JPH10335593A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路

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JPH10335593A
JPH10335593A JP14771097A JP14771097A JPH10335593A JP H10335593 A JPH10335593 A JP H10335593A JP 14771097 A JP14771097 A JP 14771097A JP 14771097 A JP14771097 A JP 14771097A JP H10335593 A JPH10335593 A JP H10335593A
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transistor
bipolar transistor
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Yasuyuki Mototani
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 トリミングの事前確認のための専用回路や、
そのための余分なデータ入力用パッドを有することな
く、トリミング前にトリミング後の動作状態を確認可能
とするトリミング回路を備える半導体集積回路を提供す
る。 【解決手段】 半導体集積回路は、定電圧回路2と、定
電圧回路2をトリミングするトリミング回路1とを備え
る。トリミング回路1は、定電圧回路2のMOSトラン
ジスタM1〜M3のそれぞれに対応するバイポーラ型ト
ランジスタQ1、Q2、Q3と、MOSトランジスタM
4、M5、M6の各組を含む。バイポーラ型トランジス
タQ1〜Q3のエミッタが接地され、コレクタが定電圧
回路のMOSトランジスタM1〜M3のゲートに接続さ
れ、ベースが定電流源C11〜C13及び制御信号入力
用パッドIN1〜IN3に接続され、MOSトランジス
タM4〜M6のソースが電源VDDに接続され、ゲート
がゲート制御電位VGに接続され、ドレインが定電圧回
路2のMOSトランジスタのゲート及びバイポーラ型ト
ランジスタQ1〜Q3のコレクタに共通接続される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、トリミング回路を
備えた半導体集積回路に関し、特にトリミング前にトリ
ミング後の動作状態を確認可能なトリミング回路を含
む。
【0002】
【従来の技術】図2は、特開平4−243158号に記
載されたMOSFETを使用するトリミング回路の回路
図である。図2において参照符号1はトリミング回路、
2は定電圧回路、3はトリミング用データ入力回路、4
はデコーダ回路を示している。トリミング回路1の配線
D、E、Fとデコーダ回路4の同符号の配線とが接続さ
れる。また、図5は、各種のトリミング回路方式に従っ
て採用されるトリミングの事前確認や、トリミング実行
の手順を示したフローチャートである。
【0003】図2の回路において、先ず事前確認段階で
は、トリミング用データ入力回路3のCLK端子から入
力されるパルスの個数に応じて、トリミング回路部1か
らの配線D、E、F上の各制御信号が、デコーダ回路4
を通して8個のMOSFETM27〜34のON、OF
Fを制御し、その結果、定電圧回路2の出力電圧VRが
決定される。
【0004】この出力電圧VRが目標電圧範囲に入って
いるならば、そのときの配線D、E、F上の制御信号の
ON、OFF状態を固定すべく、トリミング回路1中の
抵抗溶断用パッドF1、F2、F3のうちの選択された
ものに大電流を流して、MOSFET M22、M2
4、M26のゲートに接続されている駆動用抵抗R2
1、R22、R23の中から選択されたものを電気的に
溶断することにより、トリミングを実行する。
【0005】例えば、事前確認段階で配線Dの電位のみ
がHiレベルで他はLoレベルのとき出力電圧VRが目
標電圧範囲に入ったとすれば、パッドF2、F3に大電
流を流してR22、R23を溶断する。すなわち、事前
確認で最適のトリミングの組み合わせを決定してからト
リミングを実行することができるので、実際のトリミン
グは1回で済ますことができる。つまり、図5(A)の
トリミング手順に従うものである。
【0006】なお、従来のこの種のトリミング回路に
は、上記図2に示したもの以外にも、抵抗に並列に接続
したツェナーダイオードやポリシリコンフューズ抵抗を
選択的に破壊することによりトリミングを行うものがあ
る。図3はツェナーダイオードを用いた例、図4はポリ
シリコンフューズ抵抗を用いた例である。
【0007】図3の回路によってトリミングを行う際、
ツェナーダイオードD1〜D3のどれを選択して破壊す
