JPH1041432A - リードフレーム部材および表面実装型半導体装置 - Google Patents

リードフレーム部材および表面実装型半導体装置

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JPH1041432A
JPH1041432A JP21215396A JP21215396A JPH1041432A JP H1041432 A JPH1041432 A JP H1041432A JP 21215396 A JP21215396 A JP 21215396A JP 21215396 A JP21215396 A JP 21215396A JP H1041432 A JPH1041432 A JP H1041432A
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die pad
lead
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Hideji Sagara
秀次 相楽
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 一層の多端子化、高密度配線に対応できる、
リードフレームを用いたBGAタイプの表面実装型半導
体装置を提供する。 【解決手段】 リードフレーム110は、外部端子部1
13をリードフレーム部材100の厚さで、ダイパッド
111の辺に沿い所定のピッチ間隔で配列し、インナー
リード112の一方の面をリードフレーム素材面111
Sとしてリードフレーム部材100の厚さよりも薄肉に
形成し、ダイパッド111および外枠部114をリード
フレーム部材100の厚さで形成する。固定用テープ1
20は、外部端子部113領域にかからない領域内に設
けられ、ダイパッド111のコーナー部周辺の領域では
辺部領域に設けられた固定用テープ120からの延長領
域よりさらに外側まで突出するように広げて設けられ、
外部端子113領域もこれに合わせ作成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は,リードフレームを用い
たBGAタイプの樹脂封止型半導体装置の製造方法と該
製造により作製された表面実装型半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体装置は、電子機器の高性能
化と軽薄短小の傾向からLSIはASICに代表される
ように、ますます高集積化、高機能化の一途をたどって
きている。これに伴い、信号の高速処理には、パッケー
ジ内部のスイッチングノイズが無視できない状況になっ
てきて、特に、ICの同時スイッチングノイズにはパッ
ケージ内部配線の実効インダクタンスが大きく影響を与
える為、主に、電源やグランドの本数を増やしてこれに
対応してきた。この結果、半導体装置の高集積化、高機
能化は外部端子(ピン)総数の増加を招き、半導体装置
の多端子化が求められるようになってきた。多端子I
C、特にゲートアレイやスタンダードセルに代表される
ASICあるいは、マイコン、DSP(Digital
Signal Processor)等をコストパー
フォーマンス高くユーザに提供するパッケージとしてリ
ードフレームを用いたプラスチックQFP(Quad
Flat Package)が主流となり、現在では3
00ピンを超えるものまで実用化に至ってきている。
【0003】QFPは、図12(b)に示す単層リード
フレーム1210を用いたもので、図12(a)に示す
ように、ダイパッド1211上に半導体素子1220を
搭載し、銀めっき等の表面処理がなされたインナーリー
ド1212先端部と半導体素子1220の端子1221
とをワイヤ1230にて結線し、封止用樹脂1240で
封止を行い、この後、ダムバー部1214をカットし、
アウターリード1213をガルウイング状に成形したも
のである。このように、QFPは、パッケージの4方向
に外部回路と電気的に接続するためのアウターリード1
213を設けた構造で多端子化に対応できるものとして
開発されてきた。ここで用いられる単層リードフレーム
1210は、通常、42合金(42%ニッケル−鉄合
金)あるいは銅合金などの電気伝導率が高く,且つ機械
的強度が大きい金属材を素材とし、フォトエッチング法
かあるいはスタンピング法により、図12(b)に示す
ような形状に作製されていた。尚、図12(b)(ロ)
は、図12(b)(イ)のF1−F2における断面を示
したものである。
【0004】しかし、半導体素子の信号処理の高速化、
高機能化は、更に多くの端子数を必要とするようになっ
てきた。QFPでは外部端子ピッチを狭めることによ
り、パッケージサイズを大きくすることなく多端子化に
対応してきたが、外部端子の狭ピッチ化に伴い、外部端
子自体の幅が細くなり、外部端子の強度が低下するた
め、フォーミング等の後工程におけるアウターリードの
スキュー対応やプラナリイティー(平坦性)維持が難し
くなり、実装に際しては、パッケージ搭載精度維持が難
しくなるという実装面での問題を抱えていた。
【0005】このようなQFPの実装面での問題に対応
するため、BGA(Ball Grid Array)
と呼ばれるプラスチックパッケージが開発されてきた。
このBGAは、通常、両面基板の片面に半導体素子を搭
載し、もう一方の面に球状の半田ボールをパッケージの
外部端子として二次元的に配列し、スルーホールを通じ
て半導体素子と外部端子(半田ボール)との導通をとっ
たもので、実装性の対応を図ったパッケージである。B
GAはパッケージの4辺に外部端子を設けたQFPに比
べ、同じ外部端子数でも外部端子間隔(ピッチ)を大き
くとれるという利点があり、半導体装置の実装工程を難
しくせず、入出力端子の増加に対応できた。BGAは、
一般に図5に示すような構造である。図5(b)は図5
(a)の裏面(基板)側からみた図で、図5(c)はス
ルーホール550部を示したものである。このBGAは
BTレジン(ビスマレイミド樹脂)を代表とする耐熱性
を有する平板(樹脂板)の基材502の片面に半導体素
子501を搭載するダイパッド505と半導体素子50
1からボンディングワイヤ508により電気的に接続さ
れるボンディングパッド510を持ち、もう一方の面
に、外部回路と半導体装置との電気的、物理的接続を行
う格子状あるいは千鳥状に配列された半田ボールにより
形成した外部接続端子506をもち、外部接続端子50
