JPH10509966A - カルバメート系除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 次式Ｉの置換されたＮ−フェニル−またはＮ−ヘテロアリルアルキルカルバメートにおいて （式中 を表しＲはハロゲン原子，トリフルオロメチル基，シアノ基，ニトロ基，もしくは炭素原子数１ないし３のハロアルコキシ基を表し；Ｚは水素原子もしくはハロゲン原子を表し；もしくはＺおよびＲはフェニル環の２−または３−位において一緒になって基−ＯＣＦ₂−を形成し；Ｒ₁は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表し；Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄およびＲ₅は互いに独立して水素原子，メチル基もしくはエチル基を表し；Ｘは酸素原子，硫黄原子，−ＳＯ−もしくは−ＳＯ₂−を表し；Ｙは水素原子，ハロゲン原子，炭素原子数１ないし３のアルキル基，炭素原子数１ないし３のハロアルキル基，，炭素原子数１ないし３のアルコキシ基，もいくはシアノ基を表し；ｎは０，１または２を表し；ｎ₁は０もしくは１；そしてｍは０もしくは１を表す。但しＱが基（１）または（２）の場合，ｍは１を示す）およびジアステレオマーおよびそれらの光学的対掌体は発芽前および発芽後の除草性物性を発揮する。

Description

【発明の詳細な説明】 カルバメート系除草剤 本発明は新規な農薬として活性な置換されたＮ−フェニル−およびＮ−ヘテロ アリールアルキルカルバメート，それらの製造法，Ｎ−フェニル−およびＮ−ヘ テロアリールアルキルカルバメートを有効成分として含有する組成物および，特 に有用植物，例えば穀類，イネ，トウモロコシ，大豆および綿における雑草を防 除するためのそれらの方法に関するものである。 置換されたアルキル−およびフェニルカルバメートは除草剤的に活性化合物で あり，既に開示され，例えばＵＳ−Ａ−５０７８７８３，ＵＳ−Ａ−５０９９０ ５９，ＵＳ−Ａ−５１５２８２７，ＵＳ−Ａ−５１９４６６１およびＵＳ−Ａ− ５３９９５４５等において記載されている。 除草性を有し，そして良好な有効性によって識別される新規な置換されたＮ− フェニル−およびＮ−ヘテロアリールアルキルカルバメートが今見出された。 本発明に基づく化合物は次式Ｉ： （式中 Ｒは水素原子，トリフルオロメチル基，シアノ基，ニトロ基もしくは炭素原子 数１ないし３のハロアルコキシ基を表し； Ｚは水素原子もしくはハロゲン原子を表すか；もしくはＺおよびＲはフェニル 環の２位と３位において一緒になって基−ＯＣＦ₂Ｏ−を形成し； Ｒ₁は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表し； Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄およびＲ₅は互いに独立して水素原子，メチル基もしくはエチル 基を表し； Ｘは酸素原子，硫黄原子，−ＳＯ−もしくは−ＳＯ₂−を表し； Ｙは水素原子，ハロゲン原子，炭素原子数１ないし３のアルキル基，炭素原子 数１ないし３のハロアルキル基，炭素原子数１ないし３のアルコキシ基もしくは シアノ基を表し； ｎは０，１もしくは２を表し； ｎ₁は０もしくは１を表し；そして ｍは０もしくは１を表すが， 但し，Ｑが基（１）もしくは（２）を表す場合，ｍは１を表す）で表される化 合物、およびそれらのジアステレオマーおよびエナンチオマー（鏡像異性体）で ある。 上記の定義において，ハロゲン原子とはヨウ素原子，好ましくはフッ素原子， 塩素原子および臭素原子であると理解すべきである。 適切なアルキル基には直鎖または枝分れアルキル基，例えばメチル基，エチル 基，ｎ−プロピル基，イソプロピル基，ｎ−ブチル基，第二ブチル基，イソブチ ル基，第三ブチル基，ｎ−ペンチル基およびそれらの異性体であり、好ましくメ チル基およびエチル基である。 適当なハロアルキル基はモノ−またはポリ置換アルキル基，特にハロゲン原子 （該ハロゲン原子は特に臭素原子またはヨウ素原子，そしてとりわけフッ素原子 または塩素原子を意味すると理解される）によって一ないし三置換されたアルキ ル基，例えば，フルオロメチル，ジフルオロメチル，クロロメチル，ジクロロメ チル，トリクロロメチルおよび，特にトリフルオロメチル基である。 適当なアルコキシ基は，例えば，メトキシ基，エトキシ基，ｎ−プロピロルオ キシ基およびイソ−プロピロルオキシ基である。 適当なハロアルコキシ基は例えば，ジフルオロメトキシ基，トリフルオロメト キシ基，２，２，２，−トリフルオロメトキシ基，１，１，２，２，−テトラフ ルオロメトキシ基；好ましくはジフルオロメトキシ基およびトリフルオロメトキ シ基である。 本発明に基づく式ＩのＮ−フェニル−およびＮ−ヘテロアリール−アルキルカ ルバメートは特に発芽前に施用 される場合を除き発芽後に施用する時特に有用植物，例えば穀類，イネ，トウモ ロコシ，大豆および綿に良好な選択性を発揮する。 Ｒ₄およびＲ₂がＲ₅およびＲ₃とがそれぞれ異なる場合，フェニル−Ｘ基に対し てβ−位およびベンジルγ−および／またはδ−炭素原子上において式Ｉの化合 物に少なくとも一個の不整炭素原子の可能な存在の結果，化合物は光学的に活性 な異性体としてもラセミ体の混合物の形態でも両方を発生させることが可能であ る。式Ｉの光学的に活性な化合物は公知の分離方法，例えば分別結晶か，もしく は鏡像体の選択的合成によってラセミ体の混合物から製造することが可能である 。本発明の式Ｉで表される化合物の活性成分は全て純粋な光学的な対掌体のみな らず，ラセミ化合物としても解釈するものとする。また，個々の光学的対掌体に 対し特別な言及が為されない限り，付与される式の化合物は指示された製造工程 により生じるそれらのラセミ体混合物として理解することとする。 式Ｉで表される好ましい化合物は，基Ｒが塩素原子，臭素原子，トリフルオロ メチル基もしくはトリフルオロメトキシ基である場合の化合物である。 式Ｉのその他の好ましい化合物は，化合物においてＺが水素原子またはフッ素 原子を表す化合物である。 式Ｉのその他の好ましい化合物は，Ｒ₁がメチル基もしくはエチル基を表す化 合物である。 式Ｉの更に好ましい化合物はＲ₂，Ｒ₃，Ｒ₄およびＲ₅が互いに独立して水素原 子もしくはメチル基を表す化合物である。これらの化合物のなかで特に好ましい のは，Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄が水素原子を表し，Ｒ₅がメチル基を表す化合物である 。 また，式Ｉで表される好ましい化合物はＲ₂，Ｒ₃およびＲ₄が水素原子を表し 、，Ｒ₅がメチル基もしくはエチル基を表し，そしてＱが基（１），（２）また は（３）を表す化合物である。