JPH1062978A - 光開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版作成用感光性材料及び平版印刷版の作成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 新規な増感色素とラジカル発生剤を用いた光
開始剤、光重合組成物、ラジカル発生方法、平版印刷版
作成用感光性材料及び平版印刷版の作成方法を提供す
る。 【解決手段】 ラジカル発生剤及び一般式（１）又は
（２）で表される光開始剤。 更に、重合促進剤としてアミン化合物又は硫黄化合物を
含有する光開始剤。上記光開始剤とエチレン性不飽和結
合を有する化合物を含有する光重合組成物。上記光開始
剤を４８８ｎｍ又は５３２ｎｍの波長のレーザー光で露
光するラジカル発生方法。親水性支持体上に、上記光重
合組成物を含有する平版印刷版作成用感光性材料。該感
光性材料の感光性層に４８８ｎｍ又は５３２ｎｍの波長
のレーザ光で像様に走査露光を行った後、保護層及び感
光性層の未露光部を溶出除去する平版印刷版の作成方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規な増感色素とラ
ジカル発生剤を用いた光開始剤、光重合組成物、ラジカ
ル発生方法、平版印刷版作成用感光性材料および平版印
刷版の作成方法、に関し、更に詳しくは、増感色素とし
てピラゾロン系のメチン、アゾ、アゾメチンおよびジメ
チン増感色素とラジカル発生剤を用い、ラジカル重合可
能なエチレン性不飽和結合を有する化合物を可視光線の
露光により短時間に重合させ、例えば、インキ、感光性
印刷版、フォトレジスト、ダイレクト刷版材料、製版用
プルーフ材料、ホログラム材料、封止剤、接着剤、光造
形材料等の分野において、良好な物性を持った硬化物を
得るための光重合組成物および方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、半導体レーザ、ＹＡＧレーザは、
安定性、小型、メンテナンスの容易性などの点から、画
像記録用レーザとして用いられることが多くなってきて
いる。これらのレーザは低波長化がすすんでおり、特
に、ＹＡＧ（１０６４ｎｍ）のＳＨＧを用いたレーザ
（５３２ｎｍ）などが実用化されている。

【０００３】半導体レーザやＹＡＧレーザなどのレーザ
を用いて像様露光を行うことでラジカル重合させて露光
部を硬化し、未露光部との物性を変化させて現像により
画像形成する方法が知られている。

【０００４】画像形成を行うためにはレーザ光源の波長
に適した感材を選択する必要があり、ラジカル重合の開
始剤として、ラジカル発生剤は数多く研究されている
が、いずれも、単独では紫外部にしか吸収をもたないも
のが多く、通常は光源の波長にあわせた増感色素を組み
合わせて用いる。

【０００５】４８８ｎｍのアルゴンレーザや５３２ｎｍ
のＷ−ＹＡＧレーザの光源に対応した増感色素とラジカ
ル発生剤の組み合わせ（以下開始剤系）も、さまざまな
ものが知られている。

【０００６】例えば、米国特許第２，８５０，４４５号
にはある種の光還元性染料が効果的な増感色素として記
載されている。又、特公昭４４−２０１８９号には染料
とアミンの複合開始系、特公昭４５−３７３７７号には
ビイミダゾールとラジカル発生剤および染料の系、特公
昭４７−２５２８号、特開昭５４−１５５２９２号には
ビイミダゾールとジアルキルアミノベンジリデンケトン
の系、特開昭５８−１５５０３号にはケト置換クマリン
化合物と活性ハロゲン化物の系、特開昭５４−１５１０
２号には置換トリアジンとメロシアニン色素の系が提案
されているが、いずれも、感度が低く、保存性が悪いな
どの問題があった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は従来技術の問
題点を改良すべく為されたものである。即ち、本発明の
第１の目的は、４８８ｎｍ又は５３２ｎｍ付近で書込が
出来、解像度、感度の良好な画像を形成できる光重合組
成物を提供することにある。本発明の第２の目的は、保
存性の良好な光重合組成物の提供にある。本発明の第３
の目的は、４８８ｎｍ又は５３２ｎｍ付近の光により高
感度にラジカルを発生するラジカル発生方法の提供にあ
る。第４の目的は４８８ｎｍ又は５３２ｎｍ付近の波長
域に高い感光性を有し、かつ保存安定性に優れた平版印
刷版作成用の感光性材料及びそれを用いた平版印刷版の
作成方法を提供することにある。第５の目的は高感度の
光開始剤を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意検討の
結果、特定のピラゾロンメチン系、ピラゾロンアゾ系、
ピラゾロンアゾメチン系又はピラゾロンジメチン系色素
を従来用いられているラジカル発生剤と組み合わせた４
８８ｎｍ又は５３２ｎｍの可視光を吸収しラジカル発生
能を有する開始剤系が、高感度でかつ保存性すぐれると
いう予期せざる結果を見い出し本発明を完成するに至っ
た。

