JPH10321401A - 抵抗器およびその製造方法 - Google Patents

抵抗器およびその製造方法

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JPH10321401A
JPH10321401A JP9129246A JP12924697A JPH10321401A JP H10321401 A JPH10321401 A JP H10321401A JP 9129246 A JP9129246 A JP 9129246A JP 12924697 A JP12924697 A JP 12924697A JP H10321401 A JPH10321401 A JP H10321401A
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JP
Japan
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substrate
layer
dividing
resistance
upper electrode
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JP9129246A
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English (en)
Inventor
Hiroyuki Yamada
博之 山田
Masato Hashimoto
正人 橋本
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、実装基板に実装した際の実装面積
を低減できる抵抗器およびその製造方法を提供すること
を目的とする。 【解決手段】 基板31の上面および側面の一部に設け
られた薄膜からなる抵抗層32と、基板31の上面の側
部に設けられた一対の上面電極層33と、抵抗層32の
上面に設けられたエポキシ系樹脂等からなる保護層34
から構成するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、抵抗器およびその
製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化に伴い、回路基
板に使用される電子部品に対しても実装密度を上げるた
め、ますます小形化への要求が高まっている。抵抗器に
対しても、実装基板上の実装面積を縮小化するため、小
形かつ抵抗値許容差の高精度な抵抗器への要求が高まっ
てきている。
【0003】以下、従来の抵抗器およびその製造方法に
ついて、図面を参照しながら説明する。
【0004】図14は一般的な従来の抵抗器の断面図で
ある。図において、1は96%アルミナを含有してなる
基板である。2,3は基板1の上面または下面の側部に
設けられた金等からなる一対の上面電極層または下面電
極層である。4は基板1の上面に上面電極層2と電気的
に接続するように設けられたニッケル−クロム等の薄膜
からなる抵抗層である。5は抵抗層4の上面に設けられ
た熱硬化性の樹脂等からなる保護膜で、基板1の上面の
上面電極層2と隣り合う側部まで設けないものである。
6は基板1の側面に少なくとも上面電極層2と下面電極
層3と電気的に接続するように設けられた一対の側面電
極層である。7は少なくとも側面電極層6を覆うように
設けられたニッケルめっき層である。8は少なくともニ
ッケルめっき層7を覆うように設けられたはんだめっき
層である。
【0005】以上のように構成された従来の抵抗器につ
いて、以下にその製造方法を図面を参照しながら説明す
る。
【0006】図15〜図17は従来の抵抗器の製造方法
を示す工程図である。まず、図15(a)に示すよう
に、縦方向および横方向に分割溝11,12を有する9
6%アルミナを含有してなるシート基板13の横方向分
割溝を跨ぐように複数対の上面電極層14を形成する。
【0007】次に、図15(b)に示すように、上面電
極層14(本図では図示せず)を形成した基板13全体
にスパッタ工法等によりニッケル−クロム等からなる薄
膜の全体抵抗体層15を形成する。
