JP4351327B2 - リードフレーム部材とそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびリードフレーム部材の製造方法 - Google Patents

リードフレーム部材とそれを用いた樹脂封止型半導体装置およびリードフレーム部材の製造方法 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体素子を搭載した樹脂封止型の半導体装置に用いられるリードフレーム部材と、これを製造するための方法、および、このリードフレーム部材を用いた樹脂封止型半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、半導体装置は、高集積化や小型化技術の進歩、電子機器の高性能化と軽薄短小化の傾向から、LSIのASICに代表されるように、ますます高集積化、高機能化が進んできている。このように高集積化、高機能化された半導体装置においては、外部端子(ピン)の総和の増加や更なる多端子(ピン)化が要請されている。
【0003】
上記のような多端子(ピン)化の要請に応えるものとして、多端子(ピン)IC、特にゲートアレイやスタンダードセルに体表されるASIC、あるいは、マイコン、DSP(Digital Signal Processor)等の半導体装置の製造においてリードフレーム部材を用いたものがある。具体的には、QFP(Quad Flat Package)等の表面実装型パッケージがあり、QFPでは、300ピンクラスのものまで実用化されている。リードフレーム部材の外形加工は、スタンピング法、あるいは、比較的高精細なものではフォトリソグラフィー技術を用いたエッチング加工方法により行われており、QFPでは、外部端子(アウターリード)ピッチを狭めることにより、パッケージサイズを大きくすることなく多端子化に対応してきた。
【0004】
しかし、上記のエッチング加工方法の場合、アウターリードの板厚の薄肉化と狭ピッチ化に伴って、アウターリード自体が薄く幅が細くなり、強度が低下するため、フォーミング等の後工程におけるアウターリードのスキュー対応や平坦性維持が困難となり、実装に際しては、パッケージ搭載精度維持が難しくなるという問題があった。
【0005】
これに対して、リードフレーム素材の板厚は薄くせずに、2段エッチング加工方法を用いパターン形状を工夫して、内部端子(インナーリード)を部分的に薄くしながら外形加工を行うことにより、インナーリードの狭ピッチ化を達成して多端子化に対応することが行われている。
【0006】
しかし、このようなリードフレーム部材では、半導体素子の端子とインナーリードとのワイヤボンディングの際に、薄肉部の機械的強度不足により、キャピラリに引っ張られ(以降、この現象を跳ね上がりという)、薄肉部が変形するという問題がある。この跳ね上がりを防止するために、インナーリードの先端間を絶縁性のテープで固定することが行われている。
【0007】
一方、高集積化、高機能化された半導体装置においては、信号の高速処理を行うことにより半導体素子の発熱が無視できない状況となってきている。このため、ヒートスラグ、ヒートスプレッダと称される放熱板を接着テープを介してインナーリードの薄肉部に接合したタイプのリードフレーム部材が使用されている。このような放熱板の接合においても、インナーリード先端部の薄肉部は機械的強度が弱く変形しやすいため、インナーリードの先端間を絶縁性のテープで固定することが必要となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように各インナーリードを絶縁性のテープで固定する場合、あるいは、インナーリードに放熱板を接合するためのテープで固定する場合、テープ貼付け機の機械的精度から、インナーリードの先端部にテープ端部を一致させて貼り付けることが困難であり、実際には、テープの内側端部からインナーリードが0.2mm以上突出したものとなっていた。しかし、このように僅かでもインナーリードが突出していると、ハンドリング時にインナーリードの変形が生じやすく、半導体装置の組み立て工程での歩留まりが低下するという問題があった。
【0009】
また、インナーリード先端を連結した状態でリードフレームを作製し、インナーリード先端部(上記の連結部も含む)に予め固定用のテープを貼り付けた後、上記の連結部を固定用のテープとともに打ち抜くことにより、インナーリード最先端を確実に固定する方法も提案されている。しかし、金属材料単独で打ち抜く場合に比べて、テープと同時に金属材料を打ち抜く場合、打ち抜き刃のギャップ、応力の影響により、切断面から金属カスが発生しやすく、この金属カスがテープに付着して、後にインナーリード間の短絡を生じさせるという問題があった。
【0010】
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、インナーリードの狭ピッチ化への対応が可能なリードフレーム部材、さらに、高放熱特性を備えたリードフレーム部材と、このようなリードフレーム部材を安定して製造できる製造方法、および、多ピン化への対応が可能で、また、半導体素子の放熱性に優れた樹脂封止型半導体装置を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、リードフレーム部材の第1の発明は、樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材において、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、前記外枠部材から接続リードを介して配設されたダイパッドと、前記インナーリードの一方の面に各インナーリードを非接触で連結するように固着された電気絶縁性の固定テープとを備え、前記インナーリードは先端部側がリードフレームの定厚部よりも薄い薄肉部であり、かつ、該薄肉部の先端から突出した細幅部を有し、該細幅部の幅が前記薄肉部の先端の幅よりも小さく、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも小さく、前記固定テープは前記細幅部を含むインナーリード先端部側に固着され、かつ、前記固定テープの内側端部と前記細幅部の先端とが一致しているような構成とした。
【0012】
樹脂封止型半導体装置の第1の発明は、上記のリードフレーム部材のダイパッド上に半導体素子を搭載し、該半導体素子の端子部とインナーリードとをワイヤにて電気的に接続し、少なくともアウターリードを外部に露出させるように全体を樹脂封止した状態でリードフレーム部材の外枠部材を除去したような構成とした。
【0013】
リードフレーム部材の製造方法の第1の発明は、(A)導電性基材をエッチングして、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、インナーリードの先端部側の一部にリードフレームの定厚部よりも薄くなるように設けられた薄肉部と、インナーリードの先端部から突出し該先端部の幅よりも小さい幅をもち、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも幅が小さい細幅部と、前記外枠部材に接続リードを介して保持されたダイパッドと、を備えた外形加工部材を作成する第1の工程と、(B)前記外形加工部材のインナーリードの少なくとも薄肉部の一方の面に前記細幅部も覆うように電気絶縁性の固定テープを固着し、その後、前記細幅部においてインナーリードと固定テープとをプレスにて同時に打ち抜いて前記細幅部の先端側を固定テープの一部とともに除去することにより、各リードフレームのインナーリードの先端部を電気的に非接触の状態で前記固定テープにより連結する第2の工程と、を備えるような構成とした。
【0014】
また、上記第1の工程において作成する外形加工部材は、前記細幅部の先端が前記ダイパッドに連結されているような構成とした。
【0015】
リードフレーム部材の第2の発明は、樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材において、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、絶縁性の接合部材を介して前記複数のインナーリードの一方の面に接合された放熱板とを備え、前記インナーリードは先端部側がリードフレームの定厚部よりも薄い薄肉部であり、かつ、該薄肉部の先端から突出した細幅部を有し、該細幅部の幅が前記薄肉部の先端の幅よりも小さく、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも小さく、前記接合部材は前記細幅部を含む少なくともインナーリード先端部側に固着され、かつ、前記接合部材の内側端部と前記細幅部の先端とが一致しているような構成とした。
【0016】
