JPH10313567A - リニアモータおよびステージ装置 - Google Patents
リニアモータおよびステージ装置Info
- Publication number
- JPH10313567A JPH10313567A JP9132964A JP13296497A JPH10313567A JP H10313567 A JPH10313567 A JP H10313567A JP 9132964 A JP9132964 A JP 9132964A JP 13296497 A JP13296497 A JP 13296497A JP H10313567 A JPH10313567 A JP H10313567A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- movable
- stage
- yokes
- movable magnet
- linear motor
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Linear Motors (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 １対のリニアモータでステージを１次元走査
する場合の、ステージや工作物へ与える変形を減少す
る。 【解決手段】 ストローク全長にわたって配置されたヨ
ークと該ヨークの周りに巻き回されストロ一ク全体にわ
たって配置されたコイルとからなる固定子の中を可動磁
石が移動するタイプのリニアモータにおいて、前記可動
磁石とこの可動磁石に対面する２つのヨークの距離をお
おむね等しく構成する。
する場合の、ステージや工作物へ与える変形を減少す
る。 【解決手段】 ストローク全長にわたって配置されたヨ
ークと該ヨークの周りに巻き回されストロ一ク全体にわ
たって配置されたコイルとからなる固定子の中を可動磁
石が移動するタイプのリニアモータにおいて、前記可動
磁石とこの可動磁石に対面する２つのヨークの距離をお
おむね等しく構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ストローク全長に
わたって配置されたヨークと、ヨークの周りに巻き回し
たストローク全体にわたって配置されるコイルとからな
る固定子の中を磁石が移動するタイプのリニアモータ、
およびそのリニアモータを用いたステージ装置に関わ
る。
わたって配置されたヨークと、ヨークの周りに巻き回し
たストローク全体にわたって配置されるコイルとからな
る固定子の中を磁石が移動するタイプのリニアモータ、
およびそのリニアモータを用いたステージ装置に関わ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来のステージ装置として図３および図
４に示す構成のものが知られている。同図のステージ装
置は、ステージベース１上にガイド２が固定され、ガイ
ド２上に空気膜等の潤滑手段を介してステージの可動部
３がその走査方向に滑動自在に支持されている。またス
テージの可動部３の両側には保持枠４に保持された可動
磁石５が固定される。可動磁石５に対応する固定子とし
てステージの全ストロークにわたる上ヨーク６および下
ヨーク７と、上下ヨーク６，７の間に挟持されたコイル
磁路切断用スペーサ８を備え、上ヨーク６にはストロー
ク全長にわたる単相コイル９が巻き回されている。
４に示す構成のものが知られている。同図のステージ装
置は、ステージベース１上にガイド２が固定され、ガイ
ド２上に空気膜等の潤滑手段を介してステージの可動部
３がその走査方向に滑動自在に支持されている。またス
テージの可動部３の両側には保持枠４に保持された可動
磁石５が固定される。可動磁石５に対応する固定子とし
てステージの全ストロークにわたる上ヨーク６および下
ヨーク７と、上下ヨーク６，７の間に挟持されたコイル
磁路切断用スペーサ８を備え、上ヨーク６にはストロー
ク全長にわたる単相コイル９が巻き回されている。
【０００３】磁石５は厚み方向に着磁され鉛直方向に磁
束密度を生成する。また、可動磁石５はステージの全ス
トロークにわたり、リニアモータ固定子と非接触状態を
保つようになっている。単相コイル９に電流を流すとフ
レミングの法則により可動磁石５の磁束密度とコイル電
流が相互作用をして走査方向に推力を発生するようにな
っている。
束密度を生成する。また、可動磁石５はステージの全ス
トロークにわたり、リニアモータ固定子と非接触状態を
保つようになっている。単相コイル９に電流を流すとフ
レミングの法則により可動磁石５の磁束密度とコイル電
流が相互作用をして走査方向に推力を発生するようにな
っている。
【０００４】このようなストローク全長にわたって配置
されたヨークおよびヨークの周りに巻き回したストロー
ク全体にわたって配置される単相コイルとからなる固定
子の中を磁石のみが移動するタイプの単相リニアモータ
は、推力特性が均一という利点を有する。そのため、こ
のような単相リニアモータを用いてステージを駆動する
上記の装置はステージ上に半導体の材料となるシリコン
ウエハや半導体パターンの原版となるレチクル、マスク
を載置して半導体の製造に用いるのに適している。
されたヨークおよびヨークの周りに巻き回したストロー
ク全体にわたって配置される単相コイルとからなる固定
子の中を磁石のみが移動するタイプの単相リニアモータ
は、推力特性が均一という利点を有する。そのため、こ
のような単相リニアモータを用いてステージを駆動する
上記の装置はステージ上に半導体の材料となるシリコン
ウエハや半導体パターンの原版となるレチクル、マスク
を載置して半導体の製造に用いるのに適している。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ステージ装置は、可動ステージが変形し、そのためステ
ージ上に載置したウエハやレチクル、マスク等の工作物
を変形させるという欠点があった。
