JPH1069626A - 磁気薄膜ヘッドのエア・ベアリング面用シリコン膜 - Google Patents

磁気薄膜ヘッドのエア・ベアリング面用シリコン膜

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JPH1069626A
JPH1069626A JP9196641A JP19664197A JPH1069626A JP H1069626 A JPH1069626 A JP H1069626A JP 9196641 A JP9196641 A JP 9196641A JP 19664197 A JP19664197 A JP 19664197A JP H1069626 A JPH1069626 A JP H1069626A
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silicon film
slider
silicon
air bearing
bearing surface
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JP9196641A
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Shii Chien Pei
ペイ・シィ・チェン
Lim Gorman Grace
グレース・リム・ゴーマン
Wan Chiengi
チェンギ・ワン
Reiman Bedansamu
ベダンサム・レイマン
George Simons Randal
ランダル・ジョージ・シモンズ
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    • G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
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    • G11B5/6082—Design of the air bearing surface

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
  • Magnetic Heads (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、磁気薄膜ヘッドのエア・ベアリン
グ面のシリコン膜のオーバーコートとしてＴｉＷ等の金
属膜に代えて、厚みのあるシリコン膜を提供する。 【解決手段】 シリコン膜は、ヘッドとディスクとの間
に耐性界面を与えるほか、浮揚高さを測定する反射表面
として働く。シリコン膜を磁極片で平坦化することで磁
気隙間損失が防止される。シリコン膜の厚みは好適には
１２５ 乃至６５００ である。スライダ本体はシリコ
ン膜がシリコン・スライダ本体とほぼ同一になり、よっ
てそれらの間の熱膨張の不一致が防止されるように作製
することができる。シリコン膜は好適には、シリコンの
被着率が高く、高濃度で低応力のシリコン膜が形成され
るマグネトロン・スパッタリング法により与えられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、一般的には、磁気
薄膜ヘッドのスライダに関して、特にエア・ベアリング
面にシリコン膜が形成された磁気薄膜ヘッドのスライダ
に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置は、外部記憶装置とし
て広く用いられている。磁気ディスク装置には、磁気デ
ィスク、磁気ディスクを回転させるモータ、磁気ディス
クに沿って径方向に移動可能なスライダ、及び磁気ディ
スクに対して読取りと書込みの操作を行うためスライド
に装着される磁気ヘッドを含む。
【０００３】記録密度を高めるために、ヘッドと磁気デ
ィスク表面の分離を少なくすることが求められている。
現在市販されている記憶装置には、通常動作時に流体力
学的エア・ベアリングに乗るスライダが用いられる。デ
ィスクは通常は接触を開始／停止する操作や、時々生じ
る荒い接触のときにディスクやスライダの摩耗を防ぐた
めに、ペルフルオロポリエーテル（ＰＥＰＥ）等の潤滑
剤で覆われる。記録に関する現在の考え方には正接と近
接の２つがある。正接記録には、摩耗率の低い物質がコ
ーティングされた小型スライダが用いられる。このスラ
イダは、ディスクに対して直接摺動可能である。近接記
録では、液体ベアリング面またはエア・ベアリング面に
よりヘッドとディスクが分離される。
【０００４】しかしそれでも、いずれの記録方式であっ
ても、スライダは使用されていないときには磁気ディス
ク表面にとどまることがある。しかし、情報の取得や記
録のときは磁気ディスクは回転している。ディスクが最
初に回転を始めるとき、スライダは磁気ディスク表面に
沿って摺動する。近接記録では、ディスクの回転が速く
なると、空気の境界膜が形成され、そのためスライダは
ディスクから離れ、ディスク表面上に"浮揚"する。ディ
スク・ドライブへの電力の供給がまた断たれると、ディ
スクの回転速度は徐々に低下し、スライダはディスク上
に降下し、ディスクが静止するまでディスク表面に沿っ
て摺動する。
【０００５】スライダとディスクの接触によりいくつか
問題が生じる。いずれの記録方式でも、スライダはディ
スクの起動時と減速時にディスク表面に直接接触して摺
動することがある。この摩擦接触がディスクとスライダ
の摩耗の原因である。ディスクの摩耗が大きすぎれば、
ディスクの有効耐用期間が短くなる。
