JPH10339869A

JPH10339869A - ディスプレイ表示素子用基材フィルム

Info

Publication number: JPH10339869A
Application number: JP15056697A
Authority: JP
Inventors: Toshinori Machida; 敏則町田
Original assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Current assignee: Toyo Ink Mfg Co Ltd
Priority date: 1997-06-09
Filing date: 1997-06-09
Publication date: 1998-12-22

Abstract

(57)【要約】【課題】ディスプレイ表示素子、特にフィルム液晶表示
素子に好適に用いられ、高温高湿下でも各層の密着力に
優れるためバリヤー層である薄膜層の剥離がなく、ガス
バリヤー性および水蒸気バリヤー性に優れる基材フィル
ムの提供。【解決手段】プラスチックフィルムの片面または両面
に、シランカップリング剤を含む樹脂層を有し、該樹脂
層の上に、けい素酸化物とマグネシウム酸化物とからな
る薄膜層を有するディスプレイ表示素子用基材フィル
ム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガラス基板の代わ
りにプラスチックフィルムを用いたフィルム液晶などの
ディスプレイを構成する表示素子に用いられる耐湿性に
優れる基材フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロニクスの飛躍的な進歩によ
り、液晶，プラズマディスプレイ，エレクトロルミネッ
センス（ＥＬ），蛍光表示管，発光ダイオ−ド等のディ
スプレイが実用化されている。それらの殆どは基材とし
てガラスを使用しているが、大面積化を考えた場合、そ
の自重，曲げられない，割れ易い等のハンドリングの悪
さから、プラスチックフィルムの利用が期待されてい
る。代表的なディスプレイである液晶を例にとると、プ
ラスチックフィルム型液晶素子は、偏光板、プラスチッ
ク基材，アンカ−層，透明電極，配向膜，シ−ル材，液
晶，スペーサー等で構成されている。プラスチック基材
としては、ポリエチレンテレフタレ−トフィルム，ポリ
エチレン−2,6-ナフタレート，ポリカ−ボネ−トフィル
ム，ポリサルフォンフィルム，ポリエ−テルサルフォン
フィルム，ポリエ−テルエ−テルケトンフィルム，ポリ
フェノキシエ−テルフィルム，ポリアリレ−トフィルム
などのプラスチックフィルムが用いられる。

【０００３】しかし、これらのプラスチックフィルムを
基材として用いた液晶表示素子は、ガラス基材を用いた
液晶表示素子に比べ、ガス透過量が非常に大きく、プラ
スチック基材を透過して侵入したガスが液晶表示素子内
に蓄積される。蓄積されたガスは、外部環境により、特
に熱衝撃が与えられると気泡となり、視認性を低下させ
る。更に、その気泡となったガスは、特に外部から圧力
が加えられると、構成材（封入された液晶）やその構成
状態に悪影響を及ぼす。液晶以外のディスプレイにおい
ても同様に、蓄積されたガスが気泡となり、構成材や構
成状態に悪影響を与える。

【０００４】ガスが液晶表示素子内に蓄積することを避
けるためには、プラスチック基材上にガス遮断層を設け
ることと、ガス遮断層を含む各層の密着力が高いことが
必要である。また、その密着力が温湿度の影響を受けに
くいことも必要である。具体的には、ガスバリヤー性の
良い有機膜として知られているポリ塩化ビニリデン（Ｐ
ＶＤＣ）をコ−ティングしたり、ポリビニ−ルアルコ−
ルフィルムを貼り合わせたり、Indium Tin Oxide（ＩＴ
Ｏ）のような無機膜を蒸着その他の手法により片面ある
いは両面に設けることが試みられている。

