JPH1041359A - 半導体装置用テープキャリア - Google Patents

半導体装置用テープキャリア

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JPH1041359A
JPH1041359A JP8196703A JP19670396A JPH1041359A JP H1041359 A JPH1041359 A JP H1041359A JP 8196703 A JP8196703 A JP 8196703A JP 19670396 A JP19670396 A JP 19670396A JP H1041359 A JPH1041359 A JP H1041359A
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JP
Japan
Prior art keywords
lead
inner lead
bonding
tape carrier
cut
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8196703A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuharu Kameyama
康晴 亀山
Norio Okabe
則夫 岡部
Katsutoshi Taga
勝俊 多賀
Mamoru Onda
護 御田
Ichiro Anjo
一郎 安生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Cable Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Cable Ltd
Priority to JP8196703A priority Critical patent/JPH1041359A/ja
Publication of JPH1041359A publication Critical patent/JPH1041359A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 インナーリードを確実かつリードにダメージ
を与えないように切断し、更に一定のリード長に切断す
ることは難しく、また、工程が複雑になる。 【解決手段】 所定位置にデバイスホール3が開口され
た絶縁性フィルム1と、このポリイミドテープ1により
突出し、デバイスホール3を横断するように配設された
インナーリード4とを備えたテープキャリアであって、
ボンディングツールの接触によって切断可能な切断部1
1をインナーリード4の所定位置に形成した。これによ
り、切断部11は他の部分に比べて強度が小さくなり、
ボンディングの直前にボンディングツールを接触させた
だけでインナーリード4は切断部11から切断(分断)
される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置に用いる
テープキャリアに係り、特に、デバイスホールにインナ
ーリードが架け渡される形状の半導体装置に最適なテー
プキャリアに関するものである。
【0002】
【従来の技術】テープキャリアを用いた半導体装置のパ
ッケージング工程には、テープキャリアのインナーリー
ドを半導体チップの電極に接続するインナーリードボン
ディング(ILB)工程を含んでいる。図6は従来のイ
ンナーリードボンディング工程におけるボンディング前
の状態を示す平面図であり、図7はボンディング中を示
す断面図である。
【0003】テープキャリアは絶縁性フィルムであるポ
リイミドテープ1を主体に構成され、その一部(例えば
中央部)には半導体チップ2を搭載する領域となるデバ
イスホール3(開口)が設けられている。このデバイス
ホール3に先端部の所定長が露出するようにして、ポリ
イミドテープ1の片面にはインナーリード4が一定間隔
に形成されている(インナーリード4の他端は、不図示
の金属導体(配線パターン)に接続されている)。すな
わち、インナーリード4の接続部は片持ち構造になって
いる。このインナーリード4の先端が半導体チップ2の
電極5に接続される。
【0004】接続に際しては、超音波ボンダ等によるボ
ンディングツール6を電極5の上方へ位置させ、そのま
まボンディングツール6を降下させれば、インナーリー
ド4は押し下げられる過程で曲げられ、ボンディングツ
ール6が電極5の近傍まで降下した時点でインナーリー
ド4の先端の下面が電極5に当接する。この時点でボン
ディングツール6のボンディング部を動作させれば、イ
ンナーリード4の先端と電極5が接続される。
【0005】しかし、半導体装置のピン数(リード数)
が増加するのに伴ってリードピッチが狭くなってきてお
り、これに伴ってリード幅も細くなり、片持ち式のリー
ド構造ではリード変形が起きやすいという問題が生じて
いる。また、多ピンBGA(ボール グリッド アレ
イ: Ball Grid Array)用テープキャリアでは、全ての
リードに電気めっき用の給電配線を設ける構造が用いら
れている。
【0006】工程内でのリード変形を防止する手段とし
て、図8及び図9に示すストレートリード形状にする構
成がある。図8に示すように、インナーリード7はデバ
イスホール3を横断できる(架け渡しができる)長さを
有している。図9の(a)に示すように、ボンディング
を行う前にインナーリード7の先端の一部を専用のリー
ド切断ツール8によってA位置から切断する。ついで、
ボンディングツール6を電極5上に位置決めし、この状
態のままボンディングツール6を降下させれば、インナ
ーリード7は折り曲げられながら先端部が降下し、つい
には電極5に接触する(図9の(a))。この状態のま
まボンディングツール6のボンディング部を動作させれ
ば、インナーリード4の先端と電極5とが接続される。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のストレ
ートリード形状のテープキャリアによると、ボンディン
グ前にインナーリードの先端を切断する工程が必要にな
るが、リードを確実かつリードにダメージを与えないよ
うに切断し、更に一定のリード長に切断することは難し
く、また、工程が複雑になる。
【0008】そこで本発明は、1工程でリード変形を生
じないようにインナーリードを所定位置から切断するこ
とのできる半導体装置用テープキャリアを提供すること
を目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、この発明は、所定位置にデバイスホールが開口さ
れた絶縁性フィルムと、前記デバイスホールを横断する
横断部を有したインナーリードとを具備する半導体装置
用テープキャリアにおいて、前記インナーリードはボン
ディングツールの接触によって切断される切断部を前記
横断部に形成した構成にしている。
【0010】この構成によれば、切断部は他の部分に比
べて強度が小さくなるため、ボンディングの直前にボン
ディングツールを接触させただけで切断部から切断(分
断)され、リード切断ツールを用いる必要がなくなり、
工程を1つ減らすことができる。したがって、リード切
断とボンディングが、リード変形を生じさせることな
く、両者を1工程で行うことができる。
【0011】前記切断部は、貫通孔、凹部又は溝にする
ことができる。この構成によれば、単純な構造なために
加工が容易であり、生産性及び量産性を高めることがで
きる。前記切断部は、エッチング加工により形成するこ
とができる。この構成によれば、従来より半導体装置の
製造工程で用いられているエッチング技術により切断部
を形成することができる。したがって、製造コストを下
げることがげきる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を基に説明する。図1は本発明による半導体装置
用テープキャリアの一実施の形態を示す平面図であり、
図2は本発明に係るインナーリード切断部の詳細を示す
平面図及び断面図である。また、図3はインナーリード
切断部の他の例を示し、図4はインナーリード切断部の
更に他の例を示している。更に、図5は本発明における
ボンディング中の状態を示す断面図である。
【0013】図1に示すように、本発明による半導体装
置用テープキャリアは、デバイスホール3を横断する横
断部10aを有するインナーリード10が配設されてい
る。このインナーリード10の各々は、図8及び図9で
説明したストレートリード形状のときの切断位置であっ
た部位に切断部11が設けられており、リード切断とボ
ンディングが同時に行えるようにしている。インナーリ
ード10の各々は、半導体チップ2上に設けられている
電極5に重なる位置に配設されており、電極5との接続
がボンディングによって行えるようになっている。
【0014】この切断部11は、切断ツールを用いるこ
となく容易に切断が行える構造である必要がある。そこ
で、図2の(a)に示すように、インナーリード10に
貫通孔12を設け、切断(分断)が生じ易いようにして
いる。この貫通孔12は、インナーリード10の幅が4
0μm以上である場合、リード幅の約30%程度の孔径
にする。そして、ボンディング部のリード幅が40未満
の場合には、貫通孔12を設けることによってリード強
度が著しく低下してリード変形が生じやすくなるので、
貫通孔に代え、図2の(b)に示すように両側から深さ
5μm程度のエッチングを施して孔13を形成し、或い
は、図2の(c)に示すように片側から貫通孔が形成さ
れるようにエッチングを施して孔14を形成する。
【0015】また、貫通孔12或いは孔13,14に代
え、図3の(a)、(b)(平面図及び断面図)に示す
ように半円球状にエッチングを施したノッチ15、或い
は図4(a)、(b)(平面図及び断面図)に示すよう
に、幅方向に形成楕円溝又は長溝にエッチングを施した
ノッチ16であってもよい。通常、エッチングの深さが
リード厚の30%以上であれば、ボンディングツール6
がインナーリード10に接触しながら降下する過程で切
断部11から切断されるので、リード切断とボンディン
グを同時に行うことができる。
【0016】次に、本発明による半導体装置用テープキ
ャリアのインナーリードのボンディングについて、図5
を参照して説明する。まず、図1のように、切断部11
が設けられているインナーリード10の各々を半導体チ
ップ2上の電極5の各々に位置合わせする。この状態の
まま、超音波ボンダ等のボンディングツール6を押し下
げれば、その過程でインナーリード10は切断部11の
位置から切断される。そのままボンディングツール6を
降下させれば、本体側のインナーリード10の先端はボ
ンディングツール6によって押し下げられ、インナーリ
ード10の先端は電極5に当接する。この時点で不図示
の制御手段によりボンディングツール6を駆動すれば、
インナーリード10の先端は電極5に接続される。
【0017】このように、リード切断箇所を中心に深さ
5μm程度の溝状の切断部11をインナーリード10に