【０００６】更に、近接記録方式でも、ディスクが回転
速度の上限に達しているときには、スライドとディスク
の接触が生じることがある。通常、空気の境界膜はディ
スク上でスライダを支持するように働くが、他の場合は
滑らかなディスク表面の高い点（凹凸）により、スライ
ダがディスク上のこうした凹凸に接触することがある。
ディスク上のこれらの凹凸にスライダが影響を与えると
き、スライダはしばしばディスク表面を削り取り、その
ためディスク表面の劣化が促進され、これはヘッドとス
ライダが破損する原因になる。
【０００７】従って、スライダとディスク表面の破損を
防止する必要があり、これは、すなわち磁気薄膜ヘッド
の製造時にエア・ベアリング面に最終層を被着させるこ
とによって行われる。この表面は、ファイル動作時にヘ
ッドとディスクの耐性界面になる。最終層のもう１つの
役割は、浮揚高さを測定できる表面を提供することであ
る。シンプル且つ一貫した光学特性を持つ表面等が考え
られる。耐性界面を与えるためには摩擦が少なく、耐性
があり、機械的に強固なコーティングが必要である。浮
揚高さの測定を可能にする表面を与えるには、光学反射
性がある単層材が必要である。ＳｉＮ、ＳｉＣ、Ｔｉ
Ｎ、ＤＬＣ、ＴｉＷ等多くの物質が試されているが、こ
のような物質は第１基準や第２基準を満たしていない。
例えばシリコン・スライダの場合、コーティングはシリ
コン・スライダ本体と同一ではない。本体では熱膨張が
一致せず、機械的応力が生じる。従って、ファイルによ
る温度変化を受け、安定したスライダ寸法（クラウン、
キャンバ、ピッチ等）を維持できない。
【０００８】ＴｉＷ等の金属膜で、ヘッドとディスクの
界面耐性の問題を克服するために、ヘッドを接続する最
終段階で水素添加炭素のオーバーコートが被着されてい
る。
【０００９】Grillらによる米国特許番号第５１５９５
０８号とChangらによる米国特許番号第５１７５６５８
号は、スライダのエア・ベアリング面に炭素の接着膜と
薄膜を被着するため、ＲＦプラズマ被着装置でＤＣバイ
アス基板を使用することについて述べている。これらの
参考文献で述べられているのは接着膜を厚み１０ 乃至
５０ （つまり１ｎｍ乃至５ｎｍ）まで、炭素膜を厚み
５０ 乃至１０００ （つまり５ｎｍ乃至１００ｎｍ）
まで、スライダの平坦面に被着することである。次に、
エッチング法により、エア・ベアリング面にレールを含
むパターン領域が形成される。次に溶剤によりエッチン
グを制御するために用いられたフォトレジストが除去さ
れる。
【００１０】しかしこうした方法には欠点がある。ま
ず、GrillとChangの文献に述べられている方法では、保
護膜（及びChangの文献に述べられているマスク層）に
よりスライダが保護される。これらの膜は、その後、パ
ターン化エア・ベアリング面を形成するため行われるエ
ッチングのとき、またエッチングの後にフォトレジスト
を溶剤で除去するときに、スライダを保護するために必
要である。
【００１１】残念ながらこの方法では、エッチング工程
でセンサが破損しないように、スライダ全体にかなりの
厚みのコーティングが必要である。またこの方法では、
スライダのエア・ベアリング面に及ぶコーティング材の
深さを制御できない。特に、スライダにパターン表面を
形成し、フォトレジスト材を除去するためのエッチング
と溶剤除去の段階では、コーティングが制御されない形
で除去される。そのため、スライダのエア・ベアリング
面でコーティング厚みが変化する。
【００１２】その他、この方法では、炭素オーバーコー
トの厚みにより磁気隙間が大きくなる。磁気隙間のこの
増加は浮揚高さが小さいとき大きな意味を持つ。増加分
は総隙間の５０％も占め、ファイル性能を低下させるか
らである。
【００１３】従って、ＴｉＷに比べて耐性と光学的性質
が良好なオーバーコート材が必要である。
【００１４】また、スライダに対する熱膨張や機械的応
力をあまり考慮する必要のない、シリコン等、異なるス
ライダ本体の物質と両立するオーバーコート材が必要で
ある。
【００１５】更に磁気隙間損失のないオーバーコート材
が求められる。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、磁気薄膜ヘ
ッドのエア・ベアリング面のシリコン膜を開示する。
【００１７】本発明は、ＴｉＷ等の金属膜に代わる厚い
シリコン膜を薄膜ヘッドのオーバーコートとして提供す
る。シリコン膜は、ポール・チップにより磁気隙間損失
を防ぐことで平坦化できる。更に、本発明を採用したス
ライダは、正接、近接両方の記録システムに適用するこ
とができる。
【００１８】
【課題を解決するための手段】本発明の原理に従ったシ
ステムは、先端と後端を持つスライダ構造、エア・ベア
リング面を形成する前記スライダ構造のパターン化領
域、及びパターン化領域の保護シリコン膜を含む。
【００１９】本発明の１つの態様は、パターン化領域に
少なくとも１つのレールが含まれることである。
【００２０】本発明の他の態様は、シリコン膜の厚みが
約１２５ であることである。
【００２１】本発明の他の態様は、前記保護膜の厚みが
約６５００ 以下であることである。
【００２２】本発明の他の態様は、スライダ構造がシリ
コンから作られ、シリコン膜は、シリコン・スライダ本
体と同一であるため、それらの間の熱膨張の不一致が防
止されることである。
【００２３】本発明の他の態様は、シリコン膜が浮揚高
さを正確に測定するための良好な基準面を与える光学的
性質を含むことである。
【００２４】本発明の他の態様は、シリコン膜が平坦化
されて磁気隙間損失が防止されることである。