ステージ装置は、可動ステージが変形し、そのためステ
ージ上に載置したウエハやレチクル、マスク等の工作物
を変形させるという欠点があった。
【０００６】すなわち、上記ヨークの周りに巻き回した
ストローク全体にわたって配置される単相コイルを片側
のヨークに集中して巻くと、コイルの巻かれたヨークと
可動磁石との距離と、コイルの巻かれないヨークと可動
磁石との距離に差が生じ、可動磁石はコイルの巻かれな
いヨーク側に大きな吸引力を受け、可動ステージを変形
させる。
ストローク全体にわたって配置される単相コイルを片側
のヨークに集中して巻くと、コイルの巻かれたヨークと
可動磁石との距離と、コイルの巻かれないヨークと可動
磁石との距離に差が生じ、可動磁石はコイルの巻かれな
いヨーク側に大きな吸引力を受け、可動ステージを変形
させる。
【０００７】本発明は、上述の従来例における問題点に
鑑み、ステージ装置を構成した際、ステージや工作物へ
与える変形の少ないリニアモータおよびそのようなリニ
アモータを用いたステージ装置を提供することを目的と
する。
鑑み、ステージ装置を構成した際、ステージや工作物へ
与える変形の少ないリニアモータおよびそのようなリニ
アモータを用いたステージ装置を提供することを目的と
する。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の第１の局面に係るリニアモータは、ストロー
ク全長にわたって配置されたヨークと該ヨークの周りに
巻き回されストローク全体にわたって配置されたコイル
とからなる固定子の中を可動磁石が移動するタイプのリ
ニアモータにおいて、可動磁石に対面する各々のヨーク
にコイルを巻きまわしたことを特徴とする。
め本発明の第１の局面に係るリニアモータは、ストロー
ク全長にわたって配置されたヨークと該ヨークの周りに
巻き回されストローク全体にわたって配置されたコイル
とからなる固定子の中を可動磁石が移動するタイプのリ
ニアモータにおいて、可動磁石に対面する各々のヨーク
にコイルを巻きまわしたことを特徴とする。
【０００９】また、本発明の第２の局面に係るリニアモ
ータは、ストローク全長にわたって配置されたヨークと
該ヨークの周りに巻き回されストロ一ク全体にわたって
配置されたコイルとからなる固定子の中を可動磁石が移
動するタイプのリニアモータにおいて、前記可動磁石と
この可動磁石に対面する２つのヨークの距離をおおむね
等しく構成したことを特徴とする。前記固定子は、ヨー
クの一部にコイル磁路切断用スペーサを含ませることも
できる。
ータは、ストローク全長にわたって配置されたヨークと
該ヨークの周りに巻き回されストロ一ク全体にわたって
配置されたコイルとからなる固定子の中を可動磁石が移
動するタイプのリニアモータにおいて、前記可動磁石と
この可動磁石に対面する２つのヨークの距離をおおむね
等しく構成したことを特徴とする。前記固定子は、ヨー
クの一部にコイル磁路切断用スペーサを含ませることも
できる。
【００１０】本発明のステージ装置は、上述のリニアモ
ータ１対をステージ可動部の両側にその走査方向に平行
に配置し、各リニアモータの可動子を構成する可動磁石
をこのステージ可動部に固定したことを特徴とする。
ータ１対をステージ可動部の両側にその走査方向に平行
に配置し、各リニアモータの可動子を構成する可動磁石
をこのステージ可動部に固定したことを特徴とする。
【００１１】
【作用】図５は図３および図４に示す従来のステージ装
置を走査軸方向から眺めた図である。図３〜５に示す従
来例において、コイル９の巻かれた上ヨーク６と可動磁
石５との距離Ｌ１と、コイル９の巻かれない下ヨーク７
と可動磁石５との距離Ｌ２は後者のＬ２が小さいので、
可動磁石５はコイル９の巻かれない下ヨーク７側に大き
な吸引力を受ける。このため、図５に示すように、ヨー
クのない図６の状態に比べて可動磁石５がおじぎをする
ようにステージ可動部全体が変形する。
置を走査軸方向から眺めた図である。図３〜５に示す従
来例において、コイル９の巻かれた上ヨーク６と可動磁
石５との距離Ｌ１と、コイル９の巻かれない下ヨーク７
と可動磁石５との距離Ｌ２は後者のＬ２が小さいので、
可動磁石５はコイル９の巻かれない下ヨーク７側に大き
な吸引力を受ける。このため、図５に示すように、ヨー
クのない図６の状態に比べて可動磁石５がおじぎをする
ようにステージ可動部全体が変形する。
【００１２】これに対し、本発明の第１の局面では、ス
トローク全体にわたって配置される単相コイルを可動磁
石に対面する両側のヨークに均等に巻く構成とすること
により、可動磁石とそれに対面する２つのヨークの距離
を等しくし、可動磁石がヨークから受ける吸引力を相殺
するようにして、ステージを変形させないようにした。
トローク全体にわたって配置される単相コイルを可動磁
石に対面する両側のヨークに均等に巻く構成とすること
により、可動磁石とそれに対面する２つのヨークの距離
を等しくし、可動磁石がヨークから受ける吸引力を相殺
するようにして、ステージを変形させないようにした。
【００１３】また、本発明の第２の局面では、ストロー
ク全体にわたって配置される単相コイルを可動磁石に対
面する片側のヨークに集中して巻くタイプのリニアモー
タにおいて、可動磁石とそれに対面する２つのヨークの
距離をおおむね等しく構成しし、可動磁石がヨークから
うける吸引力をおおむね相殺するようにして、ステージ
を変形させないようにした。
ク全体にわたって配置される単相コイルを可動磁石に対
面する片側のヨークに集中して巻くタイプのリニアモー
タにおいて、可動磁石とそれに対面する２つのヨークの
距離をおおむね等しく構成しし、可動磁石がヨークから
うける吸引力をおおむね相殺するようにして、ステージ
を変形させないようにした。
【００１４】
【実施例】以下、図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。図１は本発明の一実施例に係るステージ装置の全体
