JPH1046249A - 高透磁率・高延性を有する磁気シールド材の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 オープンコイル焼鈍法により脱炭処理したリ
ムド鋼と同等以上の比透磁率が得られ、かつ、加工性に
優れた磁気シールド部材を低コストで製造する。 【解決手段】 所定化学組成の未脱酸キルド鋼を連続鋳
造によりスラブとなし、このスラブに熱間圧延を施した
のち、中間焼鈍を挟み２回以上の冷間圧延を施すに際
し、最終冷間圧延前に圧下率２０〜５０％で中間冷間圧
延して中間焼鈍した後、圧下率４０〜７５％で最終冷間
圧延したのち仕上焼鈍することによって、高透磁率で、
かつ、高延性を有する磁気シールド材を得ることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、通常ブラウン管と
呼ばれている受像管（Ｃａｔｈｏｄｅ−ＲａｙＴｕｂ
ｅ）の内部に装着される高透磁率・高延性を有する磁気
シールド材の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】カラーブラウン管の内部には、一般に地
磁気その他の外部撹乱磁場が電子ビームに影響するのを
避けるため、漏斗状の磁気シールド部材が設けられてい
る。この磁気シールド部材の素材として用いられる強磁
性体である鋼板（鋼帯）には、地磁気（約０．３５Ｏ
ｅ：エルステッド）のような低磁場において高い透磁率
を有すること、成形加工性が良好であること、カラーブ
ラウン管使用中に発生する熱を外部へ効果的に放射でき
るよう熱放射率が高く、かつガス放出の少ないことなど
が要求される。

【０００３】最近のカラーブラウン管においては、動画
像用ディスプレイとしての用途に加え、静止画像用の用
途が増加している。静止画像用の受像管では、動画像用
以上に地磁気等の外部磁場の影響を大きく受けることか
ら、受像管内部に装着される磁気シールド部材には、よ
り比透磁率（０．３５Ｏｅの下で）の大きなものが要求
されるようになってきている。

【０００４】従来、受像管用磁気シールド材は、高透磁
率のものを得るべく、例えば、次のような方法で製造さ
れていた。すなわち、低炭素アルミキルド鋼の連続鋳造
スラブを熱間圧延、酸洗後一次冷間圧延してオープンコ
イル焼鈍法による脱炭処理（ＯＣＡ脱炭焼鈍）によって
Ｃ：０．００１％以下の極低炭素とし、次いで圧下率１
０％前後の軽圧下の二次冷間圧延後、バッチ焼鈍によっ
て結晶粒粗大化処理（粒度番号が１程度）を行い、その
後最終冷間圧延を行うという方法で磁気シールド材を製
造していた。

【０００５】次に上記磁気シールド材は、所定の受像管
用磁気シールド材の形状に成形加工したのち、還元性雰
囲気中で磁気シールド材を６５０〜８００℃で３０〜６
０分間加熱する磁気特性回復、向上のための磁性焼鈍を
行い、しかるのち、防錆および熱放射率向上のために磁
気シールド材表面に黒化処理が施される。黒化処理は、
例えば、水蒸気添加空気のような湿潤雰囲気および／ま
たは二酸化炭素等の酸化性ガス雰囲気中で磁気シールド
材を５６０〜６００℃で５〜２０分間加熱することによ
り、その表面に約１〜６μｍのマグネタイト（Ｆｅ
₃Ｏ₄）を主体とした黒化膜を形成する。

【０００６】この磁気シールド材表面への黒化膜の形成
においては、一般に鋼の成分が大きく影響することが知
られている。特に、鋼中にＳｉやＡｌなどの酸化物生成
元素が存在する場合は、マグネタイトの他にヘマタイト
（Ｆｅ₂Ｏ₃）が多く生成し易く、黒化膜の組織が粗く、
緻密性に欠ける傾向があり、受像管内で黒化膜が剥離す
るおそれがある。このため、従来の磁気シールド材の製
造方法においては、例えば、特開昭５９−１７３２１９
号公報、特開昭５９−１７２４３１号公報、特公平６−
１３７３０号公報に開示されているように、リムド鋼を
使用したものが多く提案されている。

