JPH11122900A - 位置決めテーブル装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
位置決めテーブル装置およびデバイス製造方法Info
- Publication number
- JPH11122900A JPH11122900A JP9299688A JP29968897A JPH11122900A JP H11122900 A JPH11122900 A JP H11122900A JP 9299688 A JP9299688 A JP 9299688A JP 29968897 A JP29968897 A JP 29968897A JP H11122900 A JPH11122900 A JP H11122900A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- jacket
- coil
- cooling
- positioning table
- positioning
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Control Of Linear Motors (AREA)
- Linear Motors (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Machine Tool Units (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 位置決めテーブルの構造部材の熱変形が少な
い高精度な位置決めテーブル装置および該装置を用いた
半導体デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】 固定部に対して相対移動する可動テーブ
ルと、磁気回路および該磁気回路に対して相対的に移動
するコイルを有し可動テーブルを駆動するためのリニア
モータと、コイルを冷却するための冷却装置とを備えた
位置決めテーブル装置において、コイルを覆い、その覆
われた内部空間に冷媒が流れるようにジャケットを設け
ると共に、ジャケット内に配置されたコイルのリード線
を、ジャケットに接続した冷却管を通してジャケットの
外部に引き出したことを特徴とする位置決めテーブル装
置。
い高精度な位置決めテーブル装置および該装置を用いた
半導体デバイスの製造方法を提供する。 【解決手段】 固定部に対して相対移動する可動テーブ
ルと、磁気回路および該磁気回路に対して相対的に移動
するコイルを有し可動テーブルを駆動するためのリニア
モータと、コイルを冷却するための冷却装置とを備えた
位置決めテーブル装置において、コイルを覆い、その覆
われた内部空間に冷媒が流れるようにジャケットを設け
ると共に、ジャケット内に配置されたコイルのリード線
を、ジャケットに接続した冷却管を通してジャケットの
外部に引き出したことを特徴とする位置決めテーブル装
置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体露光装置、工
作機械等に使用する位置決めテーブル装置に関し、特
に、テーブルの位置を検出する位置検出器と、磁気回路
と、電流を流すことにより前記磁気回路に対して相対的
に移動するコイルと、コイルを冷却する冷却ユニットを
備えた位置決めテーブル装置に関するものである。
作機械等に使用する位置決めテーブル装置に関し、特
に、テーブルの位置を検出する位置検出器と、磁気回路
と、電流を流すことにより前記磁気回路に対して相対的
に移動するコイルと、コイルを冷却する冷却ユニットを
備えた位置決めテーブル装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図８は従来の位置決めテーブル装置の概
略構成図である。この図に示す位置決めテーブル装置
は、４相のコイルを一直線上に並べたリニアモータコイ
ル１０４を備えている。リニアモータコイル１０４はコ
イル支持部材１０３に支持されており、リニアモータコ
イル１０４を構成する各コイルの並ぶ方向と平行に、一
対のガイド１０２が設けられている。ガイド１０２に
は、テーブル天板１０１が軸受け１０６を介して取り付
けられており、テーブル天板１０１はガイド１０２によ
って前記コイルの並ぶ方向に自在に案内される。テーブ
ル天板１０１には可動磁石１０５が取り付けられ、可動
磁石１０５は前記コイルの並ぶ方向に永久磁石を極性を
交互にして４対並べて構成されている。
略構成図である。この図に示す位置決めテーブル装置
は、４相のコイルを一直線上に並べたリニアモータコイ
ル１０４を備えている。リニアモータコイル１０４はコ
イル支持部材１０３に支持されており、リニアモータコ
イル１０４を構成する各コイルの並ぶ方向と平行に、一
対のガイド１０２が設けられている。ガイド１０２に
は、テーブル天板１０１が軸受け１０６を介して取り付
けられており、テーブル天板１０１はガイド１０２によ
って前記コイルの並ぶ方向に自在に案内される。テーブ
ル天板１０１には可動磁石１０５が取り付けられ、可動
磁石１０５は前記コイルの並ぶ方向に永久磁石を極性を
交互にして４対並べて構成されている。
【０００３】また、ガイド１０２の側方にはテーブル天
板１０１の位置を検出するリニアスケールなどの位置検
出器１０７が設けられている。特に、高精度な位置決め