図を、 図２は可動子および固定子を走査軸方向から眺め
た図を示す。 なお、可動子としては図４に示す従来例と
同一のものを用いた。図３および図４に示す従来例では
単相コイル９が上ヨークのみに巻かれていたのに対し、
本実施例では単相コイル９ａ，９ｂが上ヨーク６と下ヨ
ーク７に均等に巻かれている。 なお、この結果、 可動磁
石５と上ヨーク６の距離が可動磁石５と下ヨーク７の距
離と等しくなる。 すると可動磁石５は上ヨーク６と下ヨ
ーク７から等しい吸引力を受けこれらが互いに相殺して
ステージを含む可動部には吸引力が働かないのと同じ状
態になる。 その結果ヨークのある状態（図２）でも、ヨ
ークのない状態（図６）とステージの変形に差がなくな
る。
る。図１は本発明の一実施例に係るステージ装置の全体
図を、 図２は可動子および固定子を走査軸方向から眺め
た図を示す。 なお、可動子としては図４に示す従来例と
同一のものを用いた。図３および図４に示す従来例では
単相コイル９が上ヨークのみに巻かれていたのに対し、
本実施例では単相コイル９ａ，９ｂが上ヨーク６と下ヨ
ーク７に均等に巻かれている。 なお、この結果、 可動磁
石５と上ヨーク６の距離が可動磁石５と下ヨーク７の距
離と等しくなる。 すると可動磁石５は上ヨーク６と下ヨ
ーク７から等しい吸引力を受けこれらが互いに相殺して
ステージを含む可動部には吸引力が働かないのと同じ状
態になる。 その結果ヨークのある状態（図２）でも、ヨ
ークのない状態（図６）とステージの変形に差がなくな
る。
【００１５】なお、従来例のように上ヨーク６のみに単
相コイル９を巻いて場合であっても、 可動磁石５から下
ヨーク７までの距離Ｌ２をふやしてやって可動磁石５に
対して上ヨーク６と下ヨーク７とが同じ距離になるよう
にしても、ステージの変形を防止することもできる。 し
かしこのような構成では下ヨーク７と可動磁石５との距
離は無駄なエアギャップとなって装置のスペースを増や
したり、 磁石５が発生する磁束密度を低減したりするの
で好ましくはない。したがって、上ヨーク、 下ヨークに
均等に単相コイルを巻いてスペースを有効に利用するの
がよい。
相コイル９を巻いて場合であっても、 可動磁石５から下
ヨーク７までの距離Ｌ２をふやしてやって可動磁石５に
対して上ヨーク６と下ヨーク７とが同じ距離になるよう
にしても、ステージの変形を防止することもできる。 し
かしこのような構成では下ヨーク７と可動磁石５との距
離は無駄なエアギャップとなって装置のスペースを増や
したり、 磁石５が発生する磁束密度を低減したりするの
で好ましくはない。したがって、上ヨーク、 下ヨークに
均等に単相コイルを巻いてスペースを有効に利用するの
がよい。
【００１６】さらに本実施例や従来例のように上ヨーク
６と下ヨーク７の間にコイル磁路切断用スペーサ８が設
けてある場合は上または下ヨークのみに単相コイル９を
巻くよりも全巻き数を同じにして上ヨーク６と下ヨーク
７に均等に単相コイル９ａ，９ｂを巻いたほうが他に利
点がある。
６と下ヨーク７の間にコイル磁路切断用スペーサ８が設
けてある場合は上または下ヨークのみに単相コイル９を
巻くよりも全巻き数を同じにして上ヨーク６と下ヨーク
７に均等に単相コイル９ａ，９ｂを巻いたほうが他に利
点がある。
【００１７】それはコイルの自己インダクタンスが減る
ことである。コイルの自己インダクタンスは巻き数の２
乗に比例するが、 図１，２のように別のヨークにコイル
を巻くと巻き数が半分になる。 しかもコイル電流を起磁
力とする磁気回路において上ヨーク６と下ヨーク７はコ
イル磁路切断用スペーサ８により切断された状態になっ
ている。 したがって図１，２の構成では巻き数半分のコ
イルが２個存在している状態になりこの２つを直列に接
続しても上または下ヨークにのみコイルを巻いた状態に
比べて自己インダクタンスは半分になる。個々のコイル
を別の電源で駆動してやるとさらに好ましい。本発明の
ステージ装置は、走査型露光装置の走査ステージとして
特に好ましく用いられる。
ことである。コイルの自己インダクタンスは巻き数の２
乗に比例するが、 図１，２のように別のヨークにコイル
を巻くと巻き数が半分になる。 しかもコイル電流を起磁
力とする磁気回路において上ヨーク６と下ヨーク７はコ
イル磁路切断用スペーサ８により切断された状態になっ
ている。 したがって図１，２の構成では巻き数半分のコ
イルが２個存在している状態になりこの２つを直列に接
続しても上または下ヨークにのみコイルを巻いた状態に
比べて自己インダクタンスは半分になる。個々のコイル
を別の電源で駆動してやるとさらに好ましい。本発明の
ステージ装置は、走査型露光装置の走査ステージとして
特に好ましく用いられる。
【００１８】
【デバイス生産方法の実施例】次に上記説明した露光装
置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
図７は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、
液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン
等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）で
はデバイスのパターン設計を行なう。ステップ２（マス
ク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作
する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンや
ガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマ
スクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエ
ハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立
