ寄りであることを表している。即
ち、図１１におけるエリアＣのエリアＣＤをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７１８）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＣＤとの距離を考慮し、１０
μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
Ｄ変換値）が８００Ｈ以上でＡ００Ｈより小であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントで
あるセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干
センサパターンＳＣ寄りであることを表している。即
ち、図１１におけるエリアＣのエリアＣＤをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７１８）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＣＤとの距離を考慮し、１０
μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０２１１】主制御部５１は、ステップＳ７１７の判定
で差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でＡ００Ｈより小でなかった場合には、差動増幅器Ｂ
−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）がＡ００Ｈ以上でＦＡ０Ｈよ
り小であるかを判定する（７１９）。
で差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）が８００Ｈ以
上でＡ００Ｈより小でなかった場合には、差動増幅器Ｂ
−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）がＡ００Ｈ以上でＦＡ０Ｈよ
り小であるかを判定する（７１９）。
【０２１２】この判定で、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／
Ｄ変換値）がＡ００Ｈ以上でＦＡ０Ｈより小であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントで
あるセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干
センサパターンＳＣ寄りであることを表している。即
ち、図１１におけるエリアＣのエリアＣＢをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７２０）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＣＢとの距離を考慮し、０．
５μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
Ｄ変換値）がＡ００Ｈ以上でＦＡ０Ｈより小であった場
合には、ビーム光ａの通過位置が、通過目標ポイントで
あるセンサパターンＳＢとＳＣの中間近傍であるが若干
センサパターンＳＣ寄りであることを表している。即
ち、図１１におけるエリアＣのエリアＣＢをビーム光ａ
が通過していることを表している。従って、このような
場合には、ビーム光ａの通過目標ポイントであるセンサ
パターンＳＢとＳＣの中間に近づけるため、ビーム光ａ
がセンサパターンＳＡ側を通過するようガルバノミラー
３３ａを制御する（Ｓ７２０）。尚、このときの制御量
は、目標ポイントとエリアＣＢとの距離を考慮し、０．
５μｍ程度の制御量（移動量）が必要である。
【０２１３】主制御部５１は、ステップＳ７１９の判定
で、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）がＡ００Ｈ
以上でＦＡ０Ｈより小でない場合には、ビーム光ａの通
過位置が所定の範囲内（目標ポイントの±１μｍの範
囲）に入っていることを示しているので、ガルバノミラ
ー３３ａの制御終了フラグＡを立てる（Ｓ７２１）。
で、差動増幅器Ｂ−Ｃの値（Ａ／Ｄ変換値）がＡ００Ｈ
以上でＦＡ０Ｈより小でない場合には、ビーム光ａの通
過位置が所定の範囲内（目標ポイントの±１μｍの範
囲）に入っていることを示しているので、ガルバノミラ
ー３３ａの制御終了フラグＡを立てる（Ｓ７２１）。
【０２１４】このようにして、理想の通過ポイントに対
して±１μｍの範囲内にビーム光ａが通過していない場
合（ステップＳ７０４，Ｓ７０６，Ｓ７０８，Ｓ７１
０，Ｓ７１２，Ｓ７１４，Ｓ７１６，Ｓ７１８，Ｓ７２
０）には、ガルバノミラー３３ａを所定量制御し、その
ときの値をメモリ５２に書き込む（Ｓ７２２）。
して±１μｍの範囲内にビーム光ａが通過していない場
合（ステップＳ７０４，Ｓ７０６，Ｓ７０８，Ｓ７１
０，Ｓ７１２，Ｓ７１４，Ｓ７１６，Ｓ７１８，Ｓ７２
０）には、ガルバノミラー３３ａを所定量制御し、その
ときの値をメモリ５２に書き込む（Ｓ７２２）。
【０２１５】以上のようにして主制御部５１は、ビーム
光ａが理想の通過ポイントに対し、±１μｍの範囲内を
通過している場合にガルバノミラー３３ａの制御終了フ
ラグＡを立て、この範囲外を通過している場合には、そ
の通過位置（エリア）に応じてガルバノミラー制御量を
調整し、その値をメモリ５２に書き込む。
光ａが理想の通過ポイントに対し、±１μｍの範囲内を
通過している場合にガルバノミラー３３ａの制御終了フ
ラグＡを立て、この範囲外を通過している場合には、そ
の通過位置（エリア）に応じてガルバノミラー制御量を
調整し、その値をメモリ５２に書き込む。
【０２１６】最後に主制御部５１は、レーザ発振器３１
ａの強制発光を解除し、一連のビーム光ａの通過位置制
御を終える（Ｓ７２３）。
ａの強制発光を解除し、一連のビーム光ａの通過位置制
御を終える（Ｓ７２３）。
【０２１７】尚、すでに図１５で説明したように、ガル
バノミラー３３ａの制御終了フラグＡが立っていない場
合には、再度、ビーム光ａの通過位置制御ルーチンを実
行することになる。即ち、ビーム光ａが理想の通過ポイ
ントに対し、±１μｍの範囲内を通過するまでこのルー
チンは繰り返し実行される。
バノミラー３３ａの制御終了フラグＡが立っていない場
合には、再度、ビーム光ａの通過位置制御ルーチンを実
行することになる。即ち、ビーム光ａが理想の通過ポイ
ントに対し、±１μｍの範囲内を通過するまでこのルー
チンは繰り返し実行される。
【０２１８】図２６〜図３１は、ビーム光ｂ〜ｄについ
ての制御フローを示している。個々の詳細説明は省略す
るが、基本的には、ビーム光ａの場合と同様で、それぞ
れのレーザ発振器３１ｂ〜３１ｄを強制発光させた上
で、増幅器Ａ，Ｇ並びに差動増幅器Ｂ−Ｃ，Ｃ−Ｄ，Ｄ
−Ｅ，Ｅ−Ｆの出力を判定し、理想の制御ポイントに対
して±１μｍの範囲内を通過している場合には、それぞ
れのガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの制御終了フラグＢ
〜Ｄを立てる。また、この範囲を通過していない場合に
は、それぞれのビーム光（ｂ〜ｄ）がどのエリアを通過
しているのかを判定した上で、その通過エリアに応じた
制御をガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄに対して行い、そ
の制御値をメモリ５２に書き込む。