リードフレーム部材の第3の発明は、樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材において、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、絶縁性の接合部材を介して前記複数のインナーリードの一方の面に接合された放熱板とを備え、前記インナーリードは先端部側がリードフレームの定厚部よりも薄い薄肉部であり、かつ、該薄肉部の先端から突出した細幅部を有し、該細幅部の幅が前記薄肉部の先端の幅よりも小さく、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも小さく、前記インナーリードの薄肉部であって放熱板が接合された面と反対側の面に、各インナーリードを非接触で連結するように固定テープが固着され、該固定テープは前記細幅部を含むインナーリード先端部側に固着され、かつ、前記固定テープの内側端部と前記細幅部の先端とが一致しているような構成とした。
【0017】
また、上記第2、第3の発明において、前記放熱板は前記インナーリードの薄肉部と定厚部とに亘って接合されているような構成、前記放熱板は、銅材、表面の少なくとも一部に黒化処理または無電解銅めっき処理が施された銅材、アルミニウム材、および、表面の少なくとも一部に陽極酸化処理が施されたアルミニウム材のなかの1種であるような構成とした。
【0018】
樹脂封止型半導体装置の第2の発明は、上記第2または第3の発明のリードフレーム部材の放熱板上に半導体素子を搭載し、該半導体素子の端子部とインナーリードとをワイヤにて電気的に接続し、少なくともアウターリードを外部に露出させるように全体を樹脂封止した状態でリードフレーム部材の外枠部材を除去したような構成とした。
【0019】
また、放熱板の半導体素子搭載面と反対側の面を外部に露出させるように樹脂封止したような構成とした。
【0020】
リードフレーム部材の製造方法の第2の発明は、(A)導電性基材をエッチングして、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、インナーリードの先端部側の一部にリードフレームの定厚部よりも薄くなるように設けられた薄肉部と、該薄肉部の先端から突出し該先端の幅よりも小さい幅をもち、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも幅が小さい細幅部と、各インナーリードの細幅部を連結保持する保持部材と、を備えた外形加工部材を作成する第1の工程と、(B)前記外形加工部材のインナーリードの少なくとも薄肉部の一方の面に前記細幅部を覆うように電気絶縁性の接合部材を固着し、その後、前記細幅部においてインナーリードと接合部材とをプレスにて同時に打ち抜いて前記保持部材を除去することにより、各リードフレームのインナーリードの先端部を電気的に非接触の状態で前記接合部材により連結する第2の工程と、(C)前記インナーリードに前記接合部材を介して放熱板を接合し、その後、前記接着層を硬化させる第3の工程と、を備えるような構成とした。
【0021】
リードフレーム部材の製造方法の第3の発明は、(A)導電性基材をエッチングして、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、インナーリードの先端部側の一部にリードフレームの定厚部よりも薄くなるように設けられた薄肉部と、該薄肉部の先端から突出し該先端の幅よりも小さい幅をもち、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも幅が小さい細幅部と、各インナーリードの細幅部を連結保持する保持部材と、を備えた外形加工部材を作成する第1の工程と、(B)前記外形加工部材のインナーリードの少なくとも薄肉部の一方の面に前記細幅部を覆うように固定テープを固着し、その後、前記細幅部においてインナーリードと固定テープとをプレスにて同時に打ち抜いて前記保持部材を除去することにより、各リードフレームのインナーリードの先端部を電気的に非接触の状態で前記固定レープにより連結する第2の工程と、(C)前記インナーリードの少なくとも薄肉部の前記固定テープが配設されていない面に、電気絶縁性の接着剤を介して放熱板を接合する第3の工程と、を備えるような構成とした。
【0022】
このような本発明では、各リードフレームのインナーリードの先端側の薄肉部、および、この薄肉部先端から突出する細幅部に、電気絶縁性の固定テープ、あるいは、放熱板を接合するための接合部材が固着され、上記の細幅部において、インナーリードと固定テープとを、また、インナーリードと接合部材とを、プレスにて同時に打ち抜くので、インナーリード先端が固定テープ、接合部材とにより確実に固定され、また、打ち抜き時に発生する金属カスは、幅が隣接するインナーリード間の距離よりも小さい上記の細幅部のみであり、この金属カスによるインナーリード間の短絡は発生しない。また、インナーリードがその細幅部の先端部まで固定テープあるいは接合部材により連結され、ハンドリング時のインナーリードの変形が防止される。
【0023】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。
【0024】
リードフレーム部材の第1の発明
図1はリードフレーム部材の第1の発明の一実施形態を示す平面図、図2は図1に示されるリードフレーム部材の部分拡大平面図、図3は図1に示されるリードフレーム部材のA−A線における概略断面図である。
【0025】
図1乃至図3において、本発明のリードフレーム部材1は、外枠部材2と、複数のリードフレーム3と、外枠部材2から接続リード8を介して配設されたダイパッド7と、固定テープ9とを備えている。
【0026】
外枠部材2は、外形形状および内側開口形状が矩形であり、各リードフレーム3は外枠部材2の内側開口の各辺から同一平面内に突設されている。
【0027】
リードフレーム3は、外枠部材2から内側開口内に突設されたアウターリード4と、このアウターリード4の先端部に延設されたインナーリード5とからなる。図示例では、各アウターリード4はダムバー3aで相互に接続固定されている。インナーリード5は、その先端部側に薄肉部5aが形成され、インナーリード5のアウターリード側には定厚部5bが形成され、さらに、薄肉部5aの先端から細幅部5cが突出している。そして、この細幅部5cの先端は、固定テープ9の内側端部9aと一致しており、インナーリード5の先端が固定テープ9により確実に固定された構造となっている。これにより、後工程におけるハンドリング時のインナーリード5の変形が防止される。
【0028】
上記の薄肉部5aは、リードフレーム部材1の薄肉部5a以外の部位(素材である導電性基材の厚みを有する部位=定厚部5b)よりも薄いものである。上記の薄肉部5aの厚みは30〜100μmの範囲で設定し、定厚部5bの厚みは100〜250μmの範囲で設定し、薄肉部5aの厚みを定厚部5bの厚みの20〜40%の範囲内とすることが好ましい。さらに、細幅部5cは、その幅L1が、隣接するインナーリード5間の距離L2よりも小さいものであり、通常、幅L1は20〜50μmの範囲内で設定できる。この細幅部5cの厚みは、薄肉部5aと同じに設定することができる。また、インナーリード5の幅は60〜150μmの範囲内、隣接するインナーリード5間の距離L2は50〜150μmの範囲内、各インナーリード5の先端部のピッチは120〜180μmの範囲内で設定することができる。
【0029】
また、図示例では、薄肉部5aの切欠き部位側(図3の上側)のワイヤボンディング領域には銀めっき層6が形成されている。尚、銀めっき層6の代わりに金めっき層やパラジウムめっき層等を設けてもよい。
【0030】
ダイパッド7は、外形形状が矩形であり、その四隅において接着リード8を介して外枠部材2に保持され、外枠部材2の内側開口内に配設されている。
【0031】
上記のような外枠部材2、複数のリードフレーム3、ダイパッド7、接続リード8の材質は、42合金(Ni41%のFe合金)、銅、銅合金等とすることができる。
【0032】
固定テープ9は、インナーリード5の薄肉部5aのワイヤボンディング領域側および細幅部5cに固着され、各インナーリード5を非接触の状態で連結保持するものである。この固定テープ9は、絶縁性のベース基材と、その一方の面に接着層を備えたものである。接着層は熱硬化性接着剤を用いたものとすることができ、接着層に予め熱処理を施したり、接着層の厚みを5〜15μmの範囲内に設定したり、接着層の厚みを5〜15μmの範囲内に設定し、かつ、接着層に予め熱処理を施して、インナーリードへの固着を行うことが好ましい。これにより、圧着時の圧力によって接着剤がインナーリード5間からはみ出してインナーリード裏面にまで達することが防止される。上記の熱硬化性接着剤としては、(株)巴川製紙所製RXF、HG−5200、日本プレディ社製ALT等を挙げることができる。また、このような熱硬化性接着剤を用いた固定テープとして、(株)巴川製紙所製R722等を挙げることができる。
【0033】
図示例では、固定テープ9はインナーリード5の薄肉部5aに直接固着され、この固定テープ9よりも外側に銀めっき層6が形成されているが、薄肉部5aのワイヤボンディング領域に形成された銀めっき層6上の一部に固定テープ9を固着してもよい。
【0034】
