JP2005347756A - リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】軽量で、剛性が大きく、十分な冷却特性と配設特性を有するリソグラフィ装置用キャリッジとを含むリソグラフィの提供。
【解決手段】放射線ビームを調整する照明系と、放射線ビームのビーム経路内に置かれる物品を支持する物品支持部材と、物品支持部材を動かすための可動キャリッジとを有するリソグラフィ装置。キャリッジは、非複合装着インターフェイスおよび／または冷却インターフェイスを有する区画分けされた複合構造を含む。かかる構成により、例えば、金属またはセラミック材料を用いる従来のインターフェイスを、高強度、高安定性および高電気抵抗を必要とする位置および方向で、低比重、高ヤング係数のような複合構造の利点と合わせて使用できる。
【選択図】図２

Description

本発明は、リソグラフィ装置およびデバイス製造方法に係わり、とりわけ、物品支持部材を動かすための可動キャリッジ