JPH10335279A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明はワ−クの上下面をロ−ルブラシに
よって均一にブラシ洗浄できるとともに、ワークの端部
の洗浄も可能な洗浄装置を提供すること。 【解決手段】 円盤状のワ−ク２の上下面を同時にブラ
シ洗浄する洗浄装置において、軸線を上下方向に沿わせ
て回転自在に配設されるとともにワ−ク２の周辺部が係
合する係合部１５が形成された駆動ロ−ラ６と、この駆
動ロ−ラ６を回転駆動する第１の駆動手段１７と、駆動
ロ−ラ６の係合部１５に周辺部を係合させたワ−ク２の
下面に接する下部ロ−ルブラシ２１および上面に接する
上部ロ−ルブラシ２２と、下部ロ−ルブラシ２１と上部
ロ−ルブラシ２２とをワ−ク２が駆動ロ−ラ６に押し付
けられる方向に回転駆動する第２の駆動手段２０Ａと、
軸線を上下方向に沿わせて回転自在に配設されるととも
にワーク２の周辺部に接触する端部洗浄ブラシと、を具
備したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は円盤状のワ−クの
上下面をロ−ルブラシによって同時に洗浄するための洗
浄装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】たとえば半導体装置の製造工程において
は、ワ−クとしての半導体ウエハを高い清浄度で洗浄す
ることが要求される工程がある。このようなワ−クを洗
浄する方式としては、洗浄液中に複数枚のワ−クを浸漬
するデイップ方式や被洗浄基板に向けて洗浄液を噴射し
て一枚づつ洗浄する枚葉方式があり、最近では高い清浄
度が得られるとともに、コスト的に有利な枚葉方式が採
用されることが多くなってきている。

【０００３】枚葉方式の１つとしてロ−ルブラシを用い
た洗浄装置が知られている。この洗浄装置はワ−クを搬
送ラインによって所定方向に直線的に搬送するととも
に、その搬送途中に、上記ワ−クの表裏両面にブラシ毛
が接触する状態で複数のロ−ルブラシを、その軸線をワ
−クの搬送方向に対して直交させて配置し、洗浄液を供
給しながら各ロ−ルブラシを回転させることで、上記ロ
−ルブラシによって上記ワ−クの表裏両面に付着した微
粒子を除去するようにしている。

【０００４】また、ワークが円板状に設けられた半導体
ウエハ等の場合には、このワークの均一な洗浄度の向上
を図るために、このワークを保持する部分に駆動力を伝
達してワークを回転させ、また駆動力を伝達せずに回転
をガイドする機構が設けられているとともに、上記ワー
クの上下両面より下部ロールブラシと上部ロールブラシ
を接触させ、これらのロールブラシを回転させるための
駆動機構を設けた洗浄装置が存在する。

【０００５】このような洗浄装置によると、ワークは回
転しながら上下一対のロールブラシによってブラシ洗浄
されるため、このワークの上下面が全体に亘って均一に
洗浄されるようになっている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来の搬
送タイプの洗浄装置は、搬送ラインによって直線搬送さ
れるワ−クの上下面に、軸線をワ−クの搬送方向に対し
て直交させて配置されたロ−ルブラシを接触させるよう
にしているため、ロ−ルブラシのブラシ毛の摩耗状態が
不均一であったり、配置状態が傾いていたりすると、上
記ワ−クの上下面を全体にわたって均一な清浄度で洗浄
できないということがあった。

【０００７】また、従来の回転タイプの洗浄装置は、上
記ワークの端部においてパーティクルが除去されず残っ
てしまうことがある。すなわち、ワークの上下両面には
ロールブラシが接触するために、このワークの上下両面
のパーティクルの除去が良好に行われるものとなってい
るが、ワークの端部においては、ロールブラシが直接接
触しないため、この端部にパーティクルが付着して除去
され難いものとなっている。

【０００８】このワークの端部にパーティクルが付着し
たまま、ワークを収納するバッジの内部へ収納すると、
端部に付着したパーティクルが飛散して、洗浄が終了し
た他のワークの上下両面に付着して、このワークの上下
両面を再び汚染することがある。