上述のような本発明のリードフレーム部材1は、樹脂封止型半導体装置製造の際の樹脂封止領域の少なくとも一部にパラジウムめっき層を備えるものでもよい。この場合、リードフレーム部材の素材としての導電性基材の表面に粗面化処理を施し、その上にパラジウムめっき層を形成することが好ましい。上記の粗面化処理は、導電性基材の表面を有機酸系等のエッチング液で腐食して微細凹凸を形成する化学研磨処理が挙げられるが、これに限定されるものではない。また、リードフレーム部材の素材が銅、銅合金である場合、ニッケルめっき層を介してパラジウムめっき層を形成してもよい。このようにパラジウムめっき層を設けることにより、封止樹脂材料が直接にリードフレーム部材の素材に接する場合と比べ、密着性が大幅に向上する。
【0035】
本発明のリードフレーム部材1では、図4に示されるように、固定テープ9を、インナーリード5の薄肉部5aおよび細幅部5cのワイヤボンディング領域側に固着するのみではなく、ダイパッド7を保持する4本の接続リード8にも固着してもよい。このような形態とすることにより、ダイパッド7も安定に保持され、樹脂封止型半導体装置製造の際の半導体素子の搭載精度等が向上する。
【0036】
図5は、リードフレーム部材の第1の発明の他の実施形態を示す図3相当の概略断面図である。図5において、本発明のリードフレーム部材1′は、外枠部材2と、複数のリードフレーム3と、外枠部材2から接続リード8を介して配設されたダイパッド7と、固定テープ9とを備えている。リードフレーム3は、外枠部材2から内側開口内に突設されたアウターリード4と、このアウターリード4の先端部に延設されたインナーリード5とからなり、インナーリード5の先端部側には薄肉部5aが形成され、インナーリード5のアウターリード側には定厚部5bが形成されている。さらに、薄肉部5aの先端から細幅部5cが突出している。また、各インナーリード5の薄肉部5aの切欠き部位の反対側(図5の上側)のワイヤボンディング領域には銀めっき層6が形成され、その内側には固定テープ9が固着され、各インナーリード5を非接触の状態で連結保持している。固定テープ9はインナーリード5の薄肉部5aと細幅部5cに直接固着され、固定テープ9の内側端部と細幅部5cの先端とが一致している。図示例では、固定テープ9よりも外側に銀めっき層6が形成されているが、薄肉部5aのワイヤボンディング領域に形成された銀めっき層6上の一部に固定テープ9を固着してもよい。
【0037】
また、図6は、リードフレーム部材の第1の発明の他の実施形態を示す図3相当の概略断面図である。図6において、本発明のリードフレーム部材1″は、外枠部材2と、複数のリードフレーム3と、外枠部材2から接続リード8を介して配設されたダイパッド7と、固定テープ9とを備えている。リードフレーム3は、外枠部材2から内側開口内に突設されたアウターリード4と、このアウターリード4の先端部に延設されたインナーリード5とからなる。インナーリード5の先端部側には薄肉部5aが形成され、インナーリード5のアウターリード側には定厚部5bが形成され、さらに、薄肉部5aの先端から細幅部5cが突出している。また、各インナーリード5の薄肉部5aの切欠き部位側(図6の上側)のワイヤボンディング領域には銀めっき層6が形成され、薄肉部5aの反対側には固定テープ9が固着され、各インナーリード5を非接触の状態で連結保持している。
【0038】
上述のリードフレーム部材1′,1″においても、リードフレーム部材1と同様に、樹脂封止型半導体装置製造の際の樹脂封止領域の少なくとも一部にパラジウムめっき層を備えるものでもよい。
【0039】
また、リードフレーム部材1′,1″においても、リードフレーム部材1と同様に、固定テープ9を、インナーリード5の薄肉部5aと細幅部5cのワイヤボンディング領域側に固着するのみではなく、ダイパッド7を保持する4本の接続リード8に固着してもよい。
【0040】
リードフレーム部材の製造方法の第1の発明
次に、本発明のリードフレーム部材の製造方法について説明する。
【0041】
図7は、図1乃至図3に示されるリードフレーム部材1を例としたリードフレーム部材の製造方法の第1の発明の一実施形態を示す工程図である。
【0042】
図7において、まず、第1の工程では、導電性基材11の表裏に感光性レジストを塗布、乾燥して感光性レジスト層を形成し、これを所定のフォトマスクを介して露光した後、現像してレジストパターン21A,21Bを形成する(図7(A))。導電性基材11としては、上述のような42合金(Ni41%のFe合金)、銅、銅合金等の金属基板(厚み100〜250μm)を使用することができ、この導電性基材11は、両面を脱脂等を行い洗浄処理したものを使用することが好ましい。また、感光性レジストとしては、従来公知のもの、例えば、重クロム酸カリウムを感光剤としたポリビニルアルコール水溶液からなるレジスト等を使用することができる。
【0043】
次に、レジストパターン21A,21Bを耐腐蝕膜として導電性基材11に腐蝕液でエッチングを行い、レジストパターン21A,21Bを除去することにより、外形加工部材11′を作製する(図7(B))。腐蝕液は、通常、塩化第二鉄水溶液(液温35〜80℃、比重35〜50ボーメ(例えば、導電性基材11が銅材の場合、液温45℃、比重40ボーメとし、42合金の場合、液温75℃、比重48ボーメとすることができる))を使用し、導電性基材11の両面からスプレーエッチング(スプレー圧2〜5kg/cm2 )にて行う。このエッチング工程におけるエッチング量を加減することにより、ハーフエッチング加工を行うことができる。また、腐蝕液のスプレー圧を高く(例えば、5kg/cm2)することにより、深さ方向のエッチングが進行しやすくなり、高精度なパターンエッチングがより容易となる。
【0044】
作製された外形加工部材11′は、後述する図8にも示されるように、外形形状および内側開口形状が矩形である外枠部材12と、外枠部材12の内側開口の各辺から同一平面内に突設されている複数のリードフレーム13と、外枠部材12に接続リード18を介して保持されたダイパッド17とを備えたものである。各リードフレーム13は、外枠部材12から内側開口内に突設されたアウターリード14と、このアウターリード14の先端部に延設されたインナーリード15とからなる。また、各リードフレーム13のインナーリード15は、その先端部側に薄肉部15aが形成され、インナーリード15のアウターリード側には定厚部15bが形成されている。さらに、薄肉部15aの先端から細幅部15cが突出している。
【0045】
次に、第2の工程として、外形加工部材11′のインナーリード15の薄肉部15aの一方の面(図示例では、ハーフエッチングされた切欠き部位側)に銀めっき層6を形成し、次いで、この銀めっき層6よりも内側の薄肉部15a上と細幅部15c上に固定テープ9を圧着して、各インナーリード15を電気的に非接触の状態で固定する(図7(C))。
【0046】
図8は、作製された外形加工部材11′の平面図であり、上記の図7(C)は図8のB−B線における概略断面図に相当する。また、図9は図8に示される外形加工部材11′の部分拡大平面図である。図8および図9に示されるように、外形加工部材11′において、薄肉部15aの先端から突出している各細幅部15cは、ダイパッド17の側端部に複数設けられている突出部17aの対応する個所に連結されている。本発明では、上記の細幅部15cの幅を、隣接するインナーリード15間の距離よりも小さく設定する。また、上記の薄肉部15aは、導電性基材11の薄肉部15a以外の部位(定厚部15b)よりも薄いものである。すなわち、各リードフレーム13に挟まれた部位は、表裏からのエッチングにより導電性基材が除去され、インナーリード15の薄肉部15a、細幅部15cおよびダイパッド17は、表からのエッチング(ハーフエッチング)により薄肉部として形成される。尚、図示例では、各アウターリード14はダムバー13aで相互に接続固定されている。
【0047】
固定テープ9は、図9に示されるように、細幅部15cを覆い、かつ、薄肉部15aとダイパッド17の突出部17aにかかるように固着されている。使用する固定テープ9は、電気絶縁性のベース基材の一方の面に接着層を設けたものを使用することができる。本発明では、このような固定テープ9の接着層を、熱硬化性接着剤からなり熱処理を施した状態、あるいは、熱硬化性接着剤からなり厚みを5〜15μmの範囲内に設定した状態、あるいは、熱硬化性接着剤からなり厚みを5〜15μmの範囲内に設定し熱処理を施した状態で、インナーリード15に圧着して配設することができる。
【0048】
次いで、図9の矢印aの部位と矢印bの部位の2箇所でプレスにて打ち抜きを行う。すなわち、矢印aの部位では、導電性材料11のみが打ち抜かれて、ダイパッド17と、その側端突出部17aとが分離される。また、矢印bの部位では、インナーリード15の細幅部15cと固定テープ9とが同時に打ち抜かれる。これにより、矢印aと矢印bとで挟まれる部位が除去される。このとき、導電性材料11のみの打ち抜きは、打ち抜き刃のギャップが狭いため、切断面から金属カスを発生することなく行なわれる。一方、細幅部15cと固定テープ9との同時打ち抜きは、厚みが大きいことにより打ち抜き刃のギャップが大きく、このため、応力の影響により切断面から金属カスが発生しやすいものとなる。しかし、本発明では、打ち抜き時に切断面から発生する金属カスは、最大のものでも細幅部15cの幅と同じ大きさであり、これは隣接するインナーリード間の距離よりも小さいので、この金属カスによるインナーリード間の短絡は防止される。
