JPH1051106A - 印刷配線板のエッチング装置 - Google Patents

印刷配線板のエッチング装置

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JPH1051106A
JPH1051106A JP20476496A JP20476496A JPH1051106A JP H1051106 A JPH1051106 A JP H1051106A JP 20476496 A JP20476496 A JP 20476496A JP 20476496 A JP20476496 A JP 20476496A JP H1051106 A JPH1051106 A JP H1051106A
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JP
Japan
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substrate
etching
rollers
transport
roller
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JP20476496A
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Yoshisato Tsubaki
宜悟 椿
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  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 エッチングむらなしにエッチング加工をおこ
なえ、しかも、基板のサイズが不定であっても、エッチ
ング加工を装置の調整なしにおこなうことができる、印
刷配線板のエッチング装置を得ることにある。 【解決手段】 基板を搬送するコンベアは複数の搬送体
からなり、各々の搬送体は隣接する搬送体と反対方向を
向いて傾斜配置されている。基板は、隣接する搬送体に
よって搬送されるときに、ある方向に傾斜した状態で搬
送されたあと、反対方向に傾斜した状態にて搬送され
る。ノズルが基板上面に噴霧したエッチング液は基板の
傾斜によって基板における傾斜方向側の側縁から流れ落
ち、基板の上面にエッチング液の溜りを生じず、基板下
面に噴霧したエッチング液は基板の傾斜および重力によ
って基板から流れ落ちるため、エッチングむらを発生し
ない。そして、搬送体をたんに傾斜配置するだけでもっ
てこれをおこなえるため、サイズにかかわりなしに搬送
をおこなえ、基板サイズに応じたコンベア調整などの段
取り作業を必要としない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、印刷配線板のエ
ッチング装置にかかわり、さらに詳しくは、印刷配線板
のエッチングに際して、基板におけるエッチング液の液
溜まりをなくし、エッチングむらを防止する印刷配線板
用エッチング装置に関している。
【0002】
【従来の技術】この種のエッチング装置は、たとえば、
特開平7−263840号公報に記載されている。この
エッチング装置はエッチング手段と水洗手段とを具備
し、ローラコンベアがこれらのエッチング手段および水
洗手段を貫通している。エッチング手段にはエッチング
液を噴霧するための多数のノズルがローラコンベアに沿
って組み込まれ、水洗手段には水を噴霧するための多数
のノズルがローラコンベアに沿って組み込まれている。
これらのノズルラインはローラコンベアの上部と下部と
に配置されている。加工は、基板をローラコンベアによ
って搬送し、基板がエッチング手段を通過するときに、
基板の両面にノズルラインからエッチング液を噴霧し
て、基板のエッチング処理をおこない、基板が水洗手段
を通過するときに、基板の両面にノズルから水を噴霧
し、エッチング液を洗い流すことによっておこなってい
る。
【0003】さらに、このエッチング装置において、ロ
ーラコンベアにおけるエッチング手段に配置されている
ローラは、一定間隔ごとに直径を大きくさせられ、ある
いは一定間隔ごとに回転軸を高い位置に配置され、基板
がこれらのローラを通過するときに、これらの直径の大
きなローラあるいは高位置にあるローラを中心とするシ