ての制御フローを示している。個々の詳細説明は省略す
るが、基本的には、ビーム光ａの場合と同様で、それぞ
れのレーザ発振器３１ｂ〜３１ｄを強制発光させた上
で、増幅器Ａ，Ｇ並びに差動増幅器Ｂ−Ｃ，Ｃ−Ｄ，Ｄ
−Ｅ，Ｅ−Ｆの出力を判定し、理想の制御ポイントに対
して±１μｍの範囲内を通過している場合には、それぞ
れのガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄの制御終了フラグＢ
〜Ｄを立てる。また、この範囲を通過していない場合に
は、それぞれのビーム光（ｂ〜ｄ）がどのエリアを通過
しているのかを判定した上で、その通過エリアに応じた
制御をガルバノミラー３３ｂ〜３３ｄに対して行い、そ
の制御値をメモリ５２に書き込む。
【０２１９】以上説明したように上記実施の形態によれ
ば、上記したセンサパターンのビーム光位置検知センサ
を用いることにより、ビーム光位置検知センサの傾きに
対する取り付け精度がさほど高くなくても正確にビーム
光の走査位置を検知することが可能となる。
ば、上記したセンサパターンのビーム光位置検知センサ
を用いることにより、ビーム光位置検知センサの傾きに
対する取り付け精度がさほど高くなくても正確にビーム
光の走査位置を検知することが可能となる。
【０２２０】また、マルチビーム光学系を用いたデジタ
ル複写機において、感光体ドラムの表面と同等の位置に
配設されたビーム光位置検知センサによって各ビーム光
の通過位置を検知し、この検知結果を基に、各ビーム光
の感光体ドラムの表面における相対位置が適性位置とな
るよう制御するための制御量を演算し、この演算した制
御量に応じて各ビーム光の感光体ドラムの表面における
相対位置を変更するためのガルバノミラーを制御するこ
とにより、光学系の組立てに特別な精度や調整を必要と
せず、しかも、環境変化や経時変化などによって光学系
に変化が生じても、感光体ドラムの表面における各ビー
ム光相互の位置関係を常に理想的な位置に制御できる。
したがって、常に高画質を維持することができる。
ル複写機において、感光体ドラムの表面と同等の位置に
配設されたビーム光位置検知センサによって各ビーム光
の通過位置を検知し、この検知結果を基に、各ビーム光
の感光体ドラムの表面における相対位置が適性位置とな
るよう制御するための制御量を演算し、この演算した制
御量に応じて各ビーム光の感光体ドラムの表面における
相対位置を変更するためのガルバノミラーを制御するこ
とにより、光学系の組立てに特別な精度や調整を必要と
せず、しかも、環境変化や経時変化などによって光学系
に変化が生じても、感光体ドラムの表面における各ビー
ム光相互の位置関係を常に理想的な位置に制御できる。
したがって、常に高画質を維持することができる。
【０２２１】なお、前記実施の形態では、マルチビーム
光学系を用いたデジタル複写機に適用した場合について
説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、高
速プリンタ等、デジタル複写機以外の画像形成装置にも
同様に適用できる。
光学系を用いたデジタル複写機に適用した場合について
説明したが、本発明はこれに限定されるものでなく、高
速プリンタ等、デジタル複写機以外の画像形成装置にも
同様に適用できる。
【０２２２】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、光
学系の組立てに特別な精度を必要とせずに高精度でビー
ム光の通過位置を検知でき、しかも、環境変化や経時変
化などによって光学系に変化が生じても常に所定の位置
に制御でき、よって常に高画質を維持することができる
ビーム光走査装置および画像形成装置を提供できる。
学系の組立てに特別な精度を必要とせずに高精度でビー
ム光の通過位置を検知でき、しかも、環境変化や経時変
化などによって光学系に変化が生じても常に所定の位置
に制御でき、よって常に高画質を維持することができる
ビーム光走査装置および画像形成装置を提供できる。
【０２２３】また、本発明によれば、複数のビーム光を
用いる場合、光学系の組立てに特別な精度を必要とせず
に高精度でビーム光の通過位置を検知でき、しかも、環
境変化や経時変化などによって光学系に変化が生じて
も、被走査面における各ビーム光相互の位置関係を常に
理想的な位置に制御でき、よって常に高画質を維持する
ことができるビーム光走査装置および画像形成装置を提
供できる。
用いる場合、光学系の組立てに特別な精度を必要とせず
に高精度でビーム光の通過位置を検知でき、しかも、環
境変化や経時変化などによって光学系に変化が生じて
も、被走査面における各ビーム光相互の位置関係を常に
理想的な位置に制御でき、よって常に高画質を維持する
ことができるビーム光走査装置および画像形成装置を提
供できる。
【図１】本発明の実施の形態に係るデジタル複写機の構
成を概略的に示す構成図。
成を概略的に示す構成図。
【図２】光学系ユニットの構成と感光体ドラムの位置関
係を示す図。
係を示す図。
【図３】ビーム光位置検知センサの構成を概略的に示す
構成図。
構成図。
【図４】ビーム光位置検知センサの構成を概略的に示す
構成図。
構成図。
【図５】ビーム光位置検知センサとビーム光の走査方向
との傾きを説明するための図。
との傾きを説明するための図。
【図６】光学系の制御を主体にした制御系を示すブロッ
ク図。
ク図。
【図７】ビーム光の通過位置制御を説明するためのブロ
ック図。
ック図。
【図８】ビーム光の通過位置制御を説明するためのブロ
ック図。
ック図。
【図９】ビーム光の通過位置とビーム光位置検知センサ
の受光パターンの出力、差動増幅器の出力、積分器の出
力との関係を示す図。
の受光パターンの出力、差動増幅器の出力、積分器の出
力との関係を示す図。
【図１０】ビーム光の通過位置とＡ／Ｄ変換器の出力と
の関係を示すグラフ。
の関係を示すグラフ。
【図１１】ビーム光の通過位置とＡ／Ｄ変換器の出力と
の関係を示すグラフ。
の関係を示すグラフ。
【図１２】ガルバノミラーの動作分解能を説明するグラ
フ。
フ。
【図１３】ガルバノミラーの動作分解能を説明するグラ
フ。
フ。
【図１４】プリンタ部の電源投入時における概略的な動
作を説明するフローチャート。
作を説明するフローチャート。
【図１５】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図１６】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図１７】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図１８】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図１９】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２０】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２１】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２２】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２３】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２４】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２５】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２６】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２７】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２８】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図２９】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図３０】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図３１】ビーム光通過位置制御ルーチンを説明するフ