次に、固定テープ9の接着層を硬化させることにより、図1乃至図3に示されるような本発明のリードフレーム1を作製する(図7(D))。
また、本発明では、上記の第1の工程のエッチング工程において、2段エッチングを行って外形加工部材11′を作製してもよい。この2段エッチングによる外形加工部材11′の作製を、上記図8のB′−B′線における概略断面を示す図10を参照して説明する。
【0049】
2段エッチングでは、まず、導電性基材11の表裏に感光性レジストを塗布、乾燥して感光性レジスト層を形成し、これを所定のフォトマスクを介して露光した後、現像してレジストパターン21A,21Bを形成する(図10(A))。次に、レジストパターン21A,21Bを耐腐蝕膜として導電性基材11に腐蝕液で1回目のエッチングを行う。これにより、レジストパターン21Aを設けた導電性基材11の面には、薄肉部を形成するように凹部11aが形成され、一方、レジストパターン21Bを設けた導電性基材11の面には、各リードフレームを形成するための凹部11bが形成される(図10(B))。この1回目のエッチングでは、上記の凹部11aと凹部11bが貫通して孔部が形成される前の段階でエッチングを停止する。尚、腐蝕液のスプレー圧を高く(例えば、3.5kg/cm2 )することにより、深さ方向のエッチングが進行しやすくなり、高精細なパターンエッチングがより容易となる。
【0050】
次に、導電性基材11の凹部11aに耐エッチング性をもつ樹脂を埋め込むようにしてエッチング抵抗層22を形成し(図10(C))、腐蝕液で2回目のエッチングを行う。これにより、エッチング抵抗層22を形成した導電性基材11の面ではエッチングは進行せず、レジストパターン21Bを設けた導電性基材11の面において、凹部11bのエッチングが進行して、凹部11aと凹部11bが貫通して孔部が形成される(図10(D))。尚、腐蝕液のスプレー圧を高く(例えば、3.5kg/cm2 )することにより、深さ方向のエッチングが進行しやすくなり、高精細なパターンエッチングがより容易となる。
【0051】
その後、エッチング抵抗層22、レジストパターン21A,21Bを除去することにより、外形加工部材11′を作製する(図10(E))。
【0052】
リードフレーム部材の第2の発明
図11はリードフレーム部材の第2の発明の一実施形態を示す平面図、図12は図11に示されるリードフレーム部材の部分拡大平面図、図13は図11に示されるリードフレーム部材のC−C線における概略断面図である。
【0053】
図11乃至図13において、本発明のリードフレーム部材31は、外枠部材32と、複数のリードフレーム33と、接合部材38を介してリードフレーム33に接合された放熱板37とを備えている。
【0054】
外枠部材32は、外形形状および内側開口形状が矩形であり、各リードフレーム33は外枠部材32の内側開口の各辺から同一平面内に突設されている。
【0055】
リードフレーム33は、外枠部材32から内側開口内に突設されたアウターリード34と、このアウターリード34の先端部に延設されたインナーリード35とからなる。図示例では、各アウターリード34はダムバー33aで相互に接続固定されている。
【0056】
インナーリード35は、その先端部側に薄肉部35aが形成され、インナーリード35のアウターリード側には定厚部35bが形成されている。さらに、薄肉部35aの先端には細幅部35cが突出しており、細幅部35cの幅L1は、隣接するインナーリード35間の距離L2よりも小さいものである。この細幅部35cの先端は、接合部材38の内側端部38aと一致しており、インナーリード35の先端が接合部材38により確実に非接触の状態で連結固定された構造となっている。これにより、上記の放熱板37の接合段階や後工程におけるハンドリング時のインナーリード35の変形が防止される。上記の薄肉部35aは、リードフレーム部材31の薄肉部35a以外の部位(素材の導電性基材の厚みである部位=定厚部35b)よりも薄いものであり、細幅部35cは薄肉部35aと同じ厚みに設定されている。
【0057】
上記の薄肉部35aの厚み、定厚部35bの厚み、薄肉部35aの厚みと定厚部35bの厚みの比率、細幅部35cの幅L1、隣接するインナーリード35間の距離L2、各インナーリード35の先端部のピッチは、上述のリードフレーム部材1と同様の範囲で設定することができる。
【0058】
図示例では、薄肉部35aの切欠き部位側(図13の上側)のワイヤボンディング領域には銀めっき層36が形成されている。尚、銀めっき層36の代わりに金めっき層やパラジウムめっき層等を設けてもよい。
【0059】
上記のような外枠部材32、複数のリードフレーム33の材質は、42合金(Ni41%のFe合金)、銅、銅合金等とすることができる。
【0060】
放熱板37は、電気絶縁性の接合部材38を介して各インナーフレーム35の薄肉部35a、定厚部35bおよび細幅部35cとに亘って接合されている。放熱板37は、後述する樹脂封止型半導体装置において半導体素子における発熱を効果的に外部に逃がす作用を目的とし、また、同時に機械的強度の弱い薄肉部5aを補強する作用を目的としている。
【0061】
放熱板37としては、熱伝導度の高い金属を使用することができ、例えば、銅材、表面の少なくとも一部に黒化処理または無電解銅めっき処理が施された銅材、アルミニウム材、および、表面の少なくとも一部に陽極酸化処理が施されたアルミニウム材のなかの1種を用いることが好ましい。特に、黒化処理または無電解銅めっき処理が施された銅材、あるいは、陽極酸化処理が施されたアルミニウム材を用いることにより、樹脂封止型半導体装置の製造において封止部材との密着性が向上し、樹脂封止型半導体装置の信頼性を高めることができる。
【0062】
この放熱板37の厚みは、0.1〜0.25mmの範囲内で設定することが好ましく、また、後述するような放熱板が外部に露出している樹脂封止型半導体装置に用いる場合、放熱板37の厚みは樹脂封止型半導体装置のパッケージ厚の半分程度が好ましい。上述のようにインナーフレーム35の薄肉部35aと定厚部35bと細幅部35cとに亘って放熱板37を接合することにより、機械的強度の弱い薄肉部35aの補強がより有利になる。
【0063】
接合部材38は、少なくとも接着層を備えるものであり、通常、電気絶縁性のベースフィルムの両面に接着層を設けたものを使用することができる。このような接合部材38の接着層(電気絶縁性のベースフィルムの両面に接着層を設けたものでは、少なくともインナーリード35側に当接する接着層)を、熱硬化性接着剤からなり熱処理を施した状態でインナーリードに固着され更に硬化されたもの、あるいは、熱硬化性接着剤からなり厚みが5〜15μmの範囲内に設定された状態でインナーリードに固着され更に硬化されたものとすることが好ましい。これにより、圧着時の圧力により接着剤がインナーリード35の間からはみ出すことが防止され、圧着力を小さくしたり、接着温度を低くする必要がなく、高い強度で放熱板37を接合することできる。上記の熱硬化性接着剤としては、(株)巴川製紙所製RXF、HG−5200、日本ブレディ社製ALT等を挙げることができる。
【0064】
上述のような本発明のリードフレーム部材31においても、上述のリードフレーム部材1と同様に、樹脂封止型半導体装置製造の際の樹脂封止領域の少なくとも一部にパラジウムめっき層を備えるものでもよい。
【0065】
図14は、リードフレーム部材の第2の発明の他の実施形態を示す図13相当の概略断面図である。図14において、本発明のリードフレーム部材31′は、上述のリードフレーム部材31と基本構造は同じであり、放熱板37の接合領域が上記のリードフレーム部材31と異なる。すなわち、リードフレーム部材31′では、薄肉部35aのワイヤボンディング領域とは反対側の面に放熱板37が電気絶縁性の接合部材38を介して接合され、定厚部35bの領域には接合されていない。
【0066】
また、図15は、リードフレーム部材の第2の発明の他の実施形態を示す図13相当の概略断面図である。図15において、本発明のリードフレーム部材31″は、放熱板37の接合位置が上記のリードフレーム部材31と異なる。すなわち、リードフレーム部材31″では、薄肉部35aの切欠き部位側(ワイヤボンディング領域とは反対側)の面に放熱板37が電気絶縁性の接合部材38を介して接合されている。
【0067】
上述のリードフレーム部材31′,31″においても、リードフレーム部材31と同様に、樹脂封止型半導体装置製造の際の樹脂封止領域の少なくとも一部にパラジウムめっき層を備えるものでもよい。
【0068】
リードフレーム部材の製造方法の第2の発明
次に、本発明のリードフレーム部材の製造方法について説明する。
【0069】
図16は、図11乃至図13に示されるリードフレーム部材31を例としたリードフレーム部材の製造方法の第2の発明の一実施形態を示す工程図である。