ーソ運動を基板におこなわせている。基板に噴霧されか
つ液化したエッチング液は、このシーソ運動によって基
板の側縁から流れ落ちるため、エッチングむらの原因と
なるエッチング液の液溜りが基板下面のみならず、基板
の上面にも生じない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このようなエッチング
装置は、直径の大きなローラあるいは高位置にあるロー
ラ同志の距離を基板における搬送方向の長さよりも大き
くする必要があり、これが小さいと、基板における搬送
方向端がつぎの直径の大きなローラあるいは高位置ある
ローラにぶつかり、基板にシーソ運動をさせることがで
きない。一方、基板はサイズが一定していないため、様
々なサイズの基板の加工をおこなっているユーザがこの
エッチング装置を導入すると、基板のサイズが変わるご
とに、多数のローラの位置を変更をおこなわなければな
らない。
【0005】本発明の目的は、エッチングむらなしにエ
ッチング加工をおこなえ、しかも、基板のサイズが不定
であっても、エッチング加工を装置の調整などなしにお
こなえる、印刷配線板のエッチング装置を提供すること
にある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の印刷配線板用エッチング装置は基板を搬送
する機構とこの搬送機構によって搬送されている基板に
エッチング液を噴霧する機構とを具備しているが、搬送
機構は複数の搬送体を具備し、各々の搬送体は隣接する
搬送体と反対方向を向いて傾斜配置されている。
【0007】基板は、隣接する搬送体によって搬送され
るときに、ある方向に傾斜した状態で搬送されたあと、
反対方向に傾斜した状態にて搬送される。基板の上面に
噴霧されたエッチング液はこれらの基板の傾斜によって
基板上面から流し落され、基板の上面にエッチング液の
液溜りを生じず、基板下面に噴霧されたエッチング液は
基板の傾斜および重力によって基板から流れ落ち、基板
下面にエッチング液の液溜りを生じないため、むらなし
にエッチング加工をおこなえる。そして、これは、搬送
体をたんに傾斜配置するだけで得られる、いいかえれ
ば、従来の装置における基板のシーソ運動を必要としな
いため、加工をおこなう基板のサイズを制限されない。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の印刷配線板用エッチング
装置の実施例は、以下に、図面を参照して説明する。
【0009】このエッチング装置は、図1および図2に
示すように、エッチング手段10、水洗手段11および
搬入手段12を具備している。
【0010】エッチング手段10は板材や型材を溶接組
立した構造物からなる本体13を具備している。本体1
3は、仕切壁10Aによって、第一のセクションES1
および第二のセクションES2 に区画されている。本体
13における各々のセクションES1 ,ES2 の下部と
なる領域はエッチング液Eの受槽14として構成されて
いる。水洗手段11も、本体14が板材や型材を溶接組
立した構造物からなるもので、側面壁をエッチング手段
10の側面壁と共有して、エッチング手段10と一列に
配置されている。水洗手段自体は三つのセクションWS
1 〜WS3 に区画されている。各々のセクションWS1
〜WS3 は上部室16、下部室17およびこれらを接続
する接続管18からなっている。上部室16および下部
室17はそれぞれ一体に形成され、水洗手段11の本体
14の内部に組み込まれている。下部室17の各々には
水Wが容れられた水槽となっている。
【0011】基板の搬送機構20が、エッチング手段1
0のエッチング液槽14および水槽17の上部に位置し
て、エッチング手段10の両側面壁および仕切壁にある
開口と、水洗手段11の上部室16の側面壁の各々にあ
る開口を貫通している。各々の開口にはエアカーテンな
どのシール機構21が取り付けられている。搬送機構自
体は、基板の厚みに関連するすき間を形成して配置され
た一対のローラを間隔をおいて多数並べ、両端にある軸
を本体13,14にある軸受に保持させたローラコンベ
アからなっていて、各々のローラ対の一方のローラをモ
ータなどによって回転させることによって、各々のロー