【００２５】本発明の他の態様は、シリコン膜がスパッ
タリング法により被着されることである。
【００２６】本発明の他の側面は、スパッタリング法に
より、シリコンの被着率が高くなり、高濃度で低応力の
シリコン膜が形成されることである。
【００２７】
【発明の実施の形態】実施例について説明する際に、実
施例の一部である図面を参照し、説明の便宜上、本発明
を採用できる具体例も示しているが、他の実施例も、構
造的変更が加えられるときには、本発明の範囲から逸脱
することなく採用することができる。
【００２８】本発明は、薄膜ヘッドのオーバーコートと
して、ＴｉＷ等の金属膜に代わる厚みのあるシリコン膜
を提供するものである。シリコン膜は、変換器と記憶媒
体の間の耐性界面を提供する一方、浮揚高さを測定する
ための反射面にもなる。
【００２９】図１は、磁気記憶システム１０の分解平面
図を示す。ディスク・ドライブ１０は、ハウジング１２
とハウジング・カバー１４を含む。カバー１４は組み立
て後にフレーム１６に装着される。ハウジング内に装着
されるのはスピンドル軸２２である。スピンドル軸２２
に回転可能に装着されるのは、複数の磁気ディスク２４
である。図１では複数のディスク２４が、離隔した関係
下でスピンドル軸２２に装着される。ディスク２４はモ
ータ（図示なし）により駆動されるスピンドル軸２２周
りを回転する。情報はスライダ２６により支持されるヘ
ッド、つまり磁気変換器（図示なし）によって、ディス
クとの間で読み書きされる。本発明に従ったスライダ２
６は、好適には、支持材つまり負荷バネ２８に接続され
る。負荷バネ２８は、櫛状のＥブロック３２上の個別ア
ーム３０に装着される。櫛状Ｅブロック３２は、アクチ
ュエータ・アーム・アセンブリ３６の一端に装着され
る。アクチュエータ・アーム・アセンブリ３６は、アク
チュエータ軸３８上のハウジング１２内に回転可能に装
着される。回転式アクチュエータ・アセンブリ３６は、
本発明に従った変換器と支持材の統合アセンブリを記憶
ディスク２４の表面にそった円弧状のパス上で移動させ
る。ただし当業者には明らかなように、本発明は、上に
述べた特定の記憶装置での使用に限定されるものではな
い。例えば、本発明に従ってエア・ベアリング面にシリ
コン膜を持つ磁気薄膜ヘッドは、テープ・ドライブ等、
他の記録装置にも等しく適用できることは理解されよ
う。
【００３０】図２は、代表的な薄膜磁気ヘッド２００の
形成を示す。ここでも当業者には明らかなように、磁気
ヘッドについては他の方法や種類のものも製造でき、本
発明は、ここに述べている具体的な磁気ヘッドに限定さ
れるものではない。薄膜ヘッド２００のアセンブリは、
シリコン等の形成された基板２０２に薄膜を被着するこ
とによって形成される。基板２０２には表面に対して異
方性エッチングが行われたリッジ２０４を設けてもよ
く、リッジ２０４は３つの結晶層２０６、２０８、２１
０を境界とすることができる。結晶層２０６、２０８、
２１０は、リッジ２０４の端部の水晶面にヘッドの磁極
片２１２が形成されるように被着される。余分な磁極片
材２１４が除去されて、変換動作が行われる隙間が形成
される。
【００３１】製造プロセスは、酸化シリコン基板（ウエ
ハ）２０２のマスキングとエッチングから始まる。シリ
コン基板２０２のエッチングは異方性エッチング剤で行
われる。これによりリッジ２０４が残り、４面で水晶層
２０６、２０８、２１０が境界をなす。シリコン基板２
０２は再び酸化され、シリコン膜２０２の表面に薄膜ヘ
ッド２２０が形成される。薄膜ヘッド２２０は、磁極片
２１２がリッジ２０４の表面に対して平坦になるよう位
置付けられる。基板（ウエハ）は次に軽く研磨され、磁
極片材２１４が除去される。
【００３２】その後、基板（ウエハ）２００は、スライ
スされてスライダの並びが形成され、スライダはそれぞ
れ空気力学的な一体型リッジを持つ。次に、リッジ２０
４は面取りされてエア・ベアリング面が更に画成され、
スライダの並びから個々の要素が切り出される。エッチ
ングを採用したヘッド製造法により、機械加工と研磨の
工程が簡素化される。
【００３３】図３は、代表的なエア・ベアリング面が形
成されたスライダ３００を示す。当業者には明らかなよ
うに、他の種類のスライダも製造でき、本発明は、ここ
に述べている特定のスライダに限定されるものではな
い。
【００３４】スライダ３００は、前面エッジ３１２、後
面エッジ３１４、及び２つの側面エッジ３１６、３１８
を含む。ある空気力学的性能規格を満たすための２つの
エア・ベアリング面、つまりレール３２０、３２２、及
び中央レール３２４を支持構造材３２６に配置すること
ができる。変換器つまり磁気ヘッド３２８はディスク上
で読取り／書込み操作を行うため、中央レール３２４の
後面エッジ側に配置される。これに代えて側面レール構
成として、側面レール３２０、３２２に磁気ヘッド（変
換器）３２８を形成することもできる。その場合、側面
レール３２０、３２２は後面エッジ３１４まで延長され
る。
【００３５】図４を参照する。本発明の重要な側面は、
エア・ベアリング面を含むスライダ下部にシリコンの保
護膜を与える方法である。シリコンを被着するため、好
適にはＤＣマグネトロン・スパッタリング法が用いられ
る。ただし当業者には明らかなようにスライダの形成時
にシリコン膜を形成したり、他の方法によりスライダに
被着することもできる。しかしそれでもＤＣマグネトロ
ン・スパッタリング法では、被着率が高く、この点は接
続工程として望ましい。というのは、被着工程で、高エ
ネルギ衝撃により高濃度の膜が得られるからである。よ
って、この高速マグネトロン・スパッタリング法によ