【０００７】一方、近年の製鋼法は、製鋼技術の発展や
造塊法の合理化によって、鋼塊法からコストの易い連続
鋳造法に移行しており、鋼塊法によるリムド鋼はその生
産が極めて限定されている。このため、リムド鋼を用い
た磁気シールド材は、その製造が次第に困難になりつつ
ある。しかも、リムド鋼を用いた磁気シールド材は、受
像管用磁気シールド材として十分な性能も認められない
という問題がある。さらに、リムド鋼を用いて磁気シー
ルド材を製造する場合は、中間工程でいわゆるオープン
コイル焼鈍法による脱炭処理を施す必要があるため、そ
の分のコスト上昇は避けられない。

【０００８】他方、オープンコイル焼鈍法によるアルミ
キルド鋼を用いる上記従来の受像管用磁気シールド材の
製造においては、オープンコイル焼鈍法による脱炭処
理、軽圧下冷間圧延、結晶粒粗大化焼鈍、冷間圧延とい
う一連の複雑な工程を経るため、通常の冷延鋼帯製造工
程に著しい支障を来たすことがあると共に、コスト高に
なるという問題を有していた。また、この受像管用磁気
シールド材は、結晶粒が粗大化しているため、強加工に
耐えられず、その結果、インナーシールド材の加工方法
も限定されるという問題があり、さらに、黒化膜の組織
が粗く、緻密性が劣るという問題があった。

【０００９】最近の製鋼法においては、真空脱ガス技術
の進歩と製鋼脱酸用Ａｌ使用量の最適化によって、Ａｌ
を殆ど含まない極低炭素のキルド鋼（以下「未脱酸キル
ド鋼」という）を連続鋳造法により得ることが可能とな
った。この未脱酸キルド鋼は、オープンコイル焼鈍法に
よる脱炭処理を行う必要がなく、しかも、素材としての
鋼片が生産効率の高い連続鋳造法で製造できるため、リ
ムド鋼を用いた場合に比較し、低コストで磁気シールド
材を製造することができる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】前記未脱酸キルド鋼
は、リムド鋼がオープンコイル焼鈍法による脱炭処理を
行うのに対し、オープンコイル焼鈍法による脱炭処理を
必要としないため、オープンコイル焼鈍法による脱炭処
理を施されたリムド鋼に比較して炭素量が多くなる。こ
のため、未脱酸キルド鋼の場合は、オープンコイル焼鈍
法による脱炭処理を施されたリムド鋼と同一の製造工程
では結晶粒が微細化してしまって比透磁率がオープンコ
イル焼鈍法による脱炭処理を施されたリムド鋼から製造
したものに劣ることとなる。

【００１１】本発明の目的は、前記従来技術の問題点を
解消し、受像管用磁気シールドに適した磁気シールド材
を、黒化膜の密着性を阻害するアルミキルド鋼を使用す
ることなく、しかも、リムド鋼のようにコスト上昇を招
くオープンコイル焼鈍法による脱炭処理を施すことな
く、オープンコイル焼鈍法により脱炭処理したリムド鋼
と同等以上の比透磁率が得られ、かつ、加工性に優れた
磁気シールド材を低コストで製造できる高透磁率・高延
性を有する磁気シールド材の製造方法を提供することに
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく未脱酸キルド鋼を用い、特に受像管等のイン
ナーシールド材に適した高透磁率と高加工性とを合わせ
もつ磁気シールド材、具体的には０．３５ Ｏｅでの比
透磁率（以下「比透磁率（０．３５ Ｏｅ）」という）
が１０００以上で、かつ、ＪＩＳ Ｚ ２２０１に規定
の金属材料引張試験片の１３Ｂ号試験片を用い、ＪＩＳ
Ｚ ２２４１に規定の金属材料引張試験方法により測
定した引張伸びが３５％以上である磁気シールド材を製
造すべく、種々試験検討を重ねた結果、下記のような知
見を得た。 （１） 冷延鋼帯の焼鈍後に平坦度および仕上がり改善
のために行う調質圧延によって透磁率が著しく低下する
ため、例えば、受像管に組込んだ後の磁気シールド材に
おいて比透磁率（０．３５ Ｏｅ）７５０以上を得るに
は焼鈍直後の比透磁率（０．３５ Ｏｅ）を１０００以
上とする必要があること。 （２） 焼鈍直後の比透磁率（０．３５ Ｏｅ）１００
０以上の高透磁率は、図２に示すとおり、再結晶粒度が
ＪＩＳ Ｇ ０５５２の鋼のフェライト結晶粒度試験方
法に規定の粒度番号７．５以下の粗粒側で得られるこ
と。 （３） ＪＩＳ Ｚ ２２０１に規定の金属材料引張試
験片の１３Ｂ号試験片を用い、ＪＩＳ Ｚ ２２４１に
規定の金属材料引張試験方法により測定した引張伸びが
３５％以上の高伸びは、図３に示すとおり、再結晶粒度
がＪＩＳ Ｇ ０５５２の鋼のフェライト結晶粒度試験
方法に規定の粒度番号６．５以上の細粒側で得られるこ
と。 （４） このような理想的な再結晶粒度は、最終冷間圧
延前の中間冷間圧延における圧下率と最終冷間圧延での
圧下率とによって決定され、必ずしもオープンコイル焼
鈍法による脱炭処理を必要とせず、冷間圧延スケジュー
ルによって調整し得ること。