【0008】次に、図15(c)に示すように全体抵抗
体層15をLSI等で一般的に行われているフォトリソ
法により、所望の抵抗体パターンとした抵抗体層16を
形成し、この抵抗層16を安定な膜にするために、約3
00〜400℃の温度で熱処理を行う。
【0009】次に、図16(a)に示すように、抵抗層
16の抵抗値を所定の値に修正するためにレーザートリ
ミング等によりトリミング溝17を施して抵抗値修正を
行う。
【0010】次に、図16(b)に示すように、抵抗値
を修正した抵抗層16を保護するために、熱硬化性の樹
脂による保護膜18を形成する。この時、保護膜18は
縦方向分割溝11に接するまで設けないものである。
【0011】次に、シート基板13の横方向分割溝12
を分割して、図17(a)に示すように短冊基板19に
一次分割する。
【0012】次に、図17(b)に示すように、短冊基
板19の長手方向の側面に、上面電極層14(本図では
図示せず)および、または抵抗層16と電気的に接続す
るようにスパッタ等により、側面電極層20を形成す
る。
【0013】最後に、図17(c)に示すように、短冊
基板19を縦方向分割溝11で二次分割して、個片状の
基板21として、必要に応じてはんだ付け時の信頼性の
確保のため電極めっき層22を形成し、従来の抵抗器を
形成していた。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成および製造方法による抵抗器では、実装基板に
はんだ付けをした場合、図18(a)の実装状態の断面
図に示すように側面電極層(図示せず)と下面電極層
(図示せず)の双方ではんだ付けされ、フィレット23
が形成されるフィレット実装構造であり、図18(b)
の実装状態の上面図に示すように部品面積24を加えて
側面をはんだ付けする面積25が必要であり、これらを
合わせた実装面積26が必要となる。しかも、実装密度
を向上するため、部品外形寸法が小さくなるほど、実装
面積に対するはんだ付け面積の占める割合が大きくな
り、電子機器の小型化するための実装密度を向上するこ
とに限界が生ずるという課題を有していた。
【0015】本発明は、上記従来の課題を解決するもの
で、実装基板に実装した際の実装面積に占めるはんだ付
け面積を低減できる抵抗器およびその製造方法を提供す
ることを目的とするものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、前記基板の上面および側面の一部に設けら
れた抵抗層と、前記抵抗層の上面の側部に設けられた一
対の上面電極層とを有するものである。
【0017】また、上記目的を達成するために本発明
は、分割溝を有するシート基板の上面および分割溝の上
面を跨ぐとともに前記分割溝内にスパッタにより抵抗層
を設ける工程と、前記抵抗層の上面の側部に一対の上面
電極層を設ける工程とを有するものである。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、基板と、前記基板の上面および側面の一部に設けら
れた抵抗層と、前記抵抗層の上面の側部に設けられた一
対の上面電極層と、少なくとも前記基板上面の露出する
前記抵抗層を覆うように設けられた保護層と、少なくと
も露出する前記上面電極層および前記抵抗層を覆うよう
に設けられためっき層とからなるものである。
【0019】また、請求項2に記載の発明は、基板と、
前記基板の側部に設けられた一対の上面電極層と、前記
上面電極層を覆うとともに前記基板の露出する上面およ
び側面の一部に設けられた抵抗層と、少なくとも前記上
面電極層の上面および前記基板の側面の抵抗層を覆うよ
うに設けられためっき層と、前記抵抗層の前記めっき層
を形成していない上面に設けられた保護層とからなるも
のである。
【0020】また、請求項3に記載の発明は、基板と、
前記基板の側部に設けられた一対の上面電極層と、前記
上面電極層を覆うとともに前記基板の露出する上面およ
び側面の一部に設けられた抵抗層と、前記抵抗層の上面
の側部に設けられた一対の第2上面電極層と、少なくと
も前記第2上面電極層の上面および前記基板の側面の抵
抗層を覆うように設けられためっき層と、前記抵抗層の