ラ対が基板を摩擦駆動し、各々のローラ対によって形成
される搬送ラインに沿って基板を移動させている。
【0012】さらに、エッチング手段10のセクション
ES1 ,ES2 には、ローラコンベア20によって搬送
されている基板に、エッチング液を噴霧する機構が組み
込まれている。この噴霧機構は一対のノズル管22,2
3を具備している。ノズル管22はコンベア20の上部
に、ノズル管23はコンベア20の下部にそれぞれ配置
されている。ノズル管22には多数のノズル孔がコンベ
ア20の上面を向きかつこのノズル管の長手方向に沿っ
て設けられている。ノズル管23にも多数のノズル孔が
コンベア20の下面を向きかつこのノズル管の長手方向
に沿って設けられている。ノズル管22,23の両端
は、各々のセクションES1 ,ES2 ごとにこの装置の
外部に引き出されたあと集合され、装置外部に位置して
セクションES1 ,ES2 ごとに設けられたポンプ24
の吐き出し口にそれぞれ接続されている。ポンプ24の
吸い込み口は管25によってエッチング手段10におけ
るエッチング液槽14にそれぞれ接続されている。冷却
コイル26が各々のセクションES1 ,ES2 のエッチ
ング液槽14に組み込まれている。さらに、図示してい
ないが、ヒータも各々のエッチング液槽14に組み込ま
れている。冷却コイル26は装置外部にある冷凍機に、
ヒータは電源装置にそれぞれつながれている。また、水
洗手段11のセクションWS1 〜WS3 の各々にはコン
ベア20によって搬送されている基板に水を噴霧する機
構が組み込まれている。この噴霧機構はコンベア20の
上部に位置するノズル管列と下部に位置するノズル列管
とを具備している。コンベア上部にあるノズル管列を構
成する各々のノズル管27はコンベア20の上部を向い
たノズル孔を、コンベア下部にあるノズル管列を構成す
る各々のノズル管28はコンベア20の下部を向いたノ
ズル孔を具備している。ポンプ29が各々のセクション
WS1 〜WS3 にたいする水槽17に組み込まれてい
る。このポンプは、吸い込み口を水槽17の内部に開放
され、吐き出し口をノズル管27,28に接続されてい
る。
【0013】搬入手段12はコンベア31を具備してい
る。コンベア31は、ローラコンベアからなっていて、
コンベア20のローラ対の下部ローラによって形成され
るローラ列に接続するように、溶接構造物からなる本体
32に組み込まれている。
【0014】基板にたいするエッチング加工は、基板を
外部からコンベア31によってコンベア20に送り込
み、コンベア20がエッチング手段10と水洗手段11
とを通って、このエッチング装置につながる後処理装置
に向かって搬送することによってなされる。基板は、エ
ッチング手段10を構成する二つのセクションES1 ,
ES2 を通過するときに、ノズル管22,23にあるノ
ズル孔から噴霧されたエッチング液によってエッチング
処理を施されたあと、水洗手段11にある三つのセクシ
ョンWS1 〜WS3 を通過するときに、ノズル管27,
28のノズル孔から噴霧される水によってエッチング液
を洗い落される。エッチング手段10においてノズル管
22,23から噴霧されかつ基板に触れるなどして液化
されたエッチング液は、槽14に流れ落ち、ポンプ24
によってノズル管22,23にもどされ、ふたたびノズ
ル管22,23から噴霧される。エッチング液槽14の
エッチング液Wの温度管理は各々の槽に組み込まれた冷
却コイル26およびヒータによってなされている。ノズ
ル管27,28から噴霧されかつ液化した水は、接続管
18を通って水槽14の各々に流れ、ポンプ29によっ
てノズル管27,28にもどされている。
【0015】基板のエッチング加工に際して、エッチン
グ液の液溜まりが基板に生じないようにするために、本
発明によるエッチング装置では、ローラコンベア20に
おける第一のセクションES1 にあるローラ群20A
は、図3によく示されているように、回転中心軸が第二
のセクションES2 あるいは水洗手段11に向かうほど
水平面から次第に低くなる直線L1 あるいはコンベア2
0の搬送終端に向かって斜め下方に傾斜する直線L1 の
上に位置するように、エッチング手段10の本体13に
ある軸受に両端にある軸をそれぞれ保持されている。ま
た、ローラコンベア20における第二のセクションES
