JPH1050654A - ウェーハ処理装置 - Google Patents
ウェーハ処理装置Info
- Publication number
- JPH1050654A JPH1050654A JP20367396A JP20367396A JPH1050654A JP H1050654 A JPH1050654 A JP H1050654A JP 20367396 A JP20367396 A JP 20367396A JP 20367396 A JP20367396 A JP 20367396A JP H1050654 A JPH1050654 A JP H1050654A
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- JP
- Japan
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- chemical
- tank
- chemical solution
- processing apparatus
- wafer processing
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 薬液中のパーティクル蓄積を防止し、また、
薬液の温度管理と排出時間の短縮が可能なウェーハ処理
装置を提供する。 【解決手段】 薬液槽の薬液の下方から上方への平行な
流れでパーティクルを薬液槽外へ排出することを特徴と
する。
薬液の温度管理と排出時間の短縮が可能なウェーハ処理
装置を提供する。 【解決手段】 薬液槽の薬液の下方から上方への平行な
流れでパーティクルを薬液槽外へ排出することを特徴と
する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体の製造工程
で用いられる処理装置に関し、特に薬液を用いるウェー
ハ処理装置に関する。
で用いられる処理装置に関し、特に薬液を用いるウェー
ハ処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種のウェーハ処理装置は、半
導体の製造工程において、ウェーハに付着した不純物の
除去や酸化膜のエッチングを目的として用いられてい
る。図６は、従来のウェーハ処理装置の一例を示す図で
ある。ウェーハ処理装置は、薬液槽１、供給タンク２、
フィルター３、ポンプ４、ポンプ５、液温調整器７、液
温調整器８、ポンプ９、排液タンク１０で構成される。
供給タンク２中の薬液が、液温調整器８で温度制御され
た後、フィルター３を通してポンプ５で薬液槽１に送ら
れる。薬液槽１に補充された薬液は、フィルター３を通
してポンプ４で循環濾過される。循環濾過中、薬液槽１
中の薬液は、温度調整器７で温度制御される。ウェーハ
をキャリアで保持し、薬液槽１中の薬液に浸漬して処理
する。薬液槽１中の薬液は、ウェーハの処理で徐々に劣
化する。劣化した薬液は、ポンプ９で排液タンク１０に
移され、放置冷却された後、排出される。上述のウェー
ハ処理装置では、薬液槽にパーティクルが蓄積されると
いう問題があった。パーティクルの蓄積を防止するた
め、例えば、特開昭６１−５１９２８には、複数の薬品
槽を交互に使用する装置が記載されている。また、特開
平４−２５６３１８には、予備の薬品槽で薬液を循環濾
過して薬品槽に戻す装置が記載されている。また、特開
平１−１６９９３０には、薬液槽の下方から薬液を排出
し循環濾過させる装置が記載されている。
導体の製造工程において、ウェーハに付着した不純物の
除去や酸化膜のエッチングを目的として用いられてい
る。図６は、従来のウェーハ処理装置の一例を示す図で
ある。ウェーハ処理装置は、薬液槽１、供給タンク２、
フィルター３、ポンプ４、ポンプ５、液温調整器７、液
温調整器８、ポンプ９、排液タンク１０で構成される。
供給タンク２中の薬液が、液温調整器８で温度制御され
た後、フィルター３を通してポンプ５で薬液槽１に送ら
れる。薬液槽１に補充された薬液は、フィルター３を通
してポンプ４で循環濾過される。循環濾過中、薬液槽１
中の薬液は、温度調整器７で温度制御される。ウェーハ
をキャリアで保持し、薬液槽１中の薬液に浸漬して処理
する。薬液槽１中の薬液は、ウェーハの処理で徐々に劣
化する。劣化した薬液は、ポンプ９で排液タンク１０に
移され、放置冷却された後、排出される。上述のウェー
ハ処理装置では、薬液槽にパーティクルが蓄積されると
いう問題があった。パーティクルの蓄積を防止するた
め、例えば、特開昭６１−５１９２８には、複数の薬品
槽を交互に使用する装置が記載されている。また、特開
平４−２５６３１８には、予備の薬品槽で薬液を循環濾
過して薬品槽に戻す装置が記載されている。また、特開
平１−１６９９３０には、薬液槽の下方から薬液を排出
し循環濾過させる装置が記載されている。
【０００３】しかしながら、上述のウェーハ処理装置で
は、薬液の交換に時間がかかる、予備の薬品槽で循環し
ているうちに薬液の処理能力が低下する、薬液の交換時
にパーティクルが薬液槽の内壁に付着して残留する、等
の問題がある。また、薬液の温度管理が行われていな
い。
は、薬液の交換に時間がかかる、予備の薬品槽で循環し
ているうちに薬液の処理能力が低下する、薬液の交換時
にパーティクルが薬液槽の内壁に付着して残留する、等