り、高濃度で低応力の膜がスライダに得られる。
【００３６】先に述べたように、シリコンは好適には、
ＤＣマグネトロン・スパッタリング法により被着され
る。最初、スライダ４２０の下部がエア・ベアリング面
４３９を含めて洗浄される。同様にスパッタリング・ソ
ース４５０すなわち"ターゲット"も同じように洗浄され
る。次に、保護膜は所定のマスク４６０に従って、スラ
イダ４２０のエア・ベアリング面側に被着される。
【００３７】本発明に従って、米国特許番号第４９４９
２０７号に開示されているプレーナ・シリコン等、スパ
ッタ被着シリコンの膜４２９が磁気ヘッドのエア・ベア
リング面４３９として用いられる。このシリコン膜４２
９は、ヘッドとディスクの間に塵埃のない界面を提供す
る。これにより記憶媒体と変換器の界面の信頼性が大幅
に向上する。
【００３８】シリコン・スライダの場合、このシリコン
膜は、好適にはシリコン・スライダ本体と組成が同一で
あり、従って、ファイルの温度変化とは無関係に熱膨張
の不一致はなく、安定したスライダ寸法（クラウン、キ
ャンバ、ピッチ等）が維持できる。最後に、シリコンの
光学的性質は周知の通りであり、シリコンはまた、正確
な浮揚高さ測定に望ましい良好な基準面を与える。
【００３９】厚みのある（４５００ のオーダの）単層
シリコン膜４２９や、薄い（１２５のオーダの）単層シ
リコン膜４２９を持つスライダが作られ、標準的な接触
起動／停止（ＣＳＳ）ステーションでテストされてい
る。図５、図６は、２０００サイクル後に得られた優れ
た結果を示す。
【００４０】図５は、厚み４５００ のシリコン膜を有
するスライダの接触起動／停止性能５００を示す。図５
の静止摩擦５０２は起動／停止サイクル数５０４の範囲
で描かれている。静止摩擦は、このサイクル範囲すなわ
ち２万サイクル５０６を通して、２ｇ未満（５０８）で
比較的一定した状態にとどまっている。
【００４１】図６は、厚み１２５の のシリコン膜を有
するスライダの接触起動／停止性能６００を示す。図６
の静止摩擦６０２は、起動／停止サイクル数６０４の範
囲で描かれている。ここでも静止摩擦は、サイクル範囲
６０６全体を通して、２ｇ未満（６０８）で比較的一定
した状態にとどまっている。
【００４２】テスト時、本発明に従ったシリコンのオー
バーコートを持つスライダは、長時間に及ぶ接触起動／
停止テストの後も、エア・ベアリング面に塵埃の堆積を
みせない。これとは対照的にエア・ベアリング面にＴｉ
Ｗ膜を持つスライダは、同じテストの後、エア・ベアリ
ング面にかなりの塵埃の堆積をみた。事実、エア・ベア
リング面にＴｉＷ膜を持つスライダは、１０００未満の
接触起動／停止サイクルの後に、かなりの塵埃の堆積に
よりクラッシュを始めた。
【００４３】まとめると、ここではＴｉＷに比べて、耐
性と光学的性質がほどよく組み合わせられたシリコン・
オーバーコートを開示している。シリコン・オーバーコ
ートは、熱膨張や機械的応力がスライダに与える影響を
ほとんど考慮する必要のないシリコン等、スライダ本体
の様々な物質に対応する。シリコン膜は磁極片で平坦化
できるので、磁気隙間損失を回避することができる。
【００４４】まとめとして、本発明の構成に関して以下
の事項を開示する。
【００４５】（１）磁気ヘッドを支持するスライダであ
って、先端、後端、及びエア・ベアリング面を持つスラ
イダ本体と、前記エア・ベアリング面のシリコン膜と、
を含む、スライダ。 （２）前記エア・ベアリング面は少なくとも１つのレー
ルを含む、前記（１）記載のスライダ。 （３）前記シリコン膜の厚みは約１２５ である、前記
（１）記載のスライダ。 （４）前記シリコン膜の厚みは約６５００ 以下であ
る、前記（１）記載のスライダ。 （５）前記スライダ本体はシリコンから作製される、前
記（１）記載のスライダ。 （６）前記シリコン膜は、前記スライダ本体の上側に被
着される、前記（１）記載のスライダ。 （７）前記シリコン膜は平坦化され、磁気隙間損失が防
止される、前記（１）記載のスライダ。 （８）前記シリコン膜はスパッタリング法により被着さ
れる、前記（１）記載のスライダ。 （９）前記スパッタリング法は、シリコンの被着率が高
くなるように選択される、前記（８）記載のスライダ。 （１０）前記シリコンの高被着率は、高濃度で低応力の
シリコン膜を形成するように選択される、前記（９）記
載のスライダ。 （１１）データを保存するため回転可能なディスクを持
つ、接触起動／停止式データ記録ディスク・ファイルに
用いられる変換器アセンブリであって、前端、後端及び
エア・ベアリング面を持つスライダ本体と、前記エア・
ベアリング面の少なくとも一部にあるシリコン膜と、前
記スライダの後端に形成された変換器と、を含む、変換
器アセンブリ。 （１２）前記シリコン膜はスパッタリング法により被着
される、前記（１１）記載のアセンブリ。 （１３）前記スパッタリング法は、シリコンの被着率が
高くなるように選択される、前記（１２）記載のアセン
ブリ。 （１４）前記シリコンの高被着率は、高濃度で低応力の
シリコン膜を形成するように選択される、前記（１３）
記載のアセンブリ。 （１５）前記シリコン膜の厚みは約１２５ である、前
記（１１）記載のアセンブリ。 （１６）前記シリコン膜の厚みは約６５００ 以下であ
る、前記（１１）記載のアセンブリ。 （１７）前記スライダ本体はシリコンから作製される、
前記（１１）記載のアセンブリ。 （１８）前記シリコン膜は前記スライダ本体の上側に被
着される、前記（１１）記載のアセンブリ。 （１９）前記シリコン膜は平坦化され、磁気隙間損失が