【０００５】しかし、ポリ塩化ビニリデンやポリビニル
アルコ−ルのような有機膜は、充分なガスバリヤー性を
有していない。また、温度および湿度依存性が高いた
め、高温下または高湿度下ではガス遮断効果に対し信頼
性が低いだけでなく、水蒸気バリヤー性能も不十分であ
るため水蒸気等が基材内部に拡散し、基材が寸法変化す
ることから、ディスプレイ表示素子の構造状態に悪影響
を与える。更に、これらのバリヤー性を向上させるため
に有機バリヤー膜の厚みを増すと、有機膜の厚みに比例
してガスバリヤ−性が向上するが、同時に透明性を損な
う。一方、ＩＴＯでは原料そのものが高価であるばかり
でなく、透明性を確保するための工程が長く、実用性に
乏しい。

【０００６】そこで、特開昭５９−２０４５４５号公報
に記載されているように、高分子フィルムの片面または
両面にＳｉＯ，ＳｉＯ₂，ＴｉＯ₂，ＺｒＯ₂，Ａｌ₂
Ｏ₃，Ｔａ₂Ｏ₅，Ｎｂ₂Ｏ₃の群から選ばれた少なく
とも１種以上の酸化物層を設け、更に酸化物層を設けた
該高分子フィルムの少なくとも片面上に酸化インジウム
を主成分とする被覆を形成した積層導電フィルムが発明
された。しかし、この積層導電フィルムは、バリヤー層
が無機バリヤー層のためバリヤー性能の温度、湿度依存
性は少ないが、フィルム液晶の基材フィルムとして用い
るにはガスバリヤー性能が不十分であり、さらにバリヤ
ー層が酸化物の種類によっては着色してしまい、現実に
はフィルム液晶の基材に用いることはできなかった。

【０００７】さらに、特開平８−１１４７９１号公報に
記載されるように、プラスチックフィルムにけい素酸化
物と金属フッ化物及びまたはマグネシウム酸化物類とか
らなる薄膜層を形成してなる基材フィルムが発明され
た。この発明の中で、プラスチックフィルムにけい素酸
化物とマグネシウム酸化物からなる薄膜層を設けた積層
体を常温常湿で使用する場合、気泡発生の問題は発生し
ないが、高温高湿の環境に長期間されされてしまう場
合、湿度の影響から薄膜層にクラックが入ってしまうこ
とがあり、その結果、液晶素子内で気泡が発生した。薄
膜層にクラックが入る理由の詳細は不明であるが、薄膜
層中に水分子が入り込むと、薄膜層のけい素酸化物のＳ
ｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を切断し、Ｓｉ−ＯＨＨＯ−Ｓｉと
なり、結果としてクラックが入ると推定できる。そのた
め、市場では、高温高湿下でもガスバリヤー性の高いデ
ィスプレイ表示素子用基材フィルムの出現が望まれてい
た。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ディ
スプレイ表示素子、特にフィルム液晶表示素子に好適に
用いられ、高温高湿下でも各層の密着力に優れるためバ
リヤー層である薄膜層の剥離がなく、ガスバリヤー性お
よび水蒸気バリヤー性に優れる基材フィルムを提供する
ことにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、プラスチ
ックフィルムと、けい素酸化物とマグネシウム酸化物と
からなる薄膜層との間に、プラスチックフィルムと薄膜
層の両方に強く接着する樹脂層を設けることにより、高
温高湿下でもガスバリヤー性および水蒸気バリヤー性に
優れるディスプレイ表示素子用基材フィルムが得られる
ことを見出し、本発明に至った。