これらの化合物の中で特に好ましいのはＲ₅がメ チル基で，Ｑが基（１）または（２）の化合物である。 式Ｉの更に好ましい化合物は，化合物の中でＸが酸素原子または硫黄原子を表 す化合物である。 式Ｉの更に好ましい化合物は，化合物の中でＱが基（１）または（２）；ｎが １；Ｙが結合位置に対してオルト−またはメタ−位に結合している化合物である 。 これらの化合物の中で特に好ましいのは，Ｙが結合位置に対してオルト−また はメタ−位に結合している化合物である。 式Ｉの更に好ましい化合物は，Ｙが水素原子，フッ素原子，塩素原子，メチル 基，トリフルオロメチル基，メトキシ基またはシアノ基を表す化合物である。 式Ｉの重要な化合物は，Ｑは基（１）を表し；Ｒが塩素原子，シアノ基，ニト ロ基，トリフルオロメチル基，トリフルオロメトキシ基もしくはジフルオロメト キシ基 を表し；Ｚが水素原子を表すか；またはＺおよびＲはフェニル環上の２−および ３−位において一緒になって基−ＯＣＦ₂Ｏ−を形成し；Ｘは酸素原子もしくは 硫黄原子を表し；Ｙが水素原子，２−フルオロ，２−もしくは３−クロロ，２− メチルもしくは２−トリフルオロメチル基を表し；ｎは０または１を表し；Ｒ₁ がメチル基またはエチル基を表し；Ｒ₂が水素原子を表し；そしてＲ₃，Ｒ₄およ びＲ₅は互いに独立して水素原子またはメチル基を表す化合物である。 式Ｉの他の重要な化合物はＱが基 で表され；Ｒはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表し； Ｚは水素原子を表し；または ＺおよびＲはフェニル環上の２−位および３−位において一緒になって基−ＯＣ Ｆ₂Ｏ−を形成し；Ｘは酸素原子もしくは硫黄原子を表し；Ｙが，水素原子，３ −または５−クロロまたは３−メチル基を表し； Ｒ₁はエチル基を表し；Ｒ₂は水素原子またはメチル基を表し；Ｒ₃は水素原子を 表し；そしてｍは０を表す化合物である。 また，式Ｉで表される重要な化合物はＱが基 で表され；Ｒはトリフルオロメチル基もしくはトリフル オロメトキシ基を表し；Ｚは水素原子を表し；または ＺおよびＲはフェニル環上の２−位および３−位において一緒になって基−Ｏ ＣＦ₂Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子もしくは硫黄原子を表し；Ｙが，水素原子，３−クロロまたは３− メチル基を表し； Ｒ₁はエチル基を表し；Ｒ₂およびＲ₃は水素原子； Ｒ₄またはＲ₅互いに独立して水素原子またはメチル基を表し；そしてｍが１を表 す化合物である。 式Ｉの重要な化合物はＱが基 で表され；Ｒはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表し； Ｚは水素原子を表し；またはＺおよびＲはフェニル環上の２−位および３−位に おいて一緒になって基−ＯＣＦ₂Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子を表し；Ｙが水素原子，３−クロロまたは３−メチル基を表し； Ｒ₁はエチル基を表し；Ｒ₂は水素原子またはメチル基を表し：Ｒ₃は水素原子を 表し；そしてｍは０を表す化合物である。 式Ｉの他の重要な化合物はＱが基 で表され；Ｒはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表し； Ｚは水素原子を表し；またはＺ およびＲはフェニル環上の２−位および３−位において一緒になって基−ＯＣＦ₂ Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子を表し；Ｙが水素原子を表し；Ｒ₁はエチル基を表し；Ｒ₂またはＲ₃ は水素原子を表し；，Ｒ₄またはＲ₅互いに独立して水素原子またはメチル基を 表し；そしてｍが１を表す化合物である。 更に式Ｉの重要な化合物はＱが基 で表され；Ｒはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表し； Ｚは水素原子を表し；またはＺおよびＲはフェニル環上の２−位よび３−位にお いて一緒になって基−ＯＣＦ₂Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子を表し；Ｙが水素原子または３−メチル基を表し；Ｒ₁はエチル基 を表し；Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は水素原子を表し；，Ｒ₄は水素原子またはメチル基 を表し；そしてｍが１で表される化合物である。 上述の化合物の中で，特に好ましいのは次式（Ｉａ）および（Ｉｂ） および で表される化合物においてＱが，式Ｉに関する定義と同じ定義で表される化合物 である。 これらの化合物の中で，極めて重要な化合物は，式ＩａもしくはＩｂの化合物の 中で，Ｑが もしくは Ｙは水素原子，フッ素原子，塩素原子，メチル基，トリフルオロメチル基，メト キシ基またはシアノ基を表し；ｎが０，１，または２を表し；そしてｎ₁が０ま たは１を表す化合物である。 加えて，式Ｉの好ましい化合物は，β−炭素原子が（−）エナンチオマーとし て光学的に純粋な形態で存在する様な化合物である。 式Ｉの化合物の製造に関する本発明に基づく方法は公知の方法と類似の方法で 実施することが可能であり，その方法は ａ）次式ＩＩ Ｒ，Ｚ，Ｒ₁およびＸは式Ｉに対して定義したものと同じ意味を表す）で表され る化合物を次式ＩＩＩ （式中 Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄，Ｒ₅，Ｑおよびｍは式Ｉに対して定義したものと同じ意味を表す ）で表される化合物と 触媒の存在下もしくは不存在下，不活性有機溶媒中で反応させることにより式Ｉ で表わされる化合物を製造する方法；または ｂ）次式ＩＩ で表される化合物を，通常の条件下，好ましくはホスゲン，もしくはジホスゲン を使用し，次式ＩＶ （式ＩＩおよびＩＶの式中，基Ｒ，Ｚ，Ｒ₁およびＸは前記式１で，定義した通 りの意味を表す。）で表される化合物を生成し得るよう 先に塩素化し， 続いて，得られた生成物を，次式Ｖ （式中，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄，Ｒ₅，Ｑおよびｍは前記式１で定義した通りの定義を示 す）で表される化合物と不活性有機溶媒中，プロトンスカヴェンジャー，例えば ，三級アミンもしくはピリジンの存在下，反応させる工程からなる方法である。 前述のａ）およびｂ）の変形法は次の反応式１の通りである。 