【０００９】この発明は上記事情に基づきなされたもの
で、その目的とすることろは、ワ−クの上下面全体をロ
−ルブラシによって均一に洗浄することができるととも
に、ワークの端部の洗浄をも行うことが可能な洗浄装置
を提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項１の発明は、円盤状のワ−クの上下面を同時に
ブラシ洗浄する洗浄装置において、軸線を上下方向に沿
わせて回転自在に配設されるとともに上記ワ−クの周辺
部が係合する係合部が形成された駆動ロ−ラと、この駆
動ロ−ラを回転駆動する第１の駆動手段と、上記駆動ロ
−ラの係合部に周辺部を係合させた上記ワ−クの下面に
接する下部ロ−ルブラシおよび上面に接する上部ロ−ル
ブラシと、上記下部ロ−ルブラシと上部ロ−ルブラシと
を上記ワ−クが上記駆動ロ−ラに押し付けられる方向に
回転駆動する第２の駆動手段と、軸線を上下方向に沿わ
せて回転自在に配設されるとともに上記ワークの周辺部
に接触する端部洗浄ブラシと、を具備したことを特徴と
する。

【００１１】請求項２の発明は、円盤状のワ−クの上下
面を同時にブラシ洗浄する洗浄装置において、上記ワ−
クの周辺部が係合する係合部が形成され軸線を上下方向
に沿わせて回転自在に設けられるとともに上記ワ−クの
所定の径方向の一端側に配設された複数の駆動ロ−ラ
と、この駆動ロ−ラを回転駆動する第１の駆動手段と、
上記駆動ロ−ラの係合部に周辺部を係合させた上記ワ−
クの下面に接する下部ロ−ルブラシおよび上面に接する
上部ロ−ルブラシと、上記下部ロ−ルブラシと上部ロ−
ルブラシとを上記ワ−クが上記駆動ロ−ラに押し付けら
れる方向に回転駆動する第２の駆動手段と、軸線を上下
方向に沿わせて回転自在かつ上記ワ−クの上記所定の径
方向の他端側に配設され上記ワ−クが径方向にずれ動い
て上記駆動軸の係合部から外れるのを阻止する規制ロ−
ラと、軸線を上下方向に沿わせて回転自在に配設される
とともに上記ワークの周辺部に接触する端部洗浄ブラシ
と、を具備したことを特徴とする。

【００１２】請求項１の発明によれば、ワークが下部ロ
ールブラシと上部ロールブラシの回転駆動によって駆動
ローラに押し付けられ、この駆動ローラが第１の回転駆
動手段によって回転駆動されるから、その回転がワーク
に伝達され、上記ワークが回転しながら上下一対のロー
ルブラシによってブラシ洗浄される。

【００１３】これとともに、上記ワークの周辺部に接触
する端部洗浄ブラシが設けられたため、上記ワークは上
下両面だけでなく、ワークの端部においても良好に洗浄
を行うことが可能となっている。

【００１４】請求項２の発明によれば、ワ−クは駆動ロ
−ラによって回転させられながら上下一対のロ−ルブラ
シで洗浄されるとともに、規制ロ−ラによって径方向に
ずれ動くのが規制されるため、ロ−ルブラシにより洗浄
されているときに駆動ロ−ラの係合部から外れるのが確
実に防止され、このワークが回転時にずれずに位置決め
されるようになる。

【００１５】そのため、上記端部洗浄ブラシによって、
ワークの端部に端部洗浄ブラシを確実に接触させること
が可能となり、ワーク端部の良好な洗浄を行うことが可
能となっている。

【００１６】

【発明の実施形態】以下、この発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図２に示すようにこの発明の洗浄
装置は洗浄槽１を備えている。この洗浄槽１には導入口
３が形成されている。この導入口３からは、ワ−クとし
ての未洗浄の半導体ウエハ２が図示しない受け渡しロボ
ットによって内部に導入されるようになっている。上記
洗浄槽１の上記一側壁に隣接する側壁には洗浄された半
導体ウエハ２を同じく図示しない受け渡しロボットによ
って搬出するための導出口４が形成されている。上記導
入口３と導出口４はシャッタ３ａ、４ａによって開閉自
在とされるようになっている。

