JPH10335755A - 半導体レーザ装置 - Google Patents
半導体レーザ装置Info
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- JPH10335755A JPH10335755A JP9147398A JP14739897A JPH10335755A JP H10335755 A JPH10335755 A JP H10335755A JP 9147398 A JP9147398 A JP 9147398A JP 14739897 A JP14739897 A JP 14739897A JP H10335755 A JPH10335755 A JP H10335755A
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Abstract
を高め、しかも光ファイバアレーから出力する光の密度
を上げることのできる半導体レーザ装置の提供が望まれ
ている。 【解決手段】 半導体レーザアレー2で放射した光を光
学系結合器11で集光して光ファイバアレー4に導き、
光ファイバアレー4から出射する半導体レーザ装置10
である。光学系結合器11は、半導体レーザアレー2か
ら放射された光の垂直成分をコリメートする垂直成分コ
リメート部12と、水平成分をコリメートする水平成分
コリメート部13とを有し、これにより半導体レーザア
レー2から放射した光の垂直成分と水平成分とを共に集
光して光ファイバアレー4に導くものである。
Description
ーから放射した光を光学系結合器、光ファイバアレーを
介して出射する半導体レーザ装置に関する。
は、図6(a)に示す構成のものが知られている。図6
(a)において符号1は半導体レーザ装置であり、この
半導体レーザ装置1は、半導体レーザアレー2、光学系
結合器3、光ファイバアレー4を備えて構成されたもの
である。
ので、高出力を得るため複数のストライプ状活性層5…
を一列に配列してアレイ状に構成されたものである。光
学系結合器3は円柱レンズからなるもので、半導体レー
ザアレー2から発射した光の垂直成分をコリメートする
べく、半導体レーザレー2のストライプ状活性層5…の
列方向に平行に配置固定されたものである。光ファイバ
アレー4は、半導体レーザアレー2のストライプ状活性
層5の数と同数の光ファイバ6…からなり、その入力端
6aがそれぞれ前記ストライプ状活性層5の位置と対応
する位置、すなわちストライプ状活性層5からの光の出
射方向に光学系結合器3を介して配置されたものであ
る。なお、図示しないもののこの光ファイバアレー4の
出力端側は一つに束ねられてなるバンドル部となってお
り、これによってこの出力端は、半導体レーザアレー2
で放射された光を見掛け上一つの光線として出射するも
のとなっている。
構成の半導体レーザ装置1にあっては、その光学系結合
器3が円柱レンズからなっており、この光学系結合器3
がストライプ状活性層5…の列方向と平行に配置されて
いることから、該光学系結合器3で半導体レーザアレー
2が放射する光を光ファイバアレー4にカップリングさ
せる際に、この放射光のうち垂直方向に発散する光につ
いては図6(b)に示すようにこれをコリメートして光
ファイバ6に集光させることができるものの、水平方向
に発散する光については図6(c)に示すようにこれを
コリメートすることができない。したがって、この半導
体レーザ装置1では、光ファイバアレー4を構成する光
ファイバ6として、半導体レーザアレー2のストライプ
状活性層5と等しい径のものを用いた場合に、特に水平
方向に発散した光全てを集光して光ファイバアレー4か
ら出力するのが極めて困難であった。
るべく、従来では、光ファイバ6の径をストライプ状活
性層5の径より大きくするといったことも一部になされ
ているが、その場合には、光ファイバ6の径が大きくな
るに連れて光ファイバアレー4の出力端側のバンドル部
の径も大きくなってしまい、光密度を上げることができ
なくなってしまう。
で、その目的とするところは、半導体レーザアレーから
放射した光の集光度を高め、しかも光ファイバアレーか
ら出力する光の密度を上げることのできる半導体レーザ
装置を提供することにある。
置では、半導体レーザアレーで放射された光を集光して
光ファイバアレーに導く光学系結合器を、半導体レーザ
アレーから放射された光の垂直成分をコリメートする垂
直成分コリメート部と、水平成分をコリメートする水平
成分コリメート部とを有するものとしたことを前記課題
の解決手段とした。
合器を、半導体レーザアレーから放射された光の垂直成
分をコリメートする垂直成分コリメート部と、水平成分
をコリメートする水平成分コリメート部とを有するもの
としたので、半導体レーザアレーから放射された光の垂
直成分と水平成分とを前記光学系結合器で共に集光し、
これを光ファイバアレーに導くことが可能になる。
を詳しく説明する。図1(a)、(b)、(c)は本発
明の半導体レーザ装置の第1実施形態例を示す図であ
り、図1(a)、(b)、(c)において符号10は半
導体レーザ装置である。この半導体レーザ装置10が図