設けたことにより、インナーリードボンディング(IL
B)工程においてリード切断と同時にボンディングを行
うことができる。
【0018】
【発明の効果】以上説明した通り、この発明は、インナ
ーリードの所定位置にボンディングツールの接触によっ
て切断可能な切断部を形成したので、ボンディングの直
前にボンディングツールで押圧するのみで切断部から分
離され、工程を増やすことなく、リード切断とボンディ
ングをリード変形を生じさせることなく1工程で行うこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置用テープキャリアの一実施
の形態を示す平面図である。
【図2】本発明に係る切断部の詳細を示し、(a)は平
面図、(b)は断面図である。
【図3】切断部の他の例を示し、(a)は平面図、
(b)は断面図である。
【図4】切断部の更に他の例を示し、(a)は平面図、
(b)は断面図である。
【図5】本発明におけるボンディング中の状態を示す断
面図である。
【図6】従来のインナーリードボンディング工程におけ
るボンディング前の状態を示す平面図である。
【図7】図6の状態からボンディングを行っている様子
を示す断面図である。
【図8】ストレートリード形状の従来のインナーリード
ボンディング工程におけるボンディング前の状態を示す
平面図である。
【図9】図8の状態からボンディングを行っている様子
を示し、(a)は切断工程を示す断面図、(b)はボン
ディング工程を示す断面図である。
【符号の説明】
1 ポリイミドテープ 2 半導体チップ 3 デバイスホール 4 インナーリード 5 電極 7,10 インナーリード 10a 横断部 11,15,16 切断部 12,13 貫通孔 14 孔
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 多賀 勝俊 茨城県土浦市木田余町3550番地 日立電線 株式会社システムマテリアル研究所内 (72)発明者 御田 護 茨城県日立市助川町3丁目1番1号 日立 電線株式会社電線工場内 (72)発明者 安生 一郎 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定位置にデバイスホールが開口された絶
    縁性フィルムと、前記デバイスホールを横断する横断部
    を有したインナーリードとを具備する半導体装置用テー
    プキャリアにおいて、 前記インナーリードはボンディングツールの接触によっ
    て切断される切断部を前記横断部に形成したことを特徴
    とする半導体装置用テープキャリア。
  2. 【請求項2】前記切断部は、貫通孔、凹部又は溝である
    ことを特徴とする請求項1記載の半導体装置用テープキ
    ャリア。
  3. 【請求項3】前記切断部は、エッチング加工により形成
    したことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体装置
    用テープキャリア。
JP8196703A 1996-07-25 1996-07-25 半導体装置用テープキャリア Pending JPH1041359A (ja)

Priority Applications (1)

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JP8196703A JPH1041359A (ja) 1996-07-25 1996-07-25 半導体装置用テープキャリア

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JP8196703A JPH1041359A (ja) 1996-07-25 1996-07-25 半導体装置用テープキャリア

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JPH1041359A true JPH1041359A (ja) 1998-02-13

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ID=16362189

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JP (1) JPH1041359A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19924212B4 (de) * 1999-05-27 2007-03-08 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Bonden von Leitern, insbesondere Beam Leads
JP2010272759A (ja) * 2009-05-22 2010-12-02 Renesas Electronics Corp テープキャリアパッケージ、テープキャリアパッケージ個別品、及びそれらの製造方法

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DE19924212B4 (de) * 1999-05-27 2007-03-08 Infineon Technologies Ag Verfahren zum Bonden von Leitern, insbesondere Beam Leads
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