【００１０】すなわち、本発明は、プラスチックフィル
ムの片面または両面に、シランカップリング剤を含む樹
脂層を有し、該樹脂層の上に、けい素酸化物とマグネシ
ウム酸化物とからなる薄膜層を有するディスプレイ表示
素子用基材フィルムに関する。また、本発明は、樹脂層
が、エポキシアクリレートまたはウレタンアクリレート
を含む硬化物からなる上記ディスプレイ表示素子用基材
フィルムに関する。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明において、プラスチックフ
ィルムとしては、ポリエ−テルサルフォンフィルム，ポ
リアリレートフィルム，ポリカ−ボネ−トフィルム，ノ
ルボルネン系フィルム，耐熱変性アクリル系フィルム，
ポリエチレンテレフタレ−トフィルムが好適に用いられ
る。また、ポリエチレン−2,6-ナフタレ−トフィルム，
ポリサルフォンフィルム，ポリエ−テルエ−テルケトン
フィルム，ポリフェノキシエ−テルフィルム等も使用で
きる。プラスチックフィルムは、けい素酸化物とマグネ
シウム酸化物とからなる薄膜層を形成することにより、
温湿度耐性を有するガス及び水蒸気バリヤ−性が付加さ
れるため、薄膜層が形成できるフィルムであれば特に制
限はない。これらのプラスチックフィルムは一軸延伸フ
ィルム等のように熱固定されたフィルムでも良い。

【００１２】また、プラスチックフィルムの表面には、
何も付与されていない方が望ましいが、予め界面活性剤
や高分子電解質系等の有機系や導電性金属酸化物系等の
無機系の導電剤が塗工されていてもよく、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール等の有機バリヤ−層が付
与されていてもよい。プラスチックフィルムの厚さは特
に制限されないが、５０〜５００μm が適当である。特
に液晶表示素子の基材として使用する場合には、５０〜
３００μm が適当である。プラスチックフィルムの厚さ
が５０μm 未満の場合は、フィルムのコシがなくなり簡
単に折れ曲がってしまうため、ディスプレイ表示素子用
基材として不適当である。一方、５００μm を越える場
合は、ロール状にできず、樹脂層や薄膜層を連続的に塗
工、加工するのに不適当である。

【００１３】樹脂層は、プラスチックフィルムと薄膜層
の両方に強く接着するように、シランカップリング剤を
含む。シランカプリング剤としては、エポキシシラン、
アミノシランが好適に用いられる。シランカプリング剤
は、樹脂層中に０．１〜５．０重量％、特に０．５〜
２．０重量％の範囲で含まれることが望ましい。樹脂層
は、エポキシアクリレートまたはウレタンアクリレート
と、シランカップリング剤と、必要に応じて他のモノマ
ーとを含み、耐湿性を付与するために、紫外線や電子線
等の活性エネルギー線により硬化されてなることが望ま
しい。

【００１４】樹脂層は、薄膜層の支持体であるため、耐
湿性が悪いと薄膜層が剥離、切断されてしまうことが多
い。特に望ましい樹脂層は、エポキシアクリレートおよ
びシランカップリング剤を含み、紫外線により硬化され
た硬化物からなる。他のモノマーとしては、ジエチレン
アクリレート、トリメチロールプロパンアクリレート、
イソブチルアクリレート、t-ブチルアクリレート、ジエ
チレングリコールアクリレート、ジエチルアミノエチル
アクリレート、β−エトキシエチルアクリレート等が用
いられる。

【００１５】樹脂層を紫外線により硬化する場合には、
樹脂層に、３２０ｎｍ以上の波長の紫外線によって励起
される光増感剤を含有させる。樹脂層は、エポキシアク
リレートまたはウレタンアクリレートと、シランカップ
リング剤とを含む塗工液を、グラビアコート法、リバー
スコート法、キスコート法等の方法で塗工することによ
り形成される。樹脂層の膜厚は０．１〜１０μｍが望ま
しく、特に０．５〜５μｍが望ましい。樹脂層の膜厚が
０．１μｍ未満の場合は、充分な耐湿性が得られず、１
０μｍを越える場合は、折り曲げ等により樹脂層にクラ
ックが発生することがある。

【００１６】薄膜層は、ガスバリヤ−性，水蒸気バリヤ
−性を付与を目的として、けい素酸化物とマグネシウム
酸化物とから構成される。薄膜層を構成するけい素酸化
物は、ＳｉＯ_x（Ｘ＝１．５以上，２未満）である。Ｓ
ｉＯx のＸが１．５未満であると完全に褐色を呈してし
まうので、液晶表示素子の基材には使えない。薄膜層を
構成するけい素酸化物：マグネシウム酸化物の薄膜層の
組成比は、それぞれ９８〜８０モル％：２〜２０モル％
の範囲が望ましく、特に９５〜８５モル％：５〜１５モ
ル％の範囲が望ましい。