【００１３】本出願人は、上記の知見に基づき、Ｃ：
０．００５％以下、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：０．
１５〜０．５％、Ａｌ：０．００３％以下、Ｓ：０．０
１％以下を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不純物か
らなる未脱酸キルド鋼を連続鋳造によりスラブとなし、
このスラブに通常の熱間圧延を施したのち、７２０℃〜
８５０℃の範囲で熱延板焼鈍を行い、次いで中間焼鈍を
挟み２回以上の冷間圧延を施す際に、最終冷間圧延前の
中間焼鈍後の結晶粒度を粒度番号（ＪＩＳ Ｇ０５５２
に規定する比較法で測定した場合の粒度番号）４．０〜
６．０のものに調整したのち、最終圧下率４０％〜７５
％で冷間圧延することにより、比透磁率に優れた磁気シ
ールド材を製造できることを見い出し、既に特願平７−
６７４４０号として特許出願している。

【００１４】上記特願平７−６７４４０号に開示の方法
は、熱延板焼鈍を行うため、０．３５ Ｏｅでの比透磁
率μ≧１０００を得ようとすれば、超粗粒化が要求さ
れ、製品は混粒となって延性の確保が困難である。ま
た、特願平７−６７４４０号に開示の方法は、結晶粒度
の調整は、最終的には冷間圧延での圧下率のみでしかで
きないため、バラツキが生じることとなる。

【００１５】本発明者は、さらに試験研究を重ねた結
果、未脱酸キルド鋼の連続鋳造スラブを熱間圧延したの
ち、熱延板焼鈍を行わなくても、中間焼鈍を挟み２回以
上の冷間圧延を施すに際し、最終冷間圧延前に圧下率２
０〜５０％で中間冷間圧延して中間焼鈍した後、圧下率
４０〜７５％で最終冷間圧延したのち仕上焼鈍すること
によって、粒度番号６．５以上７．５以下に制御でき、
引張伸びが３５％以上の高伸びを確保できると共に、焼
鈍直後の比透磁率（０．３５ Ｏｅ）１０００以上の高
透磁率を得ることができることを確認し、この発明に到
達した。

【００１６】本発明の磁気シールド材の製造方法は、
Ｃ：０．００５％以下、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：
０．１５〜０．５％、Ａｌ：０．００３％以下、Ｓ：
０．０１％以下を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不
純物からなる未脱酸キルド鋼を連続鋳造によりスラブと
なし、このスラブに通常の熱間圧延を施したのち、中間
焼鈍を挟み２回以上の冷間圧延を施すに際し、最終冷間
圧延前に圧下率２０〜５０％で中間冷間圧延して中間焼
鈍した後、圧下率４０〜７５％で最終冷間圧延したのち
仕上焼鈍することとしている。このように、Ｃ：０．０
０５％以下、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：０．１５〜
０．５％、Ａｌ：０．００３％以下、Ｓ：０．０１％以
下を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不純物からなる
未脱酸キルド鋼を連続鋳造によりスラブとなし、このス
ラブに通常の熱間圧延を施したのち、中間焼鈍を挟み２
回以上の冷間圧延を施すに際し、最終冷間圧延前に圧下
率２０〜５０％で中間冷間圧延して中間焼鈍した後、圧
下率４０〜７５％で最終冷間圧延したのち仕上焼鈍する
ことによって、仕上焼鈍後の再結晶粒度をＪＩＳ Ｇ０
５５２の鋼のフェライト結晶粒度試験方法に規定の粒度
番号６．５以上７．５以下に制御でき、引張伸びが３５
％以上の高伸びを確保できると共に、焼鈍直後の比透磁
率（０．３５ Ｏｅ）１０００以上の高透磁率を得るこ
とができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の磁気シールド材の製造方
法は、図１に示すとおり、真空脱ガス処理したＣ：０．
００５％以下、Ｓｉ：０．０３％以下、Ｍｎ：０．１５
〜０．５％、Ａｌ：０．００３％以下、Ｓ：０．０１％
以下を含有し、残部がＦｅおよび不可避的不純物からな
る未脱酸キルド鋼を連続鋳造した極低炭素鋼スラブを、
通常の熱間圧延を施して熱延鋼帯としたのち、中間焼鈍
を挟み２回以上（図１では３回）の冷間圧延を施すが、
その際に最終冷間圧延前に圧下率２０〜５０％で中間冷
間圧延して中間焼鈍した後、圧下率４０〜７５％で最終
冷間圧延したのち仕上焼鈍して所定板厚の素材とするこ
とによって、内部歪の除去された磁気特性ならびに延性
に優れた所定板厚の素材が得られる。なお、冷間圧延工
程は、中間焼鈍を挟み３回以上行ってもよく、また、最
終焼鈍と成形加工の両工程間に平坦度および仕上がり改
善のための調質圧延を行うこともできる。