前記めっき層を形成していない上面に設けられた保護層
とからなるものである。
【0021】また、請求項4に記載の発明は、請求項1
または2または3に記載の基板の側面に有するめっき層
は、前記基板の高さ方向の前記抵抗層側に設けられたも
のである。
【0022】また、請求項5に記載の発明は、請求項4
記載の基板の側面に有するめっき層の面積は、基板の側
面の面積の半分以下で有るものである。
【0023】また、請求項6に記載の発明は、請求項1
または2または3記載のめっき層は、保護層とは面一ま
たは前記めっき層が高いものである。
【0024】また、請求項7に記載の発明は、請求項1
記載の上面電極層は、銀系またはニッケル系の導電粉体
に樹脂を含有してなるものである。
【0025】また、請求項8に記載の発明は、請求項2
または3記載の上面電極層は、金系の有機金属化合物の
いずれかからなるものである。
【0026】また、請求項9に記載の発明は、請求項3
記載の第2上面電極層は、銀系またはニッケル系の導電
粉体に樹脂を含有してなるものである。
【0027】また、請求項10に記載の発明は、請求項
7または8または9記載の保護層は樹脂系であるもので
ある。
【0028】また、請求項11に記載の発明は、請求項
7または8または9記載の抵抗層は、ニッケル−クロム
系またはクロム−シリコン系であるものである。
【0029】また、請求項12に記載の発明は、請求項
1または2または3記載のめっき層の稜線は、丸みを有
するものである。
【0030】また、請求項13に記載の発明は、分割溝
を有するシート基板の上面および分割溝の上面を跨ぐと
ともに前記分割溝内にスパッタにより抵抗層を設ける工
程と、前記抵抗層の上面の側部に一対の上面電極層を設
ける工程と、少なくとも前記基板上面の露出する前記抵
抗層を覆うように保護層を設ける工程と、前記抵抗層を
形成してなる前記シート基板の分割溝で前記シート基板
を短冊状基板に分割する工程と、前記短冊状基板を個片
に分割する工程とからなるものである。
【0031】また、請求項14に記載の発明は、分割溝
を有するシート基板の上面に分割溝を跨ぐことなく一対
の上面電極層を設ける工程と、前記上面電極層を覆うと
ともに前記基板の露出する上面および分割溝内に抵抗層
を設ける工程と、前記基板上面の前記抵抗層の側部以外
を覆うように保護層を形成する工程と、前記抵抗層を形
成してなる前記シート基板の分割溝で前記シート基板を
短冊状基板に分割する工程と、前記短冊状基板を個片に
分割する工程とからなるものである。
【0032】また、請求項15に記載の発明は、分割溝
を有するシート基板の上面に分割溝を跨ぐことなく一対
の上面電極層を設ける工程と、前記上面電極層を覆うと
ともに前記基板の露出する上面および分割溝内に抵抗層
を設ける工程と、前記基板上面の前記抵抗層の側部以外
を覆うように保護層を形成する工程と、前記抵抗層の上
面の側部に一対の第2上面電極層を設ける工程と、前記
抵抗層を形成してなる前記シート基板の分割溝で前記シ
ート基板を短冊状基板に分割する工程と、前記短冊状基
板を個片に分割する工程とからなるものである。
【0033】(実施の形態1)以下、本発明の実施の形
態1における抵抗器およびその製造方法について、図面
を参照しながら説明する。
【0034】図1は本発明の実施の形態1における抵抗
器の断面図である。図において、31は96%アルミナ
を含有してなる基板である。32は基板の上面および側
面の一部に設けられたニッケル−クロム系またはクロム
−シリコン系の薄膜からなる抵抗層である。33は基板
31の上面の側部に設けられた銀系またはニッケル系の
導電粉体にエポキシ系樹脂等を含有した一対の上面電極
層である。34は抵抗層32の上面に設けられたエポキ
シ系樹脂等からなる保護層で、基板31の上面の上面電
極層33と隣り合う側端部間で設けられているものであ
る。35,36は必要に応じてはんだ付け時の信頼性等
の確保のために設けられたニッケルめっき層、はんだめ
っき層、これらのニッケルめっき層35とはんだめっき
層36の稜線は丸みを有しており、また基板31の側面
のはんだめっき層36の面積は、基板31の側面の面積