ればよいかは、トリミング用パッドIN11、IN12
間、IN12、IN13間等を計算上で短絡してみるこ
とで判断できる。すなわち、事前確認で最適のトリミン
グの組み合わせを計算で決めてからトリミングを行うこ
とができる。そのため、実際のトリミングは1回で済ま
せることができる。つまり図5(A)のトリミング手順
に従う。しかし、回路動作中にIN11、IN12間、
IN12、IN13間等を実際に短絡してみることは、
原理的には可能であるが、回路が複雑になりコストアッ
プにつながるので実用的でない。
【0008】図4の回路では、計算上での事前確認は図
3の回路と同様に可能である。しかし、ポリシリコンフ
ューズ抵抗を溶断することによりトリミングを行うの
で、その状態を事前に試してみることができない。
【0009】このように、図3及び図4に示すトリミン
グ回路では、回路を動作させた状態でトリミング後の状
態を事前に確認することが、事実上又は原理的に不可能
であるという問題点がある。図2の回路は、このような
従来技術の問題点に対する一つの解決手段としての意義
を有するものである。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかし、図2の回路で
は、抵抗を一旦溶断してしまうと元の状態に復帰するこ
とができないので、事前にトリミング後の状態を確認す
るには、トリミング用データ入力回路3のような事前確
認専用の回路を必要とし、またそのような事前確認用回
路のために、データ入力用パッドCLKのような余分な
パッドを必要とするという問題点があった。
【0011】本発明が解決しようとする課題は、トリミ
ング回路を備える半導体集積回路において、トリミング
の事前確認のための専用回路や、そのための余分なデー
タ入力用パッドを有することなく、トリミング前にトリ
ミング後の動作状態を確認可能とすることである。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、目的とす
る半導体集積回路が定電圧回路と、前記定電圧回路をト
リミングするトリミング回路とを備え、前記定電圧回路
が、少なくとも一つの制御対象素子と、前記制御対象素
子に直列に接続された該制御対象素子と同等の他の複数
の素子と、前記制御対象素子又は前記他の素子の両端に
ソース及びドレインを接続し該素子と並列に設けた少な
くとも一つの第1のMOSトランジスタとを有してな
り、前記トリミング回路が、前記第1のMOSトランジ
スタのそれぞれに対応するバイポーラ型トランジスタと
第2のMOSトランジスタの組を含み、前記バイポーラ
型トランジスタのエミッタが接地され、コレクタが前記
第1のMOSトランジスタのゲートに接続され、ベース
が定電流源及び制御信号入力用パッドに接続され、前記
第2のMOSトランジスタのソースが電源電位レベルに
接続され、ゲートがゲート制御電位に接続され、ドレイ
ンが前記第1のMOSトランジスタのゲート及び前記バ
イポーラ型トランジスタのコレクタに共通接続されてい
ること、により達成される。
【0013】本発明のトリミング回路(以下、「本回
路」という)では、定電圧回路は出力電圧分割回路を形
成する直列制御対象素子の各々に第1のMOSトランジ
スタを並列に接続して構成され、これら第1のMOSト
ランジスタのON、OFFに従って定電圧回路の出力電
圧VRが決定される。この場合、ON状態に維持される
第1のMOSトランジスタが並列接続された素子がトリ
ミングされ、OFF状態のそれはトリミングされない。
【0014】どの素子をトリミングすれば定電圧回路の
出力電圧VRが目標電圧範囲に入るかを、実際にトリミ
ングを行う前に確認するには、制御信号入力用パッドに
0Vを与えればよい。こうすることにより、0Vを印加
したパッドがベースに接続されているバイポーラ型トラ
ンジスタがOFF状態となってそのコレクタ電圧がHi
レベルとなり、このコレクタがゲートに接続されている
第1のMOSトランジスタがON状態になる。よって、
その第1のMOSトランジスタが並列接続された素子が
トリミングされた状態になる。このようにして、どの素
子をトリミングすればよいかが事前確認されたならば、
次に、そのトリミング状態を固定すべくトリミングを実
行する。
【0015】トリミングの実行に際しては、ON状態に
維持すべき第1のMOSトランジスタに対応するバイポ
ーラ型トランジスタのエミッタ・ベース間に耐圧以上の
電圧を印加して破壊し、hfeを低下させる。こうする
ことにより、そのバイポーラ型トランジスタのベースに
接続されているパッドを開放しても、コレクタ電圧がH
iレベルに固定される。従って、このコレクタがゲート
に接続されている第1のMOSトランジスタがON状態
に固定され、トリミングが完成する。
【0016】以上説明したように、本回路は実際に制御