【０００９】即ち、本発明の上記目的は、（１）ラジカ
ル発生剤及び下記一般式（１）又は（２）で表される色
素を含有することを特徴とする光開始剤、

【００１０】

【化２】

【００１１】式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は水素原子又は
一価の置換基を表し、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃はＮ原子又はメチ
ン基を表し、Ｂ₁、Ｂ₂は５員あるいは６員の芳香族環又
はヘテロ環を表す、（２）重合促進剤としてアミン化合
物又はイオウ化合物を含有することを特徴とする（１）
項記載の光開始剤、（３）エチレン性不飽和結合を有す
る化合物および（１）又は（２）項記載の光開始剤を含
有する光重合組成物、（４）ラジカル発生剤が、オニウ
ム塩、ハロゲン化トリアジン、ビスイミダゾール、チタ
ノセン化合物、有機過酸化物及び鉄アレーン錯体から選
ばれることを特徴とする（１）又は（２）項記載の光開
始剤、（５）ラジカル発生剤が、オニウム塩、ハロゲン
化トリアジン、ビスイミダゾール、チタノセン化合物、
有機過酸化物及び鉄アレーン錯体から選ばれることを特
徴とする（３）項記載の光重合組成物、（６）チタノセ
ン化合物および一般式（２）で表される色素を含有する
ことを特徴とする光開始剤、（７）チタノセン化合物お
よび一般式（２）で表される色素を含有することを特徴
とする光重合組成物、（８）（１），（２），（４）又
は（６）項に記載の光開始剤を４８８ｎｍ又は５３２ｎ
ｍの波長のレーザー光で露光することを特徴とするラジ
カル発生方法、（９）親水性支持体上に少なくとも感光
性層及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成
用感光性材料において、前記感光性層はエチレン性不飽
和結合を少なくとも１つ有する化合物、バインダー成
分、（３），（５）又は（７）項に記載の光重合組成物
を含有していることを特徴とする平版印刷版作成用感光
性材料、（１０）親水性支持体上に少なくとも感光性層
及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用感
光性材料において、前記感光層はエチレン性不飽和結合
を少なくとも１つ有する化合物、バインダー成分、
（３），（５）又は（７）項に記載の光重合組成物を含
有していることを特徴とする平版印刷版作成用感光性材
料を用いる平版印刷版の作成方法において、前記感光性
層に４８８ｎｍ又は５３２ｎｍの波長のレーザー光で像
様に走査露光を行なった後、保護層及び感光性層の未露
光部を溶出除去することを特徴とする平版印刷版の作成
方法、により達成された。

【００１２】まず、一般式（１）および一般式（２）で
表される増感色素について詳述する。

【００１３】一般式（１）中、Ｂ₁およびＢ₂は５員ある
いは６員の芳香族環又はヘテロ環を表し、具体例は下記
一般式（４）で表される。

【００１４】

【化３】

【００１５】一般式（４）中、Ｒ₁₇は各々水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アリール基、−ＯＲ₂₀、−Ｓ
Ｒ₂₀、−ＮＲ₂₁Ｒ₂₂を表し、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁、
Ｒ₂₂は水素原子、アルキル基、又はアリール基を表し、
Ｙは酸素原子ないし硫黄原子を表し、ｐは０ないし４の
整数を表し、ｑは０ないし３の整数を表し、ｒは０ない
し２の整数を表す。ｐ、ｑ、ｒがそれぞれ２以上の時複
数あるＲ₁₇はそれぞれ同じでも異なってもよく、又、環
を形成しても良い。

【００１６】一般式（１），（２），（４）中、Ｒ₁、
Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₁₇、Ｒ₁₈、Ｒ₁₉、Ｒ₂₀、Ｒ₂₁、Ｒ₂₂
で表されるアルキル基は、炭素数１〜１２の鎖状又は環
状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ベンジル、
フェネチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、オクチル、ノニル、シクロプロピル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル）が好ましく、置換基を
有していてもよい。

【００１７】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄で表されるアリール基
は、炭素数６〜１２のアリール基（例えば、フェニル、
ナフチル）が好ましく、置換基を有していてもよい。

【００１８】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄で表される複素環基
は、５又は６員の複素環（例えば、オキサゾニル環、ベ
ンゾオキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、
ピリジン環、フラン環、チオフェン環、スルホラン環、
ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環）
が好ましく、置換基を有していてもよい。

【００１９】Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄で表されるアルケニル
基は、炭素数２〜１２のアルケニル基（例えば、ビニ
ル、アリル、１−プロペニル、２−ペンテニル、１，３
−ブタジエニル）が好ましい。

【００２０】Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃はＮ原子又はメチン基を表
し、該メチン基は、無置換でも置換していても良い。

【００２１】上記した各基が有していてもよい置換基
は、例えば、カルボン酸基、炭素数１〜１２のスルホン
アミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンス
ルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オクタンス
ルホンアミド）、炭素数０〜１２のスルファモイル基
（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモ
イル、フェニルスルファモイル、ブチルスルファモイ
ル）、炭素数２〜１２のスルホニルカルバモイル基（例
えば、メタンスルホニルカルバモイル、プロパンスルホ
ニルカルバモイル、ベンゼンスルホニルカルバモイ
ル）、炭素数１〜１２のアシルスルファモイル基（例え
ば、アセチルスルファモイル、プロピオニルスルファモ
イル、ピバロイルスルファモイル、ベンゾイルスルファ
モイル）、炭素数１〜１２の鎖状又は環状のアルキル基
（例えば、メチル、エチル、イソプロピル、ブチル、ヘ
キシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキ
シル、２−ヒドロキシエチル、４−カルボキシブチル、
２−メトキシエチル、ベンジル、フェネチル、４−カル
ボキシベンジル、２−ジエチルアミノエチル）、炭素数
２〜１２のアルケニル（例えば、ビニル、アクリル）、
炭素数１〜１２のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エ
トキシ、ブトキシ）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ）、炭素数０〜１２のアミノ基（例えば、無置
換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、カルボ
キシエチルアミノ）、炭素数２〜１２のエステル基（例
えば、メトキシカルボニル）、炭素数１〜１２のアミド
基（例えば、アセチルアミノ、ベンズアミド）、炭素数
１〜１２のカルバモイル基（例えば、無置換のカルバモ
イル、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル）、炭
素数６〜１２のアリール基（例えば、フェニル、ナフチ
ル、４−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニ
ル、３，５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホ
ンアミドフェニル、４−ブタンスルホンアミドフェニ
ル）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、４−カルボキシフェノキシ、４−メチルフェ
ノキシ、ナフトキシ）、炭素数１〜８のアルキルチオ基
（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ）、
炭素数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチ
オ、ナフチルチオ）、炭素数１〜１０のアシル基（例え
ば、アセチル、ベンゾイル、プロパノイル）、炭素数１
〜１０のスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、ベ
ンゼンスルホニル）、炭素数１〜１０のウレイド基（例
えば、ウレイド、メチルウレイド）、炭素数２〜１０の
ウレタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ、エト
キシカルボニルアミノ）、シアノ基、水酸基、ニトロ
基、複素環基（例えば、５−カルボキシベンゾオキサゾ
ール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、ピロー
ル環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピ
リミジン環）等を挙げることができる。

