JPH1040511A - 磁気ヘッド - Google Patents

磁気ヘッド

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JPH1040511A
JPH1040511A JP8196417A JP19641796A JPH1040511A JP H1040511 A JPH1040511 A JP H1040511A JP 8196417 A JP8196417 A JP 8196417A JP 19641796 A JP19641796 A JP 19641796A JP H1040511 A JPH1040511 A JP H1040511A
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magnetic head
magnetic
groove
pair
metal
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JP8196417A
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English (en)
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Seiichi Ogata
誠一 小形
Tadashi Saito
正 斎藤
Hisami Takahashi
久美 高橋
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 回転ドラム上に多数搭載することが可能な高
周波帯域対応の磁気ヘッドにおいて、リーディングコア
とトレーリングコアとの判別を容易にできるようにする
とともに、磁気ヘッドの種類を容易に識別できるように
する。 【解決手段】 非磁性基板上の一部に磁気コアとなる金
属磁性層が形成されてなる一対の磁気ヘッド半体4a,
4bと、上記一対の磁気ヘッド半体4a,4bに埋設さ
れた薄膜コイルとを備え、一方の磁気ヘッド半体4aの
金属磁性層3aと、他方の磁気ヘッド半体4bの金属磁
性層3bとの間に磁気ギャップgを介して、上記一対の
磁気ヘッド半体4a,4bが接合されてなる磁気ヘッド
において、一方の磁気ヘッド半体4bに識別溝8を形成
し、当該識別溝8によって、一対の磁気ヘッド半体4
a,4bの外形を互いに非対称とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビデオカセットレ
コーダ、ビデオテープレコーダ、磁気ディスク装置等に
好適な磁気ヘッドに関し、特にコイルを薄膜工程により
形成して成る磁気ヘッドに関する。
【0002】
【従来の技術】ビデオカセットレコーダ、ビデオテープ
レコーダ、磁気ディスク装置等のような磁気記録再生装
置に使用される磁気ヘッドとして、フェライトよりなる
磁気コアの磁気ギャップ形成面に金属磁性膜を成膜し
た、いわゆるメタル・イン・ギャップ(MIG)型磁気
ヘッドや、一対の非磁性セラミックス基板で金属磁性膜
を挟み込んでなる、いわゆるラミネート型磁気ヘッド等
が実用化されている。
【0003】ところで、磁気ヘッドは、今後の高画質化
やデジタル化等に対応し、高密度記録化を図れるよう
に、より高周波帯域で良好な電磁変換特性を示すことが
求められている。しかしながら、上記MIG型磁気ヘッ
ドでは、インピーダンスが大きく、高周波帯域での使用
には適さない。また、上記ラミネート型磁気ヘッドは、
高密度記録化のためにトラック幅を減少させる場合、磁
路を構成する金属磁性膜の膜厚を減少させる必要があ
り、再生効率が低下してしまうという問題がある。
【0004】また、ヘリカルスキャン方式の磁気記録再
生装置のように、磁気ヘッドを回転させながら記録再生
を行う磁気記録再生装置において、磁気ヘッドは回転ド
ラムに搭載される。このとき、MIG型磁気ヘッドやラ
ミネート型磁気ヘッドでは、磁気ヘッドを端子板に接着
し、当該端子板を回転ドラムに固定することにより、磁
気ヘッドが回転ドラムに搭載される。ここで、端子板
は、磁気ヘッドの磁気コアに巻装されたコイルからの導
線に対応した端子を備えており、この端子板を介して、
磁気コアに巻装されたコイルと、外部回路との導通が図
られる。
【0005】このように回転ドラムに磁気ヘッドを搭載
するタイプの磁気記録再生装置では、データ転送の高速
化を図るために、小さな回転ドラム上に多数の磁気ヘッ
ドを搭載することが望まれる。
【0006】しかしながら、一般に端子板の大きさが大
きいため、上述のように磁気ヘッドを端子板に接着して
固定した上で磁気ヘッドを回転ドラムに搭載する方法で
は、多数の磁気ヘッドを小さな回転ドラムに搭載するこ
とは困難である。すなわち、MIG型磁気ヘッドやラミ
ネート型磁気ヘッドでは、回転ドラムに搭載する際に端
子板が必要なため、磁気ヘッドの複数化の点で限界があ
った。
【0007】以上のようなMIG型磁気ヘッドやラミネ
ート型磁気ヘッド等における問題点を解決した高周波帯
域対応の磁気ヘッドとして、例えば、特開昭63−23
1713号公報等に記載されているように、金属磁性層
で構成される磁路を小さくするとともに、磁気ヘッド駆
動用のコイルを薄膜工程を用いて形成したタイプの磁気
ヘッド(以下、バルク薄膜ヘッドと称する。)が提案さ
れている。
【0008】図21に示すように、バルク薄膜ヘッド1
00は、非磁性基板101a上の一部に磁気コアとなる
金属磁性層102aが形成されてなる磁気ヘッド半体1
03aと、同様に、非磁性基板101b上の一部に磁気
コアとなる金属磁性層102bが形成されてなる磁気ヘ
ッド半体103bとを備えており、一方の磁気ヘッド半
体103aの金属磁性層102aと、他方の磁気ヘッド
半体103bの金属磁性層102bとが磁気ギャップg
1を介して突き合わされるようにして、一対の磁気ヘッ
ド半体103a,103bが接合されてなる。
【0009】そして、バルク薄膜ヘッド100では、金
属磁性層102a,102bを巻回するように、一対の
磁気ヘッド半体103a,103bに、それぞれ薄膜コ
イルが埋設されており、当該薄膜コイルからの外部接続
用端子104a,104bが、バルク薄膜ヘッド100
の側面に露出するように形成されている。
【0010】このようなバルク薄膜ヘッドでは、高周波
帯域における特性が優れているだけでなく、磁気ヘッド
駆動用のコイルが薄膜コイルとして磁気ヘッド半体に埋
設されているので、端子板を用いることなく、回転ドラ
ムに直接搭載することができるという利点もある。すな
わち、バルク薄膜ヘッドでは、磁気ヘッド駆動用のコイ
ルが磁気ヘッドに埋め込まれた薄膜コイルからなり、当
該薄膜コイルからの端子が磁気ヘッドの外部に露呈する
ように設けられているので、回転ドラムに搭載する際に
端子板を用いる必要がない。このため、バルク薄膜ヘッ
ドでは、小さな回転ドラム上に多数の磁気ヘッドを搭載
することが可能となっている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来のMI
G型磁気ヘッドやラミネート型磁気ヘッドでは、磁気ヘ
ッドを端子板に接着し固定する際に、その接着面を間違
わないように、磁気ヘッド駆動用のコイルを巻回するた
めの巻線ガイド溝の形状や寸法等を左右で異なるように
している。
【0012】具体的には、例えば、MIG型磁気ヘッド
の一例を示す図22のように、一方の磁気コア110a
に形成する巻線ガイド溝111aの幅を広くするととも
に、他方の磁気コア110bに形成する巻線ガイド溝1
11bの幅を狭くし、これにより、記録再生時に磁気記
録媒体が進入してくる側の磁気コアであるリーディング
コアと、他方の磁気コアであるトレーリングコアとを判
別できるようにしている。
【0013】これに対して、バルク薄膜ヘッドでは、磁
気ヘッド駆動用のコイルとして薄膜ヘッドを用いるた
め、巻線ガイド溝が不要である。したがって、バルク薄
膜ヘッドでは、リーディングコアの形状と、トレーリン
グコアの形状がほぼ対称となってしまう。このため、バ
ルク薄膜ヘッドでは、リーディングコアとトレーリング
コアとの判別が困難であるという問題が生じている。
【0014】また、MIG型磁気ヘッドやラミネート型
磁気ヘッドでは、端子板の色等を変えることにより、種
類の異なる磁気ヘッド、例えばアジマスが異なる磁気ヘ
ッド等の判別ができるようにしている。
【0015】一方、バルク薄膜ヘッドでは、端子板を用
いることなく、小さな回転ドラム上に多数の磁気ヘッド
を搭載することが可能となっている。しかしながら、磁
気ヘッドを回転ドラムに端子板を用いることなく直接搭
載するようなときには、端子板の色等によって磁気ヘッ
ドの種類を判別することができなくなってしまう。
【0016】そこで本発明は、このような従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、回転ドラム上に多数搭載
することが可能な高周波帯域対応の磁気ヘッドにおい
て、リーディングコアとトレーリングコアとの判別を容
易にできるようにするとともに、磁気ヘッドの種類を容
易に識別できるようにすることを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに完成された本発明に係る磁気ヘッドは、非磁性基板
上の少なくと一部に磁気コアとなる金属磁性層が形成さ
れてなる一対の磁気ヘッド半体と、上記一対の磁気ヘッ
ド半体の少なくとも一方に埋設された薄膜コイルとを備
え、一方の磁気ヘッド半体の金属磁性層と、他方の磁気
ヘッド半体の金属磁性層との間に磁気ギャップを介し
て、上記一対の磁気ヘッド半体が接合されてなる磁気ヘ
ッドにおいて、一方の磁気ヘッド半体の外形と、他方の
磁気ヘッド半体の外形とを非対称にしたことを特徴とす
るものである。
【0018】上記磁気ヘッドでは、例えば、一方の磁気
ヘッド半体の非磁性基板と、他方の磁気ヘッド半体の非
磁性基板との少なくとも一方に1以上の溝を形成し、こ
れにより、一方の磁気ヘッド半体の外形と、他方の磁気
ヘッド半体の外形とを非対称とする。
【0019】このような本発明に係る磁気ヘッドでは、
一方の磁気ヘッド半体の外形と、他方の磁気ヘッド半体
の外形とを非対称としているので、リーディングコアと
トレーリングコアとの判別を容易に行うことができる。
【0020】また、磁気ヘッド半体の非磁性基板に溝を
形成することにより、一方の磁気ヘッド半体の外形と、
他方の磁気ヘッド半体の外形とを非対称としたときは、
磁気ヘッドの種類に応じて、溝の数や形状等、或いは溝
の形成位置等を変えることにより、磁気ヘッドの種類を
容易に識別できるようになる。
【0021】しかも、本発明に係る磁気ヘッドは、非磁
性基板上の少なくと一部に磁気コアとなる金属磁性層が
形成されてなる一対の磁気ヘッド半体と、上記一対の磁
気ヘッド半体の少なくとも一方に埋設された薄膜コイル
とを備え、一方の磁気ヘッド半体の金属磁性層と、他方
の磁気ヘッド半体の金属磁性層との間に磁気ギャップを
介して、上記一対の磁気ヘッド半体が接合されてなる、
いわゆるバルク薄膜ヘッドであり、小さな回転ドラム上
に多数搭載することが可能であり、しかも、高周波帯域
で良好な電磁変換特性を示す。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した具体的な
実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明す
る。なお、本発明は以下の実施の形態に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、形状や材
質等を任意に変更することが可能であることは言うまで
もない。
【0023】本実施の形態に係る磁気ヘッドを、図1、
図2及び図3に示す。なお、図1は、本実施の形態に係
る磁気ヘッド1の全体を示す斜視図であり、図2は、図
1中の領域Cの部分、すなわち磁気ヘッド1の磁気ギャ
ップg近傍の部分を磁気ギャップg側から見た平面図で
あり、図3は、図1中の領域Cの部分、すなわち磁気ヘ
ッド1の磁気ギャップg近傍の部分について、その一部
を透過して示す斜視図である。
【0024】本実施の形態に係る磁気ヘッド1は、ビデ
オカセットレコーダ等に用いられるバルク薄膜ヘッドで
あり、図1乃至図3に示すように、非磁性基板2a上の
一部に磁気コアとなる金属磁性層3aが形成された磁気
ヘッド半体4aと、同様に、非磁性基板2b上の一部に
磁気コアとなる金属磁性層3bが形成された磁気ヘッド
半体4bとを備えている。
【0025】そして、一方の磁気ヘッド半体4aの金属
磁性層3aと、他方の磁気ヘッド半体4bの金属磁性層
3bとが磁気ギャップgを介して対向するように、上記
一対の磁気ヘッド半体4a,4bが突き合わされて接合
されており、これらの金属磁性層3a,3bにより磁気
コアが形成されている。
【0026】ここで、一対の磁気ヘッド半体4a,4b
の突き合わせ面には、低融点ガラス5が充填されてお
り、この低融点ガラス5によって、一対の磁気ヘッド半
体4a,4bの突き合わせ面が互いに平行な平面とされ
た上で、一対の磁気ヘッド半体4a,4bが接合されて
いる。
【0027】なお、金属磁性層3aと金属磁性層3bの
間に形成される磁気ギャップのうち、金属磁性層3a,
3bの記録媒体摺動面側の端部における突き合わせ面に
形成される磁気ギャップ、すなわち記録再生用ギャップ
として機能する磁気ギャップをフロントギャップfgと
称する。一方、金属磁性層3a,3bの他方の端部にお
ける突き合わせ面に形成される磁気ギャップをバックギ
ャップbgと称する。
【0028】また、上記磁気ヘッド1において、一対の
磁気ヘッド半体4a,4bの突き合わせ面には、図3に
示すように、それぞれ渦巻状に形成された薄膜コイル6
a,6bが埋設されている。これらの薄膜コイル6a,
6bは、一対の磁気ヘッド半体4a,4bの突き合わせ
面に形成されたコイル状溝内に、電解メッキ法によりC
u膜が充填されてなる。なお、薄膜コイル6a,6b
は、コイル状溝にAg等を含有する導電性ペーストを充
填し、当該導電性ペーストを焼成することによって形成
されたものであってもよい。
【0029】そして、一方の磁気ヘッド半体4aに形成
された薄膜コイル6aの中心側の端部と、他方の磁気ヘ
ッド半体4bに形成された薄膜コイル6bの中心側の端
部とは、一対の磁気ヘッド半体4a,4bを突き合わせ
て接合する際に互いに接続されている。また、一方の磁
気ヘッド半体4aに形成された薄膜コイル6aの外周側
の端部、及び他方の磁気ヘッド半体4bに形成された薄
膜コイル6bの外周側の端部からは、図1に示すよう
に、それぞれ外部接続用端子7a,7bが導出されてい
る。これらの外部接続用端子7a,7bは、磁気ヘッド
1の側面に露出するように設けられている。そして、こ
の磁気ヘッド1を使用する際は、当該外部接続用端子7
a,7bを外部回路に接続し、これらの外部接続用端子
7a,7bを介して、薄膜コイル6a,6bに記録信号
を供給したり、薄膜コイル6a,6bから再生信号を取
り出すようにする。
【0030】なお、本実施の形態では、一対の磁気ヘッ
ド半体4a,4bの両方にそれぞれ薄膜コイル6a,6
bが形成された磁気ヘッド1を例に挙げたが、薄膜コイ
ルは、一対の磁気ヘッド半体4a,4bのうちのどちら
か一方にだけに形成するようにしてもよい。
【0031】そして、本実施の形態に係る磁気ヘッドで
は、図1に示すように、一方の磁気ヘッド半体4bの磁
気ヘッド半体突き合わせ面に、識別溝8が形成されてい
る。この識別溝8は、一対の磁気ヘッド半体4a,4b
を突き合わせたときに、磁気ヘッド1を貫通する開口部
となるように形成されており、この識別溝8が形成され
ていることにより、一方の磁気ヘッド半体4aの外形
と、他方の磁気ヘッド半体4bの外形とが非対称とされ
ている。したがって、この磁気ヘッド1では、リーディ
ングコアとトレーリングコアとの判別を容易に行うこと
ができる。
【0032】なお、本実施の形態では、一方の磁気ヘッ
ド半体4bの磁気ヘッド半体突き合わせ面に識別溝8が
形成された磁気ヘッド1を例に挙げたが、識別溝8は、
一方の磁気ヘッド半体4aの外形と、他方の磁気ヘッド
半体4bの外形とが非対称となり、磁気ヘッド1の左右
が容易に識別できるように形成されていればよく、例え
ば、磁気ヘッド1の側面等に形成されていてもよい。
【0033】以下、上記磁気ヘッド1について、その製
造方法を通して詳細に説明する。
【0034】上記磁気ヘッド1を製造する際は、先ず、
図4に示すような、MnO−NiO混合焼結材等の非磁
性体からなる平板状の基板21を用意する。この基板2
1の材料としては、MnO−NiOに限らず各種非磁性
材料が使用可能である。例示するならば、チタン酸カリ
ウムや、チタン酸カルシウム、チタン酸バリウム、酸化
ジルコニウム、アルミナ、アルミナチタンカーバイド、
SiO2 、Znフェライト、結晶化ガラス、高硬度ガラ
ス等が挙げられる。そして、本実施の形態において、基
板21の大きさは、長さ約30mm、幅約30mm、厚
さ約2mmとした。
【0035】次に、図5に示すように、基板21上に、
磁気コアとなる金属磁性層が形成される傾斜面、すなわ
ち磁気コア形成面を形成するために、複数の磁気コア溝
22を、磁気コア溝22内の一方の面が傾斜面22aと
なるように、平行かつ等間隔に形成する。
【0036】ここで、傾斜面22aの傾きは、25〜6
0度程度であればよいが、疑似ギャップやトラック幅精
度等を考慮すると、35〜50度程度がより望ましい。
そこで、本実施の形態において、磁気コア溝22は、片
面を約45度に成型した研削砥石を用いて、傾斜面22
aの傾きが約45度となるように形成した。また、磁気
コア溝22の深さは約130μm、幅は約150μmと
した。
【0037】次に、磁気コア溝22が形成された基板2
1上に、図6に示すように、金属磁性層23を形成す
る。
【0038】ここで、金属磁性層23は、単一の金属磁
性膜から成るものであってもよいが、高周波領域におい
て高感度を持たせるためには、複数の金属磁性膜を絶縁
膜を介して積層して形成したほうがよい。このような構
造とすると、金属磁性層23は複数の層に分断されるた
め、渦電流損失が低減され、特に高周波領域における特
性が向上する。
【0039】ただし、このように金属磁性層23を積層
構造とする場合、絶縁膜の厚みは、十分な絶縁効果が得
られる程度の厚みが必要があるとともに、絶縁膜によっ
て実効的なトラック幅があまり減少しないようになるべ
く薄くする必要がある。
【0040】そこで、本実施の形態において、金属磁性
層23は、Fe−Al−Si合金(センダスト)から成
る厚さ約5μmの金属磁性膜と、アルミナから成る厚さ
約0.15μmの絶縁膜とを、金属磁性膜が3層となる
ように交互に積層させて形成した。
【0041】ここで、金属磁性膜の材料は、Fe−Al
−Si合金に限定されるものではなく、高飽和磁束密度
を有し且つ軟磁気特性を有するものであればよい。例示
するならば、Fe−Al合金、Fe−Ga−Si合金、
Fe−Si−Co合金や、窒化系又は炭化系の軟磁性合
金等が挙げられる。また、絶縁膜の材料も、アルミナに
限定されるものではなく、例えば、SiO2 やSiO、
あるいはこれらを混合させたもの等も使用可能である。
【0042】なお、金属磁性層23の成膜方法は、スパ
ッタリングが好適であるが、その他、蒸着や分子線エピ
タキシー(MBE)等のような物理的な成膜方法(PV
D)が広く適用可能であり、更には、化学反応を伴う気
相成長(CVD)のような化学的な成膜方法を適用する
こともできる。
【0043】次に、図7に示すように、金属磁性層23
が形成された基板21の主面に、磁気コア溝22の長手
方向と直交する方向に、磁気コアを巻回するように薄膜
コイルを形成するための巻線溝24と、金属磁性層23
を磁気コア毎に分離するための分離溝25とを形成す
る。なお、図7では、巻線溝24及び分離溝25をそれ
ぞれ2本形成した例を図示しているが、巻線溝24及び
分離溝25は形成される薄膜コイル列の数だけ設ける必
要があり、薄膜コイル列を3列以上形成するときは、そ
の数だけ巻線溝24及び分離溝25を形成する。
【0044】ここで、巻線溝24は、フロントギャップ
fg側の斜面を、約45度の斜面を持つ砥石で形成し、
フロントギャップfg側の金属磁性層23がフロントギ
ャップfgに向けて斜めに絞り込んだ形となるようにす
る。このように、フロントギャップfg側の金属磁性層
23がフロントギャップfgに向けて絞り込んだ形とな
っていると、フロントギャップfgの部分において磁束
が集中し、より高い記録感度が得られる。ただし、巻線
溝24の形状は、フロントギャップfg側の金属磁性層
23がフロントギャップfgに向けて絞り込んだ形とな
っていればよく、巻線溝24のフロントギャップfg側
の斜面の角度は45度でなくても構わないし、さらに
は、巻線溝24のフロントギャップfg側の形状は円弧
状や多角形状であっても構わない。
【0045】この巻線溝24の深さは、金属磁性層23
が分断されない深さであればよいが、深すぎると磁路長
が大きくなり、磁束伝達効率が下がってしまう。そこ
で、本実施の形態において、巻線溝24は、磁気コア溝
22の斜面の頂点から約20μmの深さとなるように形
成した。また、巻線溝24の幅は、後工程において巻線
溝24を通るように薄膜コイルが形成されるので、薄膜
コイルの線幅や巻数等によって規定される。そして、本
実施の形態において、巻線溝24の幅は、約140μm
とした。
【0046】一方、分離溝25は、金属磁性層23が完
全に分断されるだけの深さの溝で有れば任意の形状でよ
い。そこで、本実施の形態において、分離溝25は、加
工が容易な矩形状の溝とし、磁気コア溝22の底面から
約150μmの深さまで形成した。また、分離溝25の
幅は、所望する磁気ヘッドのフロントギャップfgの長
さとバックギャップbgの長さの兼ね合いによって決定
される。ただし、フロントギャップfgの長さは、最終
的に磁気ヘッドを所定の形状に加工する際に記録媒体摺
動面をラップするため、分離溝25を形成する段階で
は、最終的に所望するフロントギャップfgの長さより
も長めに設定しておく必要がある。そして、本実施の形
態では、分離溝25を形成した段階における金属磁性層
23のフロントギャップfg側の長さが約300μm、
バックギャップbg側の長さが約85μmとなるよう
に、分離溝25を形成した。
【0047】次に、図8に示すように、磁気コア溝2
2、巻線溝24及び分離溝25に、溶融した低融点ガラ
ス26を充填し、その後、その表面を平坦化する。
【0048】次に、図9に示すように、分離溝25内に
充填された低融点ガラス26の部分に、分離溝25と平
行に端子溝27を形成する。この端子溝27は、薄膜コ
イルから導出される外部接続用端子を形成するための溝
であり、溝の形状や深さ及び幅等は特に限定されない。
そこで、本実施の形態において、端子溝27は、加工が
容易な矩形状の溝とし、その深さ及び幅はそれぞれ10
0μm程度とした。
【0049】次に、図10に示すように、端子溝27の
内部に電解メッキ法等によりCu等の良電導材28を充
填し、その後、再び表面を平坦化する。
【0050】続いて、図11乃至図16に示すように、
薄膜形成プロセスによって、低融点ガラス26に埋設す
るように、巻線溝24を通る薄膜コイルを形成する。な
お、図11乃至図16では、便宜上、1つの薄膜コイル
を拡大して示すが、実際は、分離溝25によって分断さ
れた各金属磁性層23に対応するように、複数の薄膜コ
イルが形成される。
【0051】薄膜コイルを形成する際は、先ず、図11
に示すように、低融点ガラス26上に、フォトリソグラ
フィ技術により、渦巻状の薄膜コイルの外形形状に対応
するようにパターニングされたレジストマスク31を形
成する。
【0052】次に、レジストマスク31をマスクとし
て、低融点ガラス26に対してイオンエッチングを施
し、その後、有機溶剤等を用いてレジストマスク31を
除去する。これにより、図12に示すように、レジスト
マスク31の形状に対応したコイル状溝32が形成され
る。
【0053】次に、図13に示すように、コイル状溝3
2が形成された低融点ガラス26の全面にスパッタリン
グによりCu等からなる導電性下地膜33を成膜する。
なお、導電性下地膜33の成膜は、例えば蒸着等の手法
を用いてもよい。また、低融点ガラス26との密着性を
高めるために、予めTiやアルミナ等からなる下地膜を
成膜し、当該下地膜上に導電性下地膜33を形成するよ
うにしてもよい。
【0054】次に、図14に示すように、電解メッキ法
により導電性下地膜33上にCuメッキ34を成長さ
せ、その後、図15に示すように、表面を研磨して平坦
化し、コイル状溝32の内部以外に堆積した導電性下地
膜33及びCuメッキ34を除去する。これにより、コ
イル状溝32の内部に埋設された薄膜コイル35が形成
される。
【0055】なお、薄膜コイル35は、上述のような電
解メッキ法に代えて、コイル状溝32の内部に導電性ペ
ーストを充填し、当該導電性ペーストを焼成することに
より形成するようにしてもよい。
【0056】以上のように薄膜コイル35を形成する
際、薄膜コイル35は、図16に示すように、金属磁性
層23のバックギャップbgとなる部分の近傍を中心と
して渦巻状に形成するとともに、その外周側の端部が端
子溝27内に充填された良電導材28に接続するように
形成する。これにより、良電導部材28が、薄膜コイル
35から導出された外部接続用端子として機能すること
となる。
【0057】以上の工程により、コイル状溝32の内部
に埋設された薄膜コイル35が形成される。すなわち、
以上の工程により、図17に示すように、分離溝25で
分離された各金属磁性層23に対応した複数の薄膜コイ
ル35が、基板21上に充填された低融点ガラス26に
埋設された磁気ヘッドブロック基板40が完成する。
【0058】以上のように薄膜コイル35が埋設された
磁気ヘッドブロック基板40を形成した後に、磁気ヘッ
ドブロック基板40の表面にAu薄膜を成膜する。な
お、ここで成膜する薄膜は、Pt薄膜やAg薄膜など、
Au以外の金属からなる薄膜であってもよい。
【0059】その後、金属磁性層23上のフロントギャ
ップfgとなる部分と、金属磁性層23上のバックギャ
ップbgとなる部分と、薄膜コイル35の中心側の端部
上と、薄膜コイル35の外側とにレジストマスクを形成
し、当該レジストマスクをマスクとして、イオンミリン
グ等の手法によりAu薄膜にエッチングを施す。
【0060】これにより、金属磁性層23上のフロント
ギャップfgとなる部分と、金属磁性層23上のバック
ギャップgbとなる部分と、薄膜コイル35の中心側の
端部上と、薄膜コイル35の外側とにAu薄膜が形成さ
れる。
【0061】これらのAu薄膜は、後工程において、磁
気ヘッドブロック基板40を切断することにより得られ
る一対の磁気ヘッドブロック半体を、Auの拡散接合に
より接合するためのものである。また、薄膜コイル35
の中心側の端部上に形成されたAu薄膜は、一対の磁気
ヘッドブロック半体を接合したときに、一方の磁気ヘッ
ドブロック半体に埋設された薄膜コイル35の中心側の
端部と、他方の磁気ヘッドブロック半体に埋設された薄
膜コイル35の中心側の端部とを電気的に接続するため
の接続用導体としても機能する。更に、金属磁性層23
上のフロントギャップfgとなる部分及びバックギャッ
プgbとなる部分に形成されたAu薄膜は、一方の磁気
ヘッドブロック半体の金属磁性層23と、他方の磁気ヘ
ッドブロック半体の金属磁性層23との間に磁気ギャッ
プを形成するためのギャップ材としても機能する。
【0062】次に、図18に示すように、一方の分離溝
25内に充填された低融点ガラス26の部分、すなわち
上述の工程によって形成された薄膜コイル列と薄膜コイ
ル列との間の部分に、端子溝27に充填された良電導材
28と平行に識別溝41を形成する。この識別溝41
は、作製された磁気ヘッドの左右を識別できるようにす
るために形成される溝であり、磁気ヘッドの左右が非対
称となるような溝で有れば、その形状や深さ及び幅等は
任意でよい。
【0063】次に、図19に示すように、磁気ヘッドブ
ロック基板40を端子溝27と平行に切断し、一対の磁
気ヘッドブロック半体42,43とする。このとき、一
方の磁気ヘッドブロック半体42には、薄膜コイル列、
すなわち長手方向に一列に並んだ複数の薄膜コイル35
が埋設されており、同様に、他方の磁気ヘッドブロック
半体43にも、薄膜コイル列、すなわち長手方向に一列
に並んだ複数の薄膜コイル35が埋設されている。
【0064】次に、図20に示すように、一対の磁気ヘ
ッドブロック半体42,43を突き合わせて加圧した上
で昇温し、これら一対の磁気ヘッドブロック半体42,
43をAu薄膜による拡散接合により接合して磁気ヘッ
ドブロック44とする。なお、このように拡散接合を行
う際の温度は、低融点ガラス26が溶融しない程度の温
度とする。
【0065】ここで、一対の磁気ヘッドブロック半体4
2,43は、一対の磁気ヘッドブロック半体42,43
に埋設された各金属磁性層23がAu薄膜を介して対向
するように接合する。これにより、一方の磁気ヘッドブ
ロック半体42の金属磁性層23と、他方の磁気ヘッド
ブロック半体43の金属磁性層23との間に、フロント
ギャップfg及びバックギャップbgが形成される。
【0066】また、一対の磁気ヘッドブロック半体4
2,43は、一方の磁気ヘッドブロック半体42に埋設
された薄膜コイル35の中心側の端部上に形成されたA
u薄膜と、他方の磁気ヘッドブロック半体43に埋設さ
れた薄膜コイル35の中心側の端部上に形成されたAu
薄膜とが接触するように接合する。これにより、一方の
磁気ヘッドブロック半体42に埋設された薄膜コイル3
5と、他方の磁気ヘッドブロック半体43に埋設された
薄膜コイル35とが電気的に導通する。
【0067】なお、本実施の形態では、一対の磁気ヘッ
ドブロック半体42,43の接合をAu薄膜を用いた拡
散接合により行ったが、この接合は、薄膜コイル35の
中心側の端部以外については、接着剤等を用いた化学的
な接合方法によるものであってもよい。
【0068】最後に、一対の磁気ヘッドブロック半体4
2,43が接合された磁気ヘッドブロック44に対し
て、スライシング加工を施して磁気コア毎に切断した上
で、それらを所定の形状に研削加工する。これにより、
図1に示したような磁気ヘッドが完成する。
【0069】なお、上述の磁気ヘッドの製造方法では、
磁気ヘッドブロック基板40を、薄膜コイル列毎に切断
して一対の磁気ヘッドブロック半体42,43とし、こ
の一対の磁気ヘッドブロック半体42,43を接合した
後に、各磁気コア毎に1つずつ切断して個々の磁気ヘッ
ドとしたが、これらの切断や接合の工程の順序は変更が
可能である。すなわち、例えば、磁気ヘッドブロック基
板40を、予め各磁気コア毎に1つずつ切断して磁気ヘ
ッド半体とし、この磁気ヘッド半体をそれぞれ接合し
て、個々の磁気ヘッドをするようにしてもよい。或い
は、例えば、磁気ヘッドブロック基板40を2つ用意
し、これらを接合した上で、各磁気コア毎に1つずつ切
断して、個々の磁気ヘッドとするようにしてもよい。
【0070】以上のような磁気ヘッドでは、識別溝によ
って磁気ヘッドの左右が非対称とされているので、記録
再生時に磁気記録媒体が進入してくる側の磁気コアであ
るリーディングコアと、他方の磁気コアであるトレーリ
ングコアとを容易に判別することができる。したがっ
て、本実施の形態に係る磁気ヘッドでは、例えば、回転
ドラムや端子板等に接着して搭載する際に、その接着面
を間違いてしまうような誤りが防止される。
【0071】一般に磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ
の位置は、回転ドラムや端子板等への接着面を基準とし
て形成されるので、接着面を間違えると、磁気ギャップ
の位置が所定位置からずれてしまう。これに対して、本
実施の形態では、上述のように接着面の間違いが防止さ
れるので、接着面の間違いに起因する磁気ギャップ位置
の不良を低減することができる。
【0072】また、上述の実施の形態では、1つの識別
溝を形成した磁気ヘッドを例に挙げたが、磁気ヘッドの
種類に応じて、識別溝の数や形状等、或いは識別溝の形
成位置等を変えるようにしてもよい。これにより、磁気
ヘッドの種類を容易に識別できるようになり、例えば、
磁気ヘッドを回転ドラム等に搭載する際に、磁気ヘッド
の種類を間違えて搭載してしまうような誤りを防止する
ことができる。
【0073】具体的には、例えば、プラスアジマスの磁
気ヘッドには、識別溝を1つ形成し、マイナスアジマス
の磁気ヘッドには、識別溝を2つ形成するようにする。
これにより、プラスアジマスの磁気ヘッドと、マイナス
アジマスの磁気ヘッドとを容易に識別することが可能と
なる。また、アジマスの違いに限らず、トラック幅、磁
気ギャップのデプス長、磁気ギャップ位置等の違いによ
って、識別溝の数や形状等、或いは識別溝の形成位置等
を変えることにより、それらの違いを容易に識別できる
ようになる。
【0074】ところで、従来は、磁気ヘッドが固定され
る端子板の色等により、磁気ヘッドの種類を判別してい
た。しかしながら、回転ドラムに磁気ヘッドを直接接着
するダイレクトマウントでは、端子板を用いないため、
端子板によって磁気ヘッドの種類を判別することができ
なくなる。したがって、磁気ヘッドの種類に応じて、識
別溝の数や形状等、或いは識別溝の形成位置等を変え