2 にあるローラ群20Bは、回転中心軸が水洗手段11
に向かうほど水平面から次第に高くなる直線L2 あるい
はコンベア20の搬送終端に向かって斜め上方に傾斜す
る直線L2 の上に位置するように、本体13にある軸受
に両端にある軸をそれぞれ保持されている。ローラ群2
0Aによって形成される基板の搬送ラインとローラ群2
0Bによって形成される基板の搬送ラインとは谷を形成
し、谷底においてたがいに接続している。
【0016】このため、基板がエッチング手段10の第
一のセクションES1 を搬送されるときに、基板Pは、
搬送方向側の側縁あるいは搬送終端側の側縁が図3にお
いて右下がりになった状態にてローラ群20Aによって
搬送されつつノズル管22,23のノズル孔からエッチ
ング液を噴霧され、エッチング処理を施される。このと
きに、基板Pの上面に触れるなどして液化したエッチン
グ液は、基板上面を搬送終端側にある側縁に向かって流
れて、該側縁からエッチング液槽14に流れ落ち、基板
Pの下面に噴霧されたエッチング液は基板の搬送終端側
の側縁に向かって流れ、該側縁からエッチング液槽14
に流れ落ちるとともに、重力によって基板下面からエッ
チング液槽14に滴下し、基板の両面にエッチング液の
液溜まりを生じない。
【0017】そして、基板Pは、エッチング手段10の
第二のセクションES2 を搬送されるときに、搬送方向
側の側縁あるいは搬送終端側の側縁が図3において右上
がりになった状態にてローラ群20Bによって搬送され
つつノズル管22,23のノズル孔からエッチング液を
噴霧され、エッチング処理を施される。このときに、基
板Pの上面に触れるなどして液化したエッチング液は、
逆に、基板上面を搬送始端側にある側縁に向かって流
れ、該側縁からエッチング液槽14に流れ落ち、基板P
の下面に噴霧されたエッチング液は基板の搬送始端側の
側縁に向かって流れ、該側縁からエッチング液槽14に
流れ落ちるとともに、重力によって基板下面からエッチ
ング液槽14に滴下し、基板Pの両面にエッチング液の
液溜まりを生じない。
【0018】本発明によるエッチング装置は、このよう
に、コンベア20を傾斜配置して、基板のサイズにかか
わりなしに、エッチング液の液溜まりが基板Pに生じな
いようにさせている、いいかえれば、従来の装置におけ
る基板のシーソ運動を必要とせずに、各々の基板Pの上
面および下面にたいするエッチング加工をむらなくおこ
なえるようにしているため、ワークの変更にともなう段
取りを短時間かつ低コストでおこなえ、しかも、コンベ
ア20を構成するローラはすべて同一直径のものを採用
することができるため、コンベア20の製造コストが低
下し、装置の組立コストも低下する。
【0019】本発明において、ローラコンベアにおける
エッチング手段の各々のセクションES1 ,ES2 にあ
るローラ群は、逆方向に傾斜配置しても、同じ効果を得
ることができる。図4はそのようなエッチング装置にお
けるローラコンベアのみを示している。
【0020】このローラコンベア120において、エッ
チング手段10の第一のセクション12に配置されたロ
ーラ群120Aは、回転中心軸がこのローラコンベア1
20の搬送終端に向かって斜め上方に傾斜する直線L3
の上に位置するようにエッチング手段10の本体13に
ある軸受に両端から延びる軸を保持されている。エッチ
ング手段10の第二のセクションES2 に配置されたロ
ーラ群120Bは、回転中心軸がコンベア120の搬送
終端に向かって斜め下方に傾斜する直線L4 の上に位置
するように、エッチング手段10の本体13に組み込ま
れている。そこで、ローラ群120Aによって形成され
る基板の搬送ラインとローラ群120Bによって形成さ
れる基板の搬送ラインとは山を形成し、そして、山頂に
おいてたがいに接続している。
【0021】このようなローラコンベア120を備える
エッチング装置では、基板Pは、エッチング手段10の
第一のセクションES1 を搬送されるときに、搬送終端
側の側縁が図4にて右上がりになった状態においてロー
ラ群120Aによって搬送されつつノズル管22,23
のノズル孔からエッチング液を噴霧され、第二のセクシ
ョンES2 を搬送されるときに、搬送終端側の側縁が右
下がりになった状態においてローラ群120Aによって