の問題がある。また、薬液の温度管理が行われていな
い。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記の問題点
を解決しようとするもので、本発明の目的は、薬液への
パーティクルの蓄積と薬液槽へのパーティクル付着を防
止することが可能な装置を提供することにある。また、
薬液の温度管理と薬液の排出時間の短縮が可能な装置を
提供することにある。
を解決しようとするもので、本発明の目的は、薬液への
パーティクルの蓄積と薬液槽へのパーティクル付着を防
止することが可能な装置を提供することにある。また、
薬液の温度管理と薬液の排出時間の短縮が可能な装置を
提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記の目的は以下の手段
によって達成される。
によって達成される。
【０００６】すなわち、本発明は、薬液槽の薬液の下方
から上方への平行な流れでパーティクルを薬液槽外へ排
出することを特徴とするウェーハ処理装置を提案するも
のであり、前記薬液槽内部の底部側に分流シートを設け
て整流部としたこと、劣化した薬品の排出時に薬液槽の
内壁が少量の薬液で洗浄されること、新しい薬液が排液
から熱を受け取り加熱されること、新しい薬液が排液の
混合あるいは希釈で得られる反応熱で加熱されることを
含む。
から上方への平行な流れでパーティクルを薬液槽外へ排
出することを特徴とするウェーハ処理装置を提案するも
のであり、前記薬液槽内部の底部側に分流シートを設け
て整流部としたこと、劣化した薬品の排出時に薬液槽の
内壁が少量の薬液で洗浄されること、新しい薬液が排液
から熱を受け取り加熱されること、新しい薬液が排液の
混合あるいは希釈で得られる反応熱で加熱されることを
含む。
【０００７】
【０００８】
【実施例】以下、本発明を図面を参照して更に詳細に説
明する。
明する。
【０００９】実施例１ 図１は、本発明の第１の実施の形態の構成を示すウェー
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬品槽へ送るための供給タンク２、薬液
中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬液
を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽へ送
液するためのポンプ５、薬液槽内の対流を防ぐための分
流シート６、薬液槽での液温を制御する液温調整器７、
供給タンクでの液温を制御する液温調整器８、劣化した
薬液を排出するためのポンプ９、排液を一時保管するた
めの排液タンク１０で構成される。供給タンク２中の薬
液が、液温調整器８で温度制御された後、フィルター３
と分流シート６を通してポンプ５で薬液槽１に送られ
る。薬液槽１に補充された薬液は、一部はオーバフロー
し、オーバフローした薬液は、ポンプ４によりバルブ１
１、フィルター３、分流シート６を通じて薬液槽１へと
送られ、循環濾過が繰り返される。循環濾過中、薬液槽
１中の薬液は、液温調整器７で温度制御される。図２
は、本発明の第１の実施の形態の構成を示すウェーハ処
理装置の分流シートの上面図である。分流シート６に
は、中心から外側に向かって口径が大きくなる多数の噴
出口１５がある。この分流シート６を薬液槽１の底に設
置することで、従来のウェーハ処理装置の薬液槽で起き
ていた薬液の対流を抑えることができる。パーティクル
の巻き込みによる滞留が防止でき、薬液のオーバフロー
でパーティクルを効率よく槽外へ排出できる。
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬品槽へ送るための供給タンク２、薬液
中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬液
を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽へ送
液するためのポンプ５、薬液槽内の対流を防ぐための分
流シート６、薬液槽での液温を制御する液温調整器７、
供給タンクでの液温を制御する液温調整器８、劣化した
薬液を排出するためのポンプ９、排液を一時保管するた
めの排液タンク１０で構成される。供給タンク２中の薬
液が、液温調整器８で温度制御された後、フィルター３
と分流シート６を通してポンプ５で薬液槽１に送られ
る。薬液槽１に補充された薬液は、一部はオーバフロー
し、オーバフローした薬液は、ポンプ４によりバルブ１
１、フィルター３、分流シート６を通じて薬液槽１へと
送られ、循環濾過が繰り返される。循環濾過中、薬液槽
１中の薬液は、液温調整器７で温度制御される。図２
は、本発明の第１の実施の形態の構成を示すウェーハ処
理装置の分流シートの上面図である。分流シート６に
は、中心から外側に向かって口径が大きくなる多数の噴
出口１５がある。この分流シート６を薬液槽１の底に設
置することで、従来のウェーハ処理装置の薬液槽で起き
ていた薬液の対流を抑えることができる。パーティクル
の巻き込みによる滞留が防止でき、薬液のオーバフロー
でパーティクルを効率よく槽外へ排出できる。
【００１０】実施例２ 図３は、本発明の第２の実施の形態の構成を示すウェー
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬品槽へ送るための供給タンク２、薬液