反応式 １： 変形法ａ）の過程に関する付加反応は式ＩＩのアルコール類および式ＩＩＩの イソシアネート類を，例えばジエチルエーテル，１，２−ジメトキシエタン，テ トラヒドラフランもしくはジオキサンの様な脂肪族もしくは環状エーテルの如き 不活性の中性有機溶媒中で，または塩化メチレンの如き脂肪族塩化炭化水素，例 えばトルエンもしくはキシレンの如き芳香族，または例えば酢酸エチルの如き脂 肪族エステルを例えば，４−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジン，トリエチルアミ ン，ジブチル錫ジラウレート（dibutyltin dilaurate）および／またはジブチル 錫ジアセテート（dibutyltin diacetate）の如き触媒の存在下，好ましくは２０ ℃と反応溶液の還流温度の 間の温度で反応させることによって実施することができる。 変形法ｂ）の過程においては，式ＩＶのクロロホルメートおよび式Ｖのアミン 類を有機塩の存在下，不活性中性有機溶媒中で，上述の変形法ａ）で述べた操作 法に類似の方法で温度−２０℃と＋４０℃，好ましくは＋５℃と＋２０℃の間の 温度で反応させることが便利な方法として可能である。操作終了後，反応の結果 ，得られた反応混合物を塩の形状で生じたアミン副生物を除くため洗浄するが， この場合水と希酸を使用すると好ましい。 式ＩＩのアルコール類（ＩＩａ：Ｘ₁＝−Ｏ−または−Ｓ−；ＩＩｂ；および ＩＩｃ）は，公知の標準的な方法，例えば下の反応式２で記述する方法で，製造 が可能である。 反応式 ２ また，式ＩＩａの中間体は，水素化リチュウムＩ水和物の存在下で，圧力下， および溶媒の存在下，ＷＯ９４／１０１３２に記載の方法で製造可能である。 式ＩＩのアルコール類は，鏡像体を得るため，例えば液体クロマトフラフィを 利用し，キラル担体上，例えばＨＬＰＣ，キラセル−ＯＤ−Ｈ（Ｄａｉｃｅｌ） 上およびｎ−ヘキサンの２％イソプロパノールを溶出液として分離することが可 能である。 式IIの鏡像体的に純粋なアルコールを得る可能性があるのはＢＩＮＡＰ／Ｒｕ （ＩＩ）触媒錯体を使用するα−フェノキシケトンの対掌性選択水素化である。 式IIの化合物の（−）鏡像体は式IIｅの光学的対掌体として理解することとする が，（＋）鏡像体となる前，最初にキラル担体上，例えばＨＬＰＣ，キラセル− ＯＤ−Ｈ−（Ｄａｉｃｅｌ）上で溶出液としてｎ−ヘキサンと２％イソプロパノ ールとの混合液を使用するダイセル（Ｄａｉｃｅｌ）製のキラセル−ＯＤ−Ｈカ ラム上ＨＰＬＣによって溶出されるか，またはＲｕ₂Ｃｌ₄〔（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ 〕₂〔Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₃〕触媒錯体（反応式2a）を使用する対掌性選択水素化（鏡像 体的過剰＜９６％まで）で優勢的に形成される光学的対掌体である 式IIの光学的に活性な化合物の製造のための本発明に基づく方法は，次式IIｅ （式中，Ｒ₁，ＸおよびＺは請求項１と同じ定義で表され，β−炭素原子が（− ）エナンチオマーとして光学的に純粋な形態で存在する）で表される光学的に活 性な化合物を次式ＶＩＩＩ （式中，Ｒ，Ｒ₁，ＸおよびＺは上で定義と同義に表される）で表わされる化合 物を，例えばメタノールもしくはエタノールの如きアルコール性溶媒中で，例え ば塩化水素酸または硝酸の如きプロトン酸の触媒量の存在下もしくは不存在下， （Ｒ）−ＢＩＮＡＰ／Ｒｕ（ＩＩ）−触媒性水素化反に付すことからなる方法で ある。 式ＶIIIのα−フェノキシケトンが（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ／Ｒｕ（ＩＩ）−触媒 を使用する触媒性水素下反応に付される方法は下の反応式２ａで示す通りである 。 反応式２ａ： ＢＩＮＡＰ／Ｒｕ（ＩＩ）触媒錯体とα−機能性ケトンとの対掌性選択類似水 素化反応は，公知であり特に例えば Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｍ．Ｓｏｃ．１１０，６２ ９（１９８８）．に記載されている。 本発明に従う対掌選択性水素化反応は式ＶＩＩＩのケトン類で開始され，そし てこの反応は新規である。 式ＶＩＩＩのケトン類は公知であるか，または例えばＪ．Ａｍ．Ｃｈｍ．Ｓｏ ｃ．６８，３８（１９４６）に記載されている公知の方法によって容易に製造す ることが可能である。 対掌性選択類似水素化反応は，例えＲ₆−ＯＨ，においてＲ₆が炭素原子数１な いし６のアルキル基．特にメタノールおよびエタノールの如きアルコール溶媒中 で好都合に実施することか可能である。使用した触媒は，例えばＢＩＮＡＰ／Ｒ ｕ（ＩＩ）触媒錯体，ＵＳ−Ａ−４６９１０３７．中でも特にＲｕ₂Ｃｌ₄〔（Ｒ ）−２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ジナフチル〕₂〔Ｎ （Ｃ₂Ｈ₅）₃〕＝Ｒｕ₂Ｃｌ₄〔（Ｒ）ＢＩＮＡＰ〕₂〔Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₃〕である。 触媒錯体の濃度は対掌選択性水素化の過程でその反応に決定な影響を与えない。 必要なら，例えば，塩酸もしくは硝酸の如きプロトン酸を共−触媒として作用さ せるように添加することが可能である。水素化反応は大気圧から１００バールの 圧力，特に８０バールまでのわずかに高められた圧力下，そして温度は１０℃か ら使用した溶媒の 沸点で，好ましくは２０℃から４０℃の温度で実施すると好ましい。 Ｒ₆−ＯＨの希釈アルコール性溶液での標準的な水素添加条件下で，Ｒ₆が例え ば，炭素原子数１ないし４のアルキル基の場合，式ＶIIIのケトンの濃度は１． ０から１．２−モル濃度であり，望ましくない安定した副産物として，３０％ま で調製し得る量の式ＩＸのアセタールが形成される。また，このアセタールは酸 の添加がなくとも水素添加反応の過程において形成される。 上述のアセタールの形成は，或る種の金属錯体上，特に，Ｒｕ（ＩＩ）の触媒 錯体上では，例えばＪ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．Ｃｈｅｍ．４１５，１２７（１９ ９１）およびＳｙｎｌｅｔｔ １９９３，７５１．に検討されている。 Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１７，４４２３（１９９５）によれば，触媒 としてのｉ−Ｐｒ−ＢＰＥ／（ＩＩ）の存在下でのβ−ケトエステルの対掌性水 素添加の過程のアセタール形成は水（水とメタノールとの１０％混合液）を添加 することによって抑制するこが可能である。 驚いたことにアセタールの形成は水素添加溶液における式ＶＩＩＩのケトン濃 度が高いときに大きく抑制されるか，もしくは完全に抑制され；例えば式ＩＸの 最高２０％のみのアセタールが約３０％の水素添加溶液（式ＶＩＩＩのケトンの １．