6に示した半導体レーザ装置1と異なるところは、光学
系結合器3に代えて光学系結合器11を用いている点で
ある。
ンズアレーからなるもので、その長辺方向が半導体レー
ザアレー2の長さ方向、すなわちストライプ状活性層5
…の配列方向に一致した状態に配置されたものである。
この光学系結合器11には、半導体レーザアレー2に正
対する面に垂直成分コリメート部12が、また光ファイ
バアレー4側に正対する面に複数の水平成分コリメート
部13が形成されている。ここで、水平成分コリメート
部13…は、それぞれ半導体レーザアレー2のストライ
プ状活性層5に対して一対一の関係で配設され、すなわ
ち一つのストライプ状活性層5に対して一つの水平成分
コリメート部13が正対した状態に配設されている。
器11においてその長辺方向、すなわち水平方向に延び
て形成された半円柱状のレンズ層からなるもので、この
レンズ層の曲面を半導体レーザアレー2と反対の側に向
けて形成されたものである。一方、水平成分コリメート
部13は、光学系結合器11においてその短辺方向、す
なわち垂直方向に延びて形成された半円柱状のレンズ層
からなるもので、このレンズ層の曲面を光ファイバアレ
ー4と反対の側に向けて形成されたものである。垂直成
分コリメート部12を形成するレンズ層は、光学系結合
器11となるレンズアレーを形成する材料の屈折率に比
べ大きい屈折率を有しており、同様に、水平成分コリメ
ート部13を形成するレンズ層も、レンズアレーを形成
する材料の屈折率に比べ大きい屈折率を有している。
コリメート部12は、図1(b)に示すように半導体レ
ーザアレー2の全てのストライプ状活性層5から放射さ
れ発散した光のうち垂直成分をコリメートして水平成分
コリメート部13側に導くようになっている。また、水
平成分コリメート部13は、対応するストライプ状活性
層5から放射され垂直成分コリメート部12で垂直成分
のみがコリメートされた光を受け、これの水平成分につ
いてコリメートして光ファイバ6(光ファイバアレー
4)に導き集光するようになっている。すなわち、垂直
成分コリメート部12を出た光は垂直成分のみしかコリ
メートされていないことから、その水平成分は発散して
いるものの、水平成分コリメート部13を透過すること
によってこの水平成分もコリメートされるのである。よ
って、この半導体レーザ装置10にあっては、半導体レ
ーザアレー2で放射した光を、光学系結合器11によっ
て垂直成分、水平成分共に集光し、これを光ファイバア
レー4に導くことができる。
した光学系結合器11の作製方法を説明する。この例に
おける光学系結合器11は、イオン交換レンズによって
形成されたもので、図2(a)に示すように矩形板状の
ガラス等からなる透明基材20の一方の面20aを、そ
の横方向(水平方向)に所定の幅のCr(クロム)から
なる横パターン21を蒸着法で並列した状態に複数列形
成するとともに、図2(b)に示すように透明基材20
の他方の面20bを、その縦方向(垂直方向)に所定の
幅のCr(クロム)からなる縦パターン22を蒸着法で
並列した状態に複数列形成する。これら横パターン21
…、縦パターン22…については、そのパターン間、す
なわち蒸着されない部分が後述するように垂直成分コリ
メート部12、あるいは水平成分コリメート部13とな
ることから、その幅(パターン間の間隔)については予
め設定した寸法となるように蒸着を行う。
1…、縦パターン22…を形成したら、従来公知のイオ
ン交換法によって透明基材20の一方の面の横パターン
21、21間の表層部をイオン交換し、図2(c)に示
すように透明基材20の一方の面に水平方向に延びた半
円柱状のレンズ層からなる垂直成分コリメート部12を
複数形成する。続いて、透明基材20の他方の面20b
への縦パターン22形成のための蒸着を再度繰り返し、
その後、イオン交換法によって透明基材20の他方の面
の縦パターン22、22間の表層部をイオン交換し、図
2(d)に示すように透明基材20の一方の面に垂直方
向に延びた半円柱状のレンズ層からなる水平成分コリメ
ート部13を複数(半導体レーザアレー2のストライプ
状活性層5の数と同数)形成する。
13の形成にあたって縦パターン22…形成のための蒸
着を2度行うのは、形成する光学系結合器11の表面
(一方の面)に形成する垂直成分コリメート部12のN
A(開口数)と裏面(他方の面)に形成する水平成分コ
リメート部13のNA(開口数)とをそれぞれ異なった
値にするべく、イオン交換の時間を変えてそれぞれ独立
に制御するためである。すなわち、光学系結合器11の
表面(一方の面)については、発散角の大きい垂直方向
の光用に高いNA(0.6〜0.8程度)を有したレン
ズ層からなる垂直成分コリメート部12を形成し、裏面
(他方の面)については、発散角の小さな水平方向の光
用に低いNA(0.1〜0.3程度)を有したレンズ層
からなる水平成分コリメート部13を形成するように設
計しているからである。
2、水平成分コリメート部13を形成したら、横パター
ン21…、縦パターン22…を全て除去し、図2
(c)、(d)中破線で示した切断線に沿って透明基材