の半分以下である。
【0035】以上のように構成された本発明の一実施の
形態における抵抗器について、以下にその製造方法を図
面を参照しながら説明する。
【0036】図2〜4は本発明の実施の形態1における
抵抗器の製造方法を示す工程図である。
【0037】まず、図2(a)に示すように、表面に後
工程で短冊状および個片状に分割するために設けた複数
の縦方向および横方向の分割溝38,39(本図では図
示せず)を有する耐熱性および絶縁性に優れた96%ア
ルミナを含有してなるシート状基板31の上面全体にス
パッタ工法により抵抗を形成する合金材料であるニッケ
ル−クロム、クロム−シリコン等を着膜し、全体抵抗層
37を形成する。スパッタ工法により着膜することによ
り、分割溝の奥深くまで抵抗層37を形成することがで
きる。分割溝の深さは、製造工程での取り扱い時に割れ
ないように、一般的に基板の厚みの半分以下になるよう
形成されている。
【0038】次に、図2(b)に示すように、全体抵抗
層37をLSI等で一般的に行われているフォトリソ法
により、所望の抵抗体パターンとした抵抗層32を形成
し、この抵抗層32を安定な膜にするために、約300
〜400℃の温度で熱処理を行う。この時、抵抗層32
は基板31の上面および横方向の分割溝39内を連続し
て形成されている。
【0039】次に、図2(c)に示すように、基板31
の上面に横方向の分割溝39を跨ぐことなく、銀、ニッ
ケル等を導電粉末とするエポキシ系樹脂等からなる電極
ペーストをスクリーン印刷した後、基板31上に強固に
接着させるために、ベルト式連続硬化炉によって約20
0℃で、約30分のプロファイルによって熱硬化して、
上面電極層33を形成する。
【0040】次に、図3(a)に示すように、抵抗層3
2の抵抗値を所定の値に修正するために、YAGレーザ
ーでトリミング溝40を施してトリミングを行う。この
時、抵抗値測定用のトリミングプローブは、上面電極層
33上にセットし、トリミングは、サーペンタインカッ
ト法(複数本のストレートカット)とすることにより、
低い抵抗値から高い抵抗値まで自在に調整することがで
きる。
【0041】次に、図3(b)に示すように、抵抗値修
正済みの抵抗層32を保護するために、個々の抵抗体層
に対して個々の保護層印刷パターンを形成するように、
エポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷した後、基
板31上に強固に接着させるために、ベルト式連続硬化
炉によって約200℃で、約30分のプロファイルによ
って熱硬化して保護層34を形成する。この際、横方向
に並ぶ複数の抵抗層32を縦方向の分割溝38を跨ぎ連
続して覆うように保護層印刷パターンを形成してもよ
い。
【0042】次に、図4(a)に示すように、シート状
基板31の横方向の分割溝39で分割して、短冊基板4
1に一次分割をする。この時、短冊基板41の長手方向
の側面には、先に形成した抵抗層32が横方向の分割溝
39の深さまで形成された状態になっている。
【0043】最後に、図4(b)に示すように、露出し
ている上面電極層33と基板31の側面の抵抗層32に
めっきを施すための準備工程として、短冊基板41を個
片状の基板42に分割する二次分割を行い、露出してい
る上面電極層33と基板31の側面の抵抗層32とのは
んだ付け時の電極食われの防止およびはんだ付け時の信
頼性の確保のため、必要により電気めっきによって、ニ
ッケルめっき層(図示せず)を中間層とし、はんだめっ
き層(図示せず)を最外層として形成して、抵抗器を製
造するものである。
【0044】以上のように構成、製造された本発明の実
施の形態1における抵抗器を実装基板にはんだ付けをし
た。図5(a)の実装状態の断面図に示すように、保護
層を形成した面を下側にして実装し、上面電極層(図示
せず)と基板側面の抵抗層の部分との両方ではんだ付け
されるが、側面電極の形成されている面積が小さいた
め、わずかにフィレット43が形成されるのみとなる。
よって、図5(b)の実装状態の上面図に示すように、
部品面積44と側面をはんだ付けするために必要となる
面積45とを合わせた面積が実装面積46となる。0.