精度が必要な半導体露光装置などでは、位置検出器１０
７としてレーザ測長器が使用される。この位置検出器１
０７からはテーブル１０１の移動方向に応じてアップ、
ダウン信号が出力され、この出力信号がカウンタユニッ
ト１１０に取り込まれてテーブル１０１の位置情報が得
られる。カウンタユニット１１０は、テーブル天板１０
１に取り付けられた遮光板１０８が原点フォトスイッチ
１０９を通過した際に初期化される。また、カウンタユ
ニット１１０にはサーボコントローラ１１１および相切
り替えコントローラ１１２が接続されており、テーブル
１０１の目標位置とカウンタユニット１１０から得られ
る現在位置との差分を、例えばＰＩＤ演算し制御出力と
してＤ／Ａコンバータ１１３へ指令値として出力し位置
決め制御を行う。相切り替えコントローラ１１２は、相
切り替え位置データを記憶してあるテーブル１１６を参
照しながら、アンプ切り替え信号を出力し、スイッチ１
１４が切り替え制御されて、各コイルへの通電が電流ア
ンプ１１５によって適切に行われる。そして、リニアモ
ータコイル１０４からのリード線１１９は、コネクタ１
２０にまとめられ、ステージ近傍を引き回した後この電
流アンプ１１５に配線される。
板１０１の位置を検出するリニアスケールなどの位置検
出器１０７が設けられている。特に、高精度な位置決め
精度が必要な半導体露光装置などでは、位置検出器１０
７としてレーザ測長器が使用される。この位置検出器１
０７からはテーブル１０１の移動方向に応じてアップ、
ダウン信号が出力され、この出力信号がカウンタユニッ
ト１１０に取り込まれてテーブル１０１の位置情報が得
られる。カウンタユニット１１０は、テーブル天板１０
１に取り付けられた遮光板１０８が原点フォトスイッチ
１０９を通過した際に初期化される。また、カウンタユ
ニット１１０にはサーボコントローラ１１１および相切
り替えコントローラ１１２が接続されており、テーブル
１０１の目標位置とカウンタユニット１１０から得られ
る現在位置との差分を、例えばＰＩＤ演算し制御出力と
してＤ／Ａコンバータ１１３へ指令値として出力し位置
決め制御を行う。相切り替えコントローラ１１２は、相
切り替え位置データを記憶してあるテーブル１１６を参
照しながら、アンプ切り替え信号を出力し、スイッチ１
１４が切り替え制御されて、各コイルへの通電が電流ア
ンプ１１５によって適切に行われる。そして、リニアモ
ータコイル１０４からのリード線１１９は、コネクタ１
２０にまとめられ、ステージ近傍を引き回した後この電
流アンプ１１５に配線される。
【０００４】ここで、多相型リニアモータを備えた位置
決めテーブル装置におけるリニアモータコイル１０４の
通電パターンを図５に示す。図中において記号Ａおよび
Ｂはコイルに流れる電流の向きを示し、記号Ｂは図面正
面から見て手前向きの電流を示している。図５のケース
０〜９に示すように可動磁石１０５の位置によって通電
するコイル及びそのコイルに流れる電流の向きをあるピ
ッチ（この図では１０ｍｍ毎）で切り替え、同一方向に
推力を発生させることで、可動磁石を所定の方向に移動
させるとともにテーブルを移動させている。
決めテーブル装置におけるリニアモータコイル１０４の
通電パターンを図５に示す。図中において記号Ａおよび
Ｂはコイルに流れる電流の向きを示し、記号Ｂは図面正
面から見て手前向きの電流を示している。図５のケース
０〜９に示すように可動磁石１０５の位置によって通電
するコイル及びそのコイルに流れる電流の向きをあるピ
ッチ（この図では１０ｍｍ毎）で切り替え、同一方向に
推力を発生させることで、可動磁石を所定の方向に移動
させるとともにテーブルを移動させている。
【０００５】以上のようなテーブル移動時の通電によ
り、リニアモータコイル１０４には熱が発生する。コイ
ルの発熱を押さえるために、特開平１−１９４８４７等
では、コイル支持部材の内部に冷却管を貫通させ冷媒を
供給している。このような、従来のリニアモータの詳細
な構成を図６に、図６中Ａ−Ｂ断面図を図７に示す。同
図に示すように、リニアモータコイル１０４を冷却する
ための冷却管１１８は、コイル支持部材１０３を貫通し
て設けられている。
り、リニアモータコイル１０４には熱が発生する。コイ
ルの発熱を押さえるために、特開平１−１９４８４７等
では、コイル支持部材の内部に冷却管を貫通させ冷媒を
供給している。このような、従来のリニアモータの詳細
な構成を図６に、図６中Ａ−Ｂ断面図を図７に示す。同
図に示すように、リニアモータコイル１０４を冷却する
ための冷却管１１８は、コイル支持部材１０３を貫通し
て設けられている。
【０００６】
【発明が解決しようとしている課題】しかし、上述の従
来例では、コイルの一部しか冷却管と接していないた
め、コイルでの発熱を効率よく回収できない。近年、半
導体露光装置などでは高スループットを達成するために
大電流を流す傾向にあり、コイルから出てきたリード線
はステージ近傍を引き回した後電流アンプに配線される
が、サブミクロンの精度を要求される装置では、こうし
たリード線からの発熱も無視できない状況になってきて
いる。
来例では、コイルの一部しか冷却管と接していないた
め、コイルでの発熱を効率よく回収できない。近年、半
導体露光装置などでは高スループットを達成するために
大電流を流す傾向にあり、コイルから出てきたリード線
はステージ近傍を引き回した後電流アンプに配線される
が、サブミクロンの精度を要求される装置では、こうし