て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製された
ウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセ
ンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージ
ング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６
（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの
動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップ７）される。
置を利用したデバイスの生産方法の実施例を説明する。
図７は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、
液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン
等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）で
はデバイスのパターン設計を行なう。ステップ２（マス
ク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作
する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンや
ガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマ
スクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエ
ハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立
て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製された
ウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセ
ンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージ
ング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６
（検査）ではステップ５で作製された半導体デバイスの
動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行なう。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップ７）される。
【００１９】図８は上記ウエハプロセスの詳細なフロー
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明したアライメント装置を
有する露光装置によってマスクの回路パターンをウエハ
に焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウ
エハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像
したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９
（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となった
レジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行な
うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成
される。本実施例ではこの繰り返しの各プロセスにおい
て、上記述べたようにステージの変形を防止すること
で、プロセスに影響を受けず正確なパターン焼付を可能
としている。
を示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸化
させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶縁
膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ上
に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオン
打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１５
（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ステ
ップ１６（露光）では上記説明したアライメント装置を
有する露光装置によってマスクの回路パターンをウエハ
に焼付露光する。ステップ１７（現像）では露光したウ
エハを現像する。ステップ１８（エッチング）では現像
したレジスト像以外の部分を削り取る。ステップ１９
（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不要となった
レジストを取り除く。これらのステップを繰り返し行な
うことによって、ウエハ上に多重に回路パターンが形成
される。本実施例ではこの繰り返しの各プロセスにおい
て、上記述べたようにステージの変形を防止すること
で、プロセスに影響を受けず正確なパターン焼付を可能
としている。
【００２０】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
造が難しかった高集積度のデバイスを低コストに製造す
ることができる。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ステージやその上に載置される工作物を変形させないよ