【００２２】次ぎに本発明の増感色素の化合物例を挙げ
る。

【００２３】

【化４】

【００２４】

【化５】

【００２５】

【化６】

【００２６】本発明の増感色素は従来公知の方法により
準じて合成できるが以下に合成例を挙げる。

【００２７】合成例１（例示色素Ｄ−７の合成） （合成ルート）

【００２８】

【化７】

【００２９】エタノール１００ｍｌ中にピバロイル酢酸
メチル１６ｇと２−ヒドラジノピリジン（化合物
（ａ））１１ｇを入れ、加熱還流下５時間撹拌した。溶
媒を留去した後、結晶を濾取し、メタノール−水で洗浄
し、乾燥して３−（ｔ−ブチル）−１−（２−ピリジ
ル）−５−ピラゾロン（化合物（ｂ））１５ｇを得た。

【００３０】酢酸１００ｍｌ中に化合物（ｂ）１０．９
ｇとｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド８．２ｇを入
れ、加熱還流下８時間撹拌した。溶媒を留去した後、メ
タノール１５０ｍｌを加え、析出結晶を濾取、アセトニ
トリルで洗浄、乾燥して橙赤色の結晶１０．２ｇのＤ−
７を得た。ｎｍｒ、ｍａｓｓスペクトルにより目的物で
あることを確認した。

【００３１】合成例２（例示色素Ｄ−２２の合成） （合成ルート）

【００３２】

【化８】

【００３３】１００ｍｌナスフラスコ中に２−メチル−
ベンズオキサゾール２０ｇとトシル酸ｎ−プロピルをい
れ１５０℃で１時間加熱撹拌した。一晩放置して放冷
後、アセトンを加えて結析し、化合物（ｄ）を４０ｇ得
た。

【００３４】化合物（ｄ）４０ｇとジフェニルホルムア
ミジン２２ｇを２００ｍｌのナスフラスコに入れ、１３
０℃で１０分間加熱撹拌した。次に無水酢酸６０ｍｌを
加え、さらに１０分間加熱撹拌した。放冷後、イソプロ
ピルエーテル中に反応液を加えて、生じた沈殿を濾取し
て化合物（ｅ）を１６ｇ得た。

【００３５】１００ｍｌナスフラスコ中に化合物（ｅ）
６．８ｇ、合成例１の化合物（ｂ）と同様な方法で合成
した化合物（ｆ）３．５ｇ、ピリジン２０ｍｌ、トリエ
チルアミン１ｍｌを加えて加熱撹拌し、次に無水酢酸３
ｍｌを加えた。１００℃で３０分間加熱撹拌した後、反
応液を１規定塩酸水溶液１００ｍｌに加え、酢酸エチル
８０ｍｌで抽出した。この酢酸エチル相を１０％重曹水
溶液で洗浄した後、減圧濃縮し、生じた沈殿を濾取し
た。アセトニトリルから再結晶し、３．０ｇのＤ−２２
を得た。ｎｍｒ、ｍａｓｓスペクトルにより目的物であ
ることを確認した。

【００３６】次にラジカル発生剤について説明する。

【００３７】ラジカル発生剤としては、具体的にハロゲ
ン化物（α−ハロアセトフェノン類、トリクロロメチル
トリアジン類等）、アゾ化合物、芳香族カルボニル化合
物（ベンゾインエステル類、ケタール類、アセトフェノ
ン類、ｏ−アシルオキシイミノケトン類、アシルホスフ
ィンオキサイド類等）、ヘキサアリールビスイミダゾー
ル化合物、過酸化物などが挙げられる。

【００３８】過酸化物としては、特開昭５９−１５０４
号ならびに特開昭６１−２４０８０７号記載の有機過酸
化物を用いることができる。

【００３９】具体的な化合物としては、メチルエチルケ
トンパーオキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキ
サイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、メチルシク
ロヘキサノンパーオキサイド、３，３，５−トリメチル
シクロヘキサノンパーオキサイドなどのケトンパーオキ
サイド、アセチルパーオキサイド、プロピオニルパーオ
キサイド、イソブチルパーオキサイド、オクタノイルパ
ーオキサイド、３，５，５−トリメチルヘキサノイル、
デカノイルパーオキサイド、ウラロイルパーオキサイ
ド、ベンゾイルパーオキサイド、ｐ−クロロベンゾイル
パーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキ
サイド、アセチルシクロヘキサンスルホニルパーオキサ
イドなどのジアシルパーオキサイド類、ｔｅｒｔ−ブチ
ルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイ
ド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、ｐ
−メタンヒドロパーオキサイド、２，５−ジメチルヘキ
サン−２，５−ジヒドロパーオキサイド、１，１，３，
３−テトラメチルブチルヒドロパーオキサイドなどのヒ
ドロパーオキサイド類、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキ
サイド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、１，
３−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）
ベンゼン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−
ブチルパーオキシ−３，３，５−トリメチルシクロヘキ
サン、ｎ−ブチル−４，４′−ビス（ｔｅｒｔ−ブチル
パーオキシ）ブタンなどのパーオキシケタール類、ｔｅ
ｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔｅｒｔ−ブチル
パーオキシイソブチレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキ
シオクトエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレー
ト、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカネート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキ
サノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエー
ト、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシフタレート、ｔｅ
ｒｔ−ブチルパーオキシイソフタレート、ｔｅｒｔ−ブ
チルパーオキシラウレート、２，５−ジメチル−２，５
−ジベンゾイルパーオキシヘキサンなどのアルキルパー
エステル類、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカー
ボネート、ジ−イソプロピルパーオキシジカーボネー
ト、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシカーボネート、ジ−
ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ−メトキシ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メト
キシブチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキ
シエチルパーオキシジカーボネート、ビス−（４−ｔｅ
ｒｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネー
トなどのパーオキシカーボネート類、コハク酸パーオキ
サイドに代表される水溶性パーオキサイド類が挙げられ
る。