対象素子をトリミングするために必要不可欠な回路及び
パッドのみを備えており、これらの回路及びパッドを共
用することにより、事前確認をも支障なく行うことがで
きる。
【0017】
【発明の実施の形態】本発明の好適な実施形態として次
の(イ)〜(ホ)を挙げることができる。 (イ)第2のMOSトランジスタの電流駆動能力が、制
御信号入力用パッド開放時におけるバイポーラ型トラン
ジスタの電流駆動能力より小さくなるように、定電流源
の電流駆動能力とゲート制御電位を設定すること。
【0018】(ロ)制御信号入力用パッドを開放するこ
とで定電流源の電流を前記バイポーラ型トランジスタの
ベースに印加して前記バイポーラ型トランジスタをON
し、該バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力より小
さい第2のMOSトランジスタの電流駆動能力に応じた
電流を、第2のMOSトランジスタのドレインからバイ
ポーラ型トランジスタを介して接地に流すことで第1の
MOSトランジスタをOFFし、これにより制御対象素
子を短絡することなく前後の他の素子と接続すること。
【0019】(ハ)制御信号入力用パッドに第1の電位
を印加し、バイポーラ型トランジスタを遮断状態にし、
第1のMOSトランジスタのゲートをONすることで、
制御対象素子の両端を短絡すること。また、該第1の電
位が0Vであること。
【0020】(ニ)制御信号入力用パッドに第2の電位
を印加し、バイポーラ型トランジスタを破壊し、バイポ
ーラ型トランジスタの電流駆動能力を第2のMOSトラ
ンジスタの電流駆動能力より相対的に小さくなるように
した後、制御信号入力用パッドを開放し、電源電位を、
第2のMOSトランジスタを介して第1のMOSトラン
ジスタのゲートに入力することで第1のMOSトランジ
スタをONし、これにより制御対象素子の両端を短絡す
ること。また、該第2の電位がバイポーラ型トランジス
タのエミッタ・ベース間耐圧以上の電位であること。
【0021】(ホ)制御対象素子が抵抗であり、また、
制御対象の抵抗素子がトリミング用抵抗であること。
【0022】実施形態(イ)は、第1のMOSトランジ
スタの駆動回路中の第2のMOSトランジスタとバイポ
ーラ型トランジスタの電流駆動能力の設定に関する。第
2のMOSトランジスタの電流駆動能力はゲート制御電
位により決定され、制御信号入力用パッド開放時のバイ
ポーラ型トランジスタの電流駆動能力は、定電流源の電
流駆動能力により決定される。本実施形態では、第2の
MOSトランジスタの電流駆動能力が、制御信号入力用
パッド開放時におけるバイポーラ型トランジスタの電流
駆動能力より小さくなるように、ゲート制御電位と定電
流源の電流駆動能力とを設定する。
【0023】これにより、制御信号入力用パッド開放時
には、バイポーラ型トランジスタのコレクタ電流が、こ
れよりも電流駆動能力が小さく設定された第2のMOS
トランジスタのドレイン電流値以下制限され、従ってバ
イポーラ型トランジスタのコレクタ電圧はLoレベルと
なり、これが第1のMOSトランジスタのゲートに与え
られるから、第1のMOSトランジスタがOFF状態と
なる。
【0024】上記に対して、制御信号入力用パッドに0
Vを印加するときは、バイポーラ型トランジスタがOF
F状態になり、そのコレクタ電圧はHiレベルとなり、
第1のMOSトランジスタがON状態となる。この状態
は当該第1のMOSトランジスタが並列接続された制御
対象素子がトリミングされた状態に相当するから、上記
の操作によりトリミング状態を復元可能に出現させるこ
とができる。
【0025】実施形態(ロ)は、実施形態(イ)が実施
された状態において、制御信号入力用パッドを開放する
ことに関する。本実施形態の動作は上述の通りである。
【0026】実施形態(ハ)は、実施形態(イ)が実施
された状態において、制御信号入力用パッドに0Vを印
加することに関する。本実施形態はトリミングの事前確
認方法を述べたものであり、その動作は上述した通りで
ある。
【0027】実施形態(ニ)は、制御信号入力用パッド
にバイポーラ型トランジスタのエミッタ・ベース間耐圧
以上の電位を印加することに関する。これにより、当該
バイポーラ型トランジスタは破壊され、hfeが低下す
る。これは、トリミングの実行に相当する操作である。
【0028】実施形態(ホ)は、制御対象素子が抵抗素
子よりなり、特に該抵抗素子がトリミングの対象である
ことを述べたものである。
【0029】
【実施例】以下に、添付図面を参照しつつ、本発明の好
適な一実施例について説明する。図1は、本実施例とし
ての半導体集積回路(以下、「例示回路」という)の内
部結線を示す回路図である。例示回路はトリミング回路
1と定電圧回路2を含む。
【0030】トリミング回路1は上で第2のMOSトラ
ンジスタと称したPチャンネルMOSトランジスタM