８−モル濃度）で形成され，そし て約そ６５％の水素添加溶液（式ＶＩＩＩのケトンの約２．８−モル濃度）では 式ＩＸのアセタールは全く形成されない，ということを見い出した。 式ＩＩの粗製アルコールの収量は，指定された反応条件下で，置換基Ｒ，Ｒ₁ ，ＸおよびＺに依存し所望の（−）鏡像体ＩＩｅの過剰の鏡像体は＞９６％まで となっているので，通常＞９０％である。形成されたアルコール（本発明で未知 ）の絶対配置は使用した触媒錯体の配置によって決定される。本発明に基づく選 択水素添加の方法においてはＲｕ₂Ｃｌ₄〔（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ〕₂〔Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅ ）３〕錯体の使用が式IIｅの所望の（−）鏡像体アルコールを主に導く。 式IIｅ（（−）鏡像体）の光学的に純粋なアルコール類は本発明によって提供 されるものである。 該当する式IIｅ（（−）鏡像体）の光学的に活性なアルコール類からフェニル −Ｘ基に相当するβ−位における活性体である式Ｉの化合物に関する選択性合成 は例えば，上（反応式Ｉ）で述べた変形法ａ）およびｂ）に類似の方法で達成す ることが可能である。 式ＩＩＩのイソシアネート類は商業的に活用しうる方法か類似の公知の方法， 例えばＨｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，“Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓ ｓｈｅｎ Ｃｈｅｍｉｅ”〔Ｍｅｔｈｏｄｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍ ｉｓｔｒｙ〕，Ｖｏｌ．ＶＩＩＩ，ｐａｇｅ １１９ 以下 参照，Ｔｈｉｅｍ ｅ−Ｖｅｒｌａ ｇ Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ，１９５２．に記載されたような方法のいずれかで製造 可能である。 式Ｖのアミン類は商業的に活用しうる方法か類似の公知の方法，例えばＨｏｕ ｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，“Ｍｅｔｈｏｄｅｎ ｄｅｒ Ｏｒｇａｎｉｓｃｈｅｎ Ｃ ｈｅｍｉｅ”〔Ｍｅｔｈｏｄｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ〕 ，Ｖｏｌ． ＸＩ（１），Ｔｈｉｅｍｅ−Ｖｅｒｌａｇ Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ， １９５７に記載されたような方法のいずれかで製造可能である。 式ＩＶのクロロホルメート誘導体は，それ自体公知の方法，例えばＵＳ−Ａ− ５０９９０５９，ＵＳ−Ａ−５０７８７８３およびＷＯ９４／１０１３２に記載 の方法で合成される。 式Ｉ，ＩＩａ，ＩＩｂ，ＩＩｃおよびＩＶの化合物はそれ自体公知の方法によ って分離し精製することが可能である。当業界の技術者はこれら一定の反応に付 いて周知であり，その反応は変形法ａ）およびｂ）の方法に従って潜在的な第２ 反応を避けて実施することが可能である。 純粋な異性体の単離を目標とする合成さえ達成される限り，生成物は２種また はそれ以上の異性体の形状で得ることが可能である。そして得られた異性体は自 体公知の方法によって分離することが可能である。 次式IIｄの中間体 （式中、Ｒ₁およびＸは式Ｉでの定義と同じを表わす。）はＷＯ９４／１０１３ ２に開示されている。 式Ｉの化合物について付与したのと同様な選択的物性は式IIおよびＩＶの化合 物の中間体にも適用する。 製造方法の為に必要な式ＶＩおよびＶＩＩの出発化 合物は公知の方法か，例えば式ＶＩａの化合物の実例に関する下記の反応式３で 述べる様な文献等から知り得た各種の方法のいずれかにより製造可能である。 反応式３； 出発化合物，即ち式Ｘの製造に必要な製造法はＥＰ−Ａ−０１９８７９７に記載 されている。 製剤形態は，例えば，式Ｉの活性成分を含む組成物，製調剤もしくは製剤品を １種またはそれ以上の固体もしくは液体補助剤の存在下または不存在下で製剤化 する，例えば最初に活性成分を増量剤，例えば溶剤，固体担体そして必要なら， 表面活性剤（界面活性剤）と共に混合 および／または粉砕による既知の方法によって製造される。 適切な溶媒は，例えば芳香族炭化水素、好ましくは炭素原子数８ないし１２の アルキルベンゼンの留分、例えばキシレン混合物またはアルキル化ナフタレン若 しくはテトラヒドロナフタレン、脂肪族または脂環式炭化水素，例えばパラフィ ンまたはシクロヘキサン、アルコール、例えばエタノール、プロパノールまたは ブタノール、グリコール、およびそれらのエーテルおよびエステル、例えばプロ ピレングリコール、ジプロピレングリコールエーテル、ケトン、例えばシクロヘ キサノン、イソホロンまたはジアセトンアルコール、強極性溶媒、例えばＮ−メ チル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシドまたは水、植物油およびそれらの エステル、例えばナタネ油、ヒマシ油、または大豆油、所望ならばシリコーン油 等である。 固体担体，例えば，粉剤および散剤のために使用される固形担体で、普通、天 然鉱物充填剤例えば方解石、タルク、カオリン、モンモリロナイトまたはアタパ ルジャイトである。物性を改良するために、高分散珪酸または高分散吸収性ポリ マーを加えることも可能である。適する粒状化吸収性担体は、多孔性型のもの、 例えば軽石、破壊レンガ、セピオライトまたはベントナイトであり、また、適さ ない非吸収性担体は、例えば、方解石または砂である。更に非常に多くの粒状化 した無機質および有 機質の物質、特にドロマイトまたは粉状化植物残骸等である。 界面活性剤は，例えば，製剤化すべき式Ｉの化合物の性質にもよるが、適する 表面活性化合物は、良好な乳化性、分散性、および湿潤性を有する非イオン性、 カチオン性および／またはアニオン性界面活性剤である。界面活性剤は全て界面 活性剤の混合物を意味すると理解される。 適するアニオン性界面活性剤は、水溶性石鹸および水溶性合成表面活性化合物 である。 適する石鹸は高級脂肪酸（Ｃ10〜Ｃ22）のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属 塩、または未置換または置換されたアンモニウム塩、例えば、オレイン酸または ステアリン酸の、あるいは、例えばココナッツ油または獣脂から得ることができ る天然脂肪酸混合物のナトリウム塩またはカリウム塩である。記述し得る他の界 面活性剤は脂肪酸メチルタウリネートである。 