防止される、前記（１１）記載のアセンブリ。 （２０）複数のトラックを含む記憶媒体と、前端、後端
及びエア・ベアリング面を持つエア・ベアリング・スラ
イダ本体と、前記エア・ベアリング面の少なくとも一部
のシリコン膜と、前記スライダ本体の後端に配置された
変換器と、前記記憶媒体に接続され、前記変換器に対し
て前記記憶媒体を移動させるモータと、前記スライダ本
体に接続され、前記変換器が前記記憶媒体上の異なる領
域にアクセスでき、よって前記エア・ベアリング面と変
換器がシリコン膜による破損から保護されるように、前
記記憶媒体上のトラックの方向に対してほぼ横方向に前
記スライダ本体を移動させる、アクチュエータ・アセン
ブリと、を含む、データ記憶装置。 （２１）前記エア・ベアリング面は少なくとも１つのレ
ールを含み、前記シリコン膜は、前記少なくとも１つの
レール上に被着される、前記（２０）記載のデータ記憶
装置。 （２２）前記シリコン膜はスパッタリング法により被着
される、前記（２０）記載のデータ記憶装置。 （２３）前記スパッタリング法は、シリコンの被着率が
高くなるように選択される、前記（２２）記載のデータ
記憶装置。 （２４）前記シリコンの高被着率は、高濃度で低応力の
シリコン膜を形成するように選択される、前記（２３）
記載のデータ記憶装置。 （２５）前記シリコン膜の厚みは約１２５ である、前
記（２０）記載のデータ記憶装置。 （２６）前記シリコン膜の厚みは約６５００ 以下であ
る、前記（２０）記載のデータ記憶装置。 （２７）前記スライダ本体はシリコンから作製される、
前記（２０）記載のデータ記憶装置。 （２８）前記シリコン膜は前記スライダ本体の上側に被
着される、前記（２０）記載のデータ記憶装置。 （２９）前記シリコン膜は平坦化され、磁気隙間損失が
防止される、前記（２０）記載のデータ記憶装置。 （３０）前記記憶媒体はディスクである、前記（２０）
記載のデータ記憶装置。 （３１）前記記憶媒体は磁気テープであり、前記シリコ
ン膜は、接触記録時に保護機能を与える、前記（２０）
記載のデータ記憶装置。 （３２）先端、後端及びエア・ベアリング面を持つスラ
イダ本体を形成するステップと、前記エア・ベアリング
面にシリコン膜を与えるステップと、を含む、スライダ
作製方法。 （３３）前記スライダ本体を形成するステップは、少な
くとも１つのレールを形成するステップを含む、前記
（３２）記載の方法。 （３４）前記シリコン膜を与えるステップは、約１２５
のシリコン膜を被着するステップを含む、前記（３
２）記載の方法。 （３５）前記シリコン膜を与えるステップは、約６５０
０ 以下のシリコン膜を被着するステップを含む、前記
（３２）記載の方法。 （３６）前記スライダ本体を形成するステップは、シリ
コンからスライダ本体を作製するステップを含む、前記
（３２）記載の方法。 （３７）前記シリコン膜を与えるステップは、組成がス
ライダ本体とほぼ同一であるシリコン膜を形成するステ
ップを含む、前記（３２）記載の方法。 （３８）前記シリコン膜を与えるステップは、前記スラ
イダ本体の上側にシリコンを被着するステップを含む、
前記（３２）記載の方法。 （３９）前記シリコン膜を与えるステップは、シリコン
膜を平坦化して磁気隙間損失を防止するステップを含
む、前記（３２）記載の方法。 （４０）前記シリコン膜を与えるステップは、前記エア
・ベアリング面にシリコン膜をスパッタするステップを
含む、前記（３２）記載の方法。 （４１）前記シリコン膜をスパッタするステップは、シ
リコンの被着率が高くなるように選択される、前記（４
０）記載の方法。 （４２）前記シリコンの高被着率は、高濃度で低応力の
シリコン膜を形成するように選択される、前記（４１）
記載の方法。
【図面の簡単な説明】
【図１】磁気記憶システムの分解平面図である。
【図２】本発明に従ってシリコン膜を使用できる代表的
な薄膜磁気ヘッドの形成を示す図である。
【図３】本発明に従ってシリコン膜を使用できる代表的
なエア・ベアリング面が形成されたスライダを示す図で
ある。
【図４】スライダ下部にシリコンの保護膜を置く方法を
示す図である。
【図５】厚み４５００ のシリコン膜を持つスライダの
接触起動／停止性能を示す図である。
【図６】厚み１２５ のシリコン膜を持つスライダの接
触起動／停止性能を示す図である。
【符号の説明】
１０ 磁気記憶システム １２ ハウジング １４ ハウジング・カバー １６ フレーム ２２ スピンドル軸 ２４ 磁気ディスク ２６ スライダ ２８ 負荷バス ３０ 個別アーム ３２ 櫛状Ｅブロック ３６ アクチュエータ・アセンブリ ３８ アクチュエータ軸 ２００ 薄膜磁気ヘッド ２０２ 基板 ２０４ リッジ ２０６、２０８、２１０ 結晶層 ２１２ 磁極片 ２１４ 磁極片材 ２２０ 薄膜ヘッド ３００、４２０ スライダ ３１２ 前面エッジ ３１４ 後面エッジ ３１６、３１８ 側面エッジ ３２０、３２２ レール ３２４ 中央レール ３２６ 支持構造材 ３２８ 磁気ヘッド ４２９ シリコン膜 ４３９ エア・ベアリング面 ４５０ スパッタリング・ソース ４６０ マスク ５００ 接触起動／停止性能 ５０２ 静止摩擦
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 グレース・リム・ゴーマン アメリカ合衆国95135、カリフォルニア州 サン・ホセ、メドウランズ・レーン 3271 (72)発明者 チェンギ・ワン アメリカ合衆国95120、カリフォルニア州 サン・ホセ、ドレン・プレース 6687 (72)発明者 ベダンサム・レイマン アメリカ合衆国95123、カリフォルニア州 サン・ホセ、アベニダ・パーマス 407 (72)発明者 ランダル・ジョージ・シモンズ アメリカ合衆国95120、カリフォルニア州 サン・ホセ、スタザー・コート 7180