6とボンディングパッド510の間を配線504とスル
ーホール550、配線504Aにより電気的に接続して
いる構造である。しかしながら、このBGAは、搭載す
る半導体素子とワイヤの結線を行う回路と、半導体装置
化した後にプリント基板に実装するための外部端子(半
田ボール)とを基板502の両面に設け、これらをスル
ーホール550を介して電気的に接続していた複雑な構
造であり、信号が通過する回路長が長くなり、その回路
デザインも複雑化している。また、耐熱及び絶縁樹脂基
材を用いて構成される従来型プラスチックBGA用の基
板を製造するプロセスは、樹脂基材の孔開けや表裏回路
の導通めっき処理及びソルダーレジスト印刷といった従
来のプリント基板と同様の工程が必要であり、全体とし
て長い工程にならざるをえない。これに加えて、高密度
化を実現するための回路プロセスにおいての制約が多く
存在し、低コストに製造することは難しい。そしてま
た、樹脂の熱膨張の影響によりスルーホール550が断
線を生じたり、半導体装置化した碁に半導体素子501
が基板から剥離してしまう等信頼性の点で問題が多かっ
た。
【0006】この為、作製プロセスの簡略化、信頼性の
低下を回避するため、上記図5に示す構造のものの他
に、リードフレームをコア材として回路を形成したBG
Aも、近年、種々提案されてきた。これらのリードフレ
ームを使用するBGAパッケージは、一般には、リード
フレーム610の外部端子部614に対応する箇所に所
定の孔をあけた、絶縁フィルム660上にリードフレー
ム610を固定して、樹脂封止した図6(a)に示すよ
うな構造、ないし図6(b)に示すような構造をとって
いた。上記リードフレームを用いるBGAパッケージに
使われるリードフレーム610は、従来、図7に示すよ
うなエッチング加工方法により作製されており、外部端
子部614とインナーリード612ともリードフレーム
素材の厚さに作製されていた。尚、図6中、620は半
導体素子、621は半導体素子の端子、640は封止用
樹脂、650は外部端子電極(半田ボール)、611は
ダイパッドである。ここで、図7に示すエッチング加工
方法を簡単に説明しておく。先ず、銅合金もしくは42
%ニッケル−鉄合金からなる厚さ0.25mm程度の薄
板(リードフレーム素材710)を十分洗浄(図7
(a))した後、重クロム酸カリウムを感光剤とした水
溶性カゼインレジスト等のフオトレジスト720を該薄
板の両表面に均一に塗布する。((図7(b)) 次いで、所定のパターンが形成されたマスクを介して高
圧水銀灯でレジスト部を露光した後、所定の現像液で該
感光性レジストを現像して(図7(c))、レジストパ
ターン730を形成し、硬膜処理、洗浄処理等を必要に
応じて行い、塩化第二鉄水溶液を主たる成分とするエッ
チング液にて、スプレイにて該薄板(リードフレーム素
材710)に吹き付け所定の寸法形状にエッチングし、
貫通させる。(図7(d)) 次いで、レジスト膜を剥膜処理し(図7(e))、洗浄
後、所望のリードフレームを得て、エッチング加工工程
を終了する。このように、エッチング加工等によって作
製されたリードフレームは、更に、所定のエリアに銀メ
ッキ等が施される。次いで、洗浄、乾燥等の処理を経
て、インナーリード部を固定用の接着剤付きポリイミド
テープにてテーピング処理したり、必要に応じて所定の
量タブ吊りバーを曲げ加工し、ダイパッド部をダウンセ
ットする処理を行う。しかし、エッチング液による腐蝕
は被加工板の板厚方向の他に板幅(面)方向にも進むた
め、図7に示すようなエッチング加工方法においては、
微細化加工に関して、加工される素材の板厚からくる限
界があった。
【0007】上記リードフレームをコア材として用いた
BGAタイプの樹脂封止型半導体装置においては、図1
2(b)に示す単層リードフレームを用いた半導体装置
に比べ、同じ端子数で外部回路と接続するための外部端
子ピッチを広くでき、半導体装置の実装工程を難しくし
ないで、入出力端子の増加に対応できたが、一層の多端
子化、高密度化に対しては、インナーリードの狭ピッチ
化、高密度配線が必須でその対応が求められていた。こ
れに対応して、本願と同じ出願人による出願(特願平8
−81902号)で、インナーリードを薄肉にして微細
に作製し、且つ、図11に示す製造方法により作製され
る、図8に示すリードフレームをコア材とした半導体装
置800が提案されている。尚、図8(a)は半導体装
置の断面図で、図8(b)は、図8(a)をC1側から
見た平面図であり、図9(a)は、これに用いられるリ
ードフレームの形状を示した全体図で、図9(b)は、
このリードフレームの略1/4の領域を拡大して示した
平面図で、図10は固定用テープと外部端子の位置関係
を示した図であり、図11は図8に示す半導体装置の製
造工程を示した工程図である。尚、図10(a)は分か
り易くするため外部端子部の数や、インナーリード、連
結部(リード)の数を少なくして示してある。図8、図
9、図10、図11中、800は表面実装型半導体装
置、810はリードフレーム、811はダイパッド、8
11Sはリードフレーム素材面、812インナーリー
ド、812Aはインナーリード先端部、812Sはリー
ドフレーム素材面、813は外部端子部、814は外枠
部、815は連結部(リードないし配線部とも言う)、
820は固定用テープ、830は保持基板、840は半
導体素子、841は端子(パッド)、850はボンディ
ングワイヤ、860は金型、861はキヤビティー、8
70は封止用樹脂、880は外部電極である。
【0008】図11にもとづき、図8に示す半導体装置
800の製造方法の1例を、以下簡単に述べておく。先
ず、一方をリードフレーム素材面とし、素材の厚さより
インナーリード812が薄肉に形成されているリードフ
レーム800を用いて、インナーリード812の素材面
側でない面において、インナーリード先端部812Aを
固定用テープで貼り付け、その部分の厚さが略リードフ
レーム素材の厚さ以下とする。(図11(a)) リードフレーム810は、後述する図4に示すエッチン
グ方法により作成されるが、図9(a)に示すように、
少なくとも、半導体素子の端子と電気的に接続をその先
端で行うためのインナーリード812と、該インナーリ
ード812と一体的に連結して外部回路と電気的接続を
行うための外部端子813とを略平面的に設け、且つ、
外部端子部813をリードフレーム素材の厚さで、すな
わちその両面(上面、下面)をリードフレーム素材面8
13Sとして、二次元的に配列し、インナーリード81