20をカットし、図1(a)、(b)、(c)に示した
光学系結合器11を得る。このような作製方法によれ
ば、半導体プロセスを流用しているため特性のばらつき
が小さくかつ位置精度が高い光学系結合器11を得るこ
とができ、しかも、大量生産が可能となることからその
製造コストを抑えることもできる。
2実施形態例を示す図であり、これらの図2において符
号30は半導体レーザ装置、31は光学系結合器であ
る。この第2実施形態例の半導体レーザ装置30が第1
実施形態例の半導体レーザ装置10と異なるところは、
やはり光学系結合器11に代えて光学系結合器31を用
いている点である。すなわち、この第2実施形態例にお
ける光学系結合器31は、その水平成分コリメータ部3
2が、図3(c)に示すように半円柱状でなく半球面状
に形成されたものとなっている。そして、このような構
成により光学系結合器31は、その水平成分コリメータ
部32が、対応するストライプ状活性層5から放射され
垂直成分コリメート部12で垂直成分のみがコリメート
された光を受け、これの水平成分についてコリメートす
ると同時に、垂直成分についても再度コリメートし、光
ファイバ6(光ファイバアレー4)に導き集光するよう
になっている。よって、この半導体レーザ装置30にあ
っては、前記半導体レーザ装置10と同様に、半導体レ
ーザアレー2で放射した光を、光学系結合器31によっ
て垂直成分、水平成分共に集光し、これを光ファイバア
レー4に導くことができる。
するには、特に透明基材20の裏面(他方の面)にCr
からなるパターンを蒸着形成するに際して、図3(b)
に示すように蒸着を行わない円形状の開口部33を縦横
に配置した状態で蒸着パターン34を形成し、その状態
でイオン交換を行って半球状の水平成分コリメート部3
2を形成する。そして、横パターン21…、蒸着パター
ン34を全て除去し、図3(c)中破線で示した切断線
に沿って透明基材20をカットし、図3(a)に示した
光学系結合器31を得る。このような作製方法にあって
も、半導体プロセスを流用しているため特性のばらつき
が小さくかつ位置精度が高い光学系結合器31を得るこ
とができ、しかも、大量生産が可能となることからその
製造コストを抑えることもできる。
ための図であり、図4中符号40は光学系結合器であ
る。この第3実施形態例が第1実施形態例、第2実施形
態例の半導体レーザ装置10、30と異なるところもそ
の光学系結合器の構成にある。すなわち、図4に示した
光学系結合器40は、イオン交換レンズでなく貼り合わ
せレンズによって形成されたもので、透明平板ガラス4
1にそれぞれ一対の固定材42、43を介して円柱状の
レンズからなる垂直成分コリメート部44と複数の水平
成分コリメート部45…を取り付けたものである。固定
材42、42はシリコンからなる四角柱状のもので、透
明平板ガラス41の一方の面の上下に加熱圧着あるいは
接着によって貼りつけられたものであり、その中央部に
は異方性エッチングによってV溝46が形成されてい
る。同様に、固定材43、43もシリコンからなる四角
柱状のもので、透明平板ガラス41の他方の面の左右に
加熱圧着あるいは接着によって貼りつけられたものであ
り、その中央部には異方性エッチングによってV溝46
が複数(半導体レーザアレー2のストライプ状活性層5
の数と同数)形成されている。
6間には、前記垂直成分コリメート部44が架け渡され
た状態で、やはり加熱圧着あるいは接着により貼りつけ
固定されており、同様に、固定材43、43のV溝4
6、46間にも、前記水平成分コリメート部45が架け
渡された状態で加熱圧着あるいは接着により貼りつけ固
定されている。
ても、垂直成分コリメート部44が半導体レーザアレー
2の全てのストライプ状活性層5から放射され発散した
光のうち垂直成分をコリメートし、また、水平成分コリ
メート部45が、対応するストライプ状活性層5から放
射され垂直成分コリメート部44で垂直成分のみがコリ
メートされた光を受け、これの水平成分についてコリメ
ートして光ファイバ6(光ファイバアレー4)に導き集
光するようになっている。よって、この第3実施形態例
の半導体レーザ装置にあっても、半導体レーザアレー2
で放射した光を、光学系結合器41によって垂直成分、
水平成分共に集光し、これを光ファイバアレー4に導く
ことができる。
ための図であり、図5中符号50は光学系結合器であ
る。この第4実施形態例が第1実施形態例、第2実施形
態例の半導体レーザ装置10、30と異なるところもそ
の光学系結合器の構成にある。すなわち、図5に示した
光学系結合器50は、イオン交換レンズや貼り合わせレ
ンズでなく、機械加工レンズによって形成されたもの
で、ガラスからなる平板状の基板51の一方の面に半円
柱状のレンズからなる垂直成分コリメート部52が横方
向(水平方向)に延びて形成され、また、他方の面にや
はり半円柱状のレンズからなる水平成分コリメート部5
3が縦方向(垂直方向)に延びて複数(半導体レーザア
レー2のストライプ状活性層5の数と同数)形成されて
いる。
ても、垂直成分コリメート部52が半導体レーザアレー