Claims (30)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】磁気ヘッドを支持するスライダであって、 先端、後端、及びエア・ベアリング面を持つスライダ本
    体と、 前記エア・ベアリング面のシリコン膜と、 を含む、スライダ。
  2. 【請求項２】前記エア・ベアリング面は少なくとも１つ
    のレールを含む、請求項１記載のスライダ。
  3. 【請求項３】前記シリコン膜の厚みは約６５００ 以下
    である、請求項１記載のスライダ。
  4. 【請求項４】前記スイダ本体はシリコンから作製され
    る、請求項１記載のスライダ。
  5. 【請求項５】前記シリコン膜は、前記スライダ本体の上
    側に被着される、請求項１記載のスライダ。
  6. 【請求項６】前記シリコン膜は平坦化され、磁気隙間損
    失が防止される、請求項１記載のスライダ。
  7. 【請求項７】前記シリコン膜はスパッタリング法により
    被着される、請求項１記載のスライダ。
  8. 【請求項８】前記スパッタリング法は、シリコンの被着
    率が高くなるように選択される、請求項７記載のスライ
    ダ。
  9. 【請求項９】前記シリコンの高被着率は、高濃度で低応
    力のシリコン膜を形成するように選択される、請求項８
    記載のスライダ。
  10. 【請求項１０】データを保存するため回転可能なディス
    クを持つ、接触起動／停止式データ記録ディスク・ファ
    イルに用いられる変換器アセンブリであって、 前端、後端及びエア・ベアリング面を持つスライダ本体
    と、 前記エア・ベアリング面の少なくとも一部にあるシリコ
    ン膜と、 前記スライダの後端に形成された変換器と、 を含む、変換器アセンブリ。
  11. 【請求項１１】前記シリコン膜はスパッタリング法によ
    り被着される、請求項１０記載のアセンブリ。
  12. 【請求項１２】前記スパッタリング法は、シリコンの被
    着率が高くなるように選択される、請求項１１記載のア
    センブリ。
  13. 【請求項１３】前記シリコンの高被着率は、高濃度で低
    応力のシリコン膜を形成するように選択される、請求項
    １２記載のアセンブリ。
  14. 【請求項１４】前記シリコン膜の厚みは約６５００ 以
    下である、請求項１０記載のアセンブリ。
  15. 【請求項１５】前記スライダ本体はシリコンから作製さ
    れる、請求項１０記載のアセンブリ。
  16. 【請求項１６】前記シリコン膜は前記スライダ本体の上
    側に被着される、請求項１０記載のアセンブリ。
  17. 【請求項１７】前記シリコン膜は平坦化され、磁気隙間
    損失が防止される、請求項１０記載のアセンブリ。
  18. 【請求項１８】複数のトラックを含む記憶媒体と、 前端、後端及びエア・ベアリング面を持つエア・ベアリ
    ング・スライダ本体と、 前記エア・ベアリング面の少なくとも一部のシリコン膜
    と、 前記スライダ本体の後端に配置された変換器と、 前記記憶媒体に接続され、前記変換器に対して前記記憶
    媒体を移動させるモータと、 前記スライダ本体に接続され、前記変換器が前記記憶媒
    体上の異なる領域にアクセスでき、よって前記エア・ベ
    アリング面と変換器がシリコン膜による破損から保護さ
    れるように、前記記憶媒体上のトラックの方向に対して
    ほぼ横方向に前記スライダ本体を移動させる、アクチュ
    エータ・アセンブリと、 を含む、データ記憶装置。
  19. 【請求項１９】前記エア・ベアリング面は少なくとも１
    つのレールを含み、前記シリコン膜は、前記少なくとも
    １つのレール上に被着される、請求項１８記載のデータ
    記憶装置。
  20. 【請求項２０】前記シリコン膜はスパッタリング法によ
    り被着される、請求項１８記載のデータ記憶装置。
  21. 【請求項２１】前記スパッタリング法は、シリコンの被
    着率が高くなるように選択される、請求項２０記載のデ
    ータ記憶装置。
  22. 【請求項２２】前記シリコンの高被着率は、高濃度で低
    応力のシリコン膜を形成するように選択される、請求項
    ２１記載のデータ記憶装置。
  23. 【請求項２３】前記シリコン膜の厚みは約６５００ 以
    下である、請求項１８記載のデータ記憶装置。
  24. 【請求項２４】前記スライダ本体はシリコンから作製さ
    れる、請求項１８記載のデータ記憶装置。
  25. 【請求項２５】前記シリコン膜は前記スライダ本体の上
    側に被着される、請求項１８記載のデータ記憶装置。
  26. 【請求項２６】前記シリコン膜は平坦化され、磁気隙間
    損失が防止される、請求項１８記載のデータ記憶装置。
  27. 【請求項２７】前記記憶媒体はディスクである、請求項
    １８記載のデータ記憶装置。
  28. 【請求項２８】前記記憶媒体は磁気テープであり、前記
    シリコン膜は、接触記録時に保護機能を与える、請求項
    １８記載のデータ記憶装置。
  29. 【請求項２９】先端、後端及びエア・ベアリング面を持
    つスライダ本体を形成するステップと、 前記エア・ベアリング面にシリコン膜を与えるステップ
    と、 を含む、スライダ作製方法。
  30. 【請求項３０】前記スライダ本体を形成するステップ