6×0.3mmサイズの角チップ抵抗器で、従来構造の製
品と実装面積を比較すると、約20%の縮小化を図るこ
とができた。
【0045】よって、本発明の構成によれば、抵抗器の
側面電極の面積が小さいため、実装基板上ではんだ付け
のフィレットを形成するための面積が小さくてすみ、実
装面積を縮小化することができる。
【0046】なお、本発明の実施の形態1において側面
電極を形成しない方が、実装面積をさらに縮小化できる
ことは容易に考えられる。しかしながら、現状の電子機
器の製造工程においては、実装後のはんだ付け検査を画
像認識により行っているのが実状であり、側面電極を形
成しない場合、フィレットが全く形成されず、画像認識
による自動検査ができなくなってしまうという不具合が
生ずることになる。
【0047】また、本発明の実施の形態1において、は
んだめっき層36と保護層34とを面一またははんだめ
っき層36を高くすることにより、はんだめっき層36
と実装時のランドパターン45との隙間を生じにくく実
装品質をさらに向上させることができる。
【0048】(実施の形態2)以下、本発明の実施の形
態2における抵抗器およびその製造方法について、図面
を参照しながら説明する。
【0049】図6は本発明の実施の形態2における抵抗
器の断面図である。図において、51は96%アルミナ
を含有してなる基板である。52は基板51の上面の側
部に設けられた金系の薄膜からなる一対の上面電極層で
ある。53は上面電極層52を覆い、かつ基板51の上
面および側面の一部に設けられたニッケル−クロム系ま
たはクロム−シリコン系の薄膜からなる抵抗層である。
54は抵抗層53の上面に設けられたエポキシ系樹脂等
からなる保護層である。55,56は必要に応じてはん
だ付け時の信頼性等の確保のために設けられたニッケル
めっき層、はんだめっき層で、これらのニッケルめっき
層55とはんだめっき層56の稜線は丸みを有してお
り、また基板51の側面のはんだめっき層56の面積
は、基板51の側面の面積の半分以下である。
【0050】以上のように構成された本発明の一実施の
形態における抵抗器について、以下にその製造方法を図
面を参照しながら説明する。。
【0051】図7〜9は本発明の実施の形態2における
抵抗器の製造方法を示す工程図である。
【0052】まず、図7(a)に示すように、表面に後
工程で短冊状および個片状に分割するために設けた複数
の縦方向および横方向の分割溝57,58を有するとと
もに、耐熱性および絶縁性に優れた96%アルミナを含
有してなるシート状基板51の上面の横方向の分割溝5
8を跨ぐことなく、金等を主成分とする金属有機物等か
らなる電極ペーストをスクリーン印刷・乾燥した後、金
属有機物等からなる電極ペーストの有機成分だけを飛ば
し、金属成分だけを基板51上に焼き付けるために、ベ
ルト式連続焼成炉によって約850℃で、約45分のプ
ロファイルによって焼成し、薄膜からなる上面電極層5
2を形成する。
【0053】次に、図7(b)に示すように、上面電極
層52(本図では図示せず)を形成してなるシート状基
板51の上面全体にスパッタ工法によりニッケル−クロ
ム、クロム−シリコン等を着膜し、全体抵抗層59を形
成する。
【0054】次に、図7(c)に示すように、全体抵抗
層59をLSI等で一般的に行われているフォトリソ法
により、所望の抵抗体パターンとした抵抗層53を形成
し、この抵抗層53を安定な膜にするために、約300
〜400℃の温度で熱処理を行う。この時、抵抗層53
は基板31の上面および横方向の分割溝58内に連続し
て形成されている。
【0055】次に、図8(a)に示すように、抵抗層5
3の抵抗値を所定の値に修正するために、YAGレーザ
ーでトリミング溝60を施してトリミングを行う。この
時、抵抗値測定用のトリミングプローブは、上面電極層
52(図示せず)上にセットし、トリミングは、サーペ
ンタインカット法(複数本のストレートカット)とする
ことにより、低い抵抗値から高い抵抗値まで自在に調整
することができる。
【0056】次に、図8(b)に示すように、抵抗値修
正済みの抵抗層53を保護するために、個々の抵抗体層
に対して個々の保護層印刷パターンを形成するように、
エポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷した後、基
板51上に強固に接着させるために、ベルト式連続硬化
炉によって約200℃で、約30分のプロファイルによ
って熱硬化して保護層54を形成する。この際、横方向
に並ぶ複数の抵抗層53を縦方向の分割溝57を跨ぎ連
続して覆うように保護層印刷パターンを形成してもよ
い。
【0057】次に、図9(a)に示すように、シート状
基板51の横方向の分割溝58で分割して、短冊状基板
61に一次分割をする。
【0058】最後に、図9(b)に示すように、抵抗層
53にめっきを施すための準備工程として、短冊状基板
61を個片状の基板62に分割する二次分割を行い、露
出している抵抗層53のはんだ付け時の電極食われの防
止およびはんだ付け時の信頼性の確保のため、必要によ
り電気めっきによって、ニッケルめっき層(図示せず)
を中間層とし、はんだめっき層(図示せず)を最外層と
して形成して、抵抗器を製造するものである。
【0059】以上のように構成、製造された本発明の実
施の形態2における抵抗器を実装基板にはんだ付けをし
た場合の効果については、前述の実施の形態1と同じで
あるため、説明を省略する。
【0060】(実施の形態3)以下、本発明の実施の形
態3における抵抗器およびその製造方法について、図面
を参照しながら説明する。
【0061】図10は本発明の実施の形態3における抵
抗器の断面図である。図において、71は96%アルミ
ナを含有してなる基板である。72は基板51の上面の
側部に設けられた金系の薄膜からなる一対の上面電極層
である。73は上面電極層72を覆い、かつ基板71の
上面および側面の一部に設けられたニッケル−クロム系
またはクロム−シリコン系の薄膜からなる抵抗層であ
る。74は抵抗層73の上面に設けられたエポキシ系樹
脂等からなる保護層である。75は基板71の上面の側
部に設けられた銀系またはニッケル系の導電粉体にエポ
キシ系樹脂等を含有した一対の第2上面電極層である。
76,77は必要に応じてはんだ付け時の信頼性等の確
保のために設けられたニッケルめっき層、はんだめっき
層で、これらのニッケルめっき層76とはんだめっき層
77の稜線は丸みを有しており、また基板71の側面の
はんだめっき層77の面積は、基板71の側面の面積の
半分以下である。
【0062】以上のように構成された本発明の実施の形
態3における抵抗器について、以下にその製造方法を図
面を参照しながら説明する。
【0063】図11〜13は本発明の実施の形態3にお
ける抵抗器の製造方法を示す工程図である。
【0064】まず、図11(a)に示すように、表面に
後工程で短冊状および個片状に分割するために設けた複
数の縦方向および横方向の分割溝78,79を有すると
ともに、耐熱性および絶縁性に優れた96%アルミナを
含有してなるシート状基板71の上面の横方向の分割溝
79を跨ぐことなく、金等を主成分とする金属有機物等
からなる電極ペーストをスクリーン印刷・乾燥した後、
金属有機物等からなる電極ペーストの有機成分だけを飛
ばし、金属成分だけを基板71上に焼き付けるために、
ベルト式連続焼成炉によって約850℃で、約45分の
プロファイルによって焼成し、薄膜からなる上面電極層
72を形成する。
【0065】次に、図11(b)に示すように、上面電
極層72(本図では図示せず)を形成してなるシート状
基板71の上面全体にスパッタ工法によりニッケル−ク
ロム、クロム−シリコン等を着膜し、全体抵抗層80を
形成する。
【0066】次に、図11(c)に示すように、全体抵
抗層80をLSI等で一般的に行われているフォトリソ
法により、所望の抵抗体パターンとした抵抗層73を形
成し、この抵抗層73を安定な膜にするために、約30
0〜400℃の温度で熱処理を行う。この時、抵抗層7
3は基板71の上面および横方向の分割溝79内に連続
して形成されている。
【0067】次に、図12(a)に示すように、抵抗層
73の抵抗値を所定の値に修正するために、YAGレー
ザーでトリミング溝81を施してトリミングを行う。こ
の時、抵抗値測定用のトリミングプローブは、上面電極