【００１７】上記洗浄槽１内にはユニットケ−ス５が設
けられている。このユニットケ−ス５の内部には、上記
半導体ウエハ２の導入方向の中心線Ｃと直交する方向の
一端側に３本の駆動ロ−ラ６が配置され、他端側には２
本の規制ロ−ラ７が配置されている。各ロ−ラ６、７
は、それぞれ軸線を垂直にして回転自在に、しかも上記
半導体ウエハ２の周方向に沿って所定の間隔で配設され
ている。

【００１８】上記各ロ−ラ６、７の配置状態をさらに詳
述する。すなわち、図１に示すように上記ユニットケ−
ス５の内底部は仕切板８によって隔別され、この仕切板
８の下方には支持板９が配設されている。上記駆動ロ−
ラ６と規制ロ−ラ７とは上記仕切板８に形成された通孔
８ａを貫通している。駆動ロ−ラ６の下端部は上記支持
板９に立設された第１の軸受体１１によって回転自在か
つスラスト方向にスライド不能に支持されている。

【００１９】上記規制ロ−ラ７の下端部は第２の軸受体
１２によって回転自在かつスラスト方向にスライド不能
に支持されている。上記第２の軸受体１２は上記支持板
９にスライド自在に設けられていて、図１に矢印で示す
ように駆動シリンダ１３により上記駆動ロ−ラ６に対し
て接離する方向に駆動されるようになっている。

【００２０】上記駆動ロ−ラ６の上部には大径部６ａが
設けられ、その大径部６ａの上面は上記半導体ウエハ２
の周辺部が係合する係合部１５となっている。係合部１
５は水平面となっているが、径方向外方に行くにつれて
低く傾斜する傾斜面であってもよい。

【００２１】上記規制ロ−ラ７の上部は小径部７ａに形
成され、この小径部７ａは上記半導体ウエハ２の周辺部
に接触して上記係合部１５に係合保持された半導体ウエ
ハ２が径方向にずれ動くのを規制するようになってい
る。

【００２２】上記駆動ロ−ラ６と規制ロ−ラ７とが仕切
板８の通孔８ａを貫通した箇所はラビリンス構造１６と
なっている。それによって、上記半導体ウエハ２を洗浄
する洗浄液が上記通孔８ａからユニットケ−ス５の外部
へ流出するのを阻止している。

【００２３】上記駆動ロ−ラ６は第１の駆動機構１７に
よって回転駆動されるようになっている。この第１の駆
動機構１７は図１に示すように上記支持板９の下方に配
置されたモ−タ１８を有する。このモ−タ１８の回転軸
１８ａには駆動プ−リ１９ａが嵌着されている。この駆
動プ−リ１９ａと上記各駆動ロ−ラ６の下端部にそれぞ
れ嵌着された３つの従動プ−リ１９ｂとの間にはベルト
２０が図示しないテンショロ−ラによって張力を調整さ
れて張設されている。したがって、上記モ−タ１８が作
動すれば、ベルト２０を介して上記各駆動ロ−ラ６を回
転駆動することができるようになっている。

【００２４】上記ユニットケ−ス５内には下部ロ−ルブ
ラシ２１と上部ロ−ルブラシ２２とが軸線Ｏ1 、Ｏ2 を
上記ユニットケ−ス５の中心線Ｃに対して平行、かつそ
の中心線Ｃと直交する方向に対してずらして配置されて
いる。つまり、下部ロ−ルブラシ２１の軸線Ｏ1 は上記
中心線Ｃよりも規制ロ−ラ７側に位置しており、上部ロ
−ルブラシ２２の軸線Ｏ2 は駆動ロ−ラ６側に偏倚され
ている。

【００２５】上記下部ロ−ルブラシ２１と上部ロ−ルブ
ラシ２２とは第２の駆動機構２０Ａによってそれぞれ回
転駆動されるとともに、上下駆動機構２０Ｂによって上
下方向に駆動されるようになっている。