2は、その一方の面をリードフレーム素材面812Sと
してリードフレーム素材の厚さt0 よりも薄肉にしてい
る。リードフレームをエッチングにて外形加工した後、
インナーリード先端のワイヤボンディング面(リードフ
レーム素材面)、半導体素子を搭載するダイパッド面、
半田ボールを作製するための外部端子面に、それぞれ所
望のめっきを施しておく。尚、ここでは、図9に示すよ
うに、リードの半導体素子の端子とワイヤボンディング
にて接続する側の先端部分から外部端子部までの一体的
に連結した部分までをインナーリード812と言い、外
部端子部813と外枠部814とを一体的に連結する部
分を連結部(リードないし配線部とも言う)815とし
ている。ここでは、インナーリード812と連結部81
5を併せて、単にリードと言う。(配線とも言う) 一般には、インナーリード812とは、樹脂封止(モー
ルド)して半導体装置を作製した際に、樹脂の内部の配
線全体を総称して言っている。固定用テープ820は、
従来からQFPで用いられているポリイミドフィルムを
基材とした接着テープを用いる。
【0009】次いで、リードフレーム810の、固定用
テープ820を貼り付けた側全体を保持基板830に接
着剤を介して貼り付ける。(図8(b)) 保持基板830の構成は基材が厚さ50μmのポリイミ
ドフィルムで、接着剤層が厚さ35μmのエポキシ系接
着剤のものを用いる。保持基板830の貼り付けの範囲
は、リードフレーム810の外枠部814の全ての辺に
かかっているようにして、樹脂封止の際に、封止用樹脂
が保持基板830とリードフレーム810の隙間から漏
れ出さないようにする。保持基板830の圧着条件は圧
力30kg/cm2 で150°Cにおいて45分保持
し、熱プレス装置にて行う。この条件は、保持基板83
0の接着剤の種類により選び、適当な条件にて行う。保
持基板830を貼り付ける目的は、リードフレーム81
0の外部端子の、インナーリードの素材面側でない外部
面に封止用樹脂が漏れるのを防ぎ、この面に半田ボール
からなる外部電極を設け易くするためである。
【0010】次に、インナーリードのリードフレーム素
材面側のダイパッド面上に半導体素子840を搭載し、
該半導体素子840の端子(パッド)841とインナー
リード先端812Aとをボンディングワイヤ850にて
電気的に接続する。(図8(c)) 尚、ワイヤボンデ
ィング技術は周知ではあるが、条件は、用いる固定用テ
ープ820の特性(耐熱性、熱弾性等)に応じて適当に
選ぶ必要がある。
【0011】次いで、半導体素子840を保持している
リードフレーム810全体を、樹脂封止用(モールド成
形用)の金型860にて所定の形状に形成されているキ
ヤビティー861にセットし、樹脂封止を行い、所定形
状にパッケージボディーを作成し(図8(d))、リー
ドフレーム810の外枠部814より内側の領域全体
を、半導体素子側から、半導体素子全体とリードフレー
ムとを封止用樹脂870と保持板にて密封するように、
封止用樹脂870にて封止する。(図8(e)) 樹脂封止用の金型を用いた装置としては、従来のトラン
スファーモールドプレスで、封止用樹脂としてはビフェ
ニールタイプエポキシ樹脂を採用した。尚、半導体装置
のパッケージは、通常、エポキシ樹脂成形等の樹脂にて
成形されるがこれに限定されるものではない。モールド
加工時には、モールド樹脂は保持基板830と、インナ
ーリード812、連結部815等リードとの空間に流れ
込み、封止用樹脂870で全体を包み込む。全体的に包
み込む事により、図5に示す従来のプリント基板を用い
たBGAのようにプリント基板と封止樹脂(モールドレ
ジン)503との大きな界面が存在せず、また、片面モ
ールドの図6(a)に示す従来のリードフレームを用い
たBGAタイプのもののように、封止用樹脂640と絶
縁フィルム660との大きな界面は存在せず、加熱時や
加湿時に界面から生じ易い剥離や膨れを低減させる効果
がある。また、外部端子813の保持基板830側の面
には、封止用樹脂870が流れ込むことはなく、半田ボ
ールからなる外部電極を作成する際の作業を楽なものと
している。
【0012】樹脂封止後、保持基板830を剥がし、除
去する。(図8(f)) 本実施例では、樹脂封止された半導体装置をホットプレ
ート上にて230°Cにて加熱し、保持基板830の密
着力を弱めた状態で剥離した。この工程の条件は、保持
基板830に使用されている粘着剤によって、好ましい
条件を選ぶ。前にも述べたように、保持基板830は外
部電極880を形成するための外部端子814の面を、
外部に露出するように形成し、外部電極880の形成を
楽にするものであり、モールド加工時に封止用樹脂87
0が、外部端子814の外部電極880を形成する面に
漏れ込むのを、保持基板830が防ぐ。
【0013】次いで、封止用樹脂880に覆われず外部
へ露出した、リードフレーム810の外枠部814を金
型により切断除去する。(図8(g)) 外枠部814の除去する方法としては、金型による方法
に限定はされない、他にはレーザ等を用いる方法も可能
である。
【0014】封止用樹脂880に覆われず外部へ露出し
た、外部端子814の面に半田ボールからなる外部電極
880を形成する。(図8(h)) 外部電極880を形成する半田ボールは、錫、鉛を主体
とした導電製金属で構成される。
【0015】尚、上記工程に代え、リードフレームの半
導体素子とワイヤボンディングする側のインナーリード
先端部を、本来不要である連結部にて連結した状態でエ
ッチング加工して、めっき処理等を施し、固定用テープ
を貼り付けた後に、連結部分を除去しても良い。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】このように、図11に
示す工程にて、図8に示す半導体装置は作製されるが、
図11に示す工程の樹脂封入の際(図11(d))、ダ
イパッド811のコーナー部から外枠部814のコーナ
ー部にかけて、インナーリード812間や連結部815
間で接触不良を起こす問題がでてきた。これは、入出力
端子の増加にともない、インナーリード811同志の間
隔、連結部815同志の間隔が狭くなるに従い、樹脂封
入の際、インナーリード811、連結部815の長さ
が、他の箇所よりも長いコーナー部が不安定となり、接
触不良を起こすものである。また、一般にコーナー部の
方が他の箇所よりも配線密度が高くなるためでもある。
本発明は、これに対応するためのもので、一層の多端子