たリード線からの発熱も無視できない状況になってきて
いる。
【０００７】半導体露光装置などでは、熱を回収できな
いと位置決めテーブルの構造部材の熱変形などを誘発
し、露光精度に悪影響を与えるなど問題となっている。
いと位置決めテーブルの構造部材の熱変形などを誘発
し、露光精度に悪影響を与えるなど問題となっている。
【０００８】本発明の目的は上記の課題を解決し、位置
決めテーブルの構造部材の熱変形が少ない高精度な位置
決めテーブル装置および該装置を用いた半導体デバイス
の製造方法を提供することである。
決めテーブルの構造部材の熱変形が少ない高精度な位置
決めテーブル装置および該装置を用いた半導体デバイス
の製造方法を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段及び作用】この目的を達成
するため本発明は、固定部に対して相対移動する可動テ
ーブルと、磁気回路および該磁気回路に対して相対的に
移動するコイルを有し可動テーブルを駆動するためのリ
ニアモータと、コイルを冷却するための冷却装置とを備
えた位置決めテーブル装置であって、通常、テーブルの
位置を検出するための位置検出器を有し、この位置検出
器により検出した位置情報に基いて可動テーブルを所定
の位置に駆動制御する位置決めテーブル装置において、
コイルを覆い、その覆われた内部空間に冷媒が流れるよ
うにジャケットを設けると共に、ジャケット内に配置さ
れたコイルのリード線を、ジャケットに接続した冷却管
を通してジャケットの外部に引き出したことを特徴とす
る。
するため本発明は、固定部に対して相対移動する可動テ
ーブルと、磁気回路および該磁気回路に対して相対的に
移動するコイルを有し可動テーブルを駆動するためのリ
ニアモータと、コイルを冷却するための冷却装置とを備
えた位置決めテーブル装置であって、通常、テーブルの
位置を検出するための位置検出器を有し、この位置検出
器により検出した位置情報に基いて可動テーブルを所定
の位置に駆動制御する位置決めテーブル装置において、
コイルを覆い、その覆われた内部空間に冷媒が流れるよ
うにジャケットを設けると共に、ジャケット内に配置さ
れたコイルのリード線を、ジャケットに接続した冷却管
を通してジャケットの外部に引き出したことを特徴とす
る。
【００１０】このジャケットの外部に引き出したリード
線は、好ましくは、冷却管の中を通した状態で冷却装置
まで引き回し、この冷却装置を介してコイルに電流を通
じるための電流アンプに結線される。ここで、リード線
を冷却装置内から引き出す位置は、冷媒が冷却装置から
漏れないように冷媒の液面よりも上部に設けることが望
ましく、リード線を通す冷却管は、リード線が冷媒を送
り出すポンプ内を通らないように冷媒を回収する方の配
管であることが望ましい。
線は、好ましくは、冷却管の中を通した状態で冷却装置
まで引き回し、この冷却装置を介してコイルに電流を通
じるための電流アンプに結線される。ここで、リード線
を冷却装置内から引き出す位置は、冷媒が冷却装置から
漏れないように冷媒の液面よりも上部に設けることが望
ましく、リード線を通す冷却管は、リード線が冷媒を送
り出すポンプ内を通らないように冷媒を回収する方の配
管であることが望ましい。
【００１１】上記構成によれば、コイル及びリード線か
ら発生する熱を効率よく回収する事が可能となり、位置
決めテーブルの構造部材の熱変形などが少ない、高精度
な位置決めテーブル装置を提供できる。
ら発生する熱を効率よく回収する事が可能となり、位置
決めテーブルの構造部材の熱変形などが少ない、高精度
な位置決めテーブル装置を提供できる。
【００１２】また、本発明は、固定部に対して相対移動
する可動テーブルに基板を搭載し、磁気回路および該磁
気回路に対して相対的に移動するコイルを有するリニア
モータにより、可動テーブルを駆動して位置決めを行な
い、基板の所定の位置に原版のパターンを露光してデバ
イスを製造する方法において、コイルを覆い、その覆わ
れた内部空間に冷媒が流れるようにジャケットを形成し
て、そのジャケット内に配置されたコイルのリード線を
ジャケットに接続した冷却管を通してジャケットの外部
に引き出すことにより、リード線を含むコイル全体を冷
却しながら可動テーブルの駆動を行なうことを特徴とす
る。
する可動テーブルに基板を搭載し、磁気回路および該磁
気回路に対して相対的に移動するコイルを有するリニア
モータにより、可動テーブルを駆動して位置決めを行な
い、基板の所定の位置に原版のパターンを露光してデバ
イスを製造する方法において、コイルを覆い、その覆わ
れた内部空間に冷媒が流れるようにジャケットを形成し
て、そのジャケット内に配置されたコイルのリード線を
ジャケットに接続した冷却管を通してジャケットの外部
に引き出すことにより、リード線を含むコイル全体を冷
却しながら可動テーブルの駆動を行なうことを特徴とす
る。
【００１３】
【実施例】図１は本発明の位置決めテーブル装置の実施
例の概略構成図である。この図に示すような本発明の位
置決めテーブル装置は、４相のコイルを一直線上に並べ
たリニアモータコイル４を備えている。リニアモータコ
イル４はコイル支持部材３に支持されており、リニアモ
ータコイル４を構成する各コイルの並ぶ方向と平行に、
一対のガイド２が設けられている。ガイド２には、テー
ブル天板１が軸受け６を介して取り付けられており、テ
ーブル天板１はガイド２によって前記コイルの並ぶ方向