ローチャート。
ローチャート。
【図３２】位置ずれしたビーム光を用いて画像形成した
場合に起こり得る画像不良を説明するための図。
場合に起こり得る画像不良を説明するための図。
【図３３】位置ずれしたビーム光を用いて画像形成した
場合に起こり得る画像不良を説明するための図。
場合に起こり得る画像不良を説明するための図。
１…スキャナ部 ２…プリンタ部 ６…光電変換素子 ９…光源 １３…光学系ユニット １４…画像形成部 １５…感光体ドラム（像担持体） ３１ａ〜３１ｄ…半導体レーザ発振器（ビーム光発生手
段） ３３ａ〜３３ｄ…ガルバノミラー ３５…ポリゴンミラー（多面回転ミラー） ３８…ビーム光位置検知センサ（ビーム光位置検知手
段） ３９ａ〜３９ｄ…ガルバノミラー駆動回路 ４０…ビーム光位置検知センサ出力処理回路 Ｓ１，Ｓ２，ＳＡ〜ＳＧ…受光パターン（光検知部） ５１…主制御部 ５２…メモリ（記憶手段） ５５…同期回路
段） ３３ａ〜３３ｄ…ガルバノミラー ３５…ポリゴンミラー（多面回転ミラー） ３８…ビーム光位置検知センサ（ビーム光位置検知手
段） ３９ａ〜３９ｄ…ガルバノミラー駆動回路 ４０…ビーム光位置検知センサ出力処理回路 Ｓ１，Ｓ２，ＳＡ〜ＳＧ…受光パターン（光検知部） ５１…主制御部 ５２…メモリ（記憶手段） ５５…同期回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 井出 直朗 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝イン テリジェントテクノロジ株式会社内 (72)発明者 榊原 淳 神奈川県川崎市幸区柳町70番地 東芝イン テリジェントテクノロジ株式会社内
Claims (27)
- 【請求項１】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の複数の光検知部からの検知
結果に基づいて前記走査手段により走査されるビーム光
の前記被走査面における通過位置を所定位置に制御する
制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項２】 前記ビーム光位置検知手段に配置されて
いる複数の光検知部は、同一形状であることを特徴とす
る請求項１記載のビーム光走査装置。 - 【請求項３】 前記ビーム光位置検知手段の光検知部の
形状は、前記ビーム光走査方向の大きさが前記ビーム光
走査方向に直角な方向の大きさより大きいことを特徴と
する請求項１記載のビーム光走査装置。 - 【請求項４】 前記ビーム光位置検知手段の複数の光検
知部は、前記ビーム光走査方向のほぼ直角方向に等間隔
で平行して配置されていることを特徴とする請求項１記
載のビーム光走査装置。 - 【請求項５】 ビーム光を発生するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から発生されたビーム光を被走査
面に向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の主走査方向におい
て同じ位置でそれぞれ検知する複数の検知部を有するビ
ーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段からの検知結果に基づいて前
記走査手段により走査されるビーム光の前記被走査面に
おける通過位置を制御する制御手段と、を具備したこと
を特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項６】 ビーム光を出力する複数のビーム光発生
手段と、 この複数のビーム光発生手段から出力された複数のビー
ム光を被走査面へ向けて反射し、前記複数のビーム光に
より前記被走査面を走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知するビーム光位置検知手段と、 前記複数のビーム光発生手段のうちの１つを選択して１
つのビーム光を発光させる選択手段と、 この選択手段で選択されて発光されたビーム光が前記走
査手段により走査された際、前記ビーム光位置検知手段
の複数の光検知部の検知結果に基づいて、前記ビーム光
が、前記複数の光検知部のうち前記ビーム光の目標位置
に対応する位置の隣り合う２つの光検知部の間を通過す
るように制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項７】 前記ビーム光位置検知手段に配置される
複数の光検知部の数は、前記複数のビーム光発生手段の
数より多いことを特徴とする請求項６記載のビーム光装
置装置。 - 【請求項８】 前記ビーム光位置検知手段に前記ビーム
光の走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置され
る複数の光検知部間の隙間の数と前記複数のビーム光発
生手段の数とが等しいことを特徴とする請求項６記載の
ビーム光装置装置。 - 【請求項９】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の同一形状の光
検知部と、この複数の同一形状の光検知部を挟むように
配置された２つ以上の光検知部とで検知するビーム光位
置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の前記複数の同一形状の光検
知部と前記２つ以上の光検知部からのそれぞれの検知結
果に基づいて前記走査手段により走査されるビーム光の
前記被走査面における通過位置を所定位置に制御する制
御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項１０】 前記ビーム光位置検知手段における複
数の同一形状の光検知部を挟むように配置された２つ以
上の光検知部の形状は、前記複数の同一形状の光検知部
より前記ビーム光走査方向とほぼ直角方向の大きさが大
きいことを特徴とする請求項９記載のビーム光走査装
置。 - 【請求項１１】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、 このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した
後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からの出力を積分する積分手段と、 この積分手段の積分結果を基にして前記走査手段により
走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を
所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項１２】 前記積分手段は、前記ビーム光通過検