しかしながら、いわゆる合成界面活性剤、特に脂肪アルコールスルホネート、 脂肪アルコールスルフェート、スルホネート化されたベンズイミダゾール誘導体 またはアルキルアリールスルホネートがより頻繁に使用される。 脂肪アルコールスルホネートまたは脂肪アルコールサルフェートは通常アルカ リ金属塩、アルカリ土類金属塩または非置換もしくは置換のアンモニウム塩の形 態にあり、そしてアシル基のアルキル部分をも含む炭素原子数 ８ないし２２のアルキル基を一般に含み、例えばリグノスルホン酸、ドデシルサ ルフェートまたは天然脂肪酸から得られる脂肪アルコールサルフェートの混合物 のナトリウムまたはカルシウム塩である。これらの化合物には硫酸化およびスル ホン化脂肪アルコール／エチレンオキシド付加物の塩も含まれる。スルホン化ベ ンズイミダゾール誘導体は、好ましくは二つのスルホン酸基と８ないし２２個の 炭素原子を含む一つの脂肪酸基とを含む。アルキルアリールスルホネートの例は 、ドデシルベンゼンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸、またはナフタ レンスルホン酸／ホルムアルデヒド縮合生成物のナトリウム、カルシウムまたは トリエタノールアミン塩である。 適当なホスフェート、例えばｐ−ノニルフェノール／（４−１４）エチレンオ キシド付加物のリン酸エステル，またはリン脂質もまた適当である。 非イオン性界面活性剤は、好ましくは、脂肪族または脂環式アルコール、飽和 または不飽和脂肪酸およびアルキルフェノールからのポリグリコールエーテル誘 導体であり、該誘導体は３ないし３０個のグリコールエーテル基、および（脂肪 族）炭化水素部分において８ないし２０個の炭素原子およびアルキルフェノール のアルキル部分において６ないし１８個の炭素原子を含むものである。 その他の適する非イオン性界面活性剤は、ポリエチレンオキシドとポリプロピ レングリコール、エチレンジア ミノポリプロピレングリコールおよびアルキル鎖中に１ないし１０個の炭素原子 を含むアルキルポリプロピレングリコールとの水溶性付加物であり、その付加物 は２０ないし２５０個のエチレングリコールエーテル基および１０ないし１００ 個のプロピレングリコールエーテル基を含むものである。これら化合物は、通常 プロピレングリコール単位当たり１ないし５個のエチレングリコール単位を含む ものである。 非イオン性界面活性剤の代表的な例は、ノニルフェノールポリエトキシエタノ ール、ヒマシ油ポリグリコールエーテル、ポリプロピレン／ポリエチレンオキシ ド付加物、トリブチルフェノキシポリエトキシエタノール、ポリエチレングリコ ールおよびオクチルフェノキシポリエトキシエタノールである。 適するその他の物質はポリオキシエチレンソルビタンの脂肪酸エステル、例え ばポリオキシエチレンソルビタントリオレエートである。 カチオン性界面活性剤は、好ましくは、Ｎ−置換基として、少なくとも一つの 炭素原子数８ないし２２のアルキル基および、他の置換基として、未置換または ハロゲン化低級アルキル基、ベンジル基またはヒドロキシ低級アルキル基を含む ところの第四級アンモニウム塩である。該塩は、好ましくはハロゲン化物、メチ ル硫酸塩またはエチル硫酸塩の形態にあり、例えば、ステアリルトリメチルアン モニウムクロリドまたはベンジルジ（２−クロ ロエチル）エチルアンモニウムブロミドである。 製剤技術に慣例的に使用される界面活性剤は特に以下の刊行物に記載されてい る。 除草性調剤は通常，式Ｉの有効成分を０．１ないし９９％，特に０．１ないし ９５％，固形担体或いは液状補助剤を１ないし９９％，そして界面活性剤を０な いし２５％含有する。 前述の通り，市販製品は原液の状態で製剤化されるのが好ましく，末端の使用 者は慣行的に希釈配合剤を使用する。 本発明組成物は安定剤，例えばエポキシ化もしくは非エポキシ化植物油（エポ キシ化ココナッツ油，ナタネ油またはダイズ油），消泡剤，例えばシリコーン油 ，保存剤，粘度調節剤，結合剤，粘着付与剤および肥料，特別な効果を得るため の他の活性成分を含有し得る。 特に、好ましい製剤は以下の組成物を含む（全体を通してパーセントは重量に 基づく）。乳剤原液： 有効成分 １ないし９０％、好ましくは５ないし ５０％ 表面活性剤 ５ないし３０％、好ましくは１０ないし ２０％ 液体担体 １５ないし９４％、好ましくは７０ない し８５％粉剤： 有効成分 ０．１ないし１０％、好ましくは０．１ ないし１％ 固体担体 ９９．９ないし９０％、好ましくは９９． ９ないし９９％懸濁原液： 有効成分 ５ないし７５％、好ましくは１０ないし ５０％ 水 ９４ないし２４％、好ましくは８８ない し３０％ 表面活性剤 １ないし４０％、好ましくは２ないし３ ０％水和剤： 有効成分 ０．５ないし９０％、好ましくは１ない し８０％ 表面活性剤 ０．５ないし２０％、好ましくは１ない し１５％ 固体担体 ５ないし９５％、好ましくは１５ないし ９０％粒剤： 有効成分 ０．５ないし３０％、好ましくは３ない し１５％ 固体担体材料 ９９．５ないし７０％、好ましくは９７ ないし８５％ 式Ｉの有効成分の製剤実施例 （％＝重量％を表わす。） 有効成分を助剤と混合し、混合物を適当なミルで十分に混合すると、水で希釈 されてあらゆる所望の濃度の懸濁液を与え得る水和剤を得られる。 水との希釈によりあらゆる所望の濃度の乳剤となる乳剤原液は微粉砕有効成分を 添加剤と混合することにより得られる。 そのまま使用できる粉剤は、有効成分を担体と混合し、適当なミルで混合物を粉 砕することにより得られる。 有効成分を助剤と混合および粉砕し、そして混合物を水で湿らせる。混合物を押 出し、造粒し、空気流で乾燥する。５．被覆粒剤 表１ないし６の有効成分 ３％ ポリエチレングリコール （分子量２００） ３％ カオリン ９４％ 細かく粉砕した有効成分をミキサー中で、ポリエチレングリコールで湿らされた カオリンに均一に塗布する。この方法で、非粉塵性の被覆粒剤が得られる。 細かく粉砕された有効成分を助剤と均一に混合すると、水と希釈することによっ てあらゆる所望の濃度の懸濁液が作れる懸濁原液が得られる。７．塩溶液 表１ないし６の有効成分 ５％ イソプロピルアミン １％ オクチルフェノールポリエチレン グリコール エーテル （７８モルのエチレンオキシド） ９１％ 式１の化合物を変更しない形態で採用する，これらの化合物は合成により得る ことが可能であり，好ましいのは通常的に製剤の形態で使用されている補助剤と 共に組成物として使用するのが好ましい。そのためこの目的のためには，公知の 方法で乳剤原液，被膜形成剤，直接粉霧剤，もしくは希釈溶液，希釈乳剤，水和 剤，水溶性粉剤，粉剤，粒剤の形状で好都合に製剤化することが出来，加えてポ リマー性の物質でカプセル化することも可能である。