に自在に案内される。テーブル天板１には可動磁石５が
取り付けられ、この可動磁石５は前記コイルの並ぶ方向
に永久磁石を極性を交互にして４対並べて構成されてい
る。
例の概略構成図である。この図に示すような本発明の位
置決めテーブル装置は、４相のコイルを一直線上に並べ
たリニアモータコイル４を備えている。リニアモータコ
イル４はコイル支持部材３に支持されており、リニアモ
ータコイル４を構成する各コイルの並ぶ方向と平行に、
一対のガイド２が設けられている。ガイド２には、テー
ブル天板１が軸受け６を介して取り付けられており、テ
ーブル天板１はガイド２によって前記コイルの並ぶ方向
に自在に案内される。テーブル天板１には可動磁石５が
取り付けられ、この可動磁石５は前記コイルの並ぶ方向
に永久磁石を極性を交互にして４対並べて構成されてい
る。
【００１４】また、ガイド２の側方にはテーブル天板１
の位置を検出するリニアスケールなどの位置検出器７が
設けられている。特に、高精度な位置決め精度が必要な
半導体露光装置などでは、位置検出器７としてレーザ測
長器が使用される。位置検出器７からはテーブル１の移
動方向に応じてアップ、ダウン信号が出力され、この出
力信号がカウンタユニット１０に取り込まれてテーブル
１の位置情報が得られる。カウンタユニット１０は、テ
ーブル天板１に取り付けられた遮光板８が原点フォトス
イッチ９を通過した際に初期化される。カウンタユニッ
ト１０にはサーボコントローラ１１と相切り替えコント
ローラ１２が接続されており、テーブルの目標位置とカ
ウンタユニットから得られる現在位置との差分を、例え
ばＰＩＤ演算し制御出力としてＤ／Ａコンバータ１３へ
指令値として出力し位置決め制御を行う。各スイッチ１
４には、各コイルが電流アンプ１５を介して接続されて
いる。相切り替えコントローラ１２は、相切り替え位置
データを記憶してあるテーブル１６を参照しながら、ア
ンプ切り替え信号を出力し、スイッチ１４が切り替え制
御されて各コイルへの通電が適切に行われる。この各コ
イルへの通電については、上述の従来技術における通電
パターンと同様であり、図５に示される。
の位置を検出するリニアスケールなどの位置検出器７が
設けられている。特に、高精度な位置決め精度が必要な
半導体露光装置などでは、位置検出器７としてレーザ測
長器が使用される。位置検出器７からはテーブル１の移
動方向に応じてアップ、ダウン信号が出力され、この出
力信号がカウンタユニット１０に取り込まれてテーブル
１の位置情報が得られる。カウンタユニット１０は、テ
ーブル天板１に取り付けられた遮光板８が原点フォトス
イッチ９を通過した際に初期化される。カウンタユニッ
ト１０にはサーボコントローラ１１と相切り替えコント
ローラ１２が接続されており、テーブルの目標位置とカ
ウンタユニットから得られる現在位置との差分を、例え
ばＰＩＤ演算し制御出力としてＤ／Ａコンバータ１３へ
指令値として出力し位置決め制御を行う。各スイッチ１
４には、各コイルが電流アンプ１５を介して接続されて
いる。相切り替えコントローラ１２は、相切り替え位置
データを記憶してあるテーブル１６を参照しながら、ア
ンプ切り替え信号を出力し、スイッチ１４が切り替え制
御されて各コイルへの通電が適切に行われる。この各コ
イルへの通電については、上述の従来技術における通電
パターンと同様であり、図５に示される。
【００１５】リニアモータの詳細な構成を図２に、図２
中Ａ−Ｂ断面図を図３に示す。図３に示したように２枚
のコイル支持部材３を接着等により張り合わせコイルを
覆い、内部空間に冷媒が流れるジャケットを設け、ジャ
ケット内に配置したコイルのリード線１９を、ジャケッ
卜に接続した冷却管を通してジャケットの外部に引き出
す構成とした。冷却ユニット１７から冷却管１８を介し
て冷媒を供給する。また冷却管１８の中を通してジャケ
ットの外に引き出したコイルのリード線１９を、冷媒を
供給する冷却ユニットまで引き回し、冷却ユニットを介
して電流アンプと結線させている。
中Ａ−Ｂ断面図を図３に示す。図３に示したように２枚
のコイル支持部材３を接着等により張り合わせコイルを
覆い、内部空間に冷媒が流れるジャケットを設け、ジャ
ケット内に配置したコイルのリード線１９を、ジャケッ
卜に接続した冷却管を通してジャケットの外部に引き出
す構成とした。冷却ユニット１７から冷却管１８を介し
て冷媒を供給する。また冷却管１８の中を通してジャケ
ットの外に引き出したコイルのリード線１９を、冷媒を
供給する冷却ユニットまで引き回し、冷却ユニットを介
して電流アンプと結線させている。
【００１６】図４に冷却ユニットの概略図を示す。同図
において、２０は冷媒を送り出すポンプである。冷媒は
冷却ユニット内にて常に一定の温度に保たれる。冷媒が
液体である場合は、図４で示すように、冷却管１８の内
部を通して引き出したリード線１９を冷媒の液面より上
を通すように配線処理すれば冷媒の漏れを心配すること
なく、確実に電流アンプに結線できる。
において、２０は冷媒を送り出すポンプである。冷媒は
冷却ユニット内にて常に一定の温度に保たれる。冷媒が
液体である場合は、図４で示すように、冷却管１８の内
部を通して引き出したリード線１９を冷媒の液面より上
を通すように配線処理すれば冷媒の漏れを心配すること
なく、確実に電流アンプに結線できる。
【００１７】次に、この位置決めテーブル装置を用いた
露光装置によるデバイスの製造例について説明する。図