【００４０】好ましくは、特に、下記の構造の有機過酸
化物を用いることができる。

【００４１】

【化９】

【００４２】本発明で用いることができる金属アレーン
錯体としては、以下のようなチタノセン化合物と鉄アレ
ーン錯体を用いることが可能である。鉄アレーン錯体と
しては下記の構造のものがあげられる。

【００４３】

【化１０】

【００４４】好ましくは、

【００４５】

【化１１】

【００４６】を用いる。

【００４７】本発明で好ましく用いることができるチタ
ノセン化合物としては、特に限定されないが、例えば特
開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９７
号各公報等に記載されている各種チタノセン化合物から
適宜選んで用いることができる。さらに具体的には、ジ
シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ジクロライド、ジシクロ
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジシクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタ
フルオロフェニル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ジシク
ロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフル
オロフェニル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロフェニル、ジシクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフェニル、ジメチル
ペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペ
ンタフルオロフェニル、ジメチルペンタジエニル−Ｔｉ
−ビス−２，３，５，６−テトラフルオロフェニル、ジ
メチルペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオ
ロフェニル、ジシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロ−３−（ピロール−１−イル）−フ
ェニル（以下、Ｔｉ−１という） これらの中で、特に好ましいものは、下記の構造である
Ｔｉ−１である。

【００４８】

【化１２】

【００４９】本発明では以下のオニウム塩を用いること
ができる。

【００５０】オニウム塩としては、ヨードニウム塩、ス
ルフォニウム塩、ホスフォニウム塩、スタンノニウム塩
などがあげられる。

【００５１】特公昭５５−３９１６２号、特開昭５９−
１４０２３号ならびに「マクロモレキュルス（Ｍａｃｒ
ｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３０７頁（１
９７７年）記載の各種オニウム化合物を用いることがで
きる。ヨードニウム塩としては、好ましくは、ジアリー
ルヨードニウム塩を用いることができる。

【００５２】例えば、ジフェニルヨードニウム塩、ジト
リルヨードニウム塩、フェニル（ｐ−メトキシフェニ
ル）ヨードニウム塩、ビス（ｍ−ニトロフェニル）ヨー
ドニウム塩、ビス（ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨ
ードニウム塩、ビス（ｐ−シアノフェニル）ヨードニウ
ム塩等のクロリド、ブロミド、四フッ化ホウ素塩、六フ
ッ化ホウ素塩、六フッ化リン塩、六フッ化ヒ素塩、六フ
ッ化アントモン塩、過塩素酸塩、ベンゼンスルホン酸
塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ｐ−トリフルオロメチ
ルベンゼンスルホン酸塩、ｎ−ブチルトリフェニルホウ
素塩等が挙げられる。

【００５３】本発明では２，４，５−トリアリールイミ
ダゾール２量体を用いることもできる。

【００５４】特開昭５５−１２７５５０号、同６０−２
０２４３７号に記載されている。下記の構造のものを用
いることが好ましい。

【００５５】

【化１３】

【００５６】本発明のラジカル発生剤の添加量は、ラジ
カル発生剤の種類及び使用形態により異なるが、エチレ
ン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物１００重
量部に対して０．０１〜１０重量部が好ましい。

【００５７】支持体としては、紙、合成紙（例えばポリ
プロピレンを主成分とする合成紙）、樹脂のフィルムあ
るいはシート、さらには樹脂を２層以上積層してなるプ
ラスチックフィルム又はシート、あるいは各種高分子材
料、金属、セラミックもしくは木材パルプやセルロース
パルプ、サルファイトパルプなどで抄造された紙等に、
樹脂層を積層したフィルム又はシートなどを挙げること
ができる。

【００５８】このような樹脂のフィルムあるいはシート
を構成する樹脂としては、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル等のアクリル樹脂、ポリエチレンテレフ
タレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレン
ナフタレート、ポリカーボネート、ポリアリレート等の
ポリエステル系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリフッ化ビニリデン、ポリエチレン、ポリプロ
ピレン、ポリスチレン等のポリオレフィン系樹脂、ナイ
ロン、芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂、ポリエ
ーテルエーテルケトン、ポリスルホン、ポリエーテルス
ルホン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリパラバ
ン酸、フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、
メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フッ
素樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。

【００５９】本発明を平版印刷版作成用として用いる場
合の感光性層を設ける支持体としては、アルミニウム、
亜鉛、銅、鋼等の金属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニ
ッケル、アルミニウム、鉄等がメッキ又は蒸着された金
属板、紙、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂が
塗布された紙、アルミニウム等の金属箔が張られた紙、
親水化処理したプラスチックフィルム等が挙げられる。
これらの内好ましいのは、アルミニウム板である。本発
明の支持体としては、砂目立て処理、陽極酸化処理及び
必要に応じて封孔処理等の表面処理が施されたアルミニ
ウム板を用いることがより好ましい。これらの処理には
公知の方法を用いることができる。