【００１８】このようにして得られた素材は、図１に示
すとおり、次いで受像管用インナーシールドなどの所定
の磁気シールド材の形状に成形加工され、さらに、水蒸
気またはＣＯ₂等の酸化雰囲気中で黒化処理を施すこと
によって、磁気シールド材表面への黒化膜の形成と内部
歪の除去が行われる。その場合、本発明では、前記した
とおり最終冷間圧延前の中間冷間圧延ならびに最終冷間
圧延における圧下率を調整することにより、その後の中
間焼鈍ならびに最終焼鈍において適正な粒径の再結晶粒
が得られ、黒化処理後の比透磁率（０．３５ Ｏｅ）１
０００以上を確保することができる。このようにして製
造された磁気シールド材は、オープンコイル焼鈍法によ
る脱炭処理を行わなくても、その後の黒化処理によっ
て、オープンコイル焼鈍法により脱炭処理したキルド鋼
やオープンコイル焼鈍法により脱炭処理したリムド鋼か
ら製造した磁気シールド材の磁気特性を凌駕し、同時に
高度の加工性を有する受像管用磁気シールド材が得られ
る。

【００１９】さらに、本発明においては、酸素と強い親
和性を有するＳｉ、Ｍｎ、Ａｌ等を所定値以下に制限し
た未脱酸キルド鋼を原料として使用したことによって、
黒化処理の際にヘマタイト等の酸化物を形成しないの
で、磁気シールド材の下部または周辺に黒化ムラや密着
性の劣る黒化膜が形成されることもない。

【００２０】本発明において、鋼成分を上記範囲に限定
した理由は下記のとおりである。Ｃは多いと再結晶粒の
成長を阻害し、透磁率を低下させるので、０．００５％
以下にする必要がある。Ｓｉは非金属介在物の主要な構
成因子をなしており、この非金属介在物の存在は磁気特
性を劣化させ、かつ、黒化膜の密着性を劣化させるので
少ない方が望ましいが、耐火物からの混入が不可避であ
るため、０．０３％以下とした。Ｍｎは０．１５％未満
では熱間脆性が起こり、熱間圧延が行い難く、０．５％
を超えると鋼帯が硬化し、プレス成形性が悪化すると共
に、黒化膜にヘマタイト（Ｆｅ₂Ｏ₃）が生成し、密着性
を低下させるので、０．１５〜０．５％とした。Ａｌは
多いと黒化処理時において結晶粒成長を阻害し、磁気特
性に悪影響を与え、かつ、黒化膜の密着性を劣化させる
ので０．００３％以下とした。Ｓは硫化物系介在物がＳ
ｉと同様に磁気特性を劣化させる傾向があり、また、熱
間加工性も悪くするので少ない方がよいので、０．０１
％以下とした。

【００２１】また、本発明において最終冷間圧延前の中
間冷間圧延における圧下率を２０〜５０％としたのは、
２０％未満では中間焼鈍により超粗大粒が発生し、最終
冷間圧延における圧下率をいかに調整しても再結晶粒が
粗大粒、細粒の混粒度の大きいものとなって延性の確保
が困難となり、また、５０％を超えると最終冷間圧延に
おける圧下率をいかに調整しても再結晶粒が細粒とな
り、透磁率の確保が困難となるからである。なお、この
最終冷間圧延前の中間冷間圧延における圧下率は、望ま
しくは３０〜４０％である。