【0070】
図16において、まず、第1の工程では、導電性基材51の表裏に感光性レジストを塗布、乾燥して感光性レジスト層を形成し、これを所定のフォトマスクを介して露光した後、現像してレジストパターン61A,61Bを形成する(図16(A))。導電性基材51としては、上述のような42合金(Ni41%のFe合金)、銅、銅合金等の金属基板(厚み100〜250μm)を使用することができ、この導電性基材51は、両面を脱脂等を行い洗浄処理したものを使用することが好ましい。また、感光性レジストとしては、従来公知のもの、例えば、重クロム酸カリウムを感光剤としたポリビニルアルコール水溶液からなるレジスト等を使用することができる。
【0071】
次に、レジストパターン61A,61Bを耐腐蝕膜として導電性基材51に腐蝕液でエッチングを行い、その後、レジストパターン61A,61Bを除去することにより、外形加工部材51′を作製する(図16(B))。腐蝕液は、通常、塩化第二鉄水溶液(液温35〜80℃、比重35〜50ボーメ(例えば、導電性基材31が銅材の場合、液温45℃、比重40ボーメとし、42合金の場合、液温75℃、比重48ボーメとすることができる))を使用し、導電性基材51の両面からスプレーエッチング(スプレー圧2〜5kg/cm2 )にて行う。このエッチング工程におけるエッチング量を加減することにより、ハーフエッチング加工を行うことができる。また、腐蝕液のスプレー圧を高く(例えば、5kg/cm2 )することにより、深さ方向のエッチングが進行しやすくなり、高精細なパターンエッチングがより容易となる。
【0072】
図17は、作製された外形加工部材51′の平面図であり、上記の図16(B)は図17のD−D線における概略断面図に相当する。また、図18は図17に示される外形加工部材51′の部分拡大平面図である。図16(B)と図17および図18に示されるように、外形加工部材51′は、外形形状および内側開口形状が矩形である外枠部材52と、外枠部材52の内側開口の各辺から同一平面内に突設されている複数のリードフレーム53と、保持部材57とを備えたものである。各リードフレーム53は、外枠部材52から内側開口内に突設されたアウターリード54と、このアウターリード54の先端部に延設されたインナーリード55とからなる。また、各リードフレーム53のインナーリード55は、その先端部側に薄肉部55aが形成され、インナーリード55のアウターリード側には定厚部55bが形成されている。さらに、薄肉部55aの先端から細幅部55cが突出しており、保持部材57は各インナリードの先端部(細幅部55c)を連結保持するように配設されている。本発明では、上記の細幅部55cの幅は、隣接するインナーリード55間の距離よりも小さく設定されている。また、上記の薄肉部55aは、導電性基材51の薄肉部55a以外の部位(定厚部55b)よりも薄いものである。すなわち、各リードフレーム53に挟まれた部位は、表裏からのエッチングにより導電性基材が除去され、インナーリード55の薄肉部55a、細幅部55cおよび保持部材57は、表からのエッチング(ハーフエッチング)により薄肉部として形成される。尚、図示例では、各アウターリード54はダムバー53aで相互に接続固定されている。
【0073】
次に、第2の工程として、外形加工部材51′のインナーリード55および保持部材57の一方の面(図示例では、ハーフエッチングされた切欠き部位側)に銀めっき層36を形成し、次いで、外形加工部材51′のインナーリード55の薄肉部55a、細幅部55cおよび保持部材57の銀めっき層36形成面とは反対側の面に接合部材38を圧着して配設する(図16(C))。この接合部材38は、少なくとも接着層を備えるものであり、通常、電気絶縁性のベースフィルムの両面に接着層を設けたものを使用することができる。このような接合部材38の接着層(電気絶縁性のベースフィルムの両面に接着層を設けたものでは、少なくともインナーリード55側に当接する接着層)を、熱硬化性接着剤からなり熱処理を施した状態、あるいは、熱硬化性接着剤からなり厚みが5〜15μmの範囲内に設定した状態で、インナーリード55および保持部材57の裏面に圧着して配設することが好ましい。
【0074】
次に、図16(C)および図18の矢印aで示される位置でプレスにてインナーリード55の細幅部55cと接合部材38とを同時に打ち抜くことにより、保持部材57をその表面に形成されている銀めっき層36、接合部材38とともに除去する。これにより、各リードフレーム53のインナーリード55先端部(細幅部55c)を電気的に非接触とする(図16(D))。この状態では、各インナーリード55の先端が接合部材38により非接触の状態で確実に連結固定されているので、後加工において薄肉部55aの機械的強度不足は問題とならない。また、本発明では、打ち抜き時に導電性材料51の切断面から発生する金属カスは、最大のものでも細幅部55cの幅と同じ大きさであり、これは隣接するインナーリード間の距離よりも小さいので、この金属カスによるインナーリード間の短絡は防止される。
【0075】
次いで、第3の工程として、各インナーリード55に接合部材38を介して放熱板37を接合し、その後、接合部材38の接着層を硬化させることにより、図11乃至図13に示されるような本発明のリードフレーム31を作製する(図16(E))。
【0076】
リードフレーム部材の第3の発明
図19はリードフレーム部材の第3の発明の一実施形態を示す平面図、図20は図19に示されるリードフレーム部材の部分拡大平面図、図21は図19に示されるリードフレーム部材のE−E線における概略断面図である。
【0077】
図19乃至図21において、本発明のリードフレーム部材41は、外枠部材42と、複数のリードフレーム43と、放熱板47と、固定テープ49とを備えている。
【0078】
外枠部材42は、上述のリードフレーム部材31の外枠部材32と同様に、外形形状および内側開口形状が矩形であり、各リードフレーム43は外枠部材42の内側開口の各辺から同一平面内に突設されている。
【0079】
リードフレーム43は、外枠部材42から内側開口内に突設されたアウターリード44と、このアウターリード44の先端部に延設されたインナーリード45とからなり、図示例では、各アウターリード44はダムバー43aで相互に接続固定されている。
【0080】
インナーリード45は、その先端部側に薄肉部45aが形成され、インナーリード45のアウターリード側には定厚部45bが形成されている。さらに、薄肉部45aの先端には細幅部45cが突出しており、細幅部45cの幅L1は、隣接するインナーリード45間の距離L2よりも小さいものである。この細幅部45cの先端は、固定テープ49の内側端部49aと一致しており、インナーリード45の先端が固定テープ49により確実に固定された構造となっている。これにより、上記の放熱板47の接合段階や後工程におけるハンドリング時のインナーリード45の変形が防止される。
【0081】
上記の薄肉部45aは、リードフレーム部材41の薄肉部45a以外の部位(素材である導電性基材の厚みを有する部位=定厚部45b)よりも薄いものである。上記の薄肉部45aの厚み、定厚部45bの厚み、および、薄肉部45aの厚みと定厚部45bの厚みの比率、細幅部45cの幅L1、隣接するインナーリード45間の距離L2、各インナーリード45の先端部のピッチは、上述のリードフレーム部材1と同様の範囲で設定することができる。
【0082】
また、図示例では、薄肉部45aの切欠き部位側(図21の上側)のワイヤボンディング領域には銀めっき層46が形成されている。尚、銀めっき層46の代わりに金めっき層やパラジウムめっき層等を設けてもよい。
【0083】
上記のような外枠部材42、複数のリードフレーム43の材質は、42合金(Ni41%のFe合金)、銅、銅合金等とすることができる。
【0084】
放熱板47は、電気絶縁性の接合部材48を介して各インナーリード45の薄肉部45a、定厚部45bおよび細幅部45cとに亘って接合されている。放熱板47の材料、厚み、接合部材48の構成および接着層は、上述のリードフレーム部材31の放熱板37、接合部材38と同様とすることができる。図示のようにインナーフレーム45の薄肉部45a、定厚部45b、細幅部45cとに亘って放熱板47を接合することにより、上述のように固定テープ49で補強されているインナーリードの補強がより確実なものとなる。
固定テープ49は、インナーリード45の薄肉部45aのワイヤボンディング領域側に固着され、各インナーリード45を非接触の状態で連結保持するものである。この固定テープ49の構成および接着層は、上述のリードフレーム部材1の固定テープ9と同様のものとすることができる。
【0085】
図示例では、固定テープ49はインナーリード45の薄肉部45aと細幅部45cに直接固着され、この固定テープ49よりも外側に銀めっき層46が形成されているが、薄肉部45aのワイヤボンディング領域に形成された銀めっき層46上に一部にかかるように固定テープ49を固着してもよい。
【0086】
