JPH1045769A - トリメチルシリルアジドの製造方法 - Google Patents
トリメチルシリルアジドの製造方法Info
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- JPH1045769A JPH1045769A JP8225951A JP22595196A JPH1045769A JP H1045769 A JPH1045769 A JP H1045769A JP 8225951 A JP8225951 A JP 8225951A JP 22595196 A JP22595196 A JP 22595196A JP H1045769 A JPH1045769 A JP H1045769A
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- trimethylsilylazide
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 トリメチルシリルクロライドから無溶媒で反
応を行い、容易にしかも高収率で、高純度のトリメチル
シリルアジドを製造できる方法を提供する。 【解決手段】 下記式（１）で表されるトリメチルシリ
ルクロライドと下記式（２）で表されるアジ化水素の無
機塩とを、無溶媒で、相間移動触媒の存在下で反応させ
て、下記式（３）で表されるトリメチルシリルアジドを
製造し、単離する。 （ＣＨ3）3ＳｉＣｌ （１） Ｍ（Ｎ3）n （２） （式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、ｎは１または２である。） （ＣＨ3）3ＳｉＮ3 （３）
応を行い、容易にしかも高収率で、高純度のトリメチル
シリルアジドを製造できる方法を提供する。 【解決手段】 下記式（１）で表されるトリメチルシリ
ルクロライドと下記式（２）で表されるアジ化水素の無
機塩とを、無溶媒で、相間移動触媒の存在下で反応させ
て、下記式（３）で表されるトリメチルシリルアジドを
製造し、単離する。 （ＣＨ3）3ＳｉＣｌ （１） Ｍ（Ｎ3）n （２） （式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、ｎは１または２である。） （ＣＨ3）3ＳｉＮ3 （３）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アミノ化剤、アジ
ド化剤あるいはヘテロ環化合物の合成に有用な、トリメ
チルシリルアジドを製造する方法に関する。
ド化剤あるいはヘテロ環化合物の合成に有用な、トリメ
チルシリルアジドを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、トリメチルシリルアジドを製造す
る方法としては、トリメチルシリルクロライドとアジ化
水素の無機塩とを、溶媒中で反応させる方法が知られて
いる［シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）２，１０６〜
１０７（１９８８）］［オルガニック・シンセシス（Ｏ
ｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．）５０，１０７〜（１９７０）］
［ジャーナル・オブ・ケミカル・フィジックス（Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｐｈｙｓ．）２８，１９６２〜１９６４（１９５
８）］。
る方法としては、トリメチルシリルクロライドとアジ化
水素の無機塩とを、溶媒中で反応させる方法が知られて
いる［シンセシス（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ）２，１０６〜
１０７（１９８８）］［オルガニック・シンセシス（Ｏ
ｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．）５０，１０７〜（１９７０）］
［ジャーナル・オブ・ケミカル・フィジックス（Ｊ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｐｈｙｓ．）２８，１９６２〜１９６４（１９５
８）］。
【０００３】また、トリメチルシリルクロライドとマク
ロポーラスポリマーに担持させたアジ化水素の無機塩と
を、溶媒中で反応させる方法も知られている［特開平１
ー１４３８７８］。
ロポーラスポリマーに担持させたアジ化水素の無機塩と
を、溶媒中で反応させる方法も知られている［特開平１
ー１４３８７８］。
【０００４】しかしながら、上記の製法においては次の
（１）〜（２）のような問題がある。
（１）〜（２）のような問題がある。
【０００５】（１） 反応完結までに６〜６０時間とい
う長時間を必要としている。又、反応時間を短縮するた
めには、アジ化水素の無機塩をマクロポーラスポリマー
に担持させて使用する必要がある。
う長時間を必要としている。又、反応時間を短縮するた
めには、アジ化水素の無機塩をマクロポーラスポリマー