【００２２】さらに、本発明において最終冷間圧延にお
ける圧下率を４０〜７５％としたのは、４０％未満では
最終冷間圧延前の中間冷間圧延における圧下率を調整し
て中間焼鈍し、再結晶粒を適正均一粒としたものであっ
ても、最終焼鈍での再結晶粒が粗大粒となって延性の確
保が困難となり、また、７５％を超えると逆に最終焼鈍
での再結晶粒が細粒となり、透磁率の確保が困難となる
からである。

【００２３】

【実施例】

実施例１ 製鋼段階で真空脱ガス処理した表１に示す化学組成の未
脱酸キルド鋼を連続鋳造してスラブとなし、熱間圧延に
おける加熱温度は可能な限り低温とし、仕上温度は変態
点以下８００℃前後で熱間圧延して６００℃前後で巻取
って厚さ２．３０ｍｍの熱延鋼帯とした。この熱延鋼帯
を表２に示すとおり、一次冷間圧延、一次連続焼鈍、中
間冷間圧延、中間箱焼鈍、最終冷間圧延、最終連続焼鈍
からなる冷間圧延工程の中間冷間圧延の圧下率を１０〜
６０％に変化させて冷間圧延し、板厚０．１５ｍｍの極
低炭素冷延鋼帯を得た。この各極低炭素冷延鋼帯からＪ
ＩＳ Ｃ ２５３１の鉄ニッケル磁性合金板および条に
規定のリング試験片（外径４５ｍｍ、内径３３ｍｍ）を
打抜き、各リング試験片にＣＯ₂：１２％、残部窒素、
水素、ＣＯからなる雰囲気中、５９０℃で１０分間の黒
化処理を施したうえで、直流磁化による比透磁率（０．
３５Ｏｅ）を測定すると共に、温度９０℃での熱放射率
の測定と、黒化膜の耐剥離性の試験を行った。また、各
極低炭素冷延鋼帯からＪＩＳ Ｚ ２２０１の金属材料
引張試験片に規定の１３Ｂ号試験片を切出し、ＪＩＳ
Ｚ ２２４１に規定の金属材料引張試験方法により引張
伸びを測定した。その結果を表３に示す。なお、熱放射
率は、試験片の熱放射の輝度（あるいは発散度）と、同
温度の黒体の熱放射の輝度（あるいは発散度）との比を
示す。また、黒化膜の耐剥離性を示す黒化膜密着性剥離
限界ρ（ｍｍ）については、所定厚みのゲージ板を間に
挟んで試験片を１８０°折り曲げ、その折り曲げ部にお
いて試験片表面の黒化膜の剥離が生じた時のゲージ板の
厚みの値から簡易的に曲げ半径を求めた。

【００２４】

【表１】

【００２５】

【表２】

【００２６】

【表３】

【００２７】表２、表３に示すとおり、最終冷間圧延前
の中間冷間圧延における圧下率が本発明の範囲内の２０
〜５０％で、最終冷間圧延における圧下率が本発明の範
囲内の６０％の試験Ｎｏ．２、３の本発明例の場合は、
０．３５ Ｏｅでの比透磁率は１１５０以上、引張伸び
は３６以上と、高透磁率と高延性を備え、しかも、熱放
射率、黒化膜密着性剥離限界に優れた磁気シールド材の
得られることが判明した。これに対し、最終冷間圧延前
の中間冷間圧延における圧下率が本発明の範囲外の１０
％の試験Ｎｏ．１の比較例の場合は、０．３５ Ｏｅで
の比透磁率は１１００と高透磁率を示すが、引張伸びは
２５％と低い値を示している。また、最終冷間圧延前の
中間冷間圧延における圧下率が本発明の範囲外の６０％
の試験Ｎｏ．４の場合は、引張伸びは４３％と高延性を
有しているが、０．３５ Ｏｅでの比透磁率は７５０と
低い値を示している。