【００６０】砂目立て処理の方法としては、例えば、機
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーニングによる研磨法、バフ研磨法が
挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の各
種方法を単独あるいは組合せて用いることができる。好
ましいのは、電解エッチングによる方法である。電解エ
ッチングは、燐酸、硫酸、塩酸、硝酸等の酸の単独ない
し２種以上混合した浴で行われる。砂目立て処理の後、
必要に応じてアルカリあるいは酸の水溶液によってデス
マット処理を行い中和して水洗する。

【００６１】陽極酸化処理には、電解液として、硫酸、
クロム酸、シュウ酸、燐酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用いアルミニウム板を陽極として電解し
て行われる。形成された陽極酸化被膜量は１〜５０ｍｇ
／ｄｍ²が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／ｄ
ｍ²である。陽極酸化被膜量は、例えば、アルミニウム
板を燐酸クロム酸溶液に浸積し、酸化被膜を溶解し、板
の被膜溶解前後の重量変化測定等から求められる。

【００６２】封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、ケ
イ酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理などが具体例
として挙げられる。この他にアルミニウム板支持体に対
して、水溶性高分子化合物や、フッ化ジルコン等の金属
塩水溶液による下引処理を施すこともできる 支持体の厚さは通常３〜１０００μｍがよく、８〜３０
０μｍがより好ましい。

【００６３】感光層に用いられるバインダー樹脂として
は、公知の種々のポリマーを使用することができる。具
体的なバインダーの詳細は、米国特許４，０７２，５２
７号に記載されており、より好ましくは特開昭５４−９
８６１３号公報に記載されているような芳香族性水酸基
をを有する単量体、例えばＮ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）
メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−、又はｐ−ヒドロキシス
チレン、ｏ−、ｍ−、又はｐ−ヒドロキシフェニルメタ
クリレート等と他の単量体との共重合物、米国特許第
４，１２３，２７６号明細書中に記載されているような
ヒドロキシエチルアクリレート単位又はヒドロキシエチ
ルメタクリレートを含むポリマー、シェラック、ロジン
等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第３，
７５１，２５７号明細書中に記載されているようなポリ
アミド樹脂、米国特許第３，６６０，０９７号明細書中
に記載されているような線状ポリウレタン樹脂、ポリビ
ニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノールＡ
とエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂、酢
酸セルロース、セルロースアセテートフタレート等のセ
ルロース樹脂が挙げられる。

【００６４】バインダー樹脂としては前述の樹脂の中か
ら、１種又は２種以上のものを組み合わせて用いること
ができる。

【００６５】中でも塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリス
チレン、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテ
ルスルホン、ポリビニルブチラール、スチレン−アクリ
ロニトリル、ポリビニルアセタール、ニトロセルロー
ス、エチルセルロース等の溶剤可溶性ポリマーが好まし
い。

【００６６】これらのバインダーは、１種又は２種以上
を有機溶媒に溶解して用いるだけでなく、ラテックス分
散の形で使用してもよい。バインダーの使用量として
は、本発明の画像形成材料の目的に応じて、又、単層構
成であるか重層構成であるかにより異なるが、支持体１
ｍ²当たり１．０〜２０ｇが好ましい。

【００６７】次にエチレン性不飽和結合を有する化合物
について詳述する。

【００６８】重合可能な化合物としては公知のモノマー
が特に制限なく使用することができる。具体的モノマー
としては、例えば、２−エチルヘキシルアクリレート、
２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプ
ロピルアクリレート等の単官能アクリル酸エステルおよ
びその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメタクリ
レート、イタコネート、クロトネート、マレエート等に
代えた化合物、ポリエチレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールジアクリレート、ビスフェノ
ールＡジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペン
チルグリコールのε−カプロラクトン付加物のジアクリ
レート等の２官能アクリル酸エステルおよびその誘導体
あるいはこれらのアクリレートをメタクリレート、イタ
コネート、クロトネート、マレエート等に代えた化合
物、あるいはトリメチロールプロパントリ（メタ）アク
リレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ピロ
ガロールトリアクリレート等の多官能アクリル酸エステ
ルおよびその誘導体あるいはこれらのアクリレートをメ
タクリレート、イタコネート、クロトネート、マレエー
ト等に代えた化合物等を挙げることができる。

【００６９】又、適当な分子量のオリゴマーにアクリル
酸、又はメタアクリル酸を導入し、光重合性を付与し
た、いわゆるプレポリマーと呼ばれるものも好適に使用
できる。

【００７０】この他に特開昭５８−２１２９９４号、同
６１−６６４９号、同６２−４６６８８号、同６２−４
８５８９号、同６２−１７３２９５号、同６２−１８７
０９２号、同６３−６７１８９号、特開平１−２４４８
９１号公報等に記載の化合物などを挙げることができ、
さらに「１１２９０の化学商品」化学工業日報社、ｐ．
２８６〜ｐ．２９４に記載の化合物、「ＵＶ・ＥＢ硬化
ハンドブック（原料編）」高分子刊行会、ｐ．１１〜６
５に記載の化合物なども本発明においては好適に用いる
ことができる。

【００７１】これらの中で、分子内に２個以上のアクリ
ル基又はメタクリル基を有する化合物が本発明において
は好ましく、さらに分子量が１０，０００以下、より好
ましくは５，０００以下のものが好ましい。又、本発明
ではこれらのモノマーあるいはプレポリマーのうち１種
又は２種以上を混合して用いることができる。

【００７２】上記エチレン性不飽和基を有する化合物は
本発明において感光層中に好ましくは２０〜８０重量
部、より好ましくは３０〜７０重量部含有される。

【００７３】本発明の感光性層には目的を損なわない範
囲であれば、増感剤、重合促進剤、熱重合禁止剤、熱溶
融性化合物、酸素補足剤、可塑剤等の他の成分を含有せ
しめることは任意である。