化、高密度配線に対応でき、且つ、製造に対しても信頼
性の高い、リードフレームをコア材としたBGAタイプ
の樹脂封止型半導体装置と、これに使用されるリードフ
レーム部材を提供しようとするものである。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明のリードフレーム
部材は、少なくともエッチングにより外形加工されたリ
ードフレームと、リードフレームのインナーリード先端
部を固定するための固定用テープと、リードフレームの
一面を保持する保持基板とを有するBGAタイプの樹脂
封止型半導体装置用のリードフレーム部材であって、リ
ードフレームは、半導体素子を搭載するための略四角形
のダイパッドと、半導体素子の端子(パッド)にボンデ
イングワイヤにて電気的に接続するためのインナーリー
ドと、該インナーリードに一体的に連結して外部回路と
電気的接続を行うための外部端子部と、リードフレーム
全体を固定し、樹脂封止の際のダムバーとなるダイパッ
ドの各辺に平行に沿う四辺をもつ四角形状の外枠部と、
外部端子部ないしダイパッドと外枠部とを一体的に接続
する連結部(リード)とを略平面的に設け、外部端子部
をリードフレーム素材の厚さで、ダイパッドの辺に沿い
ほぼ全周にわたり所定のピッチ間隔で二次元的に配列
し、インナーリードと連結部(リード)の同じ側の一方
の面をリードフレーム素材面としてリードフレーム素材
の厚さよりも薄肉に形成し、ダイパッドおよび外枠部を
リードフレーム素材の厚さで形成しており、固定用テー
プは、外部端子部が設けられていない領域の、ダイパッ
ドの周辺の全インナーリードの素材面側でない面にて、
その部分の厚さが略リードフレーム素材の厚さ以下とな
るように、インナーリード先端部をこれにより連結する
ように貼りつけられており、保持基板は、リードフレー
ムの、固定用テープを貼り付けた側全体を覆うように、
ダイパッド、外部端子部、外枠部のリードフレーム素材
面および固定用テープの一面に接着材を介して貼り付け
られており、且つ、固定用テープは、ダイパッドの辺部
に対応する辺部領域では辺部に沿い、外部端子部領域に
かからない領域内に設けられ、ダイパッドのコーナー部
周辺の領域では辺部領域に設けられた固定用テープから
の延長領域よりさらに外側まで突出するように広げて設
けられ、外部端子領域もこれに合わせ作成されているこ
とを特徴とするものである。そして、上記において、保
持基板は、基材がポリイミドで、接着剤がエポキシ系接
着剤であり、加熱圧着されリードフレームおよびまたは
固定用テープに貼り付けられることを特徴とするもので
ある。
【0018】本発明の表面実装型半導体装置は、リード
フレームを用いたBGAタイプの樹脂封止型半導体装置
であって、リードフレームは、半導体素子を搭載するた
めの略四角形のダイパッドと、半導体素子の端子(パッ
ド)にボンデイングワイヤにて電気的に接続するための
インナーリードと、該インナーリードに一体的に連結し
て外部回路と電気的接続を行うための外部端子部と、外
部端子部ないしダイパッドと作製過程で除去された外枠
部とを一体的に接続する連結部(リード)とを略平面的
に設け、外部端子部をリードフレーム素材の厚さで、ダ
イパッドの辺に沿いほぼ全周にわたり所定のピッチ間隔
で二次元的に配列し、インナーリードと連結部(リー
ド)の同じ側の一方の面をリードフレーム素材面として
リードフレーム素材の厚さよりも薄肉に形成し、ダイパ
ッドをリードフレーム素材の厚さで形成しており、外部
端子部が設けられていない領域の、ダイパッドの周辺の
全インナーリードの素材面側でない面にて、その部分の
厚さが略リードフレーム素材の厚さ以下となるように、
インナーリード先端部を跨ぎ連結するように固定用テー
プを貼り付けており、半導体素子は、インナーリードの
リードフレーム素材面側のダイパッド上に搭載され、イ
ンナーリードのリードフレーム素材面とボンディングワ
イヤにて電気的に接続されており、且つ、外部端子の外
側面を封止用樹脂の外側面に合わせ、該外部端子の外側
面上に設けた半田ボールからなる外部電極を外部に突出
させるようにして、リードフレームの両側から、半導体
素子全体とリードフレーム部を樹脂封止しており、且
つ、固定用テープは、ダイパッドの辺部に対応する辺部
領域では辺部に沿い、外部端子部領域にかからない領域
内に設けられ、ダイパッドのコーナー部周辺の領域では
辺部領域に設けられた固定用テープからの延長領域より
さらに外側まで突出するように広げて設けられ、外部端
子領域もこれに合わせ作成されていることを特徴とする
ものである。尚、上記において、辺部領域とは、四角状
のダイパッドの四辺に沿った、インナーリード形成領域
であり、外部端子領域とは外部端子部が形成されている
領域を言う。
【0019】
【作用】本発明のリードフレーム部材は、上記のように
構成することにより、一層の多端子化、高密度配線が可
能で、且つ、樹脂封止の際のインナーリードや連結部
(リード)等の配線間の接触不良を低減できるBGAタ
イプの樹脂封止型半導体装置の作製を可能とするもので
あり、その作製方法は比較的簡単なもので、且つ量産性
に適している。詳しくは、リードフレームは、半導体素
子を搭載するための略四角形のダイパッドと、半導体素
子の端子(パッド)にボンデイングワイヤにて電気的に
接続するためのインナーリードと、該インナーリードに
一体的に連結して外部回路と電気的接続を行うための外
部端子部と、リードフレーム全体を固定し、樹脂封止の
際のダムバーとなるダイパッドの各辺に平行に沿う四辺
をもつ四角形状の外枠部と、外部端子部ないしダイパッ
ドと外枠部とを一体的に接続する連結部(リード)とを
略平面的に設け、外部端子部をリードフレーム素材の厚
さで、ダイパッドの辺に沿いほぼ全周にわたり所定のピ
ッチ間隔で二次元的に配列し、インナーリードと連結部
(リード)の同じ側の一方の面をリードフレーム素材面
としてリードフレーム素材の厚さよりも薄肉に形成し、
ダイパッドおよび外枠部をリードフレーム素材の厚さで
形成しており、固定用テープは、外部端子部が設けられ
ていない領域の、ダイパッドの周辺の全インナーリード
の素材面側でない面にて、その部分の厚さが略リードフ
レーム素材の厚さ以下となるように、インナーリード先
端部をこれにより連結するように貼りつけられており、
保持基板は、リードフレームの、固定用テープを貼り付
けた側全体を覆うように、ダイパッド、外部端子部、外
枠部のリードフレーム素材面および固定用テープの一面