【００２６】つまり、各ロ−ルブラシ２１、２２のブラ
シ毛２１ａ、２２ａが設けられたロ−ル軸２１ｂ、２２
ｂの一端部は図２に示すようにユニットケ−ス５の一側
壁から突出し、その突出部分には軸受体２３とモ−タ２
４とが一体化された駆動ユニット２５が設けられてい
る。

【００２７】各駆動ユニット２５の軸受体２３には上記
ロ−ル軸２１ｂ、２２ｂが回転自在に支持されていると
ともに、その軸受体２３の内部で上記モ−タ２４の回転
軸（図示せず）に連結されている。上記下部ロ−ルブラ
シ２１と上部ロ−ルブラシ２２とはそれぞれモ−タ２４
によって図１に矢印で示すように互いに逆方向であると
ともに、これらロ−ルブラシ２１、２２間に供給された
半導体ウエハ２をその回転力で駆動ロ−ラ６の外周面に
押し付ける方向に回転駆動されるようになっている。

【００２８】上記一対の駆動ユニット２５には、図２と
図３に示すようにそれぞれア−ム２６の一端が固着され
ている。各ア−ム２６の他端部は、上記ユニットケ−ス
５の近傍に配置されたハウジング２７の一側壁に形成さ
れた縦長の通孔２８からその内部に導入されている。各
ア−ム２６の他端には取付板２９が取着され、各取付板
２９にはスライダ３１が設けられている。各スライダ３
１は上記ハウジング２７の他側内面に垂直方向に沿って
設けられたリニアガイド３２にスライド自在に係合保持
されている。

【００２９】一対のア−ム２６の他端部にはナット体３
３が設けられている。各ナット体３３にはそれぞれボ−
ルねじ３４が螺合している。各ボ−ルねじ３４は上下端
部がそれぞれ上記ハウジング２７の上下内面に設けられ
た軸受３５に回転自在に支持されている。

【００３０】上記ボ−ルねじ３４の下端部はハウジング
２７の下端から突出し、その突出端には従動プ−リ３６
が嵌着されている。各従動プ−リ３６の近傍にはモ−タ
３７が配設され、このモ−タ３７の回転軸３７ａに嵌着
された駆動プ−リ３８と上記従動プ−リ３６との間には
ベルト３９が張設されている。

【００３１】したがって、上記モ−タ３７が作動すれ
ば、ボ−ルねじ３４が回転駆動される。それによって、
ボ−ルねじ３４に螺合されたナット体３３を介してア−
ム２６がリニアガイド３２に沿って上下方向に駆動され
ることになる。つまり、下部ロ−ルブラシ２１と上部ロ
−ルブラシ２２とを上下方向に駆動させることができる
から、各ロ−ルブラシ２１、２２を半導体ウエハ２の下
面と上面とに所定の接触力で接触させることができる。

【００３２】上記規制ローラ７は、図２においては所定
間隔で２つ設けられているが、これら２つの規制ローラ
７の間の位置には、上記半導体ウエハ２の端部を洗浄す
るための端部洗浄ブラシ５０が設けられている。この端
部洗浄ブラシ５０は、例えばＰＶＡ（ポリビニルアルコ
ール）やポリウレタン系材料を材質とするスポンジブラ
シ５１を有しており、このスポンジブラシ５１が上記半
導体ウエハ２の端部に接触して回転可能に設けられてい
る。

【００３３】そのために、上記スポンジブラシ５１は、
上下両面より中間部分へ向かうにしたがって、所定角度
で傾斜する凹部５１ａが形成されたプーリ状を成してい
る。そのため、この凹部５１ａに半導体ウエハ２の端部
が入り込んで、このスポンジブラシ５１が弾性変形しな
がら上記半導体ウエハ２の上下両面の周縁部、およびこ
の半導体ウエハ２の端部に接触し、この端部および周縁
部に付着したパーティクルの除去を行うことが可能な構
成となっている。