【００７４】増感剤としては特開昭６４−１３１４０号
に記載のトリアジン系化合物、特開昭６４−１３１４１
号に記載の芳香族オニウム塩、芳香族ハロニウム塩、特
開昭６４−１３１４３号に記載の有機過酸化物、特公昭
４５−３７３７７号明や米国特許第３，６５２，２７５
号に記載のビスイミダゾール化合物、チオール類等が挙
げられる。増感剤の添加量は、エチレン性不飽和結合を
有する重合可能な化合物とバインダーの合計量１００重
量部に対して、１０重量部以下、好ましくは０．０１〜
５重量部程度添加される。

【００７５】重合促進剤としては、アミン化合物やイオ
ウ化合物（チオール、ジスルフィド等）に代表される重
合促進剤や連鎖移動触媒等を添加することが可能であ
る。

【００７６】本発明の光重合性組成物に添加可能な重合
促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、Ｎ−
フェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジ
エチルアニリン等のアミン類、ＵＳＰ第４，４１４，３
１２号や特開昭６４−１３１４４号記載のチオール類、
特開平２−２９１６１号記載のジスルフィド類、ＵＳＰ
第３，５５８，３２２号や特開昭６４−１７０４８号記
載のチオン類、特開平２−２９１５６０号記載のｏ−ア
シルチオヒドロキサメートやＮ−アルコキシピリジンチ
オン類があげられる。特に好ましくはアミン化合物とし
てはＮ，Ｎ−ジエチルアニリンであり、イオウ化合物と
しては２−メルカプトベンゾチアゾールである。

【００７７】熱重合防止剤としては、キノン系、フェノ
ール系等の化合物が好ましく用いられる。例えば、ハイ
ドロキノン、ピロガロール、ｐ−メチキシフェノール、
カテコール、β−ナフトール、２，６−ジ−ｔ−ブチル
−ｐ−クレゾール等が挙げられる。エチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物とバインダーの合計量１０
０重量部に対して、１０重量部以下、好ましくは０．０
１〜５重量部程度添加される。

【００７８】酸素クエンチャーとしてはＮ，Ｎ−ジアル
キルアニリン誘導体が好ましく、例えば米国特許４，７
７２，５４１号の第１１カラム５８行目から第１２カラ
ム３５行目に記載の化合物が挙げられる。

【００７９】可塑剤としては、フタル酸エステル類、ト
リメリット酸エステル類、アジピン酸エステル類、その
他飽和あるいは不飽和カルボン酸エステル類、クエン酸
エステル類、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、
エポキシステアリン酸エポキシ類、正リン酸エステル
類、亜燐酸エステル類、グリコールエステル類などが挙
げられる。

【００８０】熱溶融性化合物としては、常温で固体であ
り、加熱時に可逆的に液体となる化合物が用いられる。
前記熱溶融性物質としては、テルピネオール、メントー
ル、１，４−シクロヘキサンジオール、フェノール等の
アルコール類、アセトアミド、ベンズアミド等のアミド
類、クマリン、ケイ皮酸ベンジル等のエステル類、ジフ
ェニルエーテル、クラウンエーテル等のエーテル類、カ
ンファー、ｐ−メチルアセトフェノン等のケトン類、バ
ニリン、ジメトキシベンズアルデヒド等のアルデヒド
類、ノルボルネン、スチルベン等の炭化水素類、マルガ
リン酸等の高級脂肪酸、エイコサノール等の高級アルコ
ール、パルミチン酸セチル等の高級脂肪酸エステル、ス
テアリン酸アミド等の高級脂肪酸アミド、ベヘニルアミ
ン等の高級アミンなどに代表される単分子化合物、蜜ロ
ウ、キャンデリラワックス、パラフィンワックス、エス
テルワックス、モンタンロウ、カルナバワックス、アミ
ドワックス、ポリエチレンワックス、マイクロクリスタ
リンワックスなどのワックス類、エステルガム、ロジン
マレイン酸樹脂、ロジンフェノール樹脂等のロジン誘導
体、フェノール樹脂、ケトン樹脂、エポキシ樹脂、ジア
リルフタレート樹脂、テルペン系炭化水素樹脂、シクロ
ペンタジエン樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカプロ
ラクトン系樹脂、ポリエチレングリコール、ポリプロピ
レングリコールなどのポリオレフィンオキサイドなどに
代表される高分子化合物などを挙げることができる。

【００８１】更に必要に応じて感光性層に酸化防止剤、
フィラー、帯電防止剤などをを添加しても良い。前記酸
化防止剤としては、クロマン系化合物、クラマン系化合
物、フェノール系化合物、ハイドロキノン誘導体、ヒン
ダードアミン誘導体、スピロインダン系化合物、硫黄系
化合物、リン系化合物などが挙げられ、特開昭５９−１
８２７８５号、同６０−１３０７３５号、同６１−１５
９６４４号、特開平１−１２７３８７号、「１１２９０
の化学商品」化学工業日報社、ｐ．８６２〜８６８等に
記載の化合物、および写真その他の画像記録材料に耐久
性を改善するものとして公知の化合物を挙げることがで
きる。

【００８２】フィラーとしては、無機微粒子や有機樹脂
粒子を挙げることができる。この無機微粒子としてはシ
リカゲル、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化亜鉛、硫
酸バリウム、タルク、クレー、カオリン、酸性白土、活
性白土、アルミナ等を挙げることができ、有機微粒子と
してはフッ素樹脂粒子、グアナミン樹脂粒子、アクリル
樹脂粒子、シリコン樹脂粒子等の樹脂粒子、帯電防止剤
としては、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性
剤、非イオン性界面活性剤、高分子帯電防止剤、導電性
微粒子などのほか「１１２９０の化学商品」化学工業日
報社、ｐ．８７５〜ｐ．８７６などに記載の化合物など
も好適に用いることができる。