知手段の出力によって積分値のリセットを行った後、積
分動作を開始することを特徴とする請求項１１記載のビ
ーム光走査装置。 - 【請求項１３】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第１のビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
後に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手段と、 前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部からの出力を積分する積分手段と、 前記第２のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記積分手段の積分結果をアナログ信号から
デジタル信号に変換する変換手段と、 この変換手段で変換されたデジタル信号を基にして前記
走査手段により走査されるビーム光の前記被走査面にお
ける通過位置を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項１４】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部
の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差
動増幅手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、 このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した
後、前記差動増幅手段からの出力を積分する積分手段
と、 この積分手段の積分結果を基にして前記走査手段により
走査されるビーム光の前記被走査面における通過位置を
所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項１５】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部
の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差
動増幅手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第１のビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
後に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手段と、 前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記差動増幅手段からの出力を積分する積分
手段と、 前記第２のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記積分手段の積分結果をアナログ信号から
デジタル信号に変換する変換手段と、 この変換手段で変換されたデジタル信号を基にして前記
走査手段により走査されるビーム光の前記被走査面にお
ける通過位置を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項１６】 ビーム光を出力するビーム光発生手段
と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を被走査
面へ向けて反射し、前記ビーム光により前記被走査面を
走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部
からのそれぞれの出力に応じて前記走査手段により走査
されるビーム光の前記被走査面における通過位置の変更
量を制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項１７】 ビーム光を出力する複数のビーム光発
生手段と、 この複数のビーム光発生手段から出力される複数のビー
ム光を被走査面へ向けて反射し、前記ビーム光により前
記被走査面を走査する走査手段と、 前記被走査面の近傍に配設され、前記走査手段により走
査されるビーム光を、前記ビーム光の走査方向に対して
ほぼ直角方向に並列して配置された複数の光検知部で検
知し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、 前記複数のビーム光発生手段のうちの１つを選択して１
つのビーム光を発光させる選択手段と、 この選択手段で選択されて発光されたビーム光が前記走
査手段により走査された際、前記ビーム光位置検知手段
で検知される複数の光検知部からのそれぞれの出力に基
づいて前記走査手段により走査されるビーム光の前記ビ
ーム光位置検知手段における通過位置を変更する変更手
段と、 前記選択手段を用いて前記複数のビーム発生手段で発生
させるビーム光を所定の順番で発光させ、前記変更手段
で変更された前記ビーム光位置検知手段における通過位
置を前記所定の順番で確認し、前記複数のビーム発生手
段で発生される各ビーム光の前記ビーム光位置検知手段
における通過位置が目標位置となるように制御する制御
手段と、 を具備したことを特徴とするビーム光走査装置。 - 【請求項１８】 ビーム光により像担持体上を走査露光
することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
成装置であって、 ビーム光を出力するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を像担持
体上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体
上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置
検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部
からのそれぞれの出力に基づいて前記走査手段により走
査されるビーム光の前記像担持体上における通過位置を
所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項１９】 前記ビーム光位置検知手段の複数の光
検知部は、前記ビーム光走査方向のほぼ直角方向に並列
して上記画像形成装置の解像度で規定される等間隔で配
置されていることを特徴とする請求項１８記載の画像形
成装置。 - 【請求項２０】 複数のビーム光により像担持体上を走
査露光することにより前記像担持体上に画像を形成する
画像形成装置であって、 ビーム光を出力する複数のビーム光発生手段と、 この複数のビーム光発生手段から出力された複数のビー
ム光を像担持体上へ向けて反射し、前記複数のビーム光
により前記像担持体上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置
検知手段と、 前記複数のビーム光発生手段のうちの１つを選択して１
つのビーム光を発光させる選択手段と、 この選択手段で選択されて発光されたビーム光が前記走
査手段により走査された際、前記ビーム光位置検知手段
で検知される複数の光検知部からのそれぞれの出力に基
づいて、前記ビーム光が、前記複数の光検知部のうち前
記ビーム光の目標位置に対応する位置の隣り合う２つの
光検知部の間を通過するように制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項２１】 ビーム光により像担持体上を走査露光
することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
成装置であって、 ビーム光を出力するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を像担持
体上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体
上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の同一形状の光検知部と、この複数の同一形状の光検知
部を挟むように配置された２つ以上の光検知部とで検知
し、検知結果を出力するビーム光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される前記複数の同一
形状の光検知部と前記２つ以上の光検知部からのそれぞ
れの出力に基づいて前記走査手段により走査されるビー
ム光の前記像担持体上における通過位置を所定位置に制
御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項２２】 ビーム光により像担持体上を走査露光
することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
成装置であって、 ビーム光を出力するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を像担持
体上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体
上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置
検知手段と、 このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、 このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した
後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数の光検
知部からの出力を積分する積分手段と、 この積分手段の積分結果を基にして前記走査手段により
走査されるビーム光の前記像担持体上における通過位置
を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項２３】 ビーム光により像担持体上を走査露光
することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
成装置であって、 ビーム光を出力するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を像担持
体上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体
上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置
検知手段と、 このビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第１のビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
後に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手段と、 前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記ビーム光位置検知手段で検知される複数
の光検知部からの出力を積分する積分手段と、 前記第２のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記積分手段の積分結果をアナログ信号から
デジタル信号に変換する変換手段と、 この変換手段で変換されたデジタル信号を基にして前記
走査手段により走査されるビーム光の前記像担持体上に
おける通過位置を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項２４】 ビーム光により像担持体上を走査露光
することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
成装置であって、 ビーム光を出力するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を像担持
体上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体
上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置
検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部
の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差
動増幅手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知するビーム光通過検知手段と、 このビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検知した
後、前記差動増幅手段からの出力を積分する積分手段
と、 この積分手段の積分結果を基にして前記走査手段により
走査されるビーム光の前記像担持体上における通過位置
を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項２５】 ビーム光により像担持体上を走査露光
することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
成装置であって、 ビーム光を出力するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を像担持
体上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体
上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍に配設され、前記走
査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム光の走
査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置された複数
の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム光位置
検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部
の隣り合う２つの光検知部からの出力を差動増幅する差
動増幅手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
前に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第１のビーム光通過検知手段と、 前記ビーム光位置検知手段の前記ビーム光の走査方向直
後に配設され、前記走査手段によって走査されるビーム
光の通過を検知する第２のビーム光通過検知手段と、 前記第１のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記差動増幅手段からの出力を積分する積分