に接着材を介して貼り付けられていることにより、一層
の多端子化、高密度配線を可能とするものであり、固定
用テープは、ダイパッドの辺部に対応する辺部領域では
辺部に沿い、外部端子部領域にかからない領域内に設け
られ、ダイパッドのコーナー部周辺の領域では辺部領域
に設けられた固定用テープからの延長領域よりさらに外
側まで突出するように広げて設けられ、外部端子領域も
これに合わせ作成されていることにより、樹脂封止の際
のインナーリードや連結部(リード)等の配線間の接触
不良を低減できるものとしている。そしてまた、上記に
おいて、保持基板は、基材がポリイミドで、接着剤がエ
ポキシ系接着剤であり、加熱圧着されリードフレームな
いし固定用テープに貼り付けられることにより、その作
製を簡単なものとしている。
【0020】本発明の表面実装型半導体装置は、本発明
のリードフレーム部材を用いたもので、外部端子を二次
元的に配列させたリードフレームと所定の形状に加工さ
れた固定用テープを用いていることにより、構造を簡単
として、且つ一層の多端子化、高密度配線を可能として
いる。特に、リードフレームの両面より封止用樹脂にて
封止した構造で、図5に示す従来のプリント基板を用い
たBGAや、片面モールドの図6(a)に示す従来のリ
ードフレームを用いたBGAタイプのものに比べ、信頼
性の面で優れる。特に、耐湿性、耐熱性等の信頼性の面
ではQFPに相当するものである。
【0021】
【実施例】本発明のリードフレーム部材の実施例を図に
もとづいて説明する。図1(a)は、本実施例のリード
フレーム部材の断面図で、図1(b)がその展開図であ
る。図2(a)は本実施例のリードフレーム部材の固定
用テープと外部端子部の配列との位置関係を示した図で
あり、図2(b)は変形例のリードフレーム部材の固定
用テープと外部端子部の配列との位置関係を示した図で
ある。尚、図1は分かり易くするため、外部端子部の
数、インナーリードの数、連結部(リード)の数を少な
くして示してある。また、図2中、点線四角はダイパッ
ドの位置を示している。図1、図2中、100はリード
フレーム部材、110はリードフレーム、111はダイ
パッド、111Aは辺、111Sはリードフレーム素材
面、112インナーリード、112Aはインナーリード
先端部、112Sはリードフレーム素材面、113は外
部端子部、114は外枠部、115は連結部(リードな
いし配線部とも言う)、120は固定用テープ、121
は突出部、122は辺部、130は保持基板である。本
実施例のリードフレーム部材は、少なくともエッチング
により外形加工されたリードフレーム110と、リード
フレーム110のインナーリード先端部112Aを固定
するための固定用テープ120と、リードフレームの一
面を保持する保持基板130とを有するBGAタイプの
樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材100で
ある。
【0022】リードフレーム110は、リードフレーム
素材として、厚さ0.15mmの銅合金(古河電工株式
会社製、型番EFTEC64T−1/2H)を用い、エ
ッチングにて作製したもので、図1(b)に示すよう
に、半導体素子を搭載するための略四角形のダイパッド
111と、半導体素子の端子(パッド)にボンデイング
ワイヤにて電気的に接続するためのインナーリード11
2と、該インナーリード112に一体的に連結して外部
回路と電気的接続を行うための外部端子部113と、リ
ードフレーム全体を固定し、樹脂封止の際のダムバーと
なるダイパッドの各辺に平行に沿う四辺をもつ四角形状
の外枠部114と、外部端子部113ないしダイパッド
111と外枠部114とを一体的に接続する連結部(リ
ード)115とを略平面的に設けている。そして、外部
端子部113をリードフレーム素材の厚さで、ダイパッ
ド111の辺111Aに沿いほぼダイパッド111の全
周にわたり所定のピッチ間隔(1.27mm)で二次元
的に配列している。また、インナーリード112と連結
部(リード)115の同じ側の一方の面をリードフレー
ム素材面としてリードフレーム素材の厚さよりも薄肉に
形成し、且つ、ダイパッド111および外枠部114を
リードフレーム素材の厚さで形成している。ダイパッド
111の4つの辺部111Aに沿い略平行に、ダイパッ
ドの全周を囲むように1.27mmピッチで4列に外部
端子部113を設けているが、ダイパッドのコーナーに
近い領域には、固定用テープ120の形状と合わせ、固
定用テープ120のある領域には外部端子部113を設
けていない。
【0023】固定用テープ120は、従来からQFPで
用いられているポリイミドフィルムを基材とした接着テ
ープを用いており、外部端子部113が設けられていな
い領域の、ダイパッド111の周辺の全インナーリード
112の素材面側でない面にて、その部分の厚さが略リ
ードフレーム素材の厚さ以下となるように、インナーリ
ード先端部112Aを跨ぎ連結するように貼りつけられ
ている。固定用テープ120と外部端子部113との位
置関係は、図2(a)に示すようになっている。即ち、
固定用テープ120は、ダイパッド111の辺部に対応
する辺部領域では辺部111Aに沿い、外部端子部領域
にかからない領域内に設けられており、ダイパッド11
1のコーナー部周辺領域では辺部111Aに沿うインナ
ーリード形成領域に設けられた固定用テープ120の辺
部122からの延長領域よりさらに外側まで突出するよ
うに広げて、突出部121が設けられている。そして、
これに合わせ、固定用テープ120のある領域には外部
端子部113を設けていない。尚、図2(a)中、点線
四角部はダイパッド位置を示しており、点線丸部はこの
位置に外部端子がないことを示している。また、本実施
例では、ダイパッド辺部111Aにおける固定用テーブ
120の幅は1.6mmであるが、特にこれには限定さ
れるものでなく、インナーリードのピン数及びピッチ
等、半導体素子に対応した最適なデザインにより決定さ
れるものである。
【0024】本実施例の変形例としては、固定用テープ
120と外部端子部113との位置関係は、図2(b)
に示すようなものも挙げられる。図2(b)において
も、固定用テープ120のある領域には外部端子部11
3を設けていない。
【0025】保持基板130は、基材が厚さ50μmの
ポリイミドフィルムで、接着剤層が厚さ35μmのエポ
キシ系接着剤の構成のものを用いており、リードフレー
ム110の固定用テープ120を貼り付けた側全体を覆