搬送されつつノズル管22,23のノズル孔からエッチ
ング液を噴霧され、エッチング処理を施される。
【0022】第一のセクションES1 において噴霧さ
れ、基板Pの上面に触れるなどして液化したエッチング
液は基板上面を搬送始端側の側縁に向かって流れ、第二
のセクションES2 において噴霧されたエッチング液は
基板上面を搬送終端側の側縁に向かって流れ、各々の側
縁からエッチング液槽14に流れ落ち、基板上面にエッ
チング液の液溜まりを生じない。また、第一のセクショ
ンES1 において基板Pの下面に噴霧されたエッチング
液も基板の搬送始端側の側縁に向かい、第二のセクショ
ンES2 にて基板Pの下面に噴霧されたそれも搬送終端
側の側縁に向かってそれぞれ流れ、各々の側縁からエッ
チング液槽14に流れ落ちるとともに、重力によって基
板下面から直接にエッチング液槽14に滴下するため、
基板下面にもエッチング液の液溜まりを生じない。
【0023】さらに、ローラコンベアは、これらの配置
のみならず、エッチング手段を形成する各々のセクショ
ンに位置するローラを複数のローラからなる複数のロー
ラ群に分け、各々のローラ群に山および谷を形成させる
ことによって、エッチングむらの発生をさらに確実に防
止することができる。図5および図6はそのようなロー
ラコンベアをもつエッチング装置を示している。
【0024】図5はエッチング装置におけるローラコン
ベアのみを示し、他の構成要素は図1ないし図3に関連
して説明したエッチング装置と同じである。
【0025】ローラコンベア220に四組のローラ群2
20A〜220Dからなっている。ローラ群220A,
220Bはエッチング手段10の第一のセクションES
1 に配置され、ローラ群220C,220Dは第二のセ
クションES2 に配置されている。ローラ群220Aは
回転中心軸が第二のセクションES2 あるいは水洗手段
11に向かうほど水平面から次第に高くなる直線L5 あ
るいはコンベア220の搬送終端に向かって斜め上方に
傾斜する直線L5 の上に、ローラ群220Bは回転中心
軸が第二のセクションES2 あるいは水洗手段に11向
かうほど水平面から次第に低くなる直線L6 あるいはコ
ンベア220の搬送終端に向かって斜め下方に傾斜する
直線L6 の上にそれぞれ位置するようにエッチング手段
10の本体13に組み込まれている。ローラ群220C
は回転中心軸が水洗手段11に向かうほど水平面から次
第に高くなる直線L7 あるいはコンベア220の搬送終
端に向かって斜め上方に傾斜する直線L7 の上に、ロー
ラ群220Dは回転中心軸が水洗手段11に向かうほど
水平面から次第に低くなる直線L8 あるいはコンベア2
20の搬送終端に向かって斜め下方に傾斜する直線L8
の上にそれぞれ位置するように本体13に組み込まれて
いる。そこで、ローラ群220Aによって形成される基
板の搬送ラインとローラ群220Bによって形成される
基板の搬送ラインとは山を形成しかつ山頂にてたがいに
接続し、ローラ群220Cによって形成される基板の搬
送ラインとローラ群220Dとによって形成される基板
の搬送ラインとは山を形成しかつ山頂にてたがいに接続
しており、セクションES1 ,ES2 におけるたがいに
隣接するローラ群220Bとローラ群220Cとよって
形成される基板の搬送ラインは谷を形成しかつ谷底にて
たがいに接続している。
【0026】このような基板搬送のコンベア220を備
えるエッチング装置において、基板Pは、エッチング手
段10のセクションES1 を搬送されるときに、搬送終
端側の側縁が右上がりになった状態にてローラ群220
Aによって搬送されつつノズル管22,23のノズル孔
からエッチング液を噴霧され、つぎに、搬送終端側の側
縁が右下がりになった状態にてローラ群220Bによっ
て搬送されつつノズル管22,23のノズル孔からエッ
チング液を噴霧される。基板Pの上面に噴霧され、液化
したエッチング液は、基板Pがローラ群220Aによっ
て搬送されているときに、基板上面を搬送始端側の側縁
に向かって流れ、該側縁からエッチング液槽14に流れ
落ち、ローラ群220Bによって搬送されているとき
に、基板上面を搬送終端側の側縁に向かって流れ、該側
縁からエッチング液槽14に流れ落ち、基板上面にエッ
チング液の液溜まりを発生させない。そして、基板Pの