また、リードフレーム部材41においても、上述のリードフレーム部材1と同様に、樹脂封止型半導体装置製造の際の樹脂封止領域の少なくとも一部にパラジウムめっき層を備えるものでもよい。
【0087】
図22は、リードフレーム部材の第3の発明の他の実施形態を示す図21相当の概略断面図である。図22において、本発明のリードフレーム部材41′は、上述のリードフレーム部材41と基本構造は同じであり、放熱板47の接合領域が上記のリードフレーム部材41と異なる。すなわち、リードフレーム部材41′では、薄肉部45aのワイヤボンディング領域とは反対側の面に放熱板47が電気絶縁性の接合部材48を介して接合され、定厚部45bの領域には接合されていない。
【0088】
また、図23は、リードフレーム部材の第3の発明の他の実施形態を示す図21相当の概略断面図である。図23において、本発明のリードフレーム部材41″は、放熱板47の接合位置が上記のリードフレーム部材41と異なる。すなわち、リードフレーム部材41″では、薄肉部45aの切欠き部位側(ワイヤボンディング領域とは反対側)の面に放熱板47が電気絶縁性の接合部材48を介して接合されている。
【0089】
上述のリードフレーム部材41′,41″においても、リードフレーム部材11と同様に、樹脂封止型半導体装置製造の際の樹脂封止領域の少なくとも一部にパラジウムめっき層を備えるものでもよい。
【0090】
リードフレーム部材の製造方法の第3の発明
図24は、図19乃至図21に示されるリードフレーム部材41を例としたリードフレーム部材の製造方法の第3の発明の一実施形態を示す工程図である。
【0091】
図24において、まず、第1の工程では、上述の製造方法の第2の発明の第1の工程と同様にして、外形加工部材51′を作製する(図24(A))。すなわち、導電性基材51の表裏に感光性レジストを塗布、乾燥して感光性レジスト層を形成し、これを所定のフォトマスクを介して露光した後、現像してレジストパターンを形成する。次に、このレジストパターンを耐腐蝕膜として導電性基材51に腐蝕液でエッチングを行い、その後、レジストパターンを除去する。エッチング工程では、エッチング量を加減することにより、ハーフエッチング加工を行う。このようにして作成された外形加工部材51′は、後述する図25にも示されるように、外形形状および内側開口形状が矩形である外枠部材52と、外枠部材52の内側開口の各辺から同一平面内に突設されている複数のリードフレーム53と、保持部材57とを備えたものである。各リードフレーム53は、外枠部材52から内側開口内に突設されたアウターリード54と、このアウターリード54の先端部に延設されたインナーリード55とからなる。また、各リードフレーム53のインナーリード55は、その先端部側に薄肉部55aが形成され、インナーリード55のアウターリード側には定厚部55bが形成されている。さらに、薄肉部55aの先端から細幅部55cが突出しており、保持部材57は各インナリードの先端部(細幅部55c)を連結保持するように配設されている。本発明では、上記の細幅部55cの幅は、隣接するインナーリード55間の距離よりも小さく設定されている。また、上記の薄肉部55aは、導電性基材51の薄肉部55a以外の部位(定厚部55b)よりも薄いものである。すなわち、各リードフレーム53に挟まれた部位は、表裏からのエッチングにより導電性基材が除去され、インナーリード55の薄肉部55a、細幅部55cおよび保持部材57は、表からのエッチング(ハーフエッチング)により薄肉部として形成される。尚、図示例では、各アウターリード54はダムバー53aで相互に接続固定されている。
【0092】
また、上記のエッチング工程では、上述の製造方法の第1の発明と同様に、2段エッチングを行ってもよい。
【0093】
次に、第2の工程として、外形加工部材51′のインナーリード55の薄肉部55aの一方の面(図示例では、ハーフエッチングされた切欠き部位側)に銀めっき層46を形成し、次いで、この銀めっき層46よりも内側の薄肉部55a、細幅部55cおよび保持部材57上に固定テープ49を圧着する(図24(B))。図25は、このように固定テープ49が圧着された外形加工部材51′の平面図であり、図24(B)は図25のF−F線における概略断面図に相当する。図26は図25に示される外形加工部材51′の部分拡大平面図である。図25および図26に示されるように、外形加工部材51′において、薄肉部15aの先端から突出している細幅部15cは固定テープ49に覆われ、また、薄肉部15aの一部と保持部材57の一部にも固定テープ49が固着されている。
【0094】
固定テープ49は電気絶縁性のベース基材の一方の面に接着層を設けたものを使用することができ、上述の固定テープ9と同様とすることができる。
【0095】
次に、固定テープ49の接着層を硬化させた後、図25に一点鎖線で示される位置(図26に矢印aで示される位置)で細幅部55cと固定テープ49とをプレスにて同時に打ち抜くことにより、保持部材57をその表面に形成されている固定テープ49とともに除去する。これにより、各リードフレーム53のインナーリード55先端部を電気的に非接触とする(図24(C))。この状態では、各インナーリード55の先端部は固定テープ49により非接触の状態で連結保持されているので、後加工において薄肉部55aの機械的強度不足は問題とならない。また、打ち抜き時に切断面から発生する金属カスは、最大のものでも細幅部55cの幅と同じ大きさであり、これは隣接するインナーリード間の距離よりも小さいので、この金属カスによるインナーリード間の短絡は防止される。
【0096】
次いで、第3の工程として、一方の面に接着層48を設けた放熱板47を、接着層48を各インナーリード55の裏面側に圧着するように接合する。上記の接着層48を、熱硬化性接着剤からなり熱処理を施した状態、あるいは、熱硬化性接着剤からなり厚みが5〜15μmの範囲内に設定した状態として、インナーリード55の裏面に圧着することが好ましい。
【0097】
次に、接着層18を硬化させることにより、図19乃至図21に示されるような本発明のリードフレーム41を作製する(図24(D))。
【0098】
樹脂封止型半導体装置の第1の発明
次に、本発明の樹脂封止型半導体装置について説明する。
【0099】
図27は、樹脂封止型半導体装置の第1の発明の一実施形態を示す概略断面図であり、半導体装置の構造を理解しやすくするために、封止部材を仮想線(2点鎖線)で示している。
【0100】
図27において、樹脂封止型半導体装置61は、上述の図1乃至図3に示されるリードフレーム部材1を用いて作製したQFPタイプの樹脂封止型半導体装置である。すなわち、樹脂封止型半導体装置61では、リードフレーム部材1のダイパッド7上に、電気絶縁性の両面接着テープ63を介して半導体素子62がその素子面と反対側を固着されて搭載されている。この半導体素子62の端子部62aは、リードフレーム部材1の薄肉部5aの銀めっき層6にワイヤ64によって接続されている。そして、リードフレーム部材1のアウターリード4を外部に露出させるように、インナーリード5、ダイパッド7、半導体素子62、ワイヤ64が封止部材65により封止されている。封止部材65は、従来から樹脂封止型半導体装置に用いられている電気絶縁性の樹脂材料を用いることができ、特に制限はない。
【0101】
このように封止部材65により封止された状態で、リードフレーム部材1の外枠部材2および各アウターリード4を相互に接続固定しているダムバー3a(図1参照)を切断除去することにより、複数のアウターリード4が相互に電気的に非接触の状態で封止部材65の側面から突出したものとなる。そして、このアウターリード4をガルウイング状に成形することにより、樹脂封止型半導体装置61が得られる。このような樹脂封止型半導体装置61は、多ピン化への対応が可能である。
【0102】
上記の樹脂封止型半導体装置61では、リードフレーム部材1が使用されているが、リードフレーム部材の第1の発明であるリードフレーム部材1′,1″(図5および図6参照)を使用して本発明の樹脂封止型半導体装置を作製することもできる。
【0103】
また、ダイパッド7の半導体素子搭載面と反対側を外部に露出するように封止部材65により封止して、放熱性を向上させてもよい。
【0104】
樹脂封止型半導体装置の第2の発明
図28は、樹脂封止型半導体装置の第2の発明の一実施形態を示す概略断面図であり、半導体装置の構造を理解しやすくするために、封止部材を仮想線(2点鎖線)で示している。
【0105】
図28において、樹脂封止型半導体装置71は、上述の図11乃至図13に示されるリードフレーム部材31を用いて作製したQFPタイプの樹脂封止型半導体装置である。すなわち、樹脂封止型半導体装置71では、リードフレーム部材31の放熱板37上に、電気絶縁性の両面接着テープ73を介して半導体素子72がその素子面と反対側を固着されて搭載されている。両面接着テープ73としては、電気絶縁性のベースフィルムの両面に接着層を形成したもの、例えば、ユーピレックス(宇部興産(株)製の電気絶縁性ベースフィルム)の両面にRXF((株)巴川製紙所製の接着剤)層を備えたUX1W((株)巴川製紙所製)のような両面接着テープを挙げることができる。
【0106】