手段と、 前記第２のビーム光通過検知手段でビーム光の通過を検
知した後、前記積分手段の積分結果をアナログ信号から
デジタル信号に変換する変換手段と、 この変換手段で変換されたデジタル信号を基にして前記
走査手段により走査されるビーム光の前記像担持体上に
おける通過位置を所定位置に制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項２６】 ビーム光により像担持体上を走査露光
することにより前記像担持体上に画像を形成する画像形
成装置であって、 ビーム光を出力するビーム光発生手段と、 このビーム光発生手段から出力されたビーム光を像担持
体上へ向けて反射し、前記ビーム光により前記像担持体
上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍の位置に配設され、
前記走査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム
光の走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置され
た複数の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム
光位置検知手段と、 このビーム光位置検知手段で検知される複数の光検知部
からのそれぞれの出力に応じて前記走査手段により走査
されるビーム光の前記像担持体上における通過位置の変
更量を制御する制御手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項２７】 複数のビーム光により像担持体上を走
査露光することにより前記像担持体上に画像を形成する
画像形成装置であって、 ビーム光を出力する複数のビーム光発生手段と、 この複数のビーム光発生手段から出力される複数のビー
ム光を像担持体上へ向けて反射し、前記ビーム光により
前記像担持体上を走査する走査手段と、 前記像担持体上の被走査位置の近傍の位置に配設され、
前記走査手段により走査されるビーム光を、前記ビーム
光の走査方向に対してほぼ直角方向に並列して配置され
た複数の光検知部で検知し、検知結果を出力するビーム
光位置検知手段と、 前記複数のビーム光発生手段のうちの１つを選択して１
つのビーム光を発光させる選択手段と、 この選択手段で選択されて発光されたビーム光が前記走
査手段により走査された際、前記ビーム光位置検知手段
で検知される複数の光検知部からのそれぞれの出力に基
づいて前記走査手段により走査されるビーム光の前記ビ
ーム光位置検知手段における通過位置を変更する変更手
段と、 前記選択手段を用いて前記複数のビーム発生手段で発生
させるビーム光を所定の順番で発光させ、前記変更手段
で変更された前記ビーム光位置検知手段における通過位
置を前記所定の順番で確認し、前記複数のビーム発生手
段で発生される各ビーム光の前記ビーム光位置検知手段
における通過位置が目標位置となるように制御する制御
手段と、 を具備したことを特徴とする画像形成装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23319896A JP3239072B2 (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | ビーム光走査装置および画像形成装置 |
| EP97114771A EP0827326B1 (en) | 1996-09-03 | 1997-08-26 | Light beam scanning apparatus for use with image forming apparatus |
| DE69728483T DE69728483T2 (de) | 1996-09-03 | 1997-08-26 | Lichtstrahlabtastgerät zur Verwendung mit Bilderzeugungsgerät |
| US08/919,274 US6243123B1 (en) | 1996-09-03 | 1997-08-28 | Light beam scanning apparatus for use with image forming apparatus |
| CN97117925A CN1115857C (zh) | 1996-09-03 | 1997-09-02 | 成像装置用的光扫描装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23319896A JP3239072B2 (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | ビーム光走査装置および画像形成装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1076704A true JPH1076704A (ja) | 1998-03-24 |
| JP3239072B2 JP3239072B2 (ja) | 2001-12-17 |
Family
ID=16951294
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23319896A Expired - Fee Related JP3239072B2 (ja) | 1996-09-03 | 1996-09-03 | ビーム光走査装置および画像形成装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6243123B1 (ja) |
| EP (1) | EP0827326B1 (ja) |
| JP (1) | JP3239072B2 (ja) |
| CN (1) | CN1115857C (ja) |
| DE (1) | DE69728483T2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6249307B1 (en) | 1998-12-22 | 2001-06-19 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus using plural beam scanning |
| US6323889B1 (en) | 1998-11-13 | 2001-11-27 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Multi-beam exposure apparatus having mirror tilt angle control, image forming apparatus that employs the exposure apparatus, and image forming method |
| US6392684B1 (en) | 1999-06-29 | 2002-05-21 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus and image forming method |
| US6426767B1 (en) | 2000-12-29 | 2002-07-30 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus for maintaining a constant beam scanning state |