下面に噴霧されたエッチング液は、ローラ群220Aに
よって搬送されたときに、基板の搬送始端側の側縁に向
かって流れ、該側縁からエッチング液槽14に流れ落ち
るとともに、重力によって基板下面から直接にエッチン
グ液槽14に滴下し、ローラ群220Bによって搬送さ
れたときに、基板の搬送終端側の側縁に向かって流れ
て、該側縁からエッチング液槽14に流れ落ちるととも
に、重力によって基板下面からエッチング液槽14に滴
下し、基板下面にもエッチング液の液溜まりを発生させ
ない。
【0027】さらに、基板Pは、エッチング手段10の
セクションES2 を搬送されるときにも、ローラ群22
0Cによって搬送終端側の側縁が右上がりの状態にて搬
送されつつノズル管22,23のノズル孔からエッチン
グ液を噴霧されたあと、ローラ群220Dによって搬送
終端側の側縁が右下がりの状態にて搬送されつつノズル
管22,23のノズル孔からエッチング液を噴霧され
る。基板Pの上面に噴霧されたエッチング液は、ローラ
群220Cによって搬送されたときに、基板上面を搬送
始端側の側縁に向かって流れて、該側縁からエッチング
液槽14に流れ落ち、ローラ群220Dによって搬送さ
れたときに、基板上面を搬送終端側の側縁に向かって流
れ、該側縁からエッチング液槽14に流れ落ち、エッチ
ング液の液溜まりが基板上面に生じない。基板Pの下面
に噴霧されたエッチング液も、ローラ群220Cによっ
て搬送されたときに、基板の搬送始端側の側縁に向かっ
て流れ、該側縁からエッチング液槽14に流れ落ちると
ともに、重力によって基板下面からエッチング液槽14
に滴下し、ローラ群220Dによって搬送されたとき
に、基板の搬送終端側の側縁に向かって流れ、該側縁か
らエッチング液槽14に流れ落ちるとともに、重力によ
って基板下面からエッチング液槽14に滴下し、基板下
面にエッチング液の液溜まりが基板下面に生じない。
【0028】また、図6に示すエッチング装置では、ロ
ーラコンベアにおけるエッチング手段10の第一のセク
ションES1 にあるローラが二組のローラ群により、第
二のセクションES2 にあるローラも二組のローラ群に
よってそれぞれ構成されているが、各々のローラ群は図
5に示すコンベアと逆に傾斜配置されている。
【0029】図6はローラ群のみを示しており、ローラ
群320A,320Bはエッチング装置の第一のセクシ
ョンES1 に、ローラ群320C,320Dは第二のセ
クションES2 にそれぞれ配置されている。
【0030】ローラ群320Aは回転中心軸がコンベア
320の搬送終端に向かって斜め下方に傾斜する直線L
9 の上に、ローラ群320Bは回転中心軸がコンベア3
20の搬送終端に向かって斜め上方に傾斜する直線L10
の上にそれぞれ位置するようにエッチング手段の本体1
3に組み込まれている。また、ローラ群320Cは回転
中心軸がコンベア320の搬送終端に向かって斜め下方
に傾斜する直線L11の上に、ローラ群320Dは回転中
心軸がコンベア320の搬送終端に向かって斜め上方に
傾斜する直線L12の上にそれぞれ位置するように本体1
3に組み込まれている。このため、ローラ群320Aに
よって形成される基板搬送ラインとローラ群320Bと
によって形成される基板搬送ラインとは谷を形成しかつ
谷底においてたがいに接続し、ローラ群320Cによっ
て形成される基板搬送ラインとローラ群320Dとによ
って形成される基板搬送ラインとは谷を形成しかつ谷底
にてたがいに接続し、セクションES1 ,ES2 におけ
るたがいに隣接するローラ群320Bとローラ群320
Cとよって形成される基板の搬送ラインは山を形成しか
つ山頂にてたがいに接続している。
【0031】このような基板搬送コンベア320をもつ
エッチング装置においても、基板Pは、エッチング手段
10の第一のセクションES1 を搬送されるときに、ロ
ーラ群320Aによって搬送終端側の側縁が右上がりに
なった状態において搬送されつつノズル管22,23の
ノズル孔からエッチング液を噴霧され、それから、ロー
ラ群320Bによって搬送終端側の側縁が右下がりにな
った状態において搬送されつつノズル管22,23のノ
ズル孔からエッチング液を噴霧される。このときに、基
板Pの上面に噴霧されかつ液化したエッチング液は、ロ