【００１７】薄膜層の原料は、金属酸化物，金属，有機
金属化合物等の単独または混合物の何れでも構わない
が、けい素酸化物とマグネシウム酸化物類の混合物、特
にけい素酸化物と、二酸化けい素と酸化マグネシウムの
共酸化物の混合物を原料とすることが望ましい。原料の
組成比は、けい素酸化物：二酸化けい素と酸化マグネシ
ウムの共酸化物＝９８〜７０モル％：２〜３０モル％の
範囲が望ましく、特に９５〜８５モル％：５〜１５モル
％の範囲が望ましい。。

【００１８】原料として用いるけい素酸化物の例として
は、けい素と二酸化けい素の混合物，一酸化けい素単
体、及びけい素と二酸化けい素と一酸化けい素の混合物
が挙げられる。けい素酸化物としてけい素（Ｓｉ）と二
酸化けい素（ＳｉＯ₂）の混合物を用いる場合、その組
成比は基本的には等モルが好ましい。また、原料として
用いるマグネシウム酸化物類の例としては、酸化マグネ
シウム、二酸化けい素と酸化マグネシウムの共酸化物、
具体的にはフォルステライト（ＳｉＯ₂・２ＭｇＯ）や
ステアタイト（２ＳｉＯ₂・ＭｇＯ）が挙げられる。

【００１９】薄膜層は、真空薄膜形成技術によって、樹
脂層の上に形成することができる。真空薄膜形成技術と
しては、真空蒸着，イオンプレ−ティング，スパッタリ
ングなどが挙げられる。真空蒸着の蒸発源としては、異
なる昇華点，融点の物質が常時均一に真空蒸着できる特
開平１−２５２７６８号公報や特開平２−２７７７７４
号公報に記載される蒸発原料を連続的に供給排出する方
式が望ましい。これら方式は蒸着角度を調節することが
できる。蒸着角度を調製することにより、薄膜層の組成
や密度を自由にコントロールすることができ、この組成
や密度は得られる積層体としての酸素ガス透過率に大き
く影響する。例えば、薄膜層の組成の中で、けい素酸化
物とマグネシウム酸化物の比率のうち、マグネシウム酸
化物成分を３０モル％から減らせば減らす程、酸素ガス
透過率は大きくなる。

【００２０】また、薄膜層の膜の密度については、特開
平７−３３１４３６号公報及び特開平７−３３１４３７
号公報に記載させるように蒸着入射角度を変更するとに
より、薄膜層の膜の密度をコントロールすることができ
る。蒸着入射角度が７０度より小さくなればなるほど膜
密度は向上し（酸素ガス透過率は小さくなり）、逆に蒸
着入射角度が７０度より大きくなればなるほど膜密度は
低下する（酸素ガス透過率は大きくなる）。ここで、膜
密度はＳＥＭ写真で観察するか、定量化する場合はＡＦ
Ｍ等が最適である。

【００２１】薄膜層の膜厚は、所望の酸素ガス透過率に
よって選定されるが、１０〜５００ｎｍ、特に２０〜２
００ｎｍが望ましい。薄膜層の膜厚が１０ｎｍ未満の場
合は、充分な酸素ガスバリヤー性が得られず、５００ｎ
ｍを越える場合は、薄膜層が着色するためディスプレイ
の視認性が低下したり、鋭角な折り曲げにより薄膜層に
クラックが発生することがある。また、積層される薄膜
層は、最終的に得られる酸素ガス透過率が得られていれ
ば、多重積層でもよい。