９は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液
晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン
等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）で
は半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マス
ク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作
する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンや
ガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマ
スクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエ
ハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立
て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製された
ウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセ
ンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージ
ング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６
（検査）では、ステップ５で作製された半導体デバイス
の動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップ７）される。
露光装置によるデバイスの製造例について説明する。図
９は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導体チップ、液
晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイクロマシン
等）の製造のフローを示す。ステップ１（回路設計）で
は半導体デバイスの回路設計を行う。ステップ２（マス
ク製作）では設計したパターンを形成したマスクを製作
する。一方、ステップ３（ウエハ製造）ではシリコンや
ガラス等の材料を用いてウエハを製造する。ステップ４
（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記用意したマ
スクとウエハを用いて、リソグラフィ技術によってウエ
ハ上に実際の回路を形成する。次のステップ５（組み立
て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作製された
ウエハを用いて半導体チップ化する工程であり、アッセ
ンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、パッケージ
ング工程（チップ封入）等の工程を含む。ステップ６
（検査）では、ステップ５で作製された半導体デバイス
の動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行う。こう
した工程を経て半導体デバイスが完成し、これが出荷
（ステップ７）される。
【００１８】図１０は上記ウエハプロセスの詳細なフロ
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光の適否を確認
する手段を有する露光装置によってマスクの回路パター
ンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では
露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチン
グ）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ス
テップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不
要となったレジストを取り除く。これらのステップ１１
〜１９を繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に
回路パターンが形成される。
ーを示す。ステップ１１（酸化）ではウエハの表面を酸
化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウエハ表面に絶
縁膜を形成する。ステップ１３（電極形成）ではウエハ
上に電極を蒸着によって形成する。ステップ１４（イオ
ン打込み）ではウエハにイオンを打ち込む。ステップ１
５（レジスト処理）ではウエハに感光剤を塗布する。ス
テップ１６（露光）では上記説明した露光の適否を確認
する手段を有する露光装置によってマスクの回路パター
ンをウエハに焼付露光する。ステップ１７（現像）では
露光したウエハを現像する。ステップ１８（エッチン
グ）では現像したレジスト像以外の部分を削り取る。ス
テップ１９（レジスト剥離）ではエッチングが済んで不
要となったレジストを取り除く。これらのステップ１１
〜１９を繰り返し行うことによって、ウエハ上に多重に
回路パターンが形成される。