層72(図示せず)上にセットし、トリミングは、サー
ペンタインカット法(複数本のストレートカット)とす
ることにより、低い抵抗値から高い抵抗値まで自在に調
整することができる。
【0068】次に、図12(b)に示すように、抵抗値
修正済みの抵抗層73を保護するために、個々の抵抗体
層に対して個々の保護層印刷パターンを形成するよう
に、エポキシ系の樹脂ペーストをスクリーン印刷した
後、基板上71に強固に接着させるために、ベルト式連
続硬化炉によって約200℃で、約30分のプロファイ
ルによって熱硬化して保護層74を形成する。この際、
横方向に並ぶ複数の抵抗体層73を縦方向の分割溝78
を跨ぎ連続して覆うように保護層印刷パターンを形成し
てもよい。次に、基板71の上面の横方向の分割溝79
を跨ぐことなく、銀、ニッケル等を導電粉末とするエポ
キシ系樹脂等からなる電極ペーストをスクリーン印刷し
た後、基板71上に強固に接着させるために、ベルト式
連続硬化炉によって約200℃で、約30分のプロファ
イルによって熱硬化して、第2上面電極層75を形成す
る。
【0069】次に、図13(a)に示すように、シート
状基板71の横方向の分割溝79で分割して、短冊状基
板82に一次分割をする。
【0070】最後に、図13(b)に示すように、第2
上面電極層75と基板71の側面の抵抗層73にめっき
を施すための準備工程として、短冊状基板82を個片状
の基板83に分割する二次分割を行い、露出している第
2上面電極層75と基板71の側面の抵抗層53のはん
だ付け時の電極食われの防止およびはんだ付け時の信頼
性の確保のため、必要により電気めっきによって、ニッ
ケルめっき層(図示せず)を中間層とし、はんだめっき
層(図示せず)を最外層として形成して、抵抗器を製造
するものである。
【0071】以上のように構成、製造された本発明の実
施の形態3における抵抗器を実装基板にはんだ付けをし
た場合の効果については、前述の実施の形態1と同じで
あるため、説明を省略する。
【0072】
【発明の効果】以上のように本発明は、上面電極と基板
の上面の側部の一部に設けられた側面電極ではんだ付け
されるため、はんだ付けのフィレットを形成するための
面積を小さくすることができ、実装基板上のはんだ付け
部を含む実装面積を低減することができる抵抗器および
その製造方法を提供できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1における抵抗器の断面図
【図2】同抵抗器の製造方法を示す工程図
【図3】同製造方法を示す工程図
【図4】同製造方法を示す工程図
【図5】同抵抗器を実装した時の断面図および上面図
【図6】本発明の実施の形態2における抵抗器の断面図
【図7】同抵抗器の製造方法を示す工程図
【図8】同製造方法を示す工程図
【図9】同製造方法を示す工程図
【図10】本発明の実施の形態3における抵抗器の断面
【図11】同製造方法を示す工程図
【図12】同製造方法を示す工程図
【図13】同製造方法を示す工程図
【図14】従来の抵抗器の断面図
【図15】同抵抗器の製造方法を示す工程図
【図16】同製造方法を示す工程図
【図17】同製造方法を示す工程図
【図18】同抵抗器を実装した時の断面図および上面図
【符号の説明】
31 基板 32 抵抗層 33 上面電極層 34 保護層 35 ニッケルめっき層 36 はんだめっき層

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板と、前記基板の上面および側面の一
    部に設けられた抵抗層と、前記抵抗層の上面の側部に設
    けられた一対の上面電極層と、少なくとも前記基板上面
    の露出する前記抵抗層を覆うように設けられた保護層
    と、少なくとも露出する前記上面電極層および前記抵抗
    層を覆うように設けられためっき層とからなる抵抗器。
  2. 【請求項2】 基板と、前記基板の側部に設けられた一
    対の上面電極層と、前記上面電極層を覆うとともに前記
    基板の露出する上面および側面の一部に設けられた抵抗
    層と、少なくとも前記上面電極層の上面および前記基板