| US6462855B1 (en) | 1999-09-24 | 2002-10-08 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Light beam scanning apparatus |
| US6496213B1 (en) | 1999-09-28 | 2002-12-17 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Multi-beam control method |
| US6812948B1 (en) | 1998-12-15 | 2004-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus and image forming apparatus |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0902586B1 (en) | 1997-09-10 | 2005-11-16 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus and image forming apparatus |
| JP4197556B2 (ja) | 1998-12-15 | 2008-12-17 | 株式会社東芝 | ビーム光走査装置 |
| US6693658B2 (en) | 2001-12-20 | 2004-02-17 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus |
| US6661444B2 (en) | 2002-04-30 | 2003-12-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus |
| US6833853B2 (en) * | 2002-11-27 | 2004-12-21 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus and image forming apparatus |
| US6877838B2 (en) * | 2002-12-20 | 2005-04-12 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Detection of in-flight positions of ink droplets |
| KR100709365B1 (ko) * | 2005-05-24 | 2007-04-20 | 삼성전자주식회사 | 위치제어장치, 및 그것을 구비하는 스캐너와 화상형성장치 |
| US7570386B2 (en) * | 2005-09-15 | 2009-08-04 | Lexmark International, Inc. | Systems and methods that compensate for scan path errors in a multi-beam electrophotographic imaging apparatus |
| JP4868923B2 (ja) | 2006-04-12 | 2012-02-01 | キヤノン株式会社 | 光走査装置および画像形成装置 |
| JP2007283512A (ja) | 2006-04-12 | 2007-11-01 | Canon Inc | 画像形成装置、光学走査装置および自動光量制御方法 |
| US9363399B2 (en) * | 2014-03-03 | 2016-06-07 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image reading device and copier |
| JP6972638B2 (ja) * | 2017-04-27 | 2021-11-24 | コニカミノルタ株式会社 | 画像形成装置 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4404571A (en) * | 1980-10-14 | 1983-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Multibeam recording apparatus |
| US4864326A (en) * | 1985-03-18 | 1989-09-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Dual beam recorder |
| JPH0694215B2 (ja) * | 1985-04-24 | 1994-11-24 | 株式会社日立製作所 | レーザプリンタ装置及びその走査方法 |
| KR910009142B1 (ko) * | 1988-08-12 | 1991-10-31 | 가부시기가이샤 히다찌세이사꾸쇼 | 복수 광빔의 주사빔 주사간격을 가변으로 하는 제어수단을 구비한 광빔주사장치 |
| EP0406844A3 (en) * | 1989-07-05 | 1992-08-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| JPH0357452A (ja) | 1989-07-27 | 1991-03-12 | Fujitsu Ltd | 剤データの集約方式 |
| US5018808A (en) * | 1989-12-26 | 1991-05-28 | Eastman Kodak Company | Method and apparatus for beam displacement in a light beam scanner |
| JPH03266463A (ja) * | 1990-03-15 | 1991-11-27 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | フォトセンサおよびそれを用いた画像走査装置 |
| US5541637A (en) * | 1992-07-30 | 1996-07-30 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Image exposure apparatus with compensation for variations in scanning rate |
-
1996
- 1996-09-03 JP JP23319896A patent/JP3239072B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-08-26 DE DE69728483T patent/DE69728483T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-26 EP EP97114771A patent/EP0827326B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-28 US US08/919,274 patent/US6243123B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-09-02 CN CN97117925A patent/CN1115857C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6323889B1 (en) | 1998-11-13 | 2001-11-27 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Multi-beam exposure apparatus having mirror tilt angle control, image forming apparatus that employs the exposure apparatus, and image forming method |