に担持させて使用する必要がある。
【０００６】（２） 生成したトリメチルシリルアジド
の単離方法としては、蒸留による方法しかなく、その蒸
留ではトリメチルシリルアジドと溶媒とが十分に分離せ
ず、トリメチルシリルアジド中に溶媒が混入するために
純度が低下する。すなわち、高純度なトリメチルシリル
アジドを得るには、多段数の精密蒸留装置が必要であ
り、そのための設備が必要となり、製造コストの上昇の
原因となる。
の単離方法としては、蒸留による方法しかなく、その蒸
留ではトリメチルシリルアジドと溶媒とが十分に分離せ
ず、トリメチルシリルアジド中に溶媒が混入するために
純度が低下する。すなわち、高純度なトリメチルシリル
アジドを得るには、多段数の精密蒸留装置が必要であ
り、そのための設備が必要となり、製造コストの上昇の
原因となる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
した従来技術の問題点を解決し、トリメチルシリルクロ
ライドから、容易にしかも高収率で、高品質のトリメチ
ルシリルアジドを製造する方法を提供する。
した従来技術の問題点を解決し、トリメチルシリルクロ
ライドから、容易にしかも高収率で、高品質のトリメチ
ルシリルアジドを製造する方法を提供する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、本発明者らは鋭意研究したところ、相間移動触媒
を用いることによって、無溶媒で且つ短時間でトリメチ
ルシリルアジドが得られることを見出した。さらに、無
溶媒で反応を行うことにより、生成したトリメチルシリ
ルアジドの単離においては多段数の精密蒸留装置を必要
せず、単蒸留あるいは濾過により、容易に、高純度なト
リメチルシリルアジドが得られることを見出し、本発明
を完成させるに至った。
めに、本発明者らは鋭意研究したところ、相間移動触媒
を用いることによって、無溶媒で且つ短時間でトリメチ
ルシリルアジドが得られることを見出した。さらに、無
溶媒で反応を行うことにより、生成したトリメチルシリ
ルアジドの単離においては多段数の精密蒸留装置を必要
せず、単蒸留あるいは濾過により、容易に、高純度なト
リメチルシリルアジドが得られることを見出し、本発明
を完成させるに至った。
【０００９】すなわち、本発明は、下記式（１）で表さ
れるトリメチルシリルクロライドと下記式（２）で表さ
れるアジ化水素の無機塩とを、相間移動触媒の存在下、
無溶媒で反応させることを特徴とする、下記式（３）で
表されるトリメチルシリルアジドを容易に、高純度で単
離することのできる製造方法である。 （ＣＨ3）3ＳｉＣｌ （１） Ｍ（Ｎ3）n （２） （式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、ｎは１または２である。） （ＣＨ3）3ＳｉＮ3 （３）
れるトリメチルシリルクロライドと下記式（２）で表さ
れるアジ化水素の無機塩とを、相間移動触媒の存在下、
無溶媒で反応させることを特徴とする、下記式（３）で
表されるトリメチルシリルアジドを容易に、高純度で単
離することのできる製造方法である。 （ＣＨ3）3ＳｉＣｌ （１） Ｍ（Ｎ3）n （２） （式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、ｎは１または２である。） （ＣＨ3）3ＳｉＮ3 （３）
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
【００１１】本発明の製造方法において用いうるアジ化
水素の無機塩の具体例としては、ナトリウム、カリウ
ム、リチウム、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ
金属またはアルカリ土類金属のアジ化物が挙げられる。
好ましくはアジ化ナトリウムが工業的に好適である。こ
れらのアジ化水素の無機塩の使用量は、トリメチルシリ
ルクロライド１モルに対して、アジ化水素換算で通常
１．０〜１．５モルの範囲、好ましくは１．０〜１．０
５モルである。
水素の無機塩の具体例としては、ナトリウム、カリウ
ム、リチウム、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ
金属またはアルカリ土類金属のアジ化物が挙げられる。
好ましくはアジ化ナトリウムが工業的に好適である。こ
れらのアジ化水素の無機塩の使用量は、トリメチルシリ
ルクロライド１モルに対して、アジ化水素換算で通常
１．０〜１．５モルの範囲、好ましくは１．０〜１．０
５モルである。
【００１２】また、本発明の製造方法において用いうる
相間移動触媒の具体例としては、従来公知の４級アンモ
ニウム塩、４級アンモニウム塩源となり得る３級アミ
ン、ポリエーテル化合物を使用することができる。例え
ば、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチ
ルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルア
ンモニウムブロマイド、メチルトリオクチルアンモニウ
ムクロライド、トリエチルアミン塩酸塩、ポリエチレン
グリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコールテ
トラヒドロフルフリルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジステアリン酸エステル、ポリエチレングリコール、
および、ポリエチレングリコールメチルエーテル、ポリ
エチレングリコールテトラヒドロフルフリルエーテル、
ポリエチレングリコールのシリル化物等を挙げられる
が、これらに限定されるものではない。好ましい相間移
動触媒は、工業的で安価な点より、ポリエチレングリコ
ールおよびそのシリル化物である。これらの相間移動触
媒の使用量は、トリメチルシリルクロライドに対し、通
常０．１重量％以上、好ましくは２〜６重量％の範囲で
ある。
相間移動触媒の具体例としては、従来公知の４級アンモ
ニウム塩、４級アンモニウム塩源となり得る３級アミ
ン、ポリエーテル化合物を使用することができる。例え
ば、テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラブチ
ルアンモニウムブロマイド、ヘキサデシルトリブチルア
ンモニウムブロマイド、メチルトリオクチルアンモニウ
ムクロライド、トリエチルアミン塩酸塩、ポリエチレン
グリコールメチルエーテル、ポリエチレングリコールテ
トラヒドロフルフリルエーテル、ポリエチレングリコー
ルジステアリン酸エステル、ポリエチレングリコール、
および、ポリエチレングリコールメチルエーテル、ポリ
エチレングリコールテトラヒドロフルフリルエーテル、
ポリエチレングリコールのシリル化物等を挙げられる
が、これらに限定されるものではない。好ましい相間移
動触媒は、工業的で安価な点より、ポリエチレングリコ
ールおよびそのシリル化物である。これらの相間移動触
媒の使用量は、トリメチルシリルクロライドに対し、通
常０．１重量％以上、好ましくは２〜６重量％の範囲で
ある。
【００１３】反応温度は、通常０〜６０℃、好ましくは
４５〜５５℃の範囲である。また、反応時間は触媒の添
加量、反応温度により影響を受けるが、通常０．５〜２
０時間、好ましくは１〜１０時間である。
４５〜５５℃の範囲である。また、反応時間は触媒の添
加量、反応温度により影響を受けるが、通常０．５〜２
０時間、好ましくは１〜１０時間である。
【００１４】反応終了後にトリメチルシリルアジドを単
離するには、蒸留あるいは無機塩等を濾過によって除け
ばよい。単離は、溶媒を使用していないのでトリメチル
シリルアジドへの溶媒の混入がなく、容易に、高純度な
トリメチルシリルアジドを得ることができる。
離するには、蒸留あるいは無機塩等を濾過によって除け
ばよい。単離は、溶媒を使用していないのでトリメチル
シリルアジドへの溶媒の混入がなく、容易に、高純度な
トリメチルシリルアジドを得ることができる。
【００１５】従って、本発明は、従来の溶媒を用いる合
成法に比べて、短時間の反応で、高純度なトリメチルシ
リルアジドを製造するのに非常に有利な方法である。
成法に比べて、短時間の反応で、高純度なトリメチルシ
リルアジドを製造するのに非常に有利な方法である。
【００１６】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００１７】実施例１ 還流冷却器、温度計および撹拌機を設けたフラスコに、
トリメチルシリルクロライド４２３．７ｇ（３．９モ
ル）、アジ化ナトリウム２６６．２ｇ（４．１モル）、
および、ポリエチレングリコール８．５ｇを入れ、５０
〜５５℃に加熱して１時間反応させた。反応終了後、内
温を９６〜９７℃まで昇温し、トリメチルシリルアジド
を蒸留によって、単離した。その結果、無色透明液体の
トリメチルシリルアジド３９２．３ｇ（３．４モル）を
得た。これはトリメチルシリルクロライドに対して収率
８７．３％に相当する。また、ガスクロマトグラフィ−
（ＧＣ）分析による純度は９７．９％であった。
トリメチルシリルクロライド４２３．７ｇ（３．９モ
ル）、アジ化ナトリウム２６６．２ｇ（４．１モル）、
および、ポリエチレングリコール８．５ｇを入れ、５０
〜５５℃に加熱して１時間反応させた。反応終了後、内
温を９６〜９７℃まで昇温し、トリメチルシリルアジド
を蒸留によって、単離した。その結果、無色透明液体の
トリメチルシリルアジド３９２．３ｇ（３．４モル）を
得た。これはトリメチルシリルクロライドに対して収率
８７．３％に相当する。また、ガスクロマトグラフィ−
（ＧＣ）分析による純度は９７．９％であった。
【００１８】実施例２ 実施例１と同様な装置に、トリメチルシリルクロライド
１０．９ｇ（０．１モル）、アジ化ナトリウム６．８ｇ
（０．１１モル）、および、テトラエチルアンモニウム
ブロマイド０．４４ｇを入れ、５５〜６０℃に加熱して
５時間反応させた。反応終了後、内温を９７〜９８℃ま
で昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単