ーラ群320Aによって搬送されたときに、基板上面を
搬送終端側の側縁に向かって流れ、該側縁からエッチン
グ液槽14に流れ落ち、ローラ群320Bによって搬送
されたときに、基板上面を搬送始端側の側縁に向かって
流れ、各々の側縁からエッチング液槽14に流れ落ち、
エッチング液の液溜まりが基板上面に生じない。そし
て、基板Pの下面に噴霧されたエッチング液は、ローラ
群320Aによって搬送されたときに、基板下面を搬送
終端側の側縁に向かって流れ、該側縁からエッチング液
槽14に流れ落ちるとともに、重力によって基板下面か
らエッチング液槽14に滴下し、ローラ群320Bによ
って搬送されたときに、基板下面を搬送始端側の側縁に
向かって流れ、該側縁からエッチング液槽14に流れ落
ちるとともに、重力によって基板下面からエッチング液
槽14に滴下して、エッチング液の液溜まりが基板下面
に生じない。
【0032】さらに、基板Pは、第二のセクションES
2 を搬送されるときにも、ローラ群320Cによって搬
送終端側の側縁が右下がりになった状態において搬送さ
れつつノズル管22,23のノズル孔からエッチング液
を噴霧され、そして、ローラ群320Dによって搬送始
端側の側縁が右上がりになった状態において搬送されつ
つノズル管22,23のノズル孔からエッチング液を噴
霧される。このときにも、基板Pの上面に噴霧されたエ
ッチング液は、ローラ群320Cによって搬送されたと
きに、基板上面を搬送終端側の側縁に向かって流れ、該
側縁からエッチング液槽14に流れ落ち、ローラ群32
0Cによって搬送されたときに、基板上面を搬送始端側
の側縁に向かって流れ、該側縁からエッチング液槽14
に流れ落ち、基板上面にエッチング液の液溜まりを生じ
ない。基板Pの下面におけるエッチング液も、ローラ群
320Cによって搬送されたときに、基板の搬送終端側
の側縁に向かって流れ、該側縁からエッチング液槽14
に流れ落ちるとともに、重力によって基板下面からエッ
チング液槽14に滴下し、ローラ群320Dによって搬
送されたときに、基板の搬送始端側の側縁に向かって流
れ、該側縁からエッチング液槽14に流れ落ちるととも
に、重力によって基板下面からエッチング液槽14に滴
下し、エッチング液の液溜まりが基板下面に生じない。
【0033】なお、以上説明した実施例において、ロー
ラコンベア20,120,220,320におけるエッ
チング手段10にあるローラ群のみを傾斜させている
が、水洗手段11における各々のセクションにあるロー
ラ群も同様にして傾斜配置させることによって、水洗も
むらなくおこなえる。また、コンベア自体も、たとえば
エッチング手段10における各々のセクションEC1 ,
EC2 を単一あるいは複数のチェーンコンベア、網ベル
トをもつベルトコンベアなどによって構成するなど、必
要に応じて他の構造のものを採用してもよい。
【0034】
【発明の効果】本発明の印刷配線板用エッチング装置
は、以上説明したように、基板の両面に噴霧されたエッ
チング液の液溜まりを生じないため、むらのないエッチ
ング加工をおこなえるばかりか、基板のシーソ運動を必
要としないので、従来の装置において必須としていた基
板サイズに応じたコンベア調整作業が不要となって、基
板サイズの変更にともなう段取りをより短時間かつより
低コストでもっておこなえる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の印刷配線板用エッチング装置の一実施
例を示す平面図である。
【図2】図1のA−A線にそう断面図である。
【図3】基板を搬送するコンベアの構成を説明するため
の図である。
【図4】本発明の印刷配線板用エッチング装置の他の実
施例における基板を搬送するコンベアの構成を説明する
ための図である。
【図5】本発明の印刷配線板用エッチング装置のさらに
他の実施例における基板を搬送するコンベアの構成を説
明するための図である。
【図6】本発明の印刷配線板用エッチング装置のさらに
他の実施例における基板を搬送するコンベアの構成を説
明するための図である。
【符号の説明】
20,120,220,320…基板を搬送するコンベ
ア、22,23…エッチング液を噴霧するノズル、20
A,20B,120A,120B,220A〜220
D,320A〜320D…コンベアを形成するローラ