【００３４】上記スポンジブラシ５１を支持するため、
このスポンジブラシ５１の下面側には支持軸５２が一体
的に取り付けられている。この支持軸５２の、上記仕切
板８の通孔８ａを貫通した箇所はラビリンス構造１６と
なっており、上記半導体ウエハ２に近接する部分に、ス
ポンジブラシ５１を軸支して摺動する部材が設けられな
い構成となっている。このため、上記半導体ウエハ２を
洗浄する洗浄液が通孔８ａからユニットケース５の外部
へ流出するのを防ぐことを防止し、またラビリンス構造
１６によって支持軸の摺動部分より発生するパーティク
ルが上記半導体ウエハ２に付着するのを防止する構成と
なっている。

【００３５】また、上記支持軸５２の下端部は、上述の
規制ローラ７と同様に、第２の軸受体１２によって回転
自在かつスラスト方向にスライド自在に設けられてい
て、上記スポンジブラシ５１が従動的に回転するように
設けられている。また図１の矢印に示すように、駆動シ
リンダ１３によって上記駆動ローラ６に対して接離する
方向に駆動されるようになっている。

【００３６】なお、このようにスポンジブラシ５１は従
動的に回転する構成となっているが、スポンジブラシ５
１に駆動力を付加して強制的に半導体ウエハ２の端部を
洗浄する構成としても構わない。

【００３７】また、上記半導体ウエハ２の端部および周
縁部を良好に洗浄する構成であれば、このスポンジブラ
シ５１の設けられる位置および個数は、上述の構成に限
定されない。

【００３８】上述したごとく、上記半導体ウエハ２は上
部ロールブラシ２２から受ける押圧力によって駆動ロー
ラ６側に位置する周辺部が係合部１５に押し付けられ、
また下部ロールブラシ２１も半導体ウエハ２に当接する
ことによって、この半導体ウエハ２の上下両面を上記ロ
ールブラシ２１，２２の回転力と、上部ロールブラシ２
２の押圧力とによって上記駆動ローラ６に押し付けられ
ることになるため、上記駆動ローラ６の回転力が半導体
ウエハ２に伝達されることになる。

【００３９】また上記下部ロールブラシ２１と上部ロー
ルブラシ２２との近傍には、それぞれ一対のパイプ状の
下部ノズル４１と上部ノズル４２とが配置されており、
これらより上記半導体ウエハ２の上下面を一対のブラシ
２１、２２によって洗浄するときに洗浄液が供給される
ようになっている。

【００４０】つぎに、上記構成の洗浄装置によって半導
体ウエハ２を洗浄するときの動作について説明する。ま
ず、一対の規制ロ−ラ７およびスポンジブラシ５１を駆
動シリンダ１３によって図４に鎖線で示すように駆動ロ
−ラ６から離反する方向へ後退させるとともに、下部ロ
−ルブラシ２１を下降させ、上部ロ−ルブラシ２２を上
昇させてこれらロ−ルブラシ２１、２２を図３に鎖線で
示すように所定の間隔で離反させる。

【００４１】その状態で一対のロ−ルブラシ２１、２２
間に未洗浄の半導体ウエハ２を、その周辺部の径方向一
端側が３本の駆動ロ−ラ６の係合部１５に係合するよう
図示しない受け渡しロボットで供給する。供給後、下部
ロ−ルブラシ２１を上昇させて半導体ウエハ２の下面に
接触させ、半導体ウエハ２を上記係合部１５とでほぼ水
平に支持し、ついで上部ロ−ルブラシ２２を下降させて
半導体ウエハ２の上面に所定の圧力で接触させる。

【００４２】一対のロ−ルブラシ２１、２２を所定の高
さに位置決めしたならば、駆動シリンダ１３を作動させ
て一対の規制ロ−ラ７をその小径部７ａが上記半導体ウ
エハ２の径方向他端側、つまり係合部１５に係合した部
分と径方向の反対側の部分の外周面に当接するまである
いはわずかな間隔を介して近接するまで前進方向へ駆動
する。

【００４３】このようにして半導体ウエハ２を保持した
ならば、受け渡しロボットを後退させ、下部ロ−ルブラ
シ２１と上部ロ−ルブラシ２２および３本の駆動ロ−ラ
６を回転駆動する。

【００４４】一対のロ−ルブラシ２１、２２が回転駆動
されることで、半導体ウエハ２の上下面がブラシ洗浄さ
れるとともに、これらロ−ルブラシ２１、２２の回転力
によって外周面の径方向一端側が駆動ロ−ラ６に押し付
けられる。