【００２２】プラスチックフィルムの片面または両面
に、樹脂層と薄膜層とを有する本発明の基材フィルム
は、１１０℃で３時間、飽和水蒸気中に暴露した後の酸
素ガス透過率が、０．１〜５．０ml/m² 24hr 25℃100%
RHの範囲の耐湿性を示す。特に、液晶表示素子用基材フ
ィルムとして用いる場合は、０．１〜２．０ml/m² 24h
r25℃100%RHの範囲であることが望ましい。酸素ガス透
過率が５．０ml/m² 24hr 25℃100%RHより大きい基材フ
ィルムを用いて作成された液晶表示素子は、高温高湿環
境に長時間さらされると液晶素子内に気泡が発生し、液
晶表示の視認性が著しく劣化する。また、酸素ガス透過
率が０．１ml/m² 24hr 25℃100%RHより小さい基材フィ
ルムは、薄膜層の膜厚が厚いいため、無色透明性が損な
われ着色しており、液晶表示の視認性が著しく低い。

【００２３】本発明の基材フィルムは、透明電極層，配
向膜層，液晶，スペーサー，シール剤，粘着剤および偏
光板と組み合わせて、液晶表示素子を作成することがで
きる。透明電極層，配向膜層，液晶，スペーサー，シー
ル剤，粘着剤および偏光板としては、以下に示す従来公
知のものを用いることができる。透明電極層としては、
Indium Tin Oxide（ＩＴＯ），インジウム酸化物，錫酸
化物等の薄膜層が挙げられるが、透明性が維持でき、満
足できる導電性が得られるならば、アルミニウム，ニッ
ケル，銀等の金属の薄膜層でも良い。透明電極層の形成
方法としては、薄膜層で挙げた方法が適用できるが、中
でもスパッタリングが最も適当である。透明電極層は、
フィルム全面に形成してから、目的のパターンにするた
めに、酸等を用いてエッチングする。透明電極の表面に
は、窒化ケイ素等の膜を保護層として設けてもよい。

【００２４】配向膜層としては、微細な平行傷をつけた
ポリイミドのコーティング膜、分子配向しやすい蒸着し
た有機材料、コーティングによる単分子膜等が挙げられ
る。液晶としては、Ｎ−（ｐ−メトキシベンジルインデ
ン）ｐ’−ブチルアニリン、ｐ’−ｎ−ペンチル−ｐ−
シアノビフェニル等が挙げられる。スペーサーとして
は、アクリル樹脂やポリスチレン等の有機物の球状の粒
や、二酸化珪素や酸化チタン等の無機物の球状の粒が挙
げられる。シール剤としては、エポキシ樹脂とフェノー
ル硬化剤系の接着剤等が挙げられる。

【００２５】粘着剤としては、透明性が良好なアクリル
樹脂系の粘着剤が使用されることが多い。偏光板として
は、偏光子を三酢酸セルロース（ＴＡＣ）などの保護層
または保護フィルムで両側から挟み込んだ積層体が挙げ
られ、偏光子としてはポリビニルアルコールをベースと
したヨウ素系偏光フィルム、二色染料系偏光フィルム等
が挙げられる。偏光板の三酢酸セルロースフィルムやポ
リビニルアルコールフィルムには、本発明の薄膜層を形
成してもよい。液晶表示素子には、薄膜層／透明導電層
間に易接着層が積層されていても構わない。

【００２６】

【実施例】以下、本発明を実施例に基づいてさらに詳細
に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、以下
の実施例に限定されるものではない。なお、実施例にお
ける試験方法は以下の通りである。高温高湿耐性：基材フィルムを１１０℃１００％ＲＨ３
時間の温湿度条件で暴露する前後に、ＡＳＴＭＤ３
９８５に準拠し、米国モダンコントロールズ社のＯＸＴ
ＲＡＮ−ＴＷＩＮを用いて、基材フィルムの酸素ガス透
過率を測定した。この値が小さいほど、酸素バリヤー性
は優れている。液晶表示素子の耐気泡性：液晶表示素子を４０℃、９０
％ＲＨで２０００時間の温湿度条件に暴露したのち、液
晶内の気泡の発生を目視にて評価した。