【００２８】実施例２ 製鋼段階で真空脱ガス処理した前記実施例１の表１に示
す化学組成の未脱酸キルド鋼を連続鋳造してスラブとな
し、熱間圧延における加熱温度は可能な限り低温とし、
仕上温度は変態点以下８００℃前後で熱間圧延して６０
０℃前後で巻取って厚さ２．３０ｍｍの熱延鋼帯とし
た。この熱延鋼帯を表４に示すとおり、一次冷間圧延、
一次箱焼鈍、中間冷間圧延、中間箱焼鈍、最終冷間圧
延、最終連続焼鈍からなる冷間圧延工程の中間冷間圧延
の圧下率を３０％一定、最終冷間圧延での圧下率を３５
〜８５％の範囲で変動させて冷間圧延し、板厚０．１５
ｍｍの極低炭素冷延鋼帯を得た。この各極低炭素冷延鋼
帯からＪＩＳ Ｃ ２５３１の鉄ニッケル磁性合金板お
よび条に規定のリング試験片（外径４５ｍｍ、内径３３
ｍｍ）を打抜き、各リング試験片にＣＯ₂：１２％、残
部窒素、水素、ＣＯからなる雰囲気中で、５９０℃で１
０分間の黒化処理を施したうえで、実施例１と同様に直
流磁化による比透磁率（０．３５Ｏｅ）を測定すると共
に、温度９０℃での熱放射率の測定と、黒化膜の耐剥離
性の試験を行った。また、各極低炭素冷延鋼帯からＪＩ
Ｓ Ｚ ２２０１の金属材料引張試験片に規定の１３Ｂ
号試験片を切出し、ＪＩＳ Ｚ ２２４１に規定の金属
材料引張試験方法により引張伸びを測定した。その結果
を表５に示す。

【００２９】

【表４】

【００３０】

【表５】

【００３１】表４、表５に示すとおり、試験Ｎｏ．６〜
８の本発明例の場合は、いずれも０．３５ Ｏｅでの比
透磁率は１１８０以上、引張伸びは３８％以上と、高透
磁率と高延性を備え、しかも、熱放射率、黒化膜密着性
剥離限界に優れた磁気シールド材の得られることが判明
した。これに対し、最終冷間圧延における圧下率が本発
明の範囲４０〜８５％より低い３５％の試験Ｎｏ．５の
比較例では、０．３５Ｏｅでの比透磁率は１０５５と高
透磁率であるが、引張伸びは２１％と大幅に低くなって
いる。また、最終冷間圧延における圧下率が本発明の範
囲４０〜８５％より高い試験Ｎｏ．９の比較例では、引
張伸びは４０％と高延性を備えているが、０．３５ Ｏ
ｅでの比透磁率は８０５と大幅に低くなっている。

【００３２】

【発明の効果】本発明の磁気シールド材の製造方法は、
所定成分の未脱酸キルド鋼を連続鋳造してスラブとな
し、これを熱間圧延したのち、中間焼鈍を挟み２回以上
の冷間圧延を施すに際し、最終冷間圧延前に圧下率２０
〜５０％で中間冷間圧延して中間焼鈍した後、圧下率４
０〜７５％で最終冷間圧延したのち仕上焼鈍することに
よって、仕上焼鈍後の再結晶粒度をＪＩＳ Ｇ ０５５
２の鋼のフェライト結晶粒度試験方法に規定の粒度番号
６．５以上７．５以下に制御でき、引張伸びが３５％以
上の高伸びを確保できると共に、焼鈍直後の比透磁率
（０．３５ Ｏｅ）１０００以上の高透磁率を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気シールド材の製造工程を例示した
系統図である。

【図２】未脱酸キルド鋼を用いた場合の焼鈍後の再結晶
粒度と比透磁率との関係を示すグラフである。

【図３】未脱酸キルド鋼を用いた場合の焼鈍後の結晶粒
度と引張伸びとの関係を示すグラフである。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 Ｃ：０．００５％以下、Ｓｉ：０．０３
   ％以下、Ｍｎ：０．１５〜０．５％、Ａｌ：０．００３
   ％以下、Ｓ：０．０１％以下を含有し、残部がＦｅおよ
   び不可避的不純物からなる未脱酸キルド鋼を連続鋳造に
   よりスラブとなし、このスラブに通常の熱間圧延を施し
   たのち、中間焼鈍を挟み２回以上の冷間圧延を施すに際
   し、最終冷間圧延前に圧下率２０〜５０％で中間冷間圧
   延して中間焼鈍した後、圧下率４０〜７５％で最終冷間
   圧延したのち仕上焼鈍することを特徴とする高透磁率・
   高延性を有する磁気シールド材の製造方法。