組成物の使用形態としては ，施用の方法，例えば粉霧，噴霧，散布，分散(scatterring)，被覆もしくは注 ぎ(pouring)のような方法が使用目的または効果を発揮する環境に従って選択さ れる。通常、施用割合は，通常１へクタールにつき０．００５ないし２ｋｇ，好 ましくは０．０１ないし１ｋｇである。Ｂ．製造実施例 実施例Ｈ１；１−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−ブタノール（ 中間体） 菅状容器（耐圧型容器）の中で ４０．５ｇの３−ヒドロキシベンゾトリフル オライド，１８，０ｇのα−ブチレンオキシドおよび１．０ｇの水素化リチュウ ム１水和物を１４０℃で１時間加熱した。反応容器を冷却した 後，反応混合物を２００ｍｌの酢酸エチルに溶解させた，そして有機層を水で洗 浄し続いて硫酸ソーダー上で乾燥させた。濃縮後所望の目的物，１−（３−トリ フルオロメチルフェノキシ）−２−ブタノールが高純度で収量５４．０ｇ得られ た。得られた目的化合物は更に精製することなく続く次の反応に使用することが 可能である。 実施例 Ｈ２：１−（３−クロロフェノキシ）−２−ブタノール（中間体）は ５１．４ｇの３−クロロフェノール，２８．８ｇのα−ブチレンオキシド，およ び１，０ｇのリテュウム水素化１水和物を使用することによって実施例Ｈ１と同 様にして収量７１，４ｇの油状物を得た。沸点８３−８４℃／０．０４トール。 実施例 Ｈ３：１−（３−シアノフェノキシ）−２−ブタノール（中間体）は ２０．７ｇの３−シアノフェノール，１３．８ｇのα−ブチレンオキシドおよび ０．５ｇのリチウム水素化１水和物を使用することによって実施例Ｈ１と同様に して収量２５，９ｇの油状物を得た。沸点１１６−１７７℃／０．０４トール。 実施例 Ｈ４：Ｏ−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−ブチル ク ロロフォメート （中間体） トルエン２００mlに含まれた．１−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブ タン−２−オルの４６．８ｇをトルエン中の１．９３モルのホスゲン溶液１２５ mlおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドの０．５mlを添加した。発熱反応の少々 の発熱が鎮静化された後，混合物は８時間，６０℃で加熱された。反応混合物の 濃縮後に所望の目的物Ｏ−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−ブチル クロロホルメートが定量的収量で得られ、そしてこれは更に精製することなく次 の反応に利用することができる。 実施例 Ｈ５： Ｏ−〔１−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）−２−ブ チル〕−Ｎ−（２−フェニルエチル）カルバメート １．２ｇ（０．０１モル）の ２−フェニルエチルアミン）および２０mlのメチ レンクロライド中の１．１ｇ（０．０１１モル）のトリエチルアミンとの溶液を ２０mlのメチレンクロライドの２．９ｇ（０．０１モル）のＯ−（３−トリフル オロメチルフェノキシ）−２−ブチルクロフォメートに滴下して加えた。１４時 間後，溶液を希釈された冷たい塩酸に移し入れ，そして有機相を留去し，水で洗 浄して硫酸ソーダで乾燥させ，続いて回転 式蒸留器により蒸発させた。溶出液としてエチルアセテート／ヘキサン１／３を 使用し，シリカゲル上でカラムクロマトラフにより精製し，その結果，屈折率ｎ Ｄ²⁵１．５０１５．の無色の油状物３．４ｇ（理論値の８５％）を得た。生物学 的に活性な（−）異性体〔（＋）および（−）の２種の異性体は式ＩＩのアルコ ールの段階でクロマトグラフィーにより分離された〕は 沸点が４９−５０℃で あった。 実施例 Ｈ６：１−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン−２−オル （中間体）の（−）鏡像体 鉄鋼性細管を使用し，８７．９ｇの１−（３−トリフルオロメチルフェノキシ） ブタン−２−オンを１３０mlのメタノールに溶解させ、そして０．６４１ｇのＲ ｕ₂Ｃｌ₄〔（Ｒ）−２，２’−ビス（ジフェニルフォスフィノ）−１．１’−ジ ナフチル〕₂〔Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）₃〕＝Ｒｕ₂Ｃｌ₄〔（Ｒ）−ＢＩＮＡＰ〕₂〔Ｎ（Ｃ₂ Ｈ₅）₃〕および１．２mlの１Ｎの塩酸をアルゴン雰囲気下、前記細菅に替わって 鉄鋼性オートクレーブに移し代える。３周期（２０ｂａｒ，雰囲気圧）に，アル ゴン不活性ガスは水素に依って置き代えられ，そして混合物は続いて８０バーの 水素圧の下，２０℃で水素化された。 ６９時間の後，水素取込みは終了する。反応混合物は鉄鋼性オートクレーブか ら除去され，そして回転式の蒸発用乾燥器上で揮発させた。この様に得られた残 留物は酢酸エチル／ｎ−ヘキサン１／４で溶解させ，触媒を除くため短いシリカ ゲル コラムを通してろ過された。回収した分流物を蒸発させれば，所望の目的 物が収量８７．９ｇ（理論値９９％）；屈折率 ｎＤ²²１．４６１１； 〔α〕²⁰ ₃₆₅−１８．７±０．２°（ｃ＝１．０メタノール中で）で得られた。 純粋な（−）鏡像体は容出液としてｎ−ヘキサンおよび２％のイソプロパノー ルとの混合物を使用し，ダイセル製のキラセル−ＯＤ−Ｈコラム（４．６×２５ ０ｍｍ）を使用するＨＰＬＣによって測定した。過剰な鏡像体（ｅｅ）は９４． ２％（（−）鏡像体）。 上で得られたＨＰＬＣクロマトグラフィー条件下で（−）鏡像体は最初，即ち ，（＋）の鏡像体の前で容出された。 同様に類似の方法で下に挙げた表１−６の化合物を製造することができる。 下の表１および２に挙げた（−）鏡像体（エナンチオマー）は式Ｉの化合物にお けるフェニル−Ｘ基に関連するβ−位の不整炭素原子に関連し，そしてこれらの 化合物は式ＩＩ（ｅ）に該当する（−）鏡像体アルコールから製造することが可 能である。 Ｃ．生物学的実施例 実施例Ｂ１：発芽前の除草剤に対する実験的プロトコル 単子葉および双子葉植物を標準的な土壌を入れたプラステックポットに植付け た。植付けた後，２５％の水和剤（製剤実施例１）で水溶性懸濁剤の形に調製し ，１ヘクタール当り２kg（５００ｌの水／ヘクタール）の投与率に相当する試験 用の物質を噴霧した。試験用植物体は温室の中で最適条件下，温室で育てられた 。３週間の試験期間の後，実験はナイン−ステップスケール（ｎｉｎｅ−ｓｔｅ ｐ ｓｃａｌｅ）（１＝完全損傷， ９＝無作用）を使用し評価をおこなった。 Ｉないし４の得点（特にＩないし３）は普通の良いから非常に良い除草作用を意 味する。