うように、ダイパッド111、外部端子部113、外枠
部114のリードフレーム素材面および固定用テープ1
20の一面に接着材を介して貼り付けられている。
【0026】リードフレーム部材の製造方法は、図11
(a)〜図11(b)に示す工程と同じようにして行わ
れる。
【0027】次に、本実施例のリードフレーム部材に用
いたリードフレーム110の製造方法を図4に基づいて
説明する。図4は、図1に示す本実施例に用いられたリ
ードフレーム110のエッチング加工方法を説明するた
めの工程断面図であり、外部端子部113とインナーリ
ード112の形成工程を示した製造工程図である。図4
中、410はリードフレーム素材、420A、420B
はレジストパターン、430は第一の開口部、440は
第二の開口部、450は第一の凹部、460は第二の凹
部、470は平坦状面、480はエッチング抵抗層を示
す。また、、112はインナーリード、113は外部端
子部である。先ず、銅合金からなり、厚みが0.15m
mのリードフレーム素材810の両面に、重クロム酸カ
リウムを感光剤とした水溶性カゼインレジストを塗布し
た後、所定のパターン版を用いて、所定形状の第一の開
口部430、第二の開口部440をもつレジストパター
ン420A、420Bを形成する。(図4(a)) 第一の開口部430は、後のエッチング加工において外
部端子部の形状を形成するとともに、インナーリード形
成領域におけるリードフレーム素材410をこの開口部
からベタ状にリードフレーム素材よりも薄肉に腐蝕する
ためのもので、レジストの第二の開口部440は、イン
ナーリード部および外部端子部の形状を形成するための
ものである。次いで、液温50°C、濃度46ボーメの
塩化第二鉄溶液を用いて、スプレー圧2.5kg/cm
2 にて、レジストパターンが形成されたリードフレーム
素材410の両面をエッチングし、ベタ状(平坦状)に
腐蝕された第一の凹部450の深さhがリードフレーム
部材の1/2に達した時点でエッチングを止める。(図
4(b)) 上記第1回目のエッチングにおいては、リードフレーム
素材410の両面から同時にエッチングを行ったが、必
ずしも両面から同時にエッチングする必要はない。少な
くとも、インナーリード部形状を形成するための、所定
形状の開口部をもつレジストパターン420Bが形成さ
れた面側から腐蝕液によるエッチング加工を行い、腐蝕
されたインナーリード部形成領域において、所定量エッ
チング加工し止めることができれば良い。次いで、第一
の開口部430側の腐蝕された第一の凹部450にエッ
チング抵抗層480としての耐エッチング性のあるホッ
トメルト型ワックスを、ダイコータを用いて、塗布し、
ベタ状(平坦状)に腐蝕された第一の凹部450に埋め
込んだ。レジストパターン420A上も該エッチング抵
抗層480に塗布された状態とする。(図4(c)) エッチング抵抗層480を、レジストパターン420A
上全面に塗布する必要はないが、第一の凹部450を含
む一部にのみ塗布することは難しい為に、図4(c)に
示すように、第一の凹部450とともに、第一の開口部
430側全面にエッチング抵抗層480を塗布する。使
用するエッチング抵抗層480は、アルカリ溶解型のワ
ックスであるが、基本的にエッチング液に耐性があり、
エッチング時にある程度の柔軟性のあるものが、好まし
く、特に、上記ワックスに限定されず、UV硬化型のも
のでも良い。このようにエッチング抵抗層480をイン
ナーリード先端部の形状を形成するためのパターンが形
成された面側の腐蝕された第一の凹部450に埋め込む
ことにより、後工程でのエッチング時に第一の凹部45
0が腐蝕されて大きくならないようにしているととも
に、高精細なエッチング加工に対しての機械的な強度補
強をしており、スプレー圧を高く(2.5kg/cm2
以上)とすることができ、これによりエッチングが深さ
方向に進行し易くなる。この後、第2回目のエッチング
を行い、凹状に腐蝕された第二の凹部460形成面側か
らリードフレーム素材410をエッチングし、貫通さ
せ、インナーリード112および外部端子部113を形
成する。(図4(d)) 第1回目のエッチング加工にて作製された、エッチング
形成面470は平坦であるが、この面を挟む2面はイン
ナーリード側にへこんだ凹状である。次いで、洗浄、エ
ッチング抵抗層480の除去、レジスト膜(レジストパ
ターン420A、420B)の除去を行い、インナーリ
ード112および外部端子部113が加工された図1
(a)に示すリードフレーム110を得る。エッチング
抵抗層480とレジスト膜(レジストパターン420
A、420B)の除去は水酸化ナトリウム水溶液により
溶解除去する。上記図4に示すエッチング加工方法は、
エッチングを2段階に分けて行うため、一般には2段エ
ッチング方法と呼ばれており、加工精度上では有利な加
工方法であるが、図4に示す方法の場合は、リードフレ
ーム素材を薄くしながら外形加工をする方法が採られ、
更に、微細加工を可能にしている。また、図4(e)に
示すt0 に対するtの割合を変えることにより、平坦性
の良い所望のインナーリード幅W1、インナーリードピ
ッチpを得ることができる。尚、図4に示す加工方法
は、本実施例に用いられるリードフレームの製造方法の
1例であり、これに限定されない。
【0028】次に、本発明の表面実装型半導体装置の実
施例を挙げる。図3(a)は、本実施例の表面実装型半
導体装置の概略断面図で、図3(b)は図3(a)のA
1方向からみた概略図である。尚、図3においては、分
かりやすくするため、図3(a)と図3(b)のサイズ
は変えてあり、且つ図3(a)は外部端子の数を減らし
て示してある。図3中、200は半導体装置、110A
はリードフレーム、111はダイパッド、111Sはリ
ードフレーム素材面、112インナーリード、112A
はインナーリード先端部、112Sはリードフレーム素
材面、113は外部端子部、115は連結部(リードな
いし配線部とも言う)、120は固定用テープ、140
は半導体素子、141は端子(パッド)、150はボン
ディングワイヤ、170は封止用樹脂、180は外部電
極である。本実施例の半導体装置は、上記実施例のリー
ドフレーム部材100を用い、図11に示す工程(図1
1(c)〜図11(h)の工程)にて作製されたBGA
タイプの樹脂封止型半導体装置である。
【0029】リードフレーム110Aは、半導体素子を
搭載するための略四角形のダイパッド111と、半導体
素子の端子(パッド)にボンデイングワイヤにて電気的