群。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板を搬送する機構とこの搬送機構によ
    って搬送されている基板にエッチング液を噴霧する機構
    とを具備している印刷配線板のエッチング装置におい
    て、搬送機構が複数の搬送体を具備し、各々の搬送体が
    隣接する搬送体と反対方向を向いて傾斜配置されている
    こと、を特徴とする印刷配線板のエッチング装置。
  2. 【請求項2】 各々の搬送体が基板の搬送方向に沿って
    前記傾斜配置をなされている請求項1に記載のエッチン
    グ装置。
  3. 【請求項3】 基板を搬送する機構とこの搬送機構によ
    って搬送されている基板にエッチング液を噴霧する機構
    とを具備している印刷配線板のエッチング装置におい
    て、搬送機構が同じ直径をもつ複数のローラからなる二
    つのローラ群をもつローラコンベアからなり、一方のロ
    ーラ群のローラのすべてが基板の搬送終端に向かって斜
    め下方に傾斜する直線上に、他方のローラ群のローラの
    すべてが基板の搬送終端に向かって斜め上方に傾斜する
    直線上に回転軸をそれぞれ配置され、谷形の搬送ライン
    を形成してなること、を特徴とする印刷配線板のエッチ
    ング装置。
  4. 【請求項4】 基板を搬送する機構とこの搬送機構によ
    って搬送されている基板にエッチング液を噴霧する機構
    とを具備している印刷配線板のエッチング装置におい
    て、ローラコンベアが同じ直径をもつ複数のローラから
    なる二つのローラ群をもち、一方のローラ群のローラの
    すべてが基板の搬送終端に向かって斜め上方に傾斜する
    直線上に、他方のローラ群のローラのすべてが基板の搬
    送終端に向かって斜め下方に傾斜する直線上に回転軸を
    それぞれ配置され、山形の搬送ラインを形成してなるこ
    と、を特徴とする印刷配線板のエッチング装置。
  5. 【請求項5】 基板を搬送する機構とこの搬送機構によ
    って搬送されている基板にエッチング液を噴霧する機構
    とを具備している印刷配線板のエッチング装置におい
    て、搬送機構が同じ直径をもつ複数のローラからなる複
    数のローラ群をもつローラコンベアからなり、これらの
    ローラ群が交互に位置する基板の搬送終端に向かって斜
    め上方に傾斜する直線と斜め下方に傾斜する直線とに沿
    って回転軸を配置され、山形の搬送ラインと谷形の搬送
    ラインとが交互に並ぶ搬送ラインを形成してなること、
    を特徴とする印刷配線板のエッチング装置。
  6. 【請求項6】 基板を搬送する機構とこの搬送機構によ
    って搬送されている基板にエッチング液を噴霧する機構
    とを具備している印刷配線板のエッチング装置におい
    て、搬送機構がローラコンベアからなるとともに、基板
    の搬送終端に向かって斜め上方に傾斜する直線上および
    斜め下方に傾斜する直線上に回転軸を配置され、複数の
    ローラからなる隣接ローラ群を具備してなること、を特
    徴とする印刷配線板のエッチング装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006239501A (ja) * 2005-03-01 2006-09-14 North:Kk 薬液処理装置
KR101084918B1 (ko) 2008-11-10 2011-11-17 삼성전기주식회사 2중 경사 컨베이어 장치를 갖는 에칭장치
JP2013055100A (ja) * 2011-09-01 2013-03-21 Fujikura Ltd 薬液処理装置及び薬液処理方法
WO2016044986A1 (zh) * 2014-09-23 2016-03-31 安徽省大富光电科技有限公司 蚀刻、显影、清洗以及褪膜设备、喷淋处理设备及方法
CN114980533A (zh) * 2022-05-31 2022-08-30 深圳市新锐霖电子有限公司 一种印制电路板加工装置及加工方法

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