同様な結果が調製した水和剤（製剤実施例３），分散粒剤（製剤実施例 ４），乳剤性原液（製剤実施例２）もしくは懸濁原液（製剤実施例６）を使用し て得られた。 試験植物体：セタリア，シナピス，ステラリア この実験では，表１の実施例で使用した式Ｉの化合物が強力な除草作用を発揮す る。 表Ｂ１は式Ｉの化合物の良好な除草活性の例を示す： 実施例 Ｂ２：発芽後の除草作用（接触作用）に関する実験的プロトコル 単子葉および双子葉植物を標準的な土壌を入れたプラステックポットに植付け ，温室で育てた。そして植付け後，４ないし６葉の段階で，２５％の水和剤（製 剤実施例１）で水溶性懸濁剤の形に調製し，１ヘクタール当り２kg（５００ｌの 水／ヘクタール）の投与率に相当する試験用濃度の調剤液を噴霧した。試験植物 体は最適条件下，温室で育てられた。略１８日の試験期間の後，実験 はナイン−ステップスケール（ｎｉｎｅ−ｓｔｅｐ ｓｃａｌｅ）（１＝完全損 傷， ９＝無作用）を使用し評価を行った。Ｉないし４の得点（特にＩないし３ ）は普通の良いから非常に良い除草作用を意味する。同様な結果が調製した水和 剤（製剤実施例３），分散性粒剤（製剤実施例４），乳剤性原液（製剤実施例２ ）もしくは懸濁原液（製剤実施例６）を使用して得られた。 試験植物体：セタリア，シナピス，ステラリア この実験では，表１の実施例で使用した式Ｉの化合物が強力な除草性作用を発揮 する。 表Ｂ２は式Ｉの化合物の良好な除草活性の例を示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 269/02 Ｃ０７Ｃ 269/02 323/12 323/12 Ｃ０７Ｄ 213/40 Ｃ０７Ｄ 213/40 333/20 333/20 333/28 333/28 // Ｃ０７Ｍ 7:00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，Ｕ Ｇ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，Ｃ Ａ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＦＩ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＴ，ＬＶ， ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，Ｒ Ｏ，ＲＵ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＴ，ＵＡ ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 ロッテンバッハ，ヴィリー ウルス スイス国，4147 アエッシュ イム グヴ ィーデム ７

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．次式Ｉ （式中 Ｒはハロゲン原子，トリフルオロメチル基，シアノ基，ニトロ基もしくは炭素 原子数１ないし３のハロアルコキシ基を表わし； Ｚは水素原子もしくはハロゲン原子を表わし；もしくはＺおよびＲはフェニル 環の２位と３位において一緒になって，基−ＯＣＦ₂Ｏ−を形成し； Ｒ₁は炭素原子数１ないし５のアルキル基を表わし； Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄およびＲ₅は，互いに独立して水素原子，メチル基若しくはエチ ル基を表わし； Ｘは，酸素原子，硫黄原子，−ＳＯ−もしくは−ＳＯ₂−を表わし； Ｙは，水素原子，ハロゲン原子，炭素原子数１ないし３のアルキル基，炭素原 子数１ないし３のハロアルキル基， 炭素原子数１ないし３のアルコキシ基もしくはシアノ基を表わし； ｎは，０，１もしくは２を表わし； ｎ₁は，０もしくは１を表わし；そして ｍは，０もしくは１を表わし， 但しｍは，Ｑが前記基（１）もしくは（２）の場合，１を表わす。）で表わさ れる化合物またはそれらのジアステレオマーもしくはエナンチオマー。 ２．式中， Ｒ₁が塩素原子，臭素原子，トリフルオロメチル基，もしくはトリフルオロメ トキシ基を表わす請求項１記載の化合物。 ３．式中， Ｚが，水素原子もしくはフッ素原子を表わす請求項１記載の化合物。 ４．式中， Ｒ₁が，メチル基もしくはエチル基を表わす請求項１記載の化合物。 ５．式中， Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄およびＲ₅が，互いに独立して水素原子もしくはメチル基を表わ す請求項１記載の化合物。 ６．式中， Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄が水素原子を表わし，そして Ｒ₅がメチル基を表わす請求項５記載の化合物。 ７．式中， Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₄は水素原子を表わし， Ｒ₅はメチル基もしくはエチル基を表わし，そして Ｑが基（１），（２）または（３）を表わす請求項１記載の化合物。 ８．式中， Ｒ₅がメチル基を表わし，そして Ｑが，基（１）もしくは（２）を表わす請求項７記載の化合物。 ９．式中， Ｘが酸素原子もしくは硫黄原子を表わす請求項１記載の化合物。 １０．式中， Ｑが基（１）もしくは（２）を表わし； ｎが１を表わし；そして Ｙがその結合位置に対応してオルト−もしくはメタ−位に結合する請求項１記 載の化合物。 １１．式中， Ｙが，その結合位置に対応してオルト−位に結合する請求項１０記載の化合物 。 １２．式中， Ｙが，水素原子，フッ素原子，塩素原子，メチル基，トリフルオロメチル基， メトキシ基もしくはシアノ基を表わす請求項１記載の化合物。 １３．式中， Ｑは基（１）を表わし；Ｒが塩素原子，シアノ基，ニト ロ基，トリフルオロメチル基，トリフルオロメトキシ基もしくはジフルオロメト キシ基を表わし； Ｚが水素原子を表わし；もしくは ＺおよびＲはフェニル環の２−および３−位において一緒になって基−ＯＣＦ₂ Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子もしくは硫黄原子を表わし； Ｙが水素原子，２−フルオロ基，２−もしくは３−クロロ基，２−メチル基も しくは２−トリフルオロメチル基を表わし； ｎは０または１を表わし； Ｒ₁はメチル基もしくはエチル基を表わし； Ｒ₂が水素原子を表わし；そして Ｒ₃，Ｒ₄およびＲ₅は互いに独立して水素原子またはメチル基を表わす請求項 １に記載の化合物。 １４．