上記の半導体素子72の端子部72aは、リードフレーム部材31の薄肉部35aの銀めっき層36にワイヤ74によって接続されている。そして、リードフレーム部材31のアウターリード34を外部に露出させるように、インナーリード35、放熱板37、半導体素子72、ワイヤ74が封止部材75により封止されている。封止部材75は、従来から樹脂封止型半導体装置に用いられている電気絶縁性の樹脂材料を用いることができ、特に制限はない。
【0107】
このように封止部材75により封止された状態で、リードフレーム部材31の外枠部材32と、各アウターリード34を相互に接続固定しているダムバー33a(図11参照)とを切断除去することにより、複数のアウターリード34が相互に電気的に非接触の状態で封止部材75の側面から突出したものとなり、このアウターリード34をガルウイング状に成形することにより、樹脂封止型半導体装置71が得られる。
【0108】
このような樹脂封止型半導体装置71は、多ピン化への対応が可能であり、また、半導体素子の放熱性に優れたものである。
【0109】
図29は、樹脂封止型半導体装置の第2の発明の他の実施形態を示す概略断面図であり、半導体装置の構造を理解しやすくするために、封止部材を仮想線(2点鎖線)で示している。
【0110】
図29において、樹脂封止型半導体装置71′は、厚みの大きい放熱板37′を使用し、封止部材75により封止された状態で、放熱板37′の半導体素子搭載面と反対側の面が外部に露出している点を除いて、基本的に上述の樹脂封止型半導体装置71と同様の構造である。このように放熱板37′を外部に露出することにより、半導体素子72で発生した熱は、熱伝導度の高い放熱板37′へ伝わり、その後、放熱板37′の露出した面から効率よく除去されるので、樹脂封止型半導体装置71′は放熱性が更に良好なものとなる。
【0111】
上記の樹脂封止型半導体装置71,71′では、リードフレーム部材31が使用されているが、リードフレーム部材の第2の発明であるリードフレーム部材31′,31″(図14および図15参照)を使用して本発明の樹脂封止型半導体装置を作製することもできる。
【0112】
図30は、樹脂封止型半導体装置の第2の発明の他の実施形態を示す概略断面図であり、半導体装置の構造を理解しやすくするために、封止部材を仮想線(2点鎖線)で示している。
【0113】
図30において、樹脂封止型半導体装置81は、上述の図19乃至図21に示されるリードフレーム部材41を用いて作製したQFPタイプの樹脂封止型半導体装置である。すなわち、樹脂封止型半導体装置81では、リードフレーム部材41の放熱板47(接合部材48)上に、電気絶縁性の両面接着テープ83を介して半導体素子82がその素子面と反対側を固着されて搭載されている。この半導体素子82の端子部82aは、リードフレーム部材41の薄肉部45aの銀めっき層46にワイヤ84によって接続されている。そして、リードフレーム部材41のアウターリード44を外部に露出させるように、インナーリード45、放熱板47、半導体素子82、ワイヤ84が封止部材85により封止されている。このように封止部材85により封止された状態で、リードフレーム部材41の外枠部材42および各アウターリード44を相互に接続固定しているダムバー43a(図19参照)を切断除去することにより、複数のアウターリード44が相互に電気的に非接触の状態で封止部材85の側面から突出したものとなる。そして、このアウターリード44をガルウイング状に成形することにより、樹脂封止型半導体装置81が得られる。
【0114】
このような樹脂封止型半導体装置81は、多ピン化への対応が可能であり、また、半導体素子の放熱性に優れたものである。
【0115】
上記の樹脂封止型半導体装置81では、リードフレーム部材41が使用されているが、リードフレーム部材の第3の発明であるリードフレーム部材41′,41″(図22および図23参照)を使用して本発明の樹脂封止型半導体装置を作製することもできる。
【0116】
また、放熱板47として厚みの大きい放熱板を使用し、封止部材85により封止された状態で放熱板が外部に露出するようにしてもよい。
【0117】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば各リードフレームのインナーリードは、その細幅部の先端部まで電気絶縁性の固定テープ、あるいは、放熱板を接合するための接合部材により非接触の状態で連結され補強さているので、機械的強度の弱いインナーリードの狭ピッチ化において有利であり、このようなリードフレーム部材を用いた樹脂封止型半導体装置は、多ピン化への対応が可能であるとともに、放熱板を備えたリードフレームを使用した場合、放熱性が極めて良好なものとなる。また、リードフレーム部材の製造段階で、電気絶縁性の固定テープ、あるいは、放熱板を接合するための接合部材が固着された細幅部において、インナーリードと固定テープとを、また、インナーリードと接合部材とを、プレスにて同時に打ち抜くので、インナーリード先端が固定テープ、接合部材とにより確実に固定され、また、打ち抜き時に上記の細幅部の切断面から発生する金属カスは、隣接するインナーリード間の距離よりも小さいため、この金属カスによるインナーリード間の短絡は発生せず、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】リードフレーム部材の第1の発明の一実施形態を示す平面図である。
【図2】図1に示されるリードフレーム部材の部分拡大平面図である。
【図3】図1に示されるリードフレーム部材のA−A線における概略断面図である。
【図4】リードフレーム部材の第1の発明の他の実施形態を示す平面図である。
【図5】リードフレーム部材の第1の発明の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図6】リードフレーム部材の第1の発明の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図7】リードフレーム部材の製造方法の第1の発明を説明するための工程図である。
【図8】図7に示される製造工程で作製される外形加工部材の平面図である。
【図9】図8に示される外形加工部材の部分拡大平面図である。
【図10】図7に示される製造工程で用いる2段エッチングを説明するための工程図である。
【図11】リードフレーム部材の第2の発明の一実施形態を示す平面図である。
【図12】図11に示されるリードフレーム部材の部分拡大平面図である。
【図13】図11に示されるリードフレーム部材のC−C線における概略断面図である。
【図14】リードフレーム部材の第2の発明の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図15】リードフレーム部材の第2の発明の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図16】リードフレーム部材の製造方法の第2の発明を説明するための工程図である。
【図17】図16に示される製造工程で作製される外形加工部材の平面図である。
【図18】図17に示される外形加工部材の部分拡大平面図である。
【図19】リードフレーム部材の第3の発明の一実施形態を示す平面図である。
【図20】図19に示されるリードフレーム部材の部分拡大平面図である。
【図21】図19に示されるリードフレーム部材のE−E線における概略断面図である。
【図22】リードフレーム部材の第3の発明の他の実施形態を示す平面図である。
【図23】リードフレーム部材の第3の発明の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図24】リードフレーム部材の製造方法の第3の発明を説明するための工程図である。
【図25】図24に示される製造工程で作製される外形加工部材の平面図である。
【図26】図25に示される外形加工部材の部分拡大平面図である。
【図27】樹脂封止型半導体装置の第1の発明の一実施形態を示す概略断面図である。
【図28】樹脂封止型半導体装置の第2の発明の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図29】樹脂封止型半導体装置の第2の発明の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図30】樹脂封止型半導体装置の第2の発明の一実施形態を示す概略断面図である。
【符号の説明】
1,1′,1″,31,31′,31″,41,41′,41″…リードフレーム部材
2,32,42…外枠部材
3,33,43…リードフレーム
4,34,44…アウターリード
5,35,45…インナーリード
5a,35a,45a…薄肉部
5b,35b,45b…定厚部
5c,35c,45c…細幅部
6,36,46…銀めっき層
7…ダイパッド
8…接続リード
37,47…放熱板
38,48…接合部材
9,49…固定テープ
11,51…導電性基材
11′,51′…外形加工部材
12,52…外枠部材
13,53…リードフレーム
14,54…アウターリード
15,55…インナーリード
15a,55a…薄肉部