【００２７】〔実施例１〕分子量１０４０、融点５５℃
のエポキシアクリレート（昭和高分子株式会社製「ＶＲ
−９０」）２４．８重量％、ジエチレンアクリレート４
９．６重量％、酢酸エチル２４．８重量％、ベンゼンエ
チルエーテル０．５重量％およびシランカップリング剤
（信越化学株式会社製「ＫＢＭ−５０３」）０．３重量
％を５０℃で攪拌、溶解し均一な溶液を調製した。厚さ
１００μm のポリアリレート（ＰＡｒ）フィルムの片面
に、得られた溶液をグラビア法により塗布し、８０℃で
１０分間加熱した後に、紫外線を照射し、２μm の樹脂
層を形成した。次に、樹脂層の上に、特開平１−２５２
７８６号公報に記載された蒸発原料を連続的に供給排出
する方式の連続巻き取り式抵抗加熱方式の真空蒸着機を
使い、特開平７−３３１４３７号公報に記載される蒸着
入射角度を変更する蒸着方法を用いて５０度の蒸着入射
角度で、けい素と二酸化けい素と酸化マグネシウムの混
合物（混合比４５モル％：４５モル％：１０モル％）を
原料として加熱真空蒸着して膜厚が約１００ｎｍの薄膜
層を形成し、基材フィルムを得た。

【００２８】〔実施例２〕エポキシアクリレート１５重
量％、トリメチロールプロパンアクリレート１８重量
％、４，４´−ジエチルアミノベンゾフェノン０．８重
量％、２，４−ジ−tert−ブチルフェニル−３，５−ジ
−tert−ブチル−４−ヒドロキシベン酸１．６重量％、
酢酸エチル５１．４重量％、ブチルセロソルブ１２．９
重量％およびシランカップリング剤（信越化学株式会社
製「ＫＢＥ−９０３」）０．３重量％を５０℃で攪拌、
溶解し均一な溶液を得た。厚さ２００μm のポリエーテ
ルサルフォン（ＰＥＳ）フィルムの両面に、得られた溶
液をグラビア法により塗布し、１２０℃で２分間加熱し
た後に、紫外線を照射し、１μm の樹脂層を形成した。
次に、一方の樹脂層の上に、実施例１で用いた真空蒸着
機（蒸着入射角度は６０度）を使い、けい素と二酸化け
い素とステアタイトの混合物（混合比４７．５モル％：
４７．５モル％：５モル％）を原料として加熱真空蒸着
して膜厚が約５０ｎｍの薄膜層を形成し、基材フィルム
を得た。

【００２９】〔実施例３〕アマニ油脂肪酸４４．３重量
％、トリメチロールプロパン３５．９重量％および無水
フタル酸１９．８重量％を通常のアルキッド樹脂合成法
に従い反応させ、水酸基当量２５０のベース樹脂を得
た。次に、４０℃に加熱し、よく攪拌した２−ヒドロキ
シエチルアクリレート４２．７重量％に、２，４−トリ
レンジイソシアネート５７．３重量％を徐々に加え、残
留ＮＣＯが１２．５％のアクリル化イソシアネートを得
た。ベース樹脂とアクリル化イソシアネートを６０℃で
ＮＣＯがなくなるまで反応させ、ウレタンアクリレート
を得た。得られたウレタンアクリレート３５．４重量％
にシランカップリング剤（信越化学株式会社製「ＫＢＭ
−５０３」）０．３重量％を加え、更に酢酸エチル５
１．４重量％、ブチルセロソルブ１２．９重量％の混合
溶媒に溶解させ、均一な溶液を得た。厚さ１００μm の
ノルボルネンフィルムの片面に、得られた溶液をグラビ
ア法で塗工し、１２０℃で２分間加熱した後に、紫外線
を照射し、１μm の樹脂層を得た。次に、樹脂層の上
に、実施例１で用いた真空蒸着機（蒸着入射角度は４０
度）を使い、けい素と二酸化けい素とステアタイトの混
合物（混合比４２．５モル％：４２．５モル％：１５モ
ル％）を原料として加熱真空蒸着して膜厚が約１５０ｎ
ｍの薄膜層を形成し、基材フィルムを得た。