    は、少なくとも１つのレールを形成するステップを含
    む、請求項２９記載の方法。
JP9196641A 1996-07-26 1997-07-23 磁気薄膜ヘッドのエア・ベアリング面用シリコン膜 Pending JPH1069626A (ja)

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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6532134B1 (en) * 1996-07-26 2003-03-11 International Business Machines Corporation Silicon coating on air bearing surface for magnetic thin film heads
US6466409B1 (en) * 1998-03-18 2002-10-15 International Business Machines Corporation Negative pressure slider with temperature-insensitive flying height for disk storage device
JP3992125B2 (ja) * 1999-04-08 2007-10-17 Ｔｄｋ株式会社 薄膜磁気ヘッド及びその保護膜形成方法
US6954978B1 (en) * 2000-10-10 2005-10-18 Maxtor Corporation Method for reducing corrosion of a head element during the manufacture of a disk drive
US7038884B1 (en) 2001-02-16 2006-05-02 Maxtor Corporation Flying-type disk drive slider with self-blending contact pad
US6995952B2 (en) * 2001-03-12 2006-02-07 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Head shock resistance and head load/unload protection for reducing disk errors and defects, and enhancing data integrity of disk drives
US6556380B2 (en) * 2001-04-10 2003-04-29 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Silicon sliders with trapezoidal shape and drie process for fabrication
US6771468B1 (en) 2001-10-22 2004-08-03 Western Digital Corporation Slider with high pitch-stiffness air bearing design
US7196016B2 (en) * 2003-09-29 2007-03-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Fabrication process for preparing recording head sliders made from silicon substrates with SiO2 overcoats
US7948712B2 (en) * 2006-05-18 2011-05-24 Seagate Technology Llc Dual thickness carbon overcoat
US8004796B2 (en) * 2007-08-21 2011-08-23 Seagate Technology Llc Slider with contact features initiated at wafer level
TWI443211B (zh) 2010-05-05 2014-07-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 鍍膜裝置
CN102234772B (zh) * 2010-05-06 2014-03-26 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜装置
US11097974B2 (en) 2014-07-31 2021-08-24 Corning Incorporated Thermally strengthened consumer electronic glass and related systems and methods
US9406323B2 (en) 2014-12-05 2016-08-02 HGST Netherlands B.V. Slider with aluminum compound fill
WO2017123573A2 (en) 2016-01-12 2017-07-20 Corning Incorporated Thin thermally and chemically strengthened glass-based articles
US11795102B2 (en) 2016-01-26 2023-10-24 Corning Incorporated Non-contact coated glass and related coating system and method