15b,55b…定厚部
15c,55c…細幅部
57…保持部材
61,71,71′,81…樹脂封止型半導体装置
62,72,82…半導体素子
64,74,84…ワイヤ
65,75,85…封止部材

Claims (12)

  1. 樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材において、
    外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、前記外枠部材から接続リードを介して配設されたダイパッドと、前記インナーリードの一方の面に各インナーリードを非接触で連結するように固着された電気絶縁性の固定テープとを備え、前記インナーリードは先端部側がリードフレームの定厚部よりも薄い薄肉部であり、かつ、該薄肉部の先端から突出した細幅部を有し、該細幅部の幅が前記薄肉部の先端の幅よりも小さく、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも小さく、前記固定テープは前記細幅部を含むインナーリード先端部側に固着され、かつ、前記固定テープの内側端部と前記細幅部の先端とが一致していることを特徴とするリードフレーム部材。
  2. 請求項1に記載のリードフレーム部材のダイパッド上に半導体素子を搭載し、該半導体素子の端子部とインナーリードとをワイヤにて電気的に接続し、少なくともアウターリードを外部に露出させるように全体を樹脂封止した状態でリードフレーム部材の外枠部材を除去したことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  3. 樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材の製造方法において、
    (A)導電性基材をエッチングして、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、インナーリードの先端部側の一部にリードフレームの定厚部よりも薄くなるように設けられた薄肉部と、インナーリードの先端部から突出し該先端部の幅よりも小さい幅をもち、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも幅が小さい細幅部と、前記外枠部材に接続リードを介して保持されたダイパッドと、を備えた外形加工部材を作成する第1の工程と、
    (B)前記外形加工部材のインナーリードの少なくとも薄肉部の一方の面に前記細幅部も覆うように電気絶縁性の固定テープを固着し、その後、前記細幅部においてインナーリードと固定テープとをプレスにて同時に打ち抜いて前記細幅部の先端側を固定テープの一部とともに除去することにより、各リードフレームのインナーリードの先端部を電気的に非接触の状態で前記固定テープにより連結する第2の工程と、を備えることを特徴とするリードフレーム部材の製造方法。
  4. 第1の工程において作成する外形加工部材は、前記細幅部の先端が前記ダイパッドに連結されていることを特徴とする請求項3に記載のリードフレーム部材の製造方法。
  5. 樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材において、
    外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、絶縁性の接合部材を介して前記複数のインナーリードの一方の面に接合された放熱板とを備え、前記インナーリードは先端部側がリードフレームの定厚部よりも薄い薄肉部であり、かつ、該薄肉部の先端から突出した細幅部を有し、該細幅部の幅が前記薄肉部の先端の幅よりも小さく、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも小さく、前記接合部材は前記細幅部を含む少なくともインナーリード先端部側に固着され、かつ、前記接合部材の内側端部と前記細幅部の先端とが一致していることを特徴とするリードフレーム部材。
  6. 樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材において、
    外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、絶縁性の接合部材を介して前記複数のインナーリードの一方の面に接合された放熱板とを備え、前記インナーリードは先端部側がリードフレームの定厚部よりも薄い薄肉部であり、かつ、該薄肉部の先端から突出した細幅部を有し、該細幅部の幅が前記薄肉部の先端の幅よりも小さく、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも小さく、前記インナーリードの薄肉部であって放熱板が接合された面と反対側の面に、各インナーリードを非接触で連結するように固定テープが固着され、該固定テープは前記細幅部を含むインナーリード先端部側に固着され、かつ、前記固定テープの内側端部と前記細幅部の先端とが一致していることを特徴とするリードフレーム部材。
  7. 前記放熱板は前記インナーリードの薄肉部と定厚部とに亘って接合されていることを特徴とする請求項5または請求項6に記載のリードフレーム部材。
  8. 前記放熱板は、銅材、表面の少なくとも一部に黒化処理または無電解銅めっき処理が施された銅材、アルミニウム材、および、表面の少なくとも一部に陽極酸化処理が施されたアルミニウム材のなかの1種であることを特徴とする請求項5乃至請求項7のいずれかに記載のリードフレーム部材。
  9. 請求項5乃至請求項8のいずれかに記載のリードフレーム部材の放熱板上に半導体素子を搭載し、該半導体素子の端子部とインナーリードとをワイヤにて電気的に接続し、少なくともアウターリードを外部に露出させるように全体を樹脂封止した状態でリードフレーム部材の外枠部材を除去したことを特徴とする樹脂封止型半導体装置。
  10. 放熱板の半導体素子搭載面と反対側の面を外部に露出させるように樹脂封止したことを特徴とする請求項9に記載の樹脂封止型半導体装置。
  11. 樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材の製造方法において、
    (A)導電性基材をエッチングして、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、インナーリードの先端部側の一部にリードフレームの定厚部よりも薄くなるように設けられた薄肉部と、該薄肉部の先端から突出し該先端の幅よりも小さい幅をもち、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも幅が小さい細幅部と、各インナーリードの細幅部を連結保持する保持部材と、を備えた外形加工部材を作成する第1の工程と、
    (B)前記外形加工部材のインナーリードの少なくとも薄肉部の一方の面に前記細幅部を覆うように電気絶縁性の接合部材を固着し、その後、前記細幅部においてインナーリードと接合部材とをプレスにて同時に打ち抜いて前記保持部材を除去することにより、各リードフレームのインナーリードの先端部を電気的に非接触の状態で前記接合部材により連結する第2の工程と、
    (C)前記インナーリードに前記接合部材を介して放熱板を接合し、その後、前記接着層を硬化させる第3の工程と、を備えることを特徴とするリードフレーム部材の製造方法。
  12. 樹脂封止型半導体装置用のリードフレーム部材の製造方法において、
    (A)導電性基材をエッチングして、外枠部材と、アウターリードと該アウターリード先端部に延設されたインナ−リードとからなり前記外枠部材から内側へ略同一面内に突設された複数のリードフレームと、インナーリードの先端部側の一部にリードフレームの定厚部よりも薄くなるように設けられた薄肉部と、該薄肉部の先端から突出し該先端の幅よりも小さい幅をもち、かつ、隣接するインナーリード間の距離よりも幅が小さい細幅部と、各インナーリードの細幅部を連結保持する保持部材と、を備えた外形加工部材を作成する第1の工程と、
    (B)前記外形加工部材のインナーリードの少なくとも薄肉部の一方の面に前記細幅部を覆うように固定テープを固着し、その後、前記細幅部においてインナーリードと固定テープとをプレスにて同時に打ち抜いて前記保持部材を除去することにより、各リードフレームのインナーリードの先端部を電気的に非接触の状態で前記固定テープにより連結する第2の工程と、
    (C)前記インナーリードの少なくとも薄肉部の前記固定テープが配設されていない面に、電気絶縁性の接着剤を介して放熱板を接合する第3の工程と、を備えることを特徴とするリードフレーム部材の製造方法。
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KR100983303B1 (ko) 2003-05-03 2010-09-20 삼성테크윈 주식회사 리이드 프레임 및, 리이드 프레임의 제조 방법
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