中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬液
を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽へ送
液するためのポンプ５、薬液槽１内の対流を防ぐための
分流シート６、薬液槽１での液温を制御する液温調整器
７、供給タンク２での液温を制御する液温調整器８、劣
化した薬液を排出するためのポンプ９、排液を一時保管
するための排液タンク１０、薬液槽１の側壁を洗浄する
ための側壁洗浄ライン１６で構成される。劣化した薬液
をポンプ９で排液タンク１０に移すと、急激な液面低下
のため、薬液中のパーティクルが側壁に付着する。本実
施例では、劣化した薬液の排出時に、清浄な薬液を側壁
の洗浄ライン１６からポンプ５により滴下することで、
パーティクルの付着を防止できる。
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬品槽へ送るための供給タンク２、薬液
中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬液
を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽へ送
液するためのポンプ５、薬液槽１内の対流を防ぐための
分流シート６、薬液槽１での液温を制御する液温調整器
７、供給タンク２での液温を制御する液温調整器８、劣
化した薬液を排出するためのポンプ９、排液を一時保管
するための排液タンク１０、薬液槽１の側壁を洗浄する
ための側壁洗浄ライン１６で構成される。劣化した薬液
をポンプ９で排液タンク１０に移すと、急激な液面低下
のため、薬液中のパーティクルが側壁に付着する。本実
施例では、劣化した薬液の排出時に、清浄な薬液を側壁
の洗浄ライン１６からポンプ５により滴下することで、
パーティクルの付着を防止できる。
【００１１】実施例３ 図４は、本発明の第３の実施の形態の構成を示すウェー
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬液槽１へ送るための供給タンク２、薬
液中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬
液を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽１
へ送液するためのポンプ５、薬液槽１内の対流を防ぐた
めの分流シート６、薬液槽１での液温を制御する液温調
整器７、劣化した薬液を排出するためのポンプ９、排液
を一時保管するための排液タンク１０、排液タンク１０
の排液の熱を受け取るための熱交換チューブ１８、熱交
換チューブ１８から送られる薬液の液温を制御するため
の液温調整器１９からなる。劣化した薬液を排液タンク
１０に移した後、新しい薬液を供給タンク２から熱交換
チューブ１８を通して薬液槽１に補充する。新しい薬液
は、熱交換チューブ１８を通過する際、排液から熱を受
け取り加熱される。所定の温度に達しない場合は、液温
調整器１９で加熱する。本実施例では、新しい薬液の加
熱に必要な熱エネルギーを大幅に削減できる。また、排
液タンクでは排液の冷却が同時に行え、冷却時間が大幅
に短縮できる。
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬液槽１へ送るための供給タンク２、薬
液中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬
液を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽１
へ送液するためのポンプ５、薬液槽１内の対流を防ぐた
めの分流シート６、薬液槽１での液温を制御する液温調
整器７、劣化した薬液を排出するためのポンプ９、排液
を一時保管するための排液タンク１０、排液タンク１０
の排液の熱を受け取るための熱交換チューブ１８、熱交
換チューブ１８から送られる薬液の液温を制御するため
の液温調整器１９からなる。劣化した薬液を排液タンク
１０に移した後、新しい薬液を供給タンク２から熱交換
チューブ１８を通して薬液槽１に補充する。新しい薬液
は、熱交換チューブ１８を通過する際、排液から熱を受
け取り加熱される。所定の温度に達しない場合は、液温
調整器１９で加熱する。本実施例では、新しい薬液の加
熱に必要な熱エネルギーを大幅に削減できる。また、排
液タンクでは排液の冷却が同時に行え、冷却時間が大幅
に短縮できる。
【００１２】実施例４ 図５は、本発明の第４の実施の形態の構成を示すウェー
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬品槽へ送るための供給タンク２、薬液
中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬液
を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽１へ
送液するためのポンプ５、薬液槽１内の対流を防ぐため
の分流シート６、薬液槽１での液温を制御する液温調整
器７、劣化した薬液を排出するためのポンプ９、排液を