4、M5、M6と、上でバイポーラ型トランジスタと称
したNPNトランジスタQ1、Q2、Q3と、定電流源
CI1、CI2、CI3と、制御信号入力用パッドIN
1、IN2,IN3と、配線D,E、Fとを備え、Pチ
ャンネルMOSトランジスタのソースは電源電位VDD
に、ゲートは制御電位VGに、ドレインは配線D,E、
Fのいずれか及びNPNトランジスタのコレクタに接続
され、NPNトランジスタのベースは定電流源と制御信
号入力用パッドとに共通接続され、エミッタは接地され
る。
【0031】定電圧回路2は増幅器AMP1と、出力電
圧分割回路を構成する抵抗R1〜R5と、ソースとドレ
インがR1〜R3の各々に並列に接続されたNチャンネ
ルMOSトランジスタM1、M2、M3とを備え、Nチ
ャンネルMOSトランジスタM1、M2、M3のゲート
はそれぞれ配線D,E、Fに接続され、増幅器AMP1
には(+)入力としてのVrefが与えられ、(−)入
力として出力電圧VRが所定の分割比に分割された電圧
が与えられ、VR=Vref×(R1+R2+R3+R
4+R5)/(R1+R2+R3+R4)の関係があ
る。抵抗R1〜R3はトリミングの対象であり、トリミ
ングを行うことでVRを所望の値に調整することができ
る。
【0032】トリミング回路1では、定電流源CI1、
CI2、CI3の電流駆動能力をそれぞれI1、NPN
トランジスタQ1、Q2、Q3のコレクタ電流駆動能力
をI2(=hfe×I1)、PチャンネルMOSトラン
ジスタM4、M5、M6のソース・ドレイン電流駆動能
力をI3として、制御信号入力用パッドIN1、IN
2,IN3が開放のときI3<I2となるように、定電
流源CI1、CI2、CI3の電流駆動能力I1及びP
チャンネルMOSトランジスタM4、M5、M6のゲー
ト制御電位VGを設定する。
【0033】こうすることにより、制御信号入力用パッ
ド開放時には、NPNトランジスタQ1、Q2、Q3の
コレクタ電流I2は強制的にI3と同値になるから、そ
のコレクタ電圧はLoレベルとなり、これにゲートが接
続されている定電圧回路2中のNチャンネルMOSトラ
ンジスタM1、M2、M3はOFF状態となる。この状
態では抵抗R1〜R3は短絡されることなく前後の他の
素子と接続される。つまり、この状態ではトリミングは
行われない。
【0034】トリミングの事前確認を行うときは、選択
した制御信号入力用パッドに0Vを印加し、NPNトラ
ンジスタQ1、Q2、Q3のうち対応するもののベース
電圧を0Vにする。選択されたNPNトランジスタが遮
断状態となるから、そのコレクタ電圧がHiレベルとな
り、定電圧回路2中のNチャンネルMOSトランジスタ
のうち対応するものがON状態となる。この状態では抵
抗R1〜R3のうち対応するものがは短絡される。つま
り、この状態では仮のトリミング状態が出現する。これ
により、0Vを印加する制御信号入力用パッドをどのよ
うな組み合わせで選択すれば、定電圧回路2の出力電圧
VRが所望の値になるかを、トリミングの実行前に知る
ことができる。
【0035】次に、トリミングの実行時には、上記のよ
うにして事前確認された組み合わせにより、該当する制
御信号入力用パッドからNPNトランジスタのベース・
エミッタ間に耐圧以上の電圧を印加することにより、選
択されたNPNトランジスタを破壊して、図6のよう
に、そのhfeを低下させる。これにより制御信号入力
用パッドを開放しても破壊されたNPNトランジスタの
コレクタ電圧はHiレベルに保たれるから対応する定電
圧回路2中のNチャンネルMOSトランジスタが常にO
N状態となり、トリミング状態が固定される。
【0036】なお、上記の説明ではバイポーラ型トラン
ジスタとしてNPNトランジスタをを挙げたが、PNP
トランジスタも同様に使用できる。また、本実施例では
定電圧回路2の出力電圧VRを調整する場合を挙げた
が、OPアンプの入力オフセット電圧のゼロ調整に用い
ても同等の効果が得られる。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば、トリミングの事前確認
専用の回路やそのための余分なデータ入力用パッドを設
けることなく、トリミング前にトリミング後の動作状態
を確認することができる。
【0038】また、本発明の半導体集積回路は、トリミ
ング対象素子の個数に応じたNチャンネルMOSトラン
ジスタ、NPNトランジスタ、PチャンネルMOSトラ
ンジスタ、定電流源、及びトリミング用パッドという、
従来例と比較して少ない素子数で実現することができ
る。特に、ツェナーダイオード、あるいはポリシリコン
フューズ抵抗をトリミングする方式のものに較べ、これ
らが保有しない上記の利点に加えて、パッドを1個削減
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示す回路図である。