式中， Ｑが基 を表わし； Ｒはトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表わし； Ｚは水素原子を表わし；または ＺおよびＲはフェニル環の２−および３−位において一緒になって基−ＯＣＦ₂ Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子または硫黄原子を表わし； Ｙは水素原子，３−もしくは５−クロロ基または３−メチル基を表わし； Ｒ₁はエチル基を表わし Ｒ₂は水素原子またはメチル基を表わし； Ｒ₃は水素原子を表わし；そして ｍが０を表わす請求項１記載の化合物。 １５．式中， Ｑは基 を表わし； Ｒがトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表わし； Ｚが水素原子を表わし； ＺおよびＲはフェニル環の２−位および３−位において一緒になって基−ＯＣ Ｆ₂Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子もしくは硫黄原子を表わし； Ｙが，水素原子，３−クロロ基または３−メチル基を表わし； Ｒ₁はエチル基を表わし； Ｒ₂およびＲ₃は水素原子を表わし； Ｒ₄およびＲ₅は互いに独立して水素原子またはメチル基を表わし；そして ｍが１を表わす請求項１記載の化合物。 １６．式中， Ｑは基 を表わし； Ｒがトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表わし； Ｚが水素原子を表わすか；もしくは ＺおよびＲはフェニル環の２−位および３−位において一緒になって基−ＯＣ Ｆ₂Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子を表わし； Ｙが，水素原子を表わし； Ｒ₁はエチル基を表わし； Ｒ₂が水素原子またはメチル基を表わし； Ｒ₃が水素原子を表わし；そして ｍが０を表わす請求項１記載の化合物。 １７．式中， Ｑは を表わし； Ｒがトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表わし；Ｚが水 素原子を表わすか；もしくは ＺおよびＲがフェニル環の２−位および３−位において一緒になって基−ＯＣ Ｆ₂Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子を表わし； Ｙが，水素原子を表わし； Ｒ₁はエチル基を表わし； Ｒ₂およびＲ₃が水素原子を表わし； Ｒ₄およびＲ₅は互いに独立して水素原子もしくはメチル基を表わし；そして ｍが１を表わす請求項１記載の化合物。 １８．式中， Ｑは基 を表わし； Ｒがトリフルオロメチル基もしくはトリフルオロメトキシ基を表わし；Ｚが水 素原子を表わすか；もしくは ＺおよびＲがフェニル環の２−位および３−位において一緒になって基−ＯＣ Ｆ₂Ｏ−を形成し； Ｘは酸素原子を表わし； Ｙが，水素原子もしくは３−メチル基を表わし Ｒ₁はエチル基を表わし； Ｒ₂，Ｒ₃およびＲ₅が水素原子を表わし； Ｒ₄は水素原子もしくはメチル基を表わし； そして ｍが１を表わす請求項１記載の化合物。 １９．次式ＩａもしくはＩｂ （式中， Ｑは請求項１で定義した通りである。）で表わされる請求項１記載の化合物。 ２０．式中， Ｙは水素原子，フッ素原子，塩素原子，メチル基，トリフルオロメチル基，メ トキシ基またはシアノ基を表わし；ｎが０，１，または２を表わし； そしてｎ₁が０または１を表わす請求項１９記載の化合物。 ２１．β−炭素原子が（−）エナンチオマーとして光学的に純粋な形状で存在す る請求項１記載の化合物。 ２２．次式II （式中， Ｒ，Ｚ，Ｒ₁およびＸは請求項１で定義した通りである）で表わされる化合物 を，次式III （式中 Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄，Ｒ₅，Ｑおよびｍは請求項１で定義した通りである。）で表わ される化合物と， 触媒の存在下もしくは不存在下，不活性有機溶媒中で反応させることからなる 請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物の製造方法。 ２３．まず、次式II で表わされる化合物を，通常の条件下で，好ましくはホスゲンもしくはジホス ゲンを使用してクロロホルミル化 して，次式IV で表わされる化合物を生成し（上記式IIおよびIVにおいて，基Ｒ，Ｚ，Ｒ₁お よびＸは請求項１で定義した通りである。），続いて得られたこの生成物を， 次式Ｖ （式中，Ｒ₂，Ｒ₃，Ｒ₄，Ｒ₅，Ｑおよびｍは請求項１で定義した通りある。） で表される化合物と 不活性有機溶媒中で，プロトンスカベンジャー例えば第三級アミンもしくはピ リジンの存在下，反応させることからなる請求項１記載の式Ｉで表わされる化合 物の製造方法。 ２４．請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物を含む除草性組成物。 ２５．式Ｉで表わされる化合物を０．１ないし９５％，固体もしくは液体添加剤 を１ないし９９％，および界面活性剤を０ないし２５％，特に０．１ないし２５ ％含有する請求項２４記載の組成物。 ２６．請求項１記載の式Ｉで表わされる化合物の有効量もしくはこの化合物を含 有する組成物の有効量を植物もしくはそれらの生育地に施用することからなる望 ましくない植物の生長を抑制する方法。 ２７．前記式Ｉの化合物を１ヘクタール当り０．００５ないし２kgを施用するこ とからなる請求項２６記載の方法。 ２８．有用植物，特に穀草，米，トモロコシ，大豆または棉の作物において雑草 を発芽前または発芽後に選択的に抑制する請求項２６記載の方法。 ２９．有用植物，特に穀草，米，トモロコシ，大豆または棉の作物における雑草 の発芽前または発芽後の選択的抑制のための請求項１に記載の式Ｉで表わされる 化合物の使用。 ３０．有用植物，特に穀草，米，トモロコシ，大豆または棉の作物における雑草 の発芽前または発芽後の選択的抑制のための請求項２４記載の組成物の使用。 ３１．次式IIｅ （式中，Ｒ，Ｒ₁，ＸおよびＺは請求項１で定義された通りであり，そしてβ −炭素原子が（−）エナンチオマーとして光学的に純粋な形態で存在する。）で 表わされる化合物。 ３２．式中、 Ｒが塩素原子，臭素原子，トリフルオロメチル基またはトリフルオロメトキシ 基を表わし； Ｒ₁がメチル基またはエチル基を表わし； Ｘが酸素原子を表わし；そして Ｚが水素原子またはフッ素原子を表わす請求項３１記載の化合物。 ３３．次式IIｅ （式中， Ｒ，Ｒ₁，ＸおよびＺは請求項１で定義された通りでありそしてβ−炭素が （−）エナンチオマーとして光学的に純粋な形態で存在する。）で表わされる光 学的に活性な化合物の製造方法であって，次式VIII （式中， Ｒ，Ｒ₁，ＸおよびＺは上記の定義と同じである。）で表される化合物をアル コール系溶媒中で （Ｒ）−ＢＩＮＡＰ／Ｒｕ（II）−触媒性水素化反応に付すことから成る方法 。