混合あるいは希釈するための混合タンク２０、混合タン
クの排液の熱を受け取るための熱交換チューブ１８、熱
交換チューブ１８から送られる薬液を加熱するための液
温調整器１９からなる。他のウェーハ処理装置は、ウェ
ーハを処理するための薬液槽２１、パーティクルを除去
するためのフィルター２２、薬液を循環するためのポン
プ２３、薬液槽での液温を制御する液温調整器２４、劣
化した薬液を排出するためのポンプ２５からなる。薬液
槽１の劣化した薬液を混合タンク２０に移した後、新し
い薬液を供給タンク２から熱交換チューブ１８を通して
薬液槽１に補充する。新しい薬液は、熱交換チューブ１
８を通過する際、排液から熱を受け取り加熱される。さ
らに大きな熱エネルギーが必要な場合、薬品槽１の劣化
した薬液と薬品槽２１の劣化した薬液を混合タンク２０
で混合し、得られる反応熱（中和熱、希釈熱）を利用し
て加熱する。それでも所定の温度に達しない場合は、液
温調整器１９で加熱する。本実施例では、薬品槽１の劣
化した薬液の熱エネルギーのみの利用する場合に比べ、
新しい薬液の加熱に必要な熱エネルギーを大幅に削減で
きる。
ハ処理装置の断面図である。本実施例のウェーハ処理装
置は、ウェーハを処理するための薬液槽１、新しい薬液
を一時保管して薬品槽へ送るための供給タンク２、薬液
中のパーティクルを除去するためのフィルター３、薬液
を循環するためのポンプ４、供給タンクから薬液槽１へ
送液するためのポンプ５、薬液槽１内の対流を防ぐため
の分流シート６、薬液槽１での液温を制御する液温調整
器７、劣化した薬液を排出するためのポンプ９、排液を
混合あるいは希釈するための混合タンク２０、混合タン
クの排液の熱を受け取るための熱交換チューブ１８、熱
交換チューブ１８から送られる薬液を加熱するための液
温調整器１９からなる。他のウェーハ処理装置は、ウェ
ーハを処理するための薬液槽２１、パーティクルを除去
するためのフィルター２２、薬液を循環するためのポン
プ２３、薬液槽での液温を制御する液温調整器２４、劣
化した薬液を排出するためのポンプ２５からなる。薬液
槽１の劣化した薬液を混合タンク２０に移した後、新し
い薬液を供給タンク２から熱交換チューブ１８を通して
薬液槽１に補充する。新しい薬液は、熱交換チューブ１
８を通過する際、排液から熱を受け取り加熱される。さ
らに大きな熱エネルギーが必要な場合、薬品槽１の劣化
した薬液と薬品槽２１の劣化した薬液を混合タンク２０
で混合し、得られる反応熱（中和熱、希釈熱）を利用し
て加熱する。それでも所定の温度に達しない場合は、液
温調整器１９で加熱する。本実施例では、薬品槽１の劣
化した薬液の熱エネルギーのみの利用する場合に比べ、
新しい薬液の加熱に必要な熱エネルギーを大幅に削減で
きる。
【００１３】
【発明の効果】本発明の第１の効果は、薬液の交換後の
立ち上げ時間が短縮でき、薬液寿命も延ばせることであ
る。また、予備槽での循環濾過や複数の薬液槽は必要な
い。その理由は、薬液槽内に薬液の平行な流れができ、
パーティクルの滞留が防止できるためである。このた
め、薬液中のパーティクルを薬液槽から効率よく排出で
きる。
立ち上げ時間が短縮でき、薬液寿命も延ばせることであ
る。また、予備槽での循環濾過や複数の薬液槽は必要な
い。その理由は、薬液槽内に薬液の平行な流れができ、
パーティクルの滞留が防止できるためである。このた
め、薬液中のパーティクルを薬液槽から効率よく排出で
きる。
【００１４】本発明の第２の効果は、薬品槽の稼働率が
高まり、生産性が向上することである。その理由は、劣
化した薬液を急速に排出することで、排出に必要な薬品
槽の拘束時間が短縮されるためである。
高まり、生産性が向上することである。その理由は、劣
化した薬液を急速に排出することで、排出に必要な薬品
槽の拘束時間が短縮されるためである。
【００１５】本発明の第３の効果は、薬液の交換後、直
ちにウェーハの処理が行えることである。その理由は、
劣化した薬品の排出時に、側壁に付着するパーティクル
を少量の薬液で洗浄し、薬品槽に補充した新しい薬液が
残留パーティクルで汚染されないためである。
ちにウェーハの処理が行えることである。その理由は、
劣化した薬品の排出時に、側壁に付着するパーティクル
を少量の薬液で洗浄し、薬品槽に補充した新しい薬液が
残留パーティクルで汚染されないためである。
【００１６】本発明の第４の効果は、加熱エネルギーの
低減（生産コストの削減）と排液の冷却時間の短縮がで
きることである。その理由は、新しい薬液を排液の熱で
加熱するためである。
低減（生産コストの削減）と排液の冷却時間の短縮がで
きることである。その理由は、新しい薬液を排液の熱で
加熱するためである。
【００１７】本発明の第５の効果は、加熱エネルギーの
低減（生産コストの削減）と排液処理の負担の軽減がで
きることである。その理由は、新しい薬品を排液の混合
あるいは希釈で得られる反応熱を利用して加熱するため
である。また、排液の混合や希釈で、薬液が中和あるい
は希釈されるためである。
低減（生産コストの削減）と排液処理の負担の軽減がで
きることである。その理由は、新しい薬品を排液の混合
あるいは希釈で得られる反応熱を利用して加熱するため
である。また、排液の混合や希釈で、薬液が中和あるい
は希釈されるためである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施例に示すウェーハ処理装置の