【００８３】本発明において、感光性層は単層で形成さ
れても良いし、二層以上の複数層で構成されても良い。
又、複数層で構成する場合は組成の異なる感光性層で構
成してもよく、この場合は着色剤を含有しない感光性層
を含んでいてもよい。

【００８４】本発明において、感光性層の厚みは０．２
〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．５〜５μｍ
である。

【００８５】感光性層は形成成分を溶媒に分散あるいは
溶解して塗工液を調製し、この塗工液を前記中間層上に
直接積層塗布し乾燥するか又は後述するカバーシート上
に塗布し乾燥して形成される。

【００８６】上記塗工法に用いる溶媒としては、水、ア
ルコール類（例えばエタノール、プロパノール）、セロ
ソルブ類（例えばメチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ）、芳香族類（例えばトルエン、キシレン、クロルベ
ンゼン）、ケトン類（例えばアセトン、メチルエチルケ
トン）、エステル系溶剤（例えば酢酸エチル、酢酸ブチ
ルなど）、エーテル類（例えばテトラヒドロフラン、ジ
オキサン）、塩素系溶剤（例えばクロロホルム、トリク
ロルエチレン）、アミド系溶剤（例えばジメチルホルム
アミド、Ｎ−メチルピロリドン）、ジメチルスルホキシ
ド等が挙げられる。

【００８７】前記塗工には、従来から公知のグラビアロ
ールによる面順次塗り別け塗布法、押し出し塗布法、ワ
イヤーバー塗布法、ロール塗布法等を採用することがで
きる。

【００８８】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明
する。

【００８９】（実施例１） 〔支持体の作成〕厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板
（材質１０５０、調質Ｈ１６）を６５℃に保たれた５％
水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、１分間脱脂処理を行
なった後水洗した。この脱脂したアルミニウム板を、２
５℃に保たれた１０％塩酸水溶液中に１分間浸漬して中
和した後水洗した。次いで、このアルミニウム板を１．
０重量部の塩酸水溶液において、温度２５℃、電流密度
１００Ａ／ｄｍ²の条件で交流電流により６０秒間電解
粗面化を行なった後、６０℃に保たれた５％水酸化ナト
リウム水溶液中で１０秒間のデスマット処理を行なっ
た。デスマット処理を行なった粗面化アルミニウム板を
４０％燐酸溶液中で、温度３０℃、電流密度４Ａ／ｄｍ
²の条件で６分間陽極酸化処理を行ない、更に硅酸ソー
ダで封孔処理を行なって支持体を作成した。

【００９０】〔感光層の作成〕上記支持体上に下記処方
の感光層を付き量約１．３ｇ／ｍ²となるように塗布し
た。

【００９１】感光層は塗布後に、８０℃で３分間乾燥し
た。

【００９２】 色素（Ｄ−６） ０．２０重量部 ラジカル発生剤（ＢＴＴＢ） ０．４０重量部 Ｍ４５０（ペンタエリスリトールテトラアクリレート：東亜合成（株）社製） ４．４７重量部 フッ素系界面活性剤（メガファックＦ１７９：大日本インキ社製） ０．１０重量部 重合禁止剤（スミライザーＧＳ：住友化学社製） ０．０２重量部 メチルエチルケトン ４５重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ４５重量部 銅フタロシアニン系顔料（０．３μｍ） ０．５８重量部 〔保護層処方〕下記、処方の保護層を付き量約１．３ｇ
／ｍ²となるように塗布した。感光層は塗布後に、８０
℃で３分間乾燥した。

【００９３】 ポリビニルアルコール （ゴーセノールＧＬ−０５） ９．９重量部 フッ素系界面活性剤（メガファックＦ１２０，大日本インキ社製） ０．１重量部 水 ９０．０重量部 （実施例２〜２０）実施例１の色素とラジカル開始剤を
表１のように代えて実施例２〜２０を作成した。なお、
チタノセン化合物Ｔｉ−１は日本チバガイギー（株）社
製ＣＧＩ７８４を用いた。結果を表１に示す。

【００９４】（実施例２１）実施例１の感光層を下記の
処方に代えた以外は同様に作成した。

【００９５】 色素（Ｄ−２２） ０．２０重量部 ラジカル発生剤（ＢＴＴＢ） ０．４０重量部 Ｍ４５０（ペンタエリスリトールテトラアクリレート：東亜合成（株）社製） ４．４７重量部 重合促進剤１（鉄アレーン錯体） ０．４５重量部 重合促進剤２（メルカプトベンゾオキサゾール） ０．０８３重量部 フッ素系界面活性剤（メガファックＦ１７９：大日本インキ社製） ０．１０重量部 重合禁止剤（スミライザーＧＳ：住友化学社製） ０．０２重量部 メチルエチルケトン ４５重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル ４５重量部 銅フタロシアニン系顔料（０．３μｍ） ０．５８重量部 （実施例２２〜３０）同様に実施例２１の色素、ラジカ
ル発生剤、重合促進剤１、重合促進剤２を表１のように
変更し、感光性樹脂組成物を作成した。結果を表１に示
す。

【００９６】

【化１４】

【００９７】

【表１】

【００９８】このようにして作成した光重合型平版印刷
版について、明室プリンター〔大日本スクリーン（株）
社製Ｐ−６２７−ＨＡ〕を用い露光後、下記現像液を用
いて３０℃、３０秒浸漬して未露光部の感光層を溶出し
たものを、水洗後乾燥して画像を作成し確認した。