| US6812948B1 (en) | 1998-12-15 | 2004-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Light beam scanning apparatus and image forming apparatus |
| US6249307B1 (en) | 1998-12-22 | 2001-06-19 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus using plural beam scanning |
| US6392684B1 (en) | 1999-06-29 | 2002-05-21 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus and image forming method |
| US6462855B1 (en) | 1999-09-24 | 2002-10-08 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Light beam scanning apparatus |
| US6496213B1 (en) | 1999-09-28 | 2002-12-17 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Multi-beam control method |
| US6426767B1 (en) | 2000-12-29 | 2002-07-30 | Toshiba Tec Kabushiki Kaisha | Image forming apparatus for maintaining a constant beam scanning state |
| US6646668B2 (en) | 2000-12-29 | 2003-11-11 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Image forming apparatus for maintaining a constant beam scanning state |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0827326A2 (en) | 1998-03-04 |
| US6243123B1 (en) | 2001-06-05 |
| EP0827326B1 (en) | 2004-04-07 |
| CN1115857C (zh) | 2003-07-23 |
| DE69728483D1 (de) | 2004-05-13 |
| JP3239072B2 (ja) | 2001-12-17 |
| DE69728483T2 (de) | 2005-03-24 |
| CN1176409A (zh) | 1998-03-18 |
| EP0827326A3 (en) | 1999-01-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3239072B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP3154938B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP3172092B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP4308338B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| US7187397B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| JP3209690B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP2001091872A (ja) | ビーム光走査装置 | |
| JP4025522B2 (ja) | ビーム光走査装置及び画像形成装置 | |
| US6693658B2 (en) | Light beam scanning apparatus | |
| JP3925997B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP2000284198A (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP3936034B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JPH11212003A (ja) | ビーム光走査装置、画像形成装置および画像形成装置の調整方法 | |
| JP4308783B2 (ja) | 画像形成装置 | |
| JPH06160746A (ja) | レーザ走査装置 | |
| JP4368961B2 (ja) | ビーム光走査装置および画像形成装置 | |
| JP2775745B2 (ja) | 電子写真装置の帯電制御方法 | |
| JP2001004936A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2000187168A (ja) | 画像形成装置 | |
| JPH1020222A (ja) | 光走査装置及びこの光走査装置を利用した画像形成装置 | |
| JPH07242016A (ja) | 画像形成装置 | |
| JP2000141753A (ja) | 画像形成装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081005 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081005 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091005 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101005 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111005 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111005 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121005 Year of fee payment: 11 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131005 Year of fee payment: 12 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |