JPH1034943A - インクジェット記録ヘッド用インク室基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の微細なインク加圧室溝を高密度かつ高
精度に形成可能なインクジェット記録ヘッド用インク室
基板の製造方法を提供することにある。 【解決手段】 実物のインク室基板とは凹凸の形状を反
転させたインク室基板の雌型２３を製作する第１の工程
２０と、前記雌型２３上に金属膜層２４を形成する第２
の工程２１と、前記雌型２３から前記金属膜層２４を剥
離する第３の工程２２との、３つの工程からなることを
特徴とし、エキシマレーザ加工によって複数の微細な溝
を高密度かつ高精度に形成した前記雌型２３の形状を電
気メッキ法により形成する前記金属膜層２４で忠実に転
写して、金属製のインク室基板を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、インク滴を画像記
録媒体上へ選択的に付着させるインクジェット記録ヘッ
ドの製造方法に関し、さらに詳しくは、インクジェット
記録ヘッドのインク室を形成するインク室基板の製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】インクジェット記録ヘッドとしては、圧
電素子の変位を利用してインク室の一部分にあるインク
加圧室の一つの圧力壁を形成する振動板を変形させてイ
ンク室内に充填したインクを加圧することによりインク
加圧室に連通するノズルからインク滴を噴射させるもの
（ピエゾインパルス方式）、あるいはインク室の一部に
あるインク流路内に配設した発熱素子を急激に発熱させ
て気泡を発生させることによりインク室に充填したイン
クをインク流路に連通するノズルからインク滴にして噴
射させるもの（バブルジェット方式）等が種々提案され
てきた。

【０００３】上述のインクジェット記録ヘッドは、一般
的には、複数の微細なノズル、複数の微細なインク加圧
室あるいは複数の微細なインク流路、複数の微細なイン
加圧室あるいは複数の微細なインク流路の一部に併設さ
れる複数の微細な噴射エネルギ発生素子等を高密度かつ
高精度に備えている。

【０００４】なお、複数のインク加圧室あるいは複数の
インク流路を有する場合、それらの複数のインク加圧室
あるいは複数のインク流路は、共通インク室にて連結さ
れた構造となっている。

【０００５】そして、この様なインクジェット記録ヘッ
ドを製造する従来の方法としては、例えば、ガラスや金
属等の基板に切削加工やエッチング加工等によって、複
数のインク加圧室あるいは複数のインク流路を形成する
為の複数の微細な溝、およびそれら複数の微細な溝を連
結して共通インク室を形成する為の溝とを形成したイン
ク室基板を作成し、その後このインク室基板に他の適当
な基板を接合して、ヘッド内に複数のインク加圧室ある
いは複数のインク流路、および共通インク室を形成する
方法が知られている。

【０００６】しかしながら、前記従来方法の切削加工に
よるインク室基板への溝の形成は、力学的に材料を除去
する機械的な加工法である為に、溝のエッジ部に欠けが
生じる問題があって、複数の微細な溝を高密度かつ高精
度に加工することは困難であるという課題を有する。

【０００７】また、前記従来方法のエッチング加工によ
るインク室基板への溝の形成は、化学的に材料を溶解し
て除去する加工法である為に、材料を除去する加工作用
が溝の深さ方向だけではなくて溝の横方向にも働いてし
まう問題、すなわちエッチング加工に特有のサイドエッ
チングの問題があって、複数の微細な溝を高密度かつ高
精度に加工することは困難であるという課題を有する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる問題
点を鑑みなされたものであり、その目的とするところ
は、インクジェット記録ヘッドのインク室を形成するイ
ンク室基板の製造方法において、複数の微細な溝を高密
度かつ高精度に形成することが可能なインクジェット記
録ヘッド用インク室基板の製造方法を提供することにあ
る。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明のインクジェット記録ヘッド用インク室基板
の製造方法は、下記に記載の手段を採用する。

【００１０】本発明のインクジェット記録ヘッド用イン
ク室基板の製造方法は、実物のインク室基板とは凹凸の
形状を反転させたインク室基板の雌型を製作する第１の
工程と、前記雌型上に金属膜層を形成する第２の工程
と、前記雌型から前記金属膜層を剥離する第３の工程と
の、３つの工程からなることを特徴とする。

【００１１】また、本発明のインクジェット記録ヘッド
用インク室基板の製造方法の前記第１の工程は、エキシ
マレーザを高分子樹脂製の基板に照射して、高分子樹脂
製の基板を加工することによって、高分子樹脂製のイン
ク室基板の雌型を製作することを特徴とする。

【００１２】さらに、本発明のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法の前記第２の工程は、電気
メッキ法によって金属膜層を形成することを特徴とす
る。

【００１３】またさらに、本発明のインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法の前記電気メッキ法
は、ニッケル電鋳とすることを特徴とする。

【００１４】本発明のインクジェット記録ヘッド用イン
ク室基板の製造方法は、実物のインク室基板とは凹凸の
形状を反転させたインク室基板の雌型を製作する第１の
工程と、前記インク室の雌型上に金属膜層を形成する第
２の工程と、前記インク室基板の雌型から前記金属膜層
を剥離する第３の工程との、３つの工程を備えている。

【００１５】そして、本発明のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法の前記第１の工程では、エ
キシマレーザを高分子樹脂製の基板に照射して、高分子
樹脂製の基板を加工することによって、高分子樹脂製の
インク室基板の雌型を製作するが、エキシマレーザを高
分子樹脂材料に照射するとアブレーションと呼ばれる現
象が起こって、高分子樹脂材料が高精度に除去加工され
る。

【００１６】このアブレーション現象による加工作用
は、エキシマレーザのフォトンエネルギが高分子樹脂材
料の分子結合エネルギよりも充分に大きい為に、高分子
樹脂材料の分子結合を直接的に解離させるという原理に
基ずくものであって、分子オーダーでの非熱的な加工が
なされる為に、加工部は非常に滑らかで、欠け等を生じ
ること無く、高精度に加工される。

【００１７】また、一般的にレーザ加工における加工限
界の最小寸法はレーザ波長の１０倍程度であると言われ
ているが、エキシマレーザ加工では波長が紫外域の短波
長であるが故に１０μｍ以下の微細なパターンの加工が
可能であり、微細形状の加工が高精度かつ高密度に実現
できる。

【００１８】よって、本発明のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法の前記第１の工程では、エ
キシマレーザを高分子樹脂製の基板に照射して高分子樹
脂製の基板を加工することにより、複数の微細な溝を高
密度かつ高精度に有する高分子樹脂製のインク室基板の
雌型が製作できる。

【００１９】また、本発明のインクジェット記録ヘッド
用インク室基板の製造方法では、前記第２の工程で、前
記インク室基板の雌型上に電気メッキ法によって金属膜
層を形成する。

【００２０】この第２の工程では、前記第１の工程でエ
キシマレーザ加工により高密度かつ高精度に形成した前
記インク室基板の雌型上の複数の微細な溝を金属膜層で
埋め尽くして、前記インク室基板の雌型の表面を金属膜
層で覆う。

【００２１】またさらに、本発明のインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法では、前記第３の工程
において、前記金属膜層で覆った前記インク室基板の雌
型から前記金属膜層を剥離する。

【００２２】すると、この第３の工程で剥離する前記金
属膜層には、前記第１の工程でエキシマレーザ加工によ
り高密度かつ高精度に形成した前記インク室基板の雌型
の形状が凹凸を反転した形で忠実に転写できる。

【００２３】よって、前記第３の工程で剥離した前記金
属膜層は、複数のインク加圧室あるいは複数のインク流
路を形成する為の複数の微細な溝を高密度かつ高精度に
備えており、なおかつ、それら複数の微細な溝を連結し
て共通インク室を形成する為の溝を備えているので、剛
性の高い金属製のインク室基板とすることができる。

【００２４】なお、上述の様にして、本発明のインクジ
ェット記録ヘッド用インク室基板の製造方法によって得
られるインク室基板のインク加圧室あるいはインク流路
を形成する複数の微細な溝においては、従来方法の切削
加工で生じる溝エッジ部の欠けの問題や、従来方法のエ
ッチング加工で生じるサイドエッチングの問題は無い。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明による一実施例を、
図面を基に説明する。

【００２６】図５は、本発明によるインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法によって得たインク室
基板を組み込んだインクジェット記録ヘッドの構成を表
す斜視図である。

【００２７】図６は、同インクジェット記録ヘッドの構
成を表す分解斜視図である。

【００２８】図７は、本発明によるインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法によって得たインク室
基板の構造を表す斜視図であり、図５および図６に示し
たインク室基板１４の構造を表す斜視図である。

【００２９】まずは、この図５、図６および図７を用い
て、同インクジェット記録ヘッドの構成の概要を説明す
る。

【００３０】同インクジェット記録ヘッドはピエゾイン
パルス方式のインクジェット記録ヘッドであって、図５
および図６に示した様に、圧電素子群１０と、圧電素子
群１０の一端を固定する基台１１と、圧電素子群１０に
外部から電力を供給するフレキシブルプリントケーブル
１２と、圧電素子群１０および基台１１とを格納するフ
レーム１３と、インク加圧室溝群１４ａと共通インク室
溝１４ｂ（図７に図示した）およびインク供給口１４ｃ
とを備えたインク室基板１４と、インク室基板１４と供
にインク加圧室群および共通インク室の一壁を形成して
圧電素子群１０の変位をインク加圧室群に伝達しインク
（図示しない）を加圧する振動板１７と、インク滴１８
を噴射するノズル群１９ａを備えたノズル板１９とから
構成される。

【００３１】なお、インク室基板１４は、図７に示した
様に、インク加圧室溝群１４ａと共通インク室溝１４ｂ
およびインク供給口１４ｃとを備えており、インク加圧
室溝群１４ａの各々のインク加圧室溝は共通インク室溝
１４ｂで連結された構造となっている。

【００３２】上記の各構成部材の組立としては、組立圧
電素子群１０と基台１１との当接面、基台１１とフレー
ム１３との当接面、圧電素子群１０と振動板１７との当
接面、フレーム１３と振動板１７との当接面、振動板１
７とインク室基板１４との当接面、ノズル板１９とフレ
ーム１３およびインク室基板１４および振動板１７との
当接面が、それぞれ接着剤で固着されて組み立てられて
いる。

【００３３】圧電素子群１０とフレキシブルプリントケ
ーブル１２とは、ハンダ付けされて電気的に導通がとら
れた状態に組み立てられている。

【００３４】インク室基板１４のインク供給口１４ｃに
は、インク（図示しない）を充填したインクタンク（図
示しない）を取り付けて、インク室基板１４と振動板１
７とで形成した共通インク室およびインク加圧室群にイ
ンクを流し込んで充填する。

【００３５】そして、共通インク室およびインク加圧室
群にインクを充填した状態で、フレキシブルプリントケ
ーブル１２を通して外部から適切な電力を圧電素子群１
０に供給すると、圧電素子群１０が変位してインク加圧
室群の一つの壁を形成する振動板１７を変形させて、イ
ンク加圧室群に充填したインクを加圧し、インク加圧室
群に連通するノズル群１９ａからインク滴１８を噴射す
る。

【００３６】インク滴１８を噴射した後には、インク加
圧室群に共通インク室からインクが補給され、共通イン
ク室にはインク室基板１４のインク供給口１４ｃに取り
付けたインクタンクからインクが補給される。

【００３７】なお、図５および図６では図を簡略化する
為に、ノズル群１９ａを４個のノズルで構成した同イン
クジェット記録ヘッドを示した。

【００３８】また、図７にも図を簡略化する為に、ノズ
ル群１９ａが４個のノズルで構成された同インクジェッ
ト記録ヘッドに対応するインク室基板１４を示した。

【００３９】しかし、実際の同インクジェット記録ヘッ
ドでは２０個あるいは６４個、または１２８個のノズル
でノズル群１９ａを構成している。

【００４０】そして、同インクジェット記録ヘッドを用
いてインク滴１８を画像記録媒体上へ選択的に付着させ
るには、ノズル群１９ａ中の特定の選択したノズルだけ
からインク滴１８を噴射させれば良く、その為には圧電
素子群１０の中からインク滴１８を噴射させたいノズル
に対応した特定の圧電素子を選択し、その選択した特定
の圧電素子だけにフレキシブルプリントケーブル１２を
通して電力を供給し、圧電素子群１０中のから選択した
特定の圧電素子だけを駆動させれば良い。

【００４１】上述、本発明によるインクジェット記録ヘ
ッド用インク室基板の製造方法によって得たインク室基
板１４を組み込んだインクジェット記録ヘッドの構成説
明に引き続いては、次に、本発明によるインクジェット
記録ヘッド用インク室基板の製造方法の一実施例を説明
する。

【００４２】図１は、本発明によるインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法を表す行程図である。

【００４３】本発明のインクジェット記録ヘッド用イン
ク室基板の製造方法は、図７に示した実物のインク室基
板１４とは凹凸の形状を反転させたインク室基板の雌型
２３を製作する第１の工程２０と、前記インク室基板の
雌型２３上に金属膜層２４を形成する第２の工程２１
と、前記インク室基板の雌型２３から前記金属膜層２４
を剥離する第３の工程２２との、３つの工程を備えてい
る。

【００４４】以下、本発明によるインクジェット記録ヘ
ッド用インク室基板の製造方法を図１に示した行程図の
工程毎に、行程順に従って順に説明する。

【００４５】図２は、本発明によるインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法において、実物のイン
ク室基板１４とは凹凸の形状を反転させたインク室基板
の雌型２３を製作する第１の工程２０を示す説明図であ
り、エキシマレーザマスクイメージング加工法によって
インク室基板の雌型２３を製作する方法を示している。

【００４６】クリプトンフッ素エキシマレーザ発振器２
５から出射させたクリプトンフッ素エキシマレーザ２６
は、反射ミラー２７によって光路を調整した後、インク
室基板１４のパターンを有したマスク２８を通過させる
ことによりインク室基板１４のパターン状に成形し、そ
の後レンズ２９を介して高分子樹脂製の基板３０上に縮
小投影照射して、実物のインク室基板１４とは凹凸の形
状を反転させたインク室基板の雌型２３を製作する。

【００４７】なお、上述でマスク２８は、単に、インク
室基板１４のパターンを有したマスク２８と記したが、
具体的には、高分子樹脂製の基板３０上に縮小投影照射
するので、縮小投影倍率に応じて、実物のインク室基板
１４のパターンよりは大きい相似形のパターンを有して
いる。

【００４８】さらに詳しくは、実物のインク室基板１４
の凹凸形状においては凸部に相当する部分がクリプトン
フッ素エキシマレーザ２６を通過させるパターンとして
いる。

【００４９】そして、実物のインク室基板１４の凹凸形
状においては凸部に相当する部分が、クリプトンフッ素
エキシマレーザ２６の照射によって除去加工され、実物
のインク室基板１４とは凹凸の形状を反転させたインク
室基板の雌型２３が得られる。

【００５０】本発明のインクジェット記録ヘッド用イン
ク室基板の製造方法において、実物のインク室基板１４
とは凹凸の形状を反転させたインク室基板の雌型２３を
製作する第１の工程２０では、前で説明した様に、エキ
シマレーザのフォトンエネルギが高分子樹脂材料の分子
結合エネルギよりも充分に大きい為に、高分子樹脂材料
の分子結合を直接的に解離させるアブレーションと呼ば
れる現象が起こり、このアブレーション現象の加工作用
によって高分子樹脂製の基板３０が加工され、インク室
基板の雌型２３を製作できる。

【００５１】なお、アブレーション現象の加工作用は上
述ごとく、高分子樹脂材料の分子結合を直接的に解離さ
せる分子オーダーでの非熱的な加工作用である為に加工
部は非常に滑らかな仕上がりとなり、欠け等を生じるこ
と無く、高精度なインク室基板の雌型２３が得られる。

【００５２】また、一般的にレーザ加工における加工限
界の最小寸法はレーザ波長の１０倍程度であると言われ
ているが、クリプトンフッ素エキシマレーザ２６の波長
は紫外域の２４８ｎｍという短波長であるが故に、イン
ク室基板の雌型２３上には、インク加圧室溝群１４ａの
凹凸形状を反転させた溝群２３ａが溝幅１０μｍ以下の
微細性でも形成可能である。

【００５３】よって、本発明のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法の前記第１の工程２０で
は、エキシマレーザを高分子樹脂製の基板３０に照射し
て高分子樹脂製の基板３０を加工することによって、イ
ンク加圧室溝群１４ａの凹凸形状を反転させた溝群２３
ａを高密度かつ高精度に有する高分子樹脂製のインク室
基板の雌型２３が製作できる。

【００５４】なお、本実施例において、実物のインク室
基板１４とは凹凸の形状を反転させたインク室基板の雌
型２３を製作する第１の工程２０としては、マスクイメ
ージング法エキシマレーザ加工によってインク室基板の
雌型２３を製作する方法だけを示した。

【００５５】しかしながら、実物のインク室基板１４と
は凹凸の形状を反転させたインク室基板の雌型２３を製
作する第１の工程２０の具体的手段としては、マスクイ
メージング法エキシマレーザ加工だけに限定される訳で
はなく、他にはコンタクトマスク法エキシマレーザ加
工、コンフォーマルマスク法エキシマレーザ加工、ビー
ムスキャニング法エキシマレーザ加工などによっても良
い。

【００５６】次に、図３は、本発明によるインクジェッ
ト記録ヘッド用インク室基板の製造方法において、前記
第１の工程２０で製作したインク室の雌型２３上に金属
膜層２４を形成する第２の工程２１を示す説明図であ
り、電気メッキ法ニッケル電鋳により金属膜層２４を形
成する方法を示している。

【００５７】金属膜層２４を形成するインク室の雌型２
３の上面には、電気メッキを行う際の電極とする為に、
あらかじめ真空蒸着法によって金薄膜３１が付けてあ
る。

【００５８】そして、金薄膜３１を付けてあるインク室
の雌型２３と、ニッケル板３２とをスルファミン酸ニッ
ケルメッキ浴３３に入れ、インク室の雌型２３上に付け
た金薄膜３１を陰電極、ニッケル板３２を陽電極とし、
両電極間に適切にコントロールした電流を流す。

【００５９】すると、インク室の雌型２３の上面に付け
た金薄膜３１上には、ニッケル製の金属膜層２４が形成
される。

【００６０】なお、ここでは、インク室の雌型２３上に
エキシマレーザ加工により形成した溝を全て完全に金属
膜層２４で埋め尽くすことが重要である。

【００６１】インク室の雌型２３上にエキシマレーザ加
工により形成した溝を全て完全に金属膜層２４で埋め尽
くすことが重要なのは、本発明によるインクジェット記
録ヘッド用インク室基板の製造方法では、この第２の工
程２１に引き続き、後述する第３の工程２２にて金属膜
層２４をインク室基板の雌型２３から剥離することによ
ってインク室基板１４を得るが、後にインク室基板の雌
型２３から金属膜層２４を剥離してインク室基板１４と
した際に、インク室基板１４の底に相当する部分の厚み
を充分に確保する為である。

【００６２】次に、図４は、本発明によるインクジェッ
ト記録ヘッド用インク室基板の製造方法において、前記
第２の工程２１で製作した金属膜層２４をインク室の雌
型２３から剥離する第３の工程２２を示す説明図であ
る。

【００６３】この第３の工程２２では、インク室の雌型
２３の材質である樹脂を溶解可能な溶剤を用いて、イン
ク室の雌型２３を溶解し、金属膜層２４をインク室の雌
型２３から剥離する。

【００６４】すると、剥離した金属膜層２４には、前記
第１の工程でエキシマレーザ加工によって高密度かつ高
精度に形成したインク室基板の雌型２３の形状が、凹凸
を反転した形で、忠実に転写形成できる。

【００６５】前記第３の工程で剥離した金属膜層２４
は、微細なインク加圧室溝群１４ａを高密度かつ高精度
に備え、なおかつ、それら微細なインク加圧室溝群１４
ａを連結した共通インク室を形成する共通インク室溝１
４ｂを備えている。

【００６６】したがって、あとは、前記第３の工程で剥
離した金属膜層２４にドリル等の穴開け工具を用いてイ
ンク供給口１４ｃを穴開け加工すれば、前記第３の工程
で剥離した金属膜層２４は、微細なインク加圧室溝群１
４ａおよびそれら微細なインク加圧室溝群１４ａを連結
した共通インク室溝１４ｂを有したインク室基板１４と
することができる。

【００６７】しかも、ここで得られるインク室基板１４
はニッケル製であり、高い剛性を有した金属製のインク
室基板１４が得られる。

【００６８】本発明のインクジェット記録ヘッド用イン
ク室基板の製造方法では、上述の様に、エキシマレーザ
加工によって高精度かつ滑らかに形成したインク室基板
の雌型２３の形状を金属膜層２４で忠実に転写すること
によりインク室基板１４を得る。

【００６９】したがって、インク加圧室溝群１４ａにつ
いては、従来の切削加工法で形成した時の様に、エッジ
部に欠けを生じる問題は無い。

【００７０】また、インク加圧室溝群１４ａを従来のエ
ッチング加工法で形成した時の様なサイドエッチングの
問題も無い。

【００７１】

【発明の効果】以上の説明で明かなように、本発明にお
けるインクジェット記録ヘッド用インク室基板の製造方
法では、実物のインク室基板とは凹凸の形状を反転させ
たインク室基板の雌型を製作する第１の工程と、前記雌
型上に金属膜層を形成する第２の工程と、前記雌型から
前記金属膜層を剥離する第３の工程との、３つの工程を
備えている。