て、種類を容易に識別できるようにした磁気ヘッドは、
特にダイレクトマウントを行う場合に、特に好適であ
る。
【0075】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、回転ドラム上に多数搭載することが可能で、
しかも高周波帯域で良好な電磁変換特性を示すバルク薄
膜ヘッドについて、リーディングコアとトレーリングコ
アとの判別を容易にできるようになる。したがって、本
発明によれば、磁気ヘッドを回転ドラム等に搭載する際
に、磁気ヘッドを逆向きに搭載してしまうような誤りを
防止することができる。
【0076】更には、磁気ヘッドの種類に応じて、磁気
ヘッド半体の非磁性基板に形成する溝の数や形状、或い
はその形成位置等を変えることにより、磁気ヘッドの種
類を容易に識別できるようにもなる。したがって、本発
明によれば、磁気ヘッドを回転ドラム等に搭載する際
に、磁気ヘッドの種類を間違えて搭載してしまうような
誤りを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。
【図2】図1に示す磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍を拡
大して示す平面図である。
【図3】図1に示す磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍を拡
大して示す斜視図である。
【図4】非磁性体からなる平板状の基板を模式的に示す
斜視図である。
【図5】基板に磁気コア溝を形成した状態を模式的に示
す斜視図である。
【図6】基板上に金属磁性層を形成した状態を模式的に
示す斜視図である。
【図7】金属磁性層が形成された基板に巻線溝及び分離
溝を形成した状態を模式的に示す斜視図である。
【図8】磁気コア溝、巻線溝及び分離溝に低融点ガラス
を充填した状態を模式的に示す斜視図である。
【図9】低融点ガラスに端子溝を形成した状態を模式的
に示す斜視図である。
【図10】端子溝内に良電導材を充填した状態を模式的
に示す斜視図である。
【図11】低融点ガラス上に薄膜コイルに対応したレジ
ストマスクを形成した状態を模式的に示す断面図であ
る。
【図12】低融点ガラスをエッチングし、コイル状溝を
形成した状態を模式的に示す断面図である。
【図13】導電性下地膜を形成した状態を模式的に示す
断面図である。
【図14】導電性下地膜上にCuメッキを成長させた状
態を模式的に示す断面図である。
【図15】薄膜コイルを形成した状態を模式的に示す断
面図である。
【図16】薄膜コイルを形成した状態を模式的に示す平
面図である。
【図17】薄膜コイルが埋設された磁気ヘッドブロック
基板を模式的に示す斜視図である。
【図18】磁気ヘッドブロック基板に識別溝を形成した
状態を模式的に示す斜視図である。
【図19】磁気ヘッドブロック基板が切断されてなる一
対の磁気ヘッドブロック半体を模式的に示す斜視図であ
る。
【図20】一対の磁気ヘッドブロック半体が接合された
磁気ヘッドブロックを模式的に示す斜視図である。
【図21】従来のバルク薄膜ヘッドの一例を示す斜視図
である。
【図22】従来のMIG型磁気ヘッドの一例を示す斜視
図である。
【符号の説明】
1 磁気ヘッド、 2a,2b 非磁性基板、 3a,
3b 金属磁性層、4a,4b 磁気ヘッド半体、 5
低融点ガラス、 6a,6b 薄膜コイル、 7a,
7b 外部接続用端子、 8 識別溝、 g 磁気ギャ
ップ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 非磁性基板上の少なくと一部に磁気コア
    となる金属磁性層が形成されてなる一対の磁気ヘッド半
    体と、上記一対の磁気ヘッド半体の少なくとも一方に埋
    設された薄膜コイルとを備え、一方の磁気ヘッド半体の
    金属磁性層と、他方の磁気ヘッド半体の金属磁性層との
    間に磁気ギャップを介して、上記一対の磁気ヘッド半体
    が接合されてなる磁気ヘッドにおいて、 一方の磁気ヘッド半体の外形と、他方の磁気ヘッド半体
    の外形とが非対称であることを特徴とする磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 一方の磁気ヘッド半体の非磁性基板と、
    他方の磁気ヘッド半体の非磁性基板との少なくとも一方
    に1以上の溝が形成されており、 当該溝が形成されていることにより、一方の磁気ヘッド
    半体の外形と、他方の磁気ヘッド半体の外形とが非対称
    とされていることを特徴とする請求項1記載の磁気ヘッ
    ド。
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