【００４５】これとともに、上記半導体ウエハ２の周縁
部および端部も上記スポンジブラシ５１の凹部５１ａに
接触し、この半導体ウエハ２の周縁部および端部が接触
することによって上記凹部５１ａが弾性変形するように
なっている。

【００４６】また、上部ロ−ルブラシ２２が下部ロ−ル
ブラシ２１よりも駆動ロ−ラ６側に偏倚していること
で、半導体ウエハ２には図１に矢印Ｍで示す方向の回転
モ−メントが生じる。そのため、半導体ウエハ２は上記
モ−メントＭによって、周辺部の上記駆動ロ−ラ６側の
部分が係合部１５に押し付けられる。

【００４７】このように、半導体ウエハ２が駆動ロ−ラ
６に押し付けられることで、半導体ウエハ２には上記駆
動ロ−ラ６の回転力が伝えられ、それによって、半導体
ウエハ２は一対のロ−ルブラシ２１、２２との接触力に
抗して上記駆動ロ−ラ６により回転させられる。これと
ともに、半導体ウエハ２は、上記ロールブラシ２１、２
２によって半導体ウエハ２の上下面に対して万遍なく摺
接する。すなわち、上記ロ−ルブラシ２１、２２を回転
させるだけでなく、半導体ウエハ２も回転させると、半
導体ウエハ２の所定の部分にロールブラシ２１、２２の
所定の部分だけが接触するということがなくなるから、
ブラシ毛２１ａ、２２ａの摩耗状態が不均一であった
り、軸線が傾いているなどしても、半導体ウエハ２の上
下両面の全面に亘ってほぼ均一に洗浄することが可能と
なる。

【００４８】また、上記半導体ウエハ２の上下両面の全
面に亘ってほぼ均一に洗浄できるとともに、半導体ウエ
ハ２の端部および周縁部もスポンジブラシ５１によって
良好に洗浄し、この部分にパーティクルが付着するのを
防止することが可能となっている。

【００４９】そのため、上記半導体ウエハ２をバッジ内
部に他の半導体ウエハ２とともに収納する場合でも、こ
の半導体ウエハ２の端部のパーティクルが除去されるの
で、他の半導体ウエハ２の上下両面に端部よりパーティ
クルが飛散して付着することがなくなる。

【００５０】また、規制ロ−ラ７によって半導体ウエハ
２が径方向にずれ動くのが制限され、係合部１５から外
れるようなことがなくなり、駆動ロ−ラ６の回転を上記
半導体ウエハ２に確実に伝達することができる。これと
ともに、上記半導体ウエハ２がずれ動くのが制限されて
位置決めされるため、上記半導体ウエハ２にスポンジブ
ラシ５１を確実に接触させることが可能となっている。

【００５１】なお、上記一実施形態では駆動ロ−ラを３
本としたが、その数は限定されるものでなく、２本以下
あるいは４本以上であってもよい。駆動ロ−ラが１本で
あっても、半導体ウエハ２を回転させたり、下部ロ−ル
ブラシ２１とで保持することは可能であるが、２本以上
の方が安定性が向上する。

【００５２】また、半導体ウエハ２が径方向にずれるの
を規制するために２本の規制ロ−ラ７を設けたが、半導
体ウエハ２は一対のロ−ルブラシ２１，２２の回転力
と、上部ロ−ルブラシ２２の押圧力とによって駆動ロ−
ラ６に押し付けられているから上記規制ロ−ラ７がなく
とも、半導体ウエハ２を所定の状態で保持しながら洗浄
することは可能である。

【００５３】さらに、ワ−クとしては半導体ウエハ２以
外のものであってもよく、要は円盤状で上下面を洗浄す
る必要があるものであればよい。また、上記スポンジブ
ラシ５１はプーリ状に形成されたものとなっているが、
他の形状を有している構成であっても構わない。