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明で使用される分流シートの上面図であ
る。
る。
【図３】本発明の第２実施例に示すウェーハ処理装置の
断面図である。
断面図である。
【図４】本発明の第３実施例に示すウェーハ処理装置の
断面図である。
断面図である。
【図５】本発明の第４実施例に示すウェーハ処理装置の
断面図である。
断面図である。
【図６】従来のウェーハの処理装置の一例を示す断面図
である。
である。
【符号の説明】 １，２１ 薬液槽 ２ 供給タンク ３，２２ フィルター ４，５，９，２３，２５ ポンプ ６ 分流シート ７，８，１９，２４ 液温調整器 １０ 排液タンク １１〜１４，２６，２７ バルブ １５ 噴出口 １６ 側壁洗浄ライン １８ 熱交換チューブ ２０ 混合タンク
Claims (5)
- 【請求項１】 薬液槽の薬液の下方から上方への平行な
流れでパーティクルを薬液槽外へ排出することを特徴と
するウェーハ処理装置。 - 【請求項２】 前記薬液槽内部の底部側に分流シートを
設けて整流部とした請求項１に記載のウェーハ処理装
置。 - 【請求項３】 劣化した薬品の排出時に薬液槽の内壁が
少量の薬液で洗浄される請求項１に記載のウェーハ処理
装置。 - 【請求項４】 新しい薬液が排液から熱を受け取り加熱
される請求項１に記載のウェーハ処理装置。 - 【請求項５】 新しい薬液が排液の混合あるいは希釈で
得られる反応熱で加熱される請求項１に記載のウェーハ
処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20367396A JPH1050654A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | ウェーハ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20367396A JPH1050654A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | ウェーハ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1050654A true JPH1050654A (ja) | 1998-02-20 |
Family
ID=16477961
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20367396A Pending JPH1050654A (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | ウェーハ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1050654A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009054826A (ja) * | 2007-08-28 | 2009-03-12 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2009189905A (ja) * | 2008-02-12 | 2009-08-27 | Kurita Water Ind Ltd | 熱回収型洗浄装置 |
| JP2010131524A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Showa Denko Kk | 流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置 |
| CN109087878A (zh) * | 2018-09-12 | 2018-12-25 | 江苏英锐半导体有限公司 | 一种晶圆流片生产用清洗装置 |
| US11660779B2 (en) | 2016-04-11 | 2023-05-30 | Carboncure Technologies Inc. | Methods and compositions for treatment of concrete wash water |
-
1996
- 1996-08-01 JP JP20367396A patent/JPH1050654A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2010131524A (ja) * | 2008-12-04 | 2010-06-17 | Showa Denko Kk | 流水式洗浄方法及び流水式洗浄装置 |
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| CN109087878A (zh) * | 2018-09-12 | 2018-12-25 | 江苏英锐半导体有限公司 | 一种晶圆流片生产用清洗装置 |
| CN109087878B (zh) * | 2018-09-12 | 2024-03-12 | 江苏英锐半导体有限公司 | 一种晶圆流片生产用清洗装置 |
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