に接続するためのインナーリード112と、該インナー
リード112に一体的に連結して外部回路と電気的接続
を行うための外部端子部113と、外部端子部113な
いしダイパッド111と製作工程で除去された外枠部と
を一体的に接続する連結部(リード)115とを略平面
的に設け、外部端子部113をリードフレーム素材の厚
さで、ダイパッドの辺に沿いほぼ全周にわたり所定のピ
ッチ間隔で二次元的に配列し、インナーリード112と
連結部(リード)115の同じ側の一方の面をリードフ
レーム素材面としてリードフレーム素材の厚さよりも薄
肉に形成し、ダイパッド111をリードフレーム素材の
厚さで形成している。
【0030】固定用テープ120は、外部端子部113
が設けられていない領域の、ダイパッド111の周辺の
全インナーリード112の素材面側でない面にて、その
部分の厚さが略リードフレーム素材の厚さ以下となるよ
うに、インナーリード先端部を跨ぎ連結するように、貼
り付けられている。そして、固定用テープ120は、ダ
イパッド111の辺部に対応する辺部領域では辺部に沿
い、外部端子部領域にかからない領域内に設けられ、ダ
イパッド111のコーナー部周辺の領域では辺部領域に
設けられた固定用テープの辺部からの延長領域よりさら
に外側まで突出するように広げて設けられている。尚、
外部端子部領域もこれに合わせ作成されている。
【0031】半導体素子140は、インナーリード11
2のリードフレーム素材面側のダイパッド111上に搭
載され、インナーリード112のリードフレーム素材面
とボンディングワイヤ150にて電気的に接続されてい
る。そして、外部端子部113の外側面を封止用樹脂の
外側面に合わせ、該外部端子部113の外側面上に設け
た半田ボールからなる外部電極180を外部に突出させ
るようにして、リードフレームの両側から、半導体素子
140全体とリードフレーム部110Aを封止用樹脂1
70にて樹脂封止している。
【0032】
【効果】本発明は、上記のように、一層の多端子化、高
密度化に対応でき、構造も簡単なリードフレームをコア
材としたBGAタイプの樹脂封止型の表面実装型半導体
装置で、特に、樹脂封止過程に於けるインナーリード間
や連結部(リード)の樹脂封止圧による変形や接触不良
が起こりにくい半導体装置の提供を可能としている。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例のリードフレーム部材の概略図
【図2】固定用テープと外部端子部の位置関係を示した
【図3】実施例の表面実装型半導体装置の概略図
【図4】リードフレームの作製方法を説明するための図
【図5】従来のBGAを説明するための図
【図6】従来のリードフレームをコア材としたBGAを
説明するための図
【図7】従来のリードフレームの製造方法
【図8】従来のリードフレームをコア材としたBGAを
説明するための図
【図9】リードフレームを説明するための図
【図10】固定用テープと外部端子部の位置関係を示し
た図
【図11】従来のリードフレームをコア材としたBGA
の作製工程図
【図12】従来の樹脂封止型半導体装置と単層リードフ
レームを説明するための図
【符号の説明】
100 リードフレーム部材 110、110A リードフレーム 111 ダイパッド 111A 辺 111S、112S リードフレーム素材面 112 インナーリード 112A インナーリード先端部 113 外部端子部 114 外枠部 115 連結部(リードないし
配線部とも言う) 120 固定用テープ 121 突出部 122 辺部 130 保持基板 140 半導体素子 141 端子(バンプ) 150 ボンディングワイヤ 170 封止用樹脂 180 外部電極 200 半導体装置 410 リードフレーム素材 420A、420B レジストパターン 430 第一の開口部 440 第二の開口部 450 第一の凹部 460 第二の凹部 470 平坦状面 480 エッチング抵抗層 501 半導体素子 502 基材 503 モールドレジン 504、504A 配線 505 ダイパッド 508 ボンデイングワイヤ 506 外部接続端子 518 めっき部 550 スルーホール 551 熱伝導ビア 600、600A 半導体装置 610 リードフレーム 611 ダイパッド 612 インナーリード 614 外部端子部 620 半導体素子 621 半導体素子の端子 640 封止用樹脂 650 外部端子電極(半田ボ
ール) 660 絶縁フィルム 710 リードフレーム素材 720 フオトレジスト 730 レジストパターン 740 インナーリード 800 表面実装型半導体装置 810 リードフレーム 811 ダイパッド 811S リードフレーム素材面 812 インナーリード 812A インナーリード先端部 812S リードフレーム素材面 813 外部端子部 814 外枠部 815 連結部(リードないし
配線部とも言う) 820 固定用テープ 822 辺部 830 保持基板 840 半導体素子 841 端子(パッド) 850 ボンディングワイヤ 860 金型 861 キヤビティー 870 封止用樹脂 880 外部電極 1200 半導体装置 1210 (単層)リードフレーム 1211 ダイパッド 1212 インナーリード 1212A インナーリード先端部 1213 アウターリード 1214 ダムバー 1215 フレーム(枠)部 1220 半導体素子 1221 電極部(パッド) 1230 ワイヤ 1240 封止樹脂

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくともエッチングにより外形加工さ
    れたリードフレームと、リードフレームのインナーリー
    ド先端部を固定するための固定用テープと、リードフレ
    ームの一面を保持する保持基板とを有するBGAタイプ
    の樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材であっ
    て、リードフレームは、半導体素子を搭載するための略
    四角形のダイパッドと、半導体素子の端子にボンデイン
    グワイヤにて電気的に接続するためのインナーリード
    と、該インナーリードに一体的に連結して外部回路と電
    気的接続を行うための外部端子部と、リードフレーム全
    体を固定し、樹脂封止の際のダムバーとなるダイパッド
    の各辺に平行に沿う四辺をもつ四角形状の外枠部と、外