うにできる。また、上ヨークと下ヨークをコイル磁路切
断用スペーサで磁気的に切断し、各ヨークにコイルを配
置すれば、コイルの自己インダクタンスが減る。
ステージやその上に載置される工作物を変形させないよ
うにできる。また、上ヨークと下ヨークをコイル磁路切
断用スペーサで磁気的に切断し、各ヨークにコイルを配
置すれば、コイルの自己インダクタンスが減る。
【図１】 本発明の一実施例に係るステージ装置の全体
構成を示す斜視図である。
構成を示す斜視図である。
【図２】 図１の装置の可動子および固定子を走査軸方
向から眺めた図である。
向から眺めた図である。
【図３】 従来のステージ装置の全体構成を示す斜視図
である。
である。
【図４】 図３の装置の可動子部分の構成を示す斜視図
である。
である。
【図５】 図３の装置の可動子および固定子を走査軸方
向から眺めた図である。
向から眺めた図である。
【図６】 ヨークが無い場合の図２および図５に対応す
る図である。
る図である。
【図７】 微小デバイスの製造の流れを示す図である。
【図８】 図７におけるウエハプロセスの詳細な流れを
示す図である。
示す図である。
１：ステージベース、２：ガイド、３：ステージ可動
部、４：磁石保持枠、５：可動磁石、６：上ヨーク、
７：下ヨーク、８：コイル磁路切断用スペーサ、９，９
ａ，９ｂ：単相コイル。
部、４：磁石保持枠、５：可動磁石、６：上ヨーク、
７：下ヨーク、８：コイル磁路切断用スペーサ、９，９
ａ，９ｂ：単相コイル。
Claims (6)
- 【請求項１】 厚み方向に着磁され該厚み方向と直交す
る方向に可動な磁石を有する可動子と、該可動磁石を厚
み方向に挟んで該可動磁石のストローク全長にわたって
互いに平行に配置された１対のヨークおよび該ヨークに
巻き回され前記可動磁石のストローク全長にわたって配
置されたコイルを有する固定子を備えたリニアモータに
おいて、前記１対のヨークのそれぞれにコイルが配置さ
れていることを特徴とするリニアモータ。 - 【請求項２】 厚み方向に着磁され、該厚み方向と直交
する方向に可動な磁石を有する可動子と、該可動磁石を
厚み方向に挟んで該可動磁石のストローク全長にわたっ
て互いに平行に配置された１対のヨークおよび該ヨーク
に巻き回され前記可動磁石のストローク全長にわたって
配置されたコイルを有する固定子とを備えたリニアモー
タにおいて、前記可動磁石とそれらに対面する２つのヨ
ークとの距離をおおむね等しく構成したことを特徴とす
るリニアモータ。 - 【請求項３】 前記１対のヨークの一部にコイル磁路切
断用スペーサが配置されていることを特徴とする請求項
１または２記載のリニアモータ。 - 【請求項４】 前記１対のヨークがその両端において前
記ストローク磁路切断用スペーサにより接続されている
ことを特徴とする請求項３記載のリニアモータ。 - 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１つに記載のリ
ニアモータ１対を水平方向１次元に移動可能なステージ
の両側に移動方向と平行に配置し、該リニアモータの可
動子を該ステージの両側面に固定してなることを特徴と
するステージ装置。 - 【請求項６】 請求項５に記載のステージ装置を用いた
半導体製造装置により製造したことを特徴とする半導体
デバイス。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9132964A JPH10313567A (ja) | 1997-05-08 | 1997-05-08 | リニアモータおよびステージ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9132964A JPH10313567A (ja) | 1997-05-08 | 1997-05-08 | リニアモータおよびステージ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10313567A true JPH10313567A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=15093630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9132964A Pending JPH10313567A (ja) | 1997-05-08 | 1997-05-08 | リニアモータおよびステージ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10313567A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006001282A1 (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Nikon Corporation | 位置決め装置、位置決め方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法 |
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1997
- 1997-05-08 JP JP9132964A patent/JPH10313567A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006001282A1 (ja) * | 2004-06-25 | 2006-01-05 | Nikon Corporation | 位置決め装置、位置決め方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法 |
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