【００１９】本実施例ではこの繰り返しの各プロセスに
おいて、上記述べたように露光（ステップ１６）のステ
ージ駆動において、発熱による影響の少ない位置決めス
テージ装置を用いることにより、従来は製造が難しかっ
た高集積度のデバイスを低コストで製造することができ
る。
おいて、上記述べたように露光（ステップ１６）のステ
ージ駆動において、発熱による影響の少ない位置決めス
テージ装置を用いることにより、従来は製造が難しかっ
た高集積度のデバイスを低コストで製造することができ
る。
【００２０】
【発明の効果】上記構成によれば、コイル全面に冷媒が
作用するため効率よく冷却する事が可能である。また、
ジャケット内に配置したコイルのリード線を、ジャケッ
トに接続した冷却管を通してジャケットの外部に引き出
し、引き出したコイルのリード線を冷媒を供給する冷却
ユニットまで冷却管の中を通したまま引き回し、冷却ユ
ニットを介して電流アンプと結線させたことで、コイル
のリード線からの発熱も押さえることが可能となり、位
置決めテーブルの構造部材の熱変形が少ない高精度な位
置決めテーブル装置を提供できる。
作用するため効率よく冷却する事が可能である。また、
ジャケット内に配置したコイルのリード線を、ジャケッ
トに接続した冷却管を通してジャケットの外部に引き出
し、引き出したコイルのリード線を冷媒を供給する冷却
ユニットまで冷却管の中を通したまま引き回し、冷却ユ
ニットを介して電流アンプと結線させたことで、コイル
のリード線からの発熱も押さえることが可能となり、位
置決めテーブルの構造部材の熱変形が少ない高精度な位
置決めテーブル装置を提供できる。
【図１】 本発明の一実施例の位置決めテーブル装置を
示す概略構成図である。
示す概略構成図である。
【図２】 図１の位置決めテーブル装置のリニアモータ
の構成図である。
の構成図である。
【図３】 図１の位置決めテーブル装置のリニアモータ
の断面図である。
の断面図である。
【図４】 図１の位置決めテーブル装置の冷却ポンプの
概略図である。
概略図である。
【図５】 多相型リニアモータの通電パターンを示した
図である。
図である。
【図６】 従来例の位置決めテーブル装置のリニアモー
タの構成図である。
タの構成図である。
【図７】 従来例の位置決めテーブル装置のリニアモー
タの断面図である。
タの断面図である。
【図８】 従来例の位置決めテーブル装置の実施例の概
略構成図である。
略構成図である。
【図９】 微小デバイスの製造工程を示すフローチャー
トである。
トである。
【図１０】 図９のウエハプロセスの詳細なフローチャ
ートである。
ートである。
１，１０１：テーブル天板、２，１０２：ガイド、３，
１０３：コイル支持部材、４，１０４：リニアモータコ
イル、５，１０５：可動磁石、６，１０６：軸受け、
７，１０７：位置検出器（リニアスケール）、８，１０
８：遮光板、９，１０９：原点フォトスイッチ、１０，
１１０：カウンタユニット、１１，１１１：サーボコン
トローラ、１２，１１２：相切り替えコントローラ、１
３，１１３：Ｄ／Ａコンバータ、１４，１１４：スイッ
チ、１５，１１５：電流アンプ、１６，１１６：相切り
替え位置テーブル、１７，１１７：冷却ユニット、１
８：冷却管、１９，１１９：リード線、２０：ポンプ、
１２０：コネクタ。
１０３：コイル支持部材、４，１０４：リニアモータコ
イル、５，１０５：可動磁石、６，１０６：軸受け、
７，１０７：位置検出器（リニアスケール）、８，１０
８：遮光板、９，１０９：原点フォトスイッチ、１０，
１１０：カウンタユニット、１１，１１１：サーボコン
トローラ、１２，１１２：相切り替えコントローラ、１
３，１１３：Ｄ／Ａコンバータ、１４，１１４：スイッ
チ、１５，１１５：電流アンプ、１６，１１６：相切り
替え位置テーブル、１７，１１７：冷却ユニット、１
８：冷却管、１９，１１９：リード線、２０：ポンプ、
１２０：コネクタ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０２Ｐ 7/00 １０１Ｔ Ｈ０２Ｐ 7/00 １０１ Ｈ０１Ｌ 21/30 ５０３Ｂ ５１５Ｇ Ｂ２３Ｑ 1/30
Claims (6)
- 【請求項１】 固定部に対して相対移動する可動テーブ
ルと、磁気回路および該磁気回路に対して相対的に移動
するコイルを有し前記可動テーブルを駆動するためのリ
ニアモータと、前記コイルを冷却するための冷却装置と
を備えた位置決めテーブル装置において、 前記コイルを覆い、その覆われた内部空間に冷媒が流れ
るようにジャケットを設けると共に、前記ジャケット内
に配置されたコイルのリード線を、前記ジャケットに接
続した冷却管を通して前記ジャケットの外部に引き出し
たことを特徴とする位置決めテーブル装置。 - 【請求項２】 前記リード線は、前記冷却管の中を通し
た状態で前記冷却装置まで引き回し、この冷却装置を介
して前記コイルに電流を通じるための電流アンプに結線
されることを特徴とする請求項１に記載の位置決めテー
ブル装置。 - 【請求項３】 前記位置決めテーブル装置は、前記可動
テーブルの位置を検出するための位置検出器を有し、こ
の位置検出器により検出した位置情報に基いて前記可動
テーブルを所定の位置に駆動制御するものであることを
特徴とする請求項１または２に記載の位置決めテーブル
装置。 - 【請求項４】 前記冷媒が前記冷却装置から漏れないよ
うに、前記リード線を前記冷却装置内から引き出す位置