    部端子部ないしダイパッドと外枠部とを一体的に接続す
    る連結部とを略平面的に設け、外部端子部をリードフレ
    ーム素材の厚さで、ダイパッドの辺に沿いほぼ全周にわ
    たり所定のピッチ間隔で二次元的に配列し、インナーリ
    ードと連結部の同じ側の一方の面をリードフレーム素材
    面としてリードフレーム素材の厚さよりも薄肉に形成
    し、ダイパッドおよび外枠部をリードフレーム素材の厚
    さで形成しており、固定用テープは、外部端子部が設け
    られていない領域の、ダイパッドの周辺の全インナーリ
    ードの素材面側でない面にて、その部分の厚さが略リー
    ドフレーム素材の厚さ以下となるように、インナーリー
    ド先端部を跨ぎ連結するように貼りつけられており、保
    持基板は、リードフレームの、固定用テープを貼り付け
    た側全体を覆うように、ダイパッド、外部端子部、外枠
    部のリードフレーム素材面および固定用テープの一面に
    接着材を介して貼り付けられており、且つ、固定用テー
    プは、ダイパッドの辺部に対応する辺部領域では辺部に
    沿い、外部端子部領域にかからない領域内に設けられ、
    ダイパッドのコーナー部周辺の領域では辺部領域に設け
    られた固定用テープからの延長領域よりさらに外側まで
    突出するように広げて設けられ、外部端子領域もこれに
    合わせ作成されていることを特徴とするリードフレーム
    部材。
  2. 【請求項2】 請求項1において、保持基板は、基材が
    ポリイミドで、接着剤がエポキシ系接着剤であり、加熱
    圧着されリードフレームおよびまたは固定用テープに貼
    り付けられることを特徴とするリードフレーム部材。
  3. 【請求項3】 リードフレームを用いたBGAタイプの
    樹脂封止型半導体装置であって、リードフレームは、半
    導体素子を搭載するための略四角形のダイパッドと、半
    導体素子の端子にボンデイングワイヤにて電気的に接続
    するためのインナーリードと、該インナーリードに一体
    的に連結して外部回路と電気的接続を行うための外部端
    子部と、外部端子部ないしダイパッドと作製過程で除去
    された外枠部とを一体的に接続するための連結部とを略
    平面的に設け、外部端子部をリードフレーム素材の厚さ
    で、ダイパッドの辺に沿いほぼ全周にわたり所定のピッ
    チ間隔で二次元的に配列し、インナーリードと連結部の
    同じ側の一方の面をリードフレーム素材面としてリード
    フレーム素材の厚さよりも薄肉に形成し、ダイパッドを
    リードフレーム素材の厚さで形成しており、外部端子部
    が設けられていない領域の、ダイパッドの周辺の全イン
    ナーリードの素材面側でない面にて、その部分の厚さが
    略リードフレーム素材の厚さ以下となるように、インナ
    ーリード先端部を跨ぎ連結するように固定用テープを貼
    り付けており、半導体素子は、インナーリードのリード
    フレーム素材面側のダイパッド上に搭載され、インナー
    リードのリードフレーム素材面とボンディングワイヤに
    て電気的に接続されており、且つ、外部端子の外側面を
    封止用樹脂の外側面に合わせ、該外部端子の外側面上に
    設けた半田ボールからなる外部電極を外部に突出させる
    ようにして、リードフレームの両側から、半導体素子全
    体とリードフレーム部を樹脂封止しており、且つ、固定
    用テープは、ダイパッドの辺部に対応する辺部領域では
    辺部に沿い、外部端子部領域にかからない領域内に設け
    られ、ダイパッドのコーナー部周辺の領域では辺部領域
    に設けられた固定用テープからの延長領域よりさらに外
    側まで突出するように広げて設けられ、外部端子領域も
    これに合わせ作成されていることを特徴とする表面実装
    型半導体装置。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH11345895A (ja) * 1998-06-01 1999-12-14 Matsushita Electron Corp 半導体装置、リードフレーム、及びそれらの製造方法
JP2002110890A (ja) * 2000-10-05 2002-04-12 Nitto Denko Corp 半導体装置の製造方法及びそれに用いるリードフレーム積層物
US6410979B2 (en) 1998-12-21 2002-06-25 Nec Corporation Ball-grid-array semiconductor device with protruding terminals
JP2007142124A (ja) * 2005-11-18 2007-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
CN100399557C (zh) * 2005-08-17 2008-07-02 南茂科技股份有限公司 用于半导体封装的柔性基板和带载封装结构

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11345895A (ja) * 1998-06-01 1999-12-14 Matsushita Electron Corp 半導体装置、リードフレーム、及びそれらの製造方法
US6410979B2 (en) 1998-12-21 2002-06-25 Nec Corporation Ball-grid-array semiconductor device with protruding terminals
JP2002110890A (ja) * 2000-10-05 2002-04-12 Nitto Denko Corp 半導体装置の製造方法及びそれに用いるリードフレーム積層物
CN100399557C (zh) * 2005-08-17 2008-07-02 南茂科技股份有限公司 用于半导体封装的柔性基板和带载封装结构
JP2007142124A (ja) * 2005-11-18 2007-06-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体装置およびその製造方法

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