【００９９】 現像液処方 Ａ珪酸カリウム（日本化学工業社製：ＳｉＯ₂＝２６％，Ｋ₂Ｏ＝１３．５％） ４００重量部 水酸化カリウム（５０％水溶液） １９５重量部 Ｎ−フェニルエタノールアミン ６重量部 プロピレングリコール ５０重量部 ｐ−ｔ−ブチル安息香酸 １５０重量部 亜硫酸カリウム ３００重量部 ノニオン活性剤（エマルゲン１４７：花王社製） ５重量部 グルコン酸（５０％水溶液） １００重量部 トリエタノールアミン ２５重量部 水 １１５００重量部 ｐＨ＝１２．５に調整する。

【０１００】得られた平版印刷版について以下の特性を
評価した。結果を表２に示す。

【０１０１】《汚れの評価》Ｕｇｒａプレートコントロ
ールウェッジＰＣＷ８２（ミカ電子社製）による画像
を、連続諧調ウェッジが３段となるような露光量で作成
し、印刷機（ハイデルＧＴＯ）で、コート紙、印刷イン
キ（東洋インキ製造社製：ハイプラスＭ紅）及び湿し水
（コニカ社製：ＳＥＵ−３の２．５％水溶液）を用いて
印刷を行い、印刷初期段階（１０００枚程の時点）での
印刷物の非画像部の汚れを目視で４段階評価した。４は
全く汚れがなく、３は僅かに汚れがでたもの、２は１ほ
ど全面に汚れは出ていないが実用上問題になると判断し
うる程度の汚れがでたもの、１は全面に汚れが出たもの
である。実用上使用できるのは３以上である。

【０１０２】《感度評価》作成した平版印刷用原版を、
保護層側が光源側になるようにドラムに巻き付け、ドラ
ムを回転しながら１００ｍＷ高調波ＹＡＧレーザ（ＤＰ
Ｙ３１５Ｍ，ＬＤ励起ＳＨＧ，ＹＡＧレーザー（５３２
ｎｍ）：ＡＤＬＡＳ社製）を用いて露光した。レーザー
光強度はガウス分布していると考え、ドラムの回転数を
一定にしてレーザー光強度の１／ｅ²に相当する所の線
幅と形成された画像の線幅が等しい所の光強度（μＷ／
ｃｍ²）を求め、照射時間との積からエネルギー値を求
めた。又、４８８ｎｍはアルゴンレーザーを用いて露光
した。

【０１０３】《保存性評価》露光・現像処理する前の各
試料で作成した版を、５５℃／２０％ＲＨでの強制劣化
を３日間行った後、上記と同様に露光・現像を行い、非
画線部の抜け性により保存後の現像性の評価とした。
又、上記と同様に印刷評価も行った。

【０１０４】得られた結果を表２に示す。

【０１０５】

【表２】

【０１０６】

【発明の効果】本発明により、４８８ｎｍ又は５３２ｎ
ｍ付近の光で書込ができ、解像度、感度の良好な画像を
形成できる光重合性組成物を提供することができ、これ
を用いて高感度かつ保存安定性に優れた平版印刷版作成
用感光性材料が作製できた。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｆ 7/029 Ｇ０３Ｆ 7/029 7/20 ５０５ 7/20 ５０５ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０２Ｒ

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ラジカル発生剤及び下記一般式（１）又
   は（２）で表される色素を含有することを特徴とする光
   開始剤。 【化１】 〔式中、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄は水素原子又は一価の置換
   基を表し、Ｌ₁、Ｌ₂、Ｌ₃はＮ原子又はメチン基を表
   し、Ｂ₁、Ｂ₂は５員あるいは６員の芳香族環又はヘテロ
   環を表す。〕
2. 【請求項２】 重合促進剤としてアミン化合物又はイオ
   ウ化合物を含有することを特徴とする請求項１記載の光
   開始剤。
3. 【請求項３】 エチレン性不飽和結合を有する化合物お
   よび請求項１又は２記載の光開始剤を含有する光重合組
   成物。
4. 【請求項４】 ラジカル発生剤が、オニウム塩、ハロゲ
   ン化トリアジン、ビスイミダゾール、チタノセン化合
   物、有機過酸化物及び鉄アレーン錯体から選ばれること
   を特徴とする請求項１又は２記載の光開始剤。
5. 【請求項５】 ラジカル発生剤が、オニウム塩、ハロゲ
   ン化トリアジン、ビスイミダゾール、チタノセン化合
   物、有機過酸化物及び鉄アレーン錯体から選ばれること
   を特徴とする請求項３記載の光重合組成物。
6. 【請求項６】 チタノセン化合物および一般式（２）で
   表される色素を含有することを特徴とする光開始剤。
7. 【請求項７】 チタノセン化合物および一般式（２）で
   表される色素を含有することを特徴とする光重合組成
   物。
8. 【請求項８】 請求項１，２，４又は６に記載の光開始
   剤を４８８ｎｍ又は５３２ｎｍの波長のレーザー光で露
   光することを特徴とするラジカル発生方法。
9. 【請求項９】 親水性支持体上に少なくとも感光性層及
   び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用感光
   性材料において、前記感光性層はエチレン性不飽和結合
   を少なくとも１つ有する化合物、バインダー成分、請求
   項３，５又は７に記載の光重合組成物を含有しているこ
   とを特徴とする平版印刷版作成用感光性材料。
10. 【請求項１０】 親水性支持体上に少なくとも感光性層
    及び保護層とをこの順に設けてなる平版印刷版作成用感
    光性材料において、前記感光性層はエチレン性不飽和結
    合を少なくとも１つ有する化合物、バインダー成分、請
    求項３，５又は７に記載の光重合組成物を含有している
    ことを特徴とする平版印刷版作成用感光性材料を用いる
    平版印刷版の作成方法において、前記感光性層に４８８
    ｎｍ又は５３２ｎｍの波長のレーザー光で像様に走査露
    光を行なった後、保護層及び感光性層の未露光部を溶出
    除去することを特徴とする平版印刷版の作成方法。