【００３０】〔比較例１〕樹脂層を形成しなかった以外
は、実施例１と同様にして基材フィルムを得た。〔比較例２〕けい素と二酸化けい素の混合物（混合比５
０モル％：５０モル％）を原料として加熱真空蒸着（蒸
着入射角度は９０度）して膜厚が約１００ｎｍの薄膜層
を形成した以外は、実施例２と同様にして基材フィルム
を得た。

【００３１】実施例および比較例で得られた基材フィル
ムについて、高温高湿耐性を評価した。結果を表１に示
す。また、得られた基材フィルムを用いて、下記の方法
で液晶表示素子を作成し、耐気泡性を評価した。結果を
表１に示す。基材フィルムの薄膜層を設けた面に、アン
カ−層と透明電極膜を形成し、パタ−ン処理を行った。
その上に、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）にポリイミ
ド樹脂を溶かした溶液をゴム板を用いて印刷し、乾燥
後、低温で焼成した後にラビング処理を行い、配向膜と
した。次に、蒸着フィルムの外周部に、熱硬化型のエポ
キシ樹脂にフィラーとスペーサーが混合しているシール
材を、枠状にスクリーン印刷した。また、パターン処理
した透明電極膜の上に、スペーサーをスプレーを用いて
散布した。ここまで作成したものを２枚用意し、透明電
極膜が向き合うように貼り合わせ、紫外線を照射して外
周部のシール材を一部を残して硬化させた後、液晶を注
入し残りのシール材を硬化させ最終的に封止した。最後
に、基材フィルムの薄膜層の上に、偏光板を粘着剤を用
いて貼り合わせ、液晶表示素子を作成した。

【００３２】

【表１】

【００３３】

【発明の効果】本発明の基材フィルムを用いることによ
り、高温高湿の環境に長時間さらされても、液晶表示素
子内へのガスの侵入がなく、外力の印加あるいは熱衝撃
を印加したときに気泡が発生しない液晶表示素子が得ら
れるようになった。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】プラスチックフィルムの片面または両面
に、シランカップリング剤を含む樹脂層を有し、該樹脂
層の上に、けい素酸化物とマグネシウム酸化物とからな
る薄膜層を有するディスプレイ表示素子用基材フィル
ム。
【請求項２】樹脂層が、エポキシアクリレートまたはウ
レタンアクリレートを含む硬化物からなる請求項１記載
のディスプレイ表示素子用基材フィルム。
【請求項３】プラスチックフィルムが、ポリエーテルサ
ルフォンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリカー
ボネートフィルム、ノルボルネン系フィルム、アクリル
系フィルム、またはポリエチレンテレフタレートフィル
ムである請求項１または２記載のディスプレイ表示素子
用基材フィルム。
【請求項４】樹脂層の膜厚が０．１〜１０μｍである請
求項１ないし３いずれか１項に記載のディスプレイ表示
素子用基材フィルム。
【請求項５】薄膜層の膜厚が１０〜５００ｎｍである請
求項１ないし４いずれか１項に記載のディスプレイ表示
素子用基材フィルム。
【請求項６】プラスチックフィルムの厚さが５０〜５０
０μｍである請求項１ないし５いずれか１項に記載のデ
ィスプレイ表示素子用基材フィルム。
【請求項７】１１０℃で３時間、飽和水蒸気中に暴露し
た後の酸素ガス透過率が、０．１〜５．０ml/m²24hr 2
5 ℃100%RHの範囲である請求項１ないし６いずれか１項
に記載のディスプレイ表示素子用基材フィルム。