2の全てのストライプ状活性層5から放射され発散した
光のうち垂直成分をコリメートし、また、水平成分コリ
メート部53が、対応するストライプ状活性層5から放
射され垂直成分コリメート部52で垂直成分のみがコリ
メートされた光を受け、これの水平成分についてコリメ
ートして光ファイバ6(光ファイバアレー4)に導き集
光するようになっている。よって、この第4実施形態例
の半導体レーザ装置にあっても、半導体レーザアレー2
で放射した光を、光学系結合器41によって垂直成分、
水平成分共に集光し、これを光ファイバアレー4に導く
ことができる。なお、この第4実施形態例の光学系結合
器50においては、垂直成分コリメート部52、水平成
分コリメート部53として、半円柱状でなく双曲線状の
レンズを採用することもできる。
ザ装置は、光学系結合器を、半導体レーザアレーから放
射された光の垂直成分をコリメートする垂直成分コリメ
ート部と、水平成分をコリメートする水平成分コリメー
ト部とを有するものとしたので、半導体レーザアレーか
ら放射された光の垂直成分と水平成分とを前記光学系結
合器で共に集光し、これを光ファイバアレーに導くこと
ができ、これにより半導体レーザアレーと光ファイバア
レーとの間を高い結合効率で接続することができる。ま
た、このように高い結合効率を得ることができることか
ら、光ファイバアレーの出射端側のバンドル部の径を小
さくすることができ、よって光密度が上がり、加工など
に用いる際に極めて有効なものとなる。
説明するための図であり、(a)は半導体レーザ装置の
概略構成を示す斜視図、(b)は半導体レーザ装置の要
部側面図、(c)は半導体レーザ装置の要部平面図であ
る。
製造方法を説明するための図である。
説明するための図であり、(a)は半導体レーザ装置の
概略構成を示す要部側面図、(b)、(c)は光学系結
合器の製造方法を説明するための図である。
用いられる光学系結合器の、概略構成を示す斜視図であ
る。
用いられる光学系結合器の、概略構成を示す斜視図であ
る。
の図であり、(a)は半導体レーザ装置の概略構成を示
す斜視図、(b)は半導体レーザ装置の要部側面図、
(c)は半導体レーザ装置の要部平面図である。
0,30…半導体レーザ装置、11,31,40,50
…光学系結合器、12,44,52…垂直成分コリメー
ト部、13,32,45,53…水平成分コリメート部
Claims (1)
- 【請求項1】 半導体レーザアレーで放射した光を光学
系結合器で集光して光ファイバアレーに導き、該光ファ
イバアレーから出射する半導体レーザ装置において、 前記光学系結合器は、半導体レーザアレーから放射され
た光の垂直成分をコリメートする垂直成分コリメート部
と、水平成分をコリメートする水平成分コリメート部と
を有し、これにより半導体レーザアレーから放射した光
の垂直成分と水平成分とを共に集光して光ファイバアレ
ーに導くものであることを特徴とする半導体レーザ装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14739897A JP3858349B2 (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 半導体レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14739897A JP3858349B2 (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 半導体レーザ装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10335755A true JPH10335755A (ja) | 1998-12-18 |
JP3858349B2 JP3858349B2 (ja) | 2006-12-13 |
Family
ID=15429387
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14739897A Expired - Fee Related JP3858349B2 (ja) | 1997-06-05 | 1997-06-05 | 半導体レーザ装置 |
Country Status (1)
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---|---|
JP (1) | JP3858349B2 (ja) |
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- 1997-06-05 JP JP14739897A patent/JP3858349B2/ja not_active Expired - Fee Related
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---|---|
JP3858349B2 (ja) | 2006-12-13 |
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