【００５４】

【発明の効果】以上述べたように請求項１の発明によれ
ば、ワークが下部ロールブラシと上部ロールブラシの回
転駆動によって駆動ローラに押し付けられ、この駆動ロ
ーラが第１の回転駆動手段によって回転駆動されるか
ら、その回転がワークに伝達され、上記ワークが回転し
ながら上下一対のロールブラシによってブラシ洗浄され
る。

【００５５】これとともに、上記ワークの周辺部に接触
する端部洗浄ブラシが設けられたため、上記ワークは上
下両面だけでなく、ワークの端部においても良好に洗浄
を行うことが可能となっている。

【００５６】請求項２の発明によれば、ワ−クは駆動ロ
−ラによって回転させられながら上下一対のロ−ルブラ
シで洗浄されるとともに、規制ロ−ラによって径方向に
ずれ動くのが規制されるため、ロ−ルブラシにより洗浄
されているときに駆動ロ−ラの係合部から外れるのが確
実に防止され、このワークが回転時にずれずに位置決め
されるようになる。

【００５７】そのため、上記端部洗浄ブラシによって、
ワークの端部に端部洗浄ブラシを確実に接触させること
が可能となり、ワーク端部の良好な洗浄を行うことが可
能となっている。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施形態の全体構成を示すユニッ
トケ−スの縦断面図。

【図２】同じく洗浄槽の横断面図。

【図３】同じく一対のロ−ルブラシを上下駆動する機構
の側面図。

【図４】同じく駆動ロ−ラ、従動ロ−ラおよび一対のロ
−ルブラシの配置状態の斜視図。

【符号の説明】

２…半導体ウエハ（ワ−ク） ６…駆動ロ−ラ ７…規制ロ−ラ １５…係合部 １７…第１の駆動機構（駆動手段） １８…第１の駆動機構のモ−タ ２０Ａ…第２の駆動機構 ２１…下部ロ−ルブラシ ２２…上部ロ−ルブラシ ２４…第２の駆動機構のモ−タ ２５…駆動ユニット ５０…端部洗浄ブラシ ５１…スポンジブラシ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円盤状のワ−クの上下面を同時にブラシ
   洗浄する洗浄装置において、 軸線を上下方向に沿わせて回転自在に配設されるととも
   に上記ワ−クの周辺部が係合する係合部が形成された駆
   動ロ−ラと、 この駆動ロ−ラを回転駆動する第１の駆動手段と、 上記駆動ロ−ラの係合部に周辺部を係合させた上記ワ−
   クの下面に接する下部ロ−ルブラシおよび上面に接する
   上部ロ−ルブラシと、 上記下部ロ−ルブラシと上部ロ−ルブラシとを上記ワ−
   クが上記駆動ロ−ラに押し付けられる方向に回転駆動す
   る第２の駆動手段と、 軸線を上下方向に沿わせて回転自在に配設されるととも
   に上記ワークの周辺部に接触する端部洗浄ブラシと、 を具備したことを特徴とする洗浄装置。
2. 【請求項２】 円盤状のワ−クの上下面を同時にブラシ
   洗浄する洗浄装置において、 上記ワ−クの周辺部が係合する係合部が形成され軸線を
   上下方向に沿わせて回転自在に設けられるとともに上記
   ワ−クの所定の径方向の一端側に配設された複数の駆動
   ロ−ラと、 この駆動ロ−ラを回転駆動する第１の駆動手段と、 上記駆動ロ−ラの係合部に周辺部を係合させた上記ワ−
   クの下面に接する下部ロ−ルブラシおよび上面に接する
   上部ロ−ルブラシと、 上記下部ロ−ルブラシと上部ロ−ルブラシとを上記ワ−
   クが上記駆動ロ−ラに押し付けられる方向に回転駆動す
   る第２の駆動手段と、 軸線を上下方向に沿わせて回転自在かつ上記ワ−クの上
   記所定の径方向の他端側に配設され上記ワ−クが径方向
   にずれ動いて上記駆動軸の係合部から外れるのを阻止す
   る規制ロ−ラと、 軸線を上下方向に沿わせて回転自在に配設されるととも
   に上記ワークの周辺部に接触する端部洗浄ブラシと、 を具備したことを特徴とする洗浄装置。