KR20220044538A (ko) 2019-08-06 2022-04-08 코닝 인코포레이티드 균열을 저지하기 위한 매장된 응력 스파이크를 갖는 유리 적층물 및 이를 제조하는 방법

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3928672A (en) * 1970-05-18 1975-12-23 Sperry Rand Corp Process for providing a hard coating to magnetic transducing heads
US5198934A (en) 1985-07-19 1993-03-30 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic disk device including a slider provided with a solid protecting layer which determines the distance between a magnetic gap and a magnetic disk recording device
JPH01184683A (ja) * 1988-01-12 1989-07-24 Seiko Epson Corp 浮動磁気ヘッド
US5136775A (en) 1989-01-19 1992-08-11 Pioneer Electronic Corporation Method of manufacturing a magnetic head having wear resisting films
JPH0325716A (ja) 1989-06-23 1991-02-04 Mitsubishi Electric Corp 磁気ヘッドスライダ
JPH0337878A (ja) * 1989-07-05 1991-02-19 Ibiden Co Ltd 磁気ディスク装置におけるスライダの動圧溝形成方法
US5175658A (en) 1990-12-27 1992-12-29 International Buiness Machines Corporation Thin film magnetic head having a protective coating and method for making same
US5159508A (en) 1990-12-27 1992-10-27 International Business Machines Corporation Magnetic head slider having a protective coating thereon
JP3106210B2 (ja) 1991-03-29 2000-11-06 ミネベア株式会社 浮動型磁気ヘッドスライダ
US5305165A (en) 1991-12-24 1994-04-19 International Business Machines Corporation Tribo-attractive contact data storage system
US5384195A (en) 1992-05-22 1995-01-24 U.S. Philips Corporation Antifriction body having an antifriction layer
JPH06150599A (ja) * 1992-11-12 1994-05-31 Nec Corp 磁気ヘッドスライダ
US5388017A (en) 1993-01-29 1995-02-07 International Business Machines Corporation Disk file with air-bearing slider having skids
US5336550A (en) 1993-05-18 1994-08-09 Applied Magnetics Corporation Carbon overcoat for magnetic head sliders
JPH07153031A (ja) * 1993-09-20 1995-06-16 Read Rite Corp 耐摩耗エンドキャップ付き空気浮上式薄膜磁気ヘッド
JPH07282555A (ja) * 1994-04-11 1995-10-27 Hitachi Metals Ltd 磁気ヘッド
JP2743851B2 (ja) * 1995-01-05 1998-04-22 日本電気株式会社 磁気ヘッド
US6532134B1 (en) * 1996-07-26 2003-03-11 International Business Machines Corporation Silicon coating on air bearing surface for magnetic thin film heads

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US6532134B1 (en) 2003-03-11
SG60072A1 (en) 1999-02-22
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US6117283A (en) 2000-09-12
KR100298962B1 (ko) 2001-09-03

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