【図2】トリミングの従来技術を説明する回路図であ
る。
【図3】ツェナーダイオードをトリミングする従来技術
を示す回路図である。
【図4】ポリシリコンフューズ抵抗をトリミングする従
来技術を示す回路図である。
【図5】トリミング手順を示す工程系統図である。
【図6】実施例におけるNPNトランジスタのトリミン
グ前後の特性説明図である。
【符号の説明】
1…トリミング回路 2…定電圧回路 3…トリミング用データ入力回路 4…デコーダ回路 M1〜M3…NチャンネルMOSトランジスタ M4〜M6…PチャンネルMOSトランジスタ Q1〜Q3…NPNトランジスタ CI1〜CI3…定電流源 IN1〜IN3…制御信号入力用パッド R1〜R5…抵抗 AMP1…増幅器

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 定電圧回路と、該定電圧回路をトリミン
    グするトリミング回路とを備える半導体集積回路であっ
    て、 前記定電圧回路が、少なくとも一つの制御対象素子と、
    前記制御対象素子に直列に接続された該制御対象素子と
    同等の他の複数の素子と、前記制御対象素子又は前記他
    の素子の両端にソース及びドレインを接続し該素子と並
    列に設けた少なくとも一つの第1のMOSトランジスタ
    とを有してなり、 前記トリミング回路が、前記第1のMOSトランジスタ
    のそれぞれに対応するバイポーラ型トランジスタと第2
    のMOSトランジスタの組を含み、 前記バイポーラ型トランジスタのエミッタが接地され、
    コレクタが前記第1のMOSトランジスタのゲートに接
    続され、ベースが定電流源及び制御信号入力用パッドに
    接続され、 前記第2のMOSトランジスタのソースが電源電位に接
    続され、ゲートがゲート制御電位に接続され、ドレイン
    が前記第1のMOSトランジスタのゲート及び前記バイ
    ポーラ型トランジスタのコレクタに共通接続された半導
    体集積回路。
  2. 【請求項2】前記第2のMOSトランジスタの電流駆動
    能力が、前記制御信号入力用パッド開放時における前記
    バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力より小さくな
    るように、前記定電流源の電流駆動能力と前記ゲート制
    御電位を設定した請求項1記載の半導体集積回路。
  3. 【請求項3】前記制御信号入力用パッドを開放すること
    で前記定電流源の電流を前記バイポーラ型トランジスタ
    のベースに印加して前記バイポーラ型トランジスタをO
    Nし、該バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力より
    小さい前記第2のMOSトランジスタの電流駆動能力に
    応じた電流を、前記第2のMOSトランジスタのドレイ
    ンから前記バイポーラ型トランジスタを介して前記接地
    に流すことで前記第1のMOSトランジスタをOFF
    し、これにより前記制御対象素子が短絡されることなく
    前後の他の素子と接続される、請求項2記載の半導体集
    積回路。
  4. 【請求項4】前記制御信号入力用パッドに第1の電位を
    印加して前記バイポーラ型トランジスタを遮断状態に
    し、前記第1のMOSトランジスタのゲートをONする
    ことで前記制御対象素子の両端を短絡する、請求項1乃
    至3記載の半導体集積回路。
  5. 【請求項5】前記第1の電位が0Vである、請求項4記
    載の半導体集積回路。
  6. 【請求項6】前記制御信号入力用パッドに第2の電位を
    印加して前記バイポーラ型トランジスタを破壊し、前記
    バイポーラ型トランジスタの電流駆動能力を前記第2の
    MOSトランジスタの電流駆動能力より相対的に小さく
    なるようにした後、前記制御信号入力用パッドを開放
    し、前記電源電位を、前記第2のMOSトランジスタを
    介して前記第1のMOSトランジスタのゲートに入力す
    ることで前記第1のMOSトランジスタをONし、これ
    により前記制御対象素子の両端を短絡する、請求項1乃
    至5記載の半導体集積回路。
  7. 【請求項7】前記第2の電位が、前記バイポーラ型トラ
    ンジスタのエミッタ・ベース間耐圧以上の電位である、
    請求項6記載の半導体集積回路
  8. 【請求項8】前記制御対象素子が抵抗である、請求項1
    乃至7記載の半導体集積回路。
  9. 【請求項9】前記制御対象の抵抗素子がトリミング用抵
    抗である、請求項1乃至8記載の半導体集積回路。
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