が前記冷媒の液面よりも上部に設けることを特徴とする
請求項１〜３のいずれかに記載の位置決めテーブル装
置。 - 【請求項５】 前記冷却管が冷媒を回収する配管である
ことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の位置
決めテーブル装置。 - 【請求項６】 固定部に対して相対移動する可動テーブ
ルに基板を搭載し、磁気回路および該磁気回路に対して
相対的に移動するコイルを有するリニアモータにより、
前記可動テーブルを駆動して位置決めを行ない、前記基
板の所定の位置に原版のパターンを露光してデバイスを
製造する方法において、 前記コイルを覆い、その覆われた内部空間に冷媒が流れ
るようにジャケットを形成して、そのジャケット内に配
置されたコイルのリード線を前記ジャケットに接続した
冷却管を通して前記ジャケットの外部に引き出すことに
より、リード線を含むコイル全体を冷却しながら前記可
動テーブルの駆動を行なうことを特徴とするデバイス製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9299688A JPH11122900A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 位置決めテーブル装置およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9299688A JPH11122900A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 位置決めテーブル装置およびデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11122900A true JPH11122900A (ja) | 1999-04-30 |
Family
ID=17875770
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9299688A Pending JPH11122900A (ja) | 1997-10-17 | 1997-10-17 | 位置決めテーブル装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11122900A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002198290A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-12 | Canon Inc | 露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
| US6847132B2 (en) | 2001-07-10 | 2005-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Electromagnetic actuator having an armature coil surrounded by heat-conducting anisotropy material and exposure apparatus |
| JP2005086029A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Canon Inc | 位置決めステージ装置及び露光装置並びに半導体デバイスの製造方法 |
| JP2005347756A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2008004918A (ja) * | 2006-05-26 | 2008-01-10 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2012009861A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置の冷却方法 |
| JP2012109606A (ja) * | 2006-05-26 | 2012-06-07 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| JP5423392B2 (ja) * | 2007-06-13 | 2014-02-19 | 株式会社安川電機 | キャンド・リニアモータ電機子およびキャンド・リニアモータ |
-
1997
- 1997-10-17 JP JP9299688A patent/JPH11122900A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002198290A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-12 | Canon Inc | 露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法 |
| US6847132B2 (en) | 2001-07-10 | 2005-01-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Electromagnetic actuator having an armature coil surrounded by heat-conducting anisotropy material and exposure apparatus |