    の側面の抵抗層を覆うように設けられためっき層と、前
    記抵抗層の前記めっき層を形成していない上面に設けら
    れた保護層とからなる抵抗器。
  3. 【請求項3】 基板と、前記基板の側部に設けられた一
    対の上面電極層と、前記上面電極層を覆うとともに前記
    基板の露出する上面および側面の一部に設けられた抵抗
    層と、前記抵抗層の上面の側部に設けられた一対の第2
    上面電極層と、少なくとも前記第2上面電極層の上面お
    よび前記基板の側面の抵抗層を覆うように設けられため
    っき層と、前記抵抗層の前記めっき層を形成していない
    上面に設けられた保護層とからなる抵抗器。
  4. 【請求項4】 基板の側面に有するめっき層は、前記基
    板の高さ方向の前記抵抗層側に設けられた請求項1また
    は2または3記載の抵抗器。
  5. 【請求項5】 基板の側面に有するめっき層の面積は、
    基板の側面の面積の半分以下で有ることを特徴とする請
    求項4記載の抵抗器。
  6. 【請求項6】 めっき層は、保護層とは面一または前記
    めっき層が高い請求項1にまたは2または3記載の抵抗
    器。
  7. 【請求項7】 上面電極層は、銀系またはニッケル系の
    導電粉体に樹脂を含有してなる請求項1記載の抵抗器。
  8. 【請求項8】 上面電極層は、金系の有機金属化合物を
    焼成してなる請求項2または3記載の抵抗器。
  9. 【請求項9】 第2上面電極層は、銀系またはニッケル
    系の導電粉体に樹脂を含有してなる請求項3記載の抵抗
    器。
  10. 【請求項10】 保護層は、樹脂系である請求項7また
    は8または9記載の抵抗器。
  11. 【請求項11】 抵抗層は、ニッケル−クロム系または
    クロム−シリコン系である請求項7または8または9記
    載の抵抗器。
  12. 【請求項12】 めっき層の稜線は、丸みを有する請求
    項1または2または3記載の抵抗器。
  13. 【請求項13】 分割溝を有するシート基板の上面およ
    び分割溝の上面を跨ぐとともに前記分割溝内にスパッタ
    により抵抗層を設ける工程と、前記抵抗層の上面の側部
    に一対の上面電極層を設ける工程と、少なくとも前記基
    板上面の露出する前記抵抗層を覆うように保護層を設け
    る工程と、前記抵抗層を形成してなる前記シート基板の
    分割溝で前記シート基板を短冊状基板に分割する工程
    と、前記短冊状基板を個片に分割する工程とからなる抵
    抗器の製造方法。
  14. 【請求項14】 分割溝を有するシート基板の上面に分
    割溝を跨ぐことなく上面電極層を設ける工程と、前記上
    面電極層を覆うとともに前記基板の露出する上面および
    分割溝内に抵抗層を設ける工程と、前記基板上面の前記
    抵抗層の側部以外を覆うように保護層を形成する工程
    と、前記抵抗層を形成してなる前記シート基板の分割溝
    で前記シート基板を短冊状基板に分割する工程と、前記
    短冊状基板を個片に分割する工程とからなる抵抗器の製
    造方法。
  15. 【請求項15】 分割溝を有するシート基板の上面に分
    割溝を跨ぐことなく上面電極層を設ける工程と、前記上
    面電極層を覆うとともに前記基板の露出する上面および
    分割溝内に抵抗層を設ける工程と、前記基板上面の前記
    抵抗層の側部以外を覆うように保護層を形成する工程
    と、前記抵抗層の上面の側部に一対の第2上面電極層を
    設ける工程と、前記抵抗層を形成してなる前記シート基
    板の分割溝で前記シート基板を短冊状基板に分割する工
    程と、前記短冊状基板を個片に分割する工程とからなる
    抵抗器の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104376938A (zh) * 2013-08-13 2015-02-25 乾坤科技股份有限公司 电阻装置

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