【００７２】また、本発明のインクジェット記録ヘッド
用インク室基板の製造方法の前記第１の工程は、エキシ
マレーザを高分子樹脂製の基板に照射して、高分子樹脂
製の基板を加工することによって、高分子樹脂製のイン
ク室基板の雌型を製作する。

【００７３】さらに、本発明のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法の前記第２の工程は、電気
メッキ法によって金属膜層を形成する。

【００７４】またさらに、本発明のインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法の前記電気メッキ法
は、ニッケル電鋳とする。

【００７５】したがって、本発明のインクジェット記録
ヘッド用インク室基板の製造方法により得られるインク
室基板のインク加圧室あるいはインク流路を形成する複
数の微細な溝においては、従来方法の切削加工法で生じ
る溝エッジ部の欠けの問題や、従来方法のエッチング加
工法で生じるサイドエッチングの問題は無い。

【００７６】このため、インクジェット記録ヘッドのイ
ンク室を形成するインク室基板の製造方法において、複
数の微細な溝を高密度かつ高精度に形成することが可能
なインクジェット記録ヘッド用インク室基板の製造方法
が提供された。

【００７７】さらには、剛性の高い金属製のインク室基
板、具体的にはニッケル製のインク室基板が提供され
た。

【００７８】ひいては、信頼性が高くて高性能なインク
ジェット記録ヘッドが提供された。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による実施例のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法を表す行程図である。

【図２】本発明による実施例のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法において、実物のインク室
基板１４とは凹凸の形状を反転させたインク室基板の雌
型２３を製作する第１の工程２０を示す説明図である。

【図３】本発明による実施例のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法において、前記第１の工程
２０で製作したインク室の雌型２３上に金属膜層２４を
形成する第２の工程２１を示す説明図である。

【図４】本発明による実施例のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法において、前記第２の工程
２１で形成した金属膜層２４をインク室の雌型２３から
剥離する第３の工程２２を示す説明図である。

【図５】本発明による実施例のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法によって得たインク室基板
１４を組み込んだインクジェット記録ヘッドの構成を表
す斜視図である。

【図６】本発明による実施例のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法によって得たインク室基板
１４を組み込んだインクジェット記録ヘッドの構成を表
す分解斜視図である。

【図７】本発明による実施例のインクジェット記録ヘッ
ド用インク室基板の製造方法によって得たインク室基板
１４の構造を表す斜視図である。

【符号の説明】

１４ インク室基板 １８ インク滴 ２０ 実物のインク室基板１４とは凹凸の形状を反転
させたインク室基板の雌型２３を製作する第１の工程 ２１ インク室基板の雌型２３上に金属膜層２４を形
成する第２の工程 ２２ インク室基板の雌型２３から金属膜層２４を剥
離する第３の工程 ２３ インク室基板の雌型 ２４ 金属膜層 ２６ クリプトンフッ素エキシマレーザ ３０ 高分子樹脂製の基板

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 インク滴を画像記録媒体上へ選択的に付
   着させるインクジェット記録ヘッドのインク室を形成す
   るインク室基板の製造方法において、実物のインク室基
   板とは凹凸の形状を反転させたインク室基板の雌型を製
   作する第１の工程と、前記雌型上に金属膜層を形成する
   第２の工程と、前記雌型から前記金属膜層を剥離する第
   ３の工程との、３つの工程からなることを特徴とするイ
   ンクジェット記録ヘッド用インク室基板の製造方法。
2. 【請求項２】 前記第１の工程は、エキシマレーザを高
   分子樹脂製の基板に照射して、高分子樹脂製の基板を加
   工することによって、高分子樹脂製のインク室基板の雌
   型を製作することを特徴とする請求項１に記載のインク
   ジェット記録ヘッド用インク室基板の製造方法。
3. 【請求項３】 前記第２の工程は、電気メッキ法によっ
   て金属膜層を形成することを特徴とする請求項１又は請
   求項２に記載のインクジェット記録ヘッド用インク室基
   板の製造方法。
4. 【請求項４】 前記電気メッキ法は、ニッケル電鋳とす
   ることを特徴とする請求項３に記載のインクジェット記
   録ヘッド用インク室基板の製造方法。