| JP2005086029A (ja) * | 2003-09-09 | 2005-03-31 | Canon Inc | 位置決めステージ装置及び露光装置並びに半導体デバイスの製造方法 |
| JP2005347756A (ja) * | 2004-06-04 | 2005-12-15 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP2008004918A (ja) * | 2006-05-26 | 2008-01-10 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| JP2012109606A (ja) * | 2006-05-26 | 2012-06-07 | Canon Inc | ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 |
| JP5423392B2 (ja) * | 2007-06-13 | 2014-02-19 | 株式会社安川電機 | キャンド・リニアモータ電機子およびキャンド・リニアモータ |
| JP2012009861A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびリソグラフィ装置の冷却方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6084319A (en) | Linear motor, and stage device and exposure apparatus provided with the same | |
| US6590355B1 (en) | Linear motor device, stage device, and exposure apparatus | |
| US20030141769A1 (en) | Linear motor, stage apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing apparatus | |
| EP1580604A2 (en) | Stage device and exposure apparatus | |
| JP2002247830A (ja) | リニアモータ、ステージ装置および露光装置ならびにデバイス製造方法 | |
| JPH11191585A (ja) | ステージ装置、およびこれを用いた露光装置、ならびにデバイス製造方法 | |
| JP3155936B2 (ja) | リニアモータとステージ装置及びこれを用いた走査型露光装置やデバイス製造方法 | |
| JP2001025227A (ja) | リニアモータ並びにこれを有するステージ装置および露光装置 | |
| JP4314555B2 (ja) | リニアモータ装置、ステージ装置、及び露光装置 | |
| US6639333B1 (en) | Linear motor stage system for use in exposure apparatus | |
| JP2004146492A (ja) | Ｅｕｖ露光装置 | |
| JPH11122900A (ja) | 位置決めテーブル装置およびデバイス製造方法 | |
| JP3278380B2 (ja) | リニアモータ | |
| JP2008159677A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
| JPH10127035A (ja) | リニアモータおよびこれを用いたステージ装置ならびに露光装置 | |
| JP2006230127A (ja) | リニアモータ及びステージ装置並びに露光装置 | |
| JP2005295762A (ja) | ステージ装置および露光装置 | |
| JP2001145328A (ja) | リニアモータ並びにこれを用いたステージ装置及び露光装置 | |
| JP4614386B2 (ja) | 位置決め装置、露光装置およびそれを用いたデバイス製造方法 | |
| US7408276B2 (en) | Plane motor device with surrounding member surrounding coil unit and with cooling channel provided within surrounding member | |
| JP3592292B2 (ja) | リニアモータを有するステージ装置、露光装置 | |
| JP2001136727A (ja) | 多相コイル型リニアモータ、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| JP2001119916A (ja) | リニアモータ装置、これを用いたステージ装置、露光装置、リニアモータの駆動方法、ステージ装置の駆動方法、露光方法、及び、デバイスの製造方法。 | |
| JP2007312470A (ja) | リニアモータ、ステージ装置、露光装置、及びデバイス製造方法 | |
| JP2005086029A (ja) | 位置決めステージ装置及び露光装置並びに半導体デバイスの製造方法 |