離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリルア
ジド９．９ｇ（０．８６モル）を得た。これはトリメチ
ルシリルクロライドに対して収率８６．１％に相当す
る。また、ＧＣ分析による純度は９６．７％であった。
１０．９ｇ（０．１モル）、アジ化ナトリウム６．８ｇ
（０．１１モル）、および、テトラエチルアンモニウム
ブロマイド０．４４ｇを入れ、５５〜６０℃に加熱して
５時間反応させた。反応終了後、内温を９７〜９８℃ま
で昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単
離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリルア
ジド９．９ｇ（０．８６モル）を得た。これはトリメチ
ルシリルクロライドに対して収率８６．１％に相当す
る。また、ＧＣ分析による純度は９６．７％であった。
【００１９】実施例３ 実施例１と同様な装置に、トリメチルシリルクロライド
２１．８ｇ（０．２モル）、アジ化ナトリウム１３．４
ｇ（０．２１モル）、および、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド０．６６ｇを入れ、５０〜５５℃に加熱し
て９時間反応させた。反応終了後、内温を９６〜９７℃
まで昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、
単離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリル
アジド２０．６ｇ（０．１８モル）を得た。これはトリ
メチルシリルクロライドに対して収率８９．６％に相当
する。また、ＧＣ分析による純度は９７．１％であっ
た。
２１．８ｇ（０．２モル）、アジ化ナトリウム１３．４
ｇ（０．２１モル）、および、テトラブチルアンモニウ
ムブロマイド０．６６ｇを入れ、５０〜５５℃に加熱し
て９時間反応させた。反応終了後、内温を９６〜９７℃
まで昇温し、トリメチルシリルアジドを蒸留によって、
単離した。その結果、無色透明液体のトリメチルシリル
アジド２０．６ｇ（０．１８モル）を得た。これはトリ
メチルシリルクロライドに対して収率８９．６％に相当
する。また、ＧＣ分析による純度は９７．１％であっ
た。
【００２０】実施例４ 実施例１と同様な装置に、トリメチルシリルクロライド
２１．８ｇ（０．２モル）、アジ化ナトリウム１３．４
ｇ（０．２１モル）、および、トリエチルアミン塩酸塩
１．３ｇを入れ、５０〜５５℃に加熱して１０時間反応
させた。反応終了後、内温を９４〜９７℃まで昇温し、
トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単離した。そ
の結果、無色透明液体のトリメチルシリルアジド１９．
６ｇ（０．１７モル）を得た。これはトリメチルシリル
クロライドに対して収率８５．０％に相当する。また、
ＧＣ分析による純度は９６．５％であった。
２１．８ｇ（０．２モル）、アジ化ナトリウム１３．４
ｇ（０．２１モル）、および、トリエチルアミン塩酸塩
１．３ｇを入れ、５０〜５５℃に加熱して１０時間反応
させた。反応終了後、内温を９４〜９７℃まで昇温し、
トリメチルシリルアジドを蒸留によって、単離した。そ
の結果、無色透明液体のトリメチルシリルアジド１９．
６ｇ（０．１７モル）を得た。これはトリメチルシリル
クロライドに対して収率８５．０％に相当する。また、
ＧＣ分析による純度は９６．５％であった。
【００２１】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、トリメチル
シリルクロライドから溶媒を使用することなく、トリメ
チルシリルアジドを製造し、容易、且つ高純度で単離す
ることができる。従って、工業的に有利かつ好適な方法
である。
シリルクロライドから溶媒を使用することなく、トリメ
チルシリルアジドを製造し、容易、且つ高純度で単離す
ることができる。従って、工業的に有利かつ好適な方法
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 織田 亮三 兵庫県高砂市曽根町2900番地 東洋化成工 業株式会社化成品研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 下記式（１）で表されるトリメチルシ
リルクロライドと下記式（２）で表されるアジ化水素の
無機塩とを、相間移動触媒の存在下、無溶媒で反応させ
ることを特徴とする下記式（３）で表されるトリメチル
シリルアジドの製造方法。 （ＣＨ3）3ＳｉＣｌ （１） Ｍ（Ｎ3）n （２） （式中、Ｍはアルカリ金属またはアルカリ土類金属であ
り、ｎは１または２である。） （ＣＨ3）3ＳｉＮ3 （３） - 【請求項２】 アジ化水素の無機塩がアジ化ナトリウ
ムであることを特徴とする請求項１に記載の方法。 - 【請求項３】 相間移動触媒がポリエチレングリコー
ルおよびそのシリル化物であることを特徴とする請求項
１または請求項２に記載の方法。 - 【請求項４】 反応溶媒を使用しないことを特徴とす
る請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22595196A JP3671281B2 (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | トリメチルシリルアジドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22595196A JP3671281B2 (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | トリメチルシリルアジドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1045769A true JPH1045769A (ja) | 1998-02-17 |
| JP3671281B2 JP3671281B2 (ja) | 2005-07-13 |
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ID=16837457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22595196A Expired - Fee Related JP3671281B2 (ja) | 1996-08-07 | 1996-08-07 | トリメチルシリルアジドの製造方法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3671281B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1795533A1 (en) * | 2004-09-30 | 2007-06-13 | Toyo Kasei Kogyo Company Limited | Method for producing trimethylsilyl azide |
| EP2110848A1 (en) * | 2007-02-06 | 2009-10-21 | Central Glass Company, Limited | Modifier for low dielectric constant film, and method for production thereof |
| JP2013116878A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-06-13 | Toyobo Co Ltd | トリメチルシリルアジドの製造における溶媒の回収方法 |
-
1996
- 1996-08-07 JP JP22595196A patent/JP3671281B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1795533A1 (en) * | 2004-09-30 | 2007-06-13 | Toyo Kasei Kogyo Company Limited | Method for producing trimethylsilyl azide |
| EP1795533A4 (en) * | 2004-09-30 | 2009-10-21 | Toyo Kasei Kogyo Co Ltd | SYNTHESIS METHOD OF TRIMETHYLSILYLAZIDE |
| US7781603B2 (en) | 2004-09-30 | 2010-08-24 | Toyo Boseki Kabushiki Kaisha | Method for producing trimethylsilyl azide |
| EP2110848A1 (en) * | 2007-02-06 | 2009-10-21 | Central Glass Company, Limited | Modifier for low dielectric constant film, and method for production thereof |
| EP2110848A4 (en) * | 2007-02-06 | 2013-01-23 | Central Glass Co Ltd | MODIFIER FOR LOW DIELECTRIC CONSTANT FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
| JP2013116878A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-06-13 | Toyobo Co Ltd | トリメチルシリルアジドの製造における溶媒の回収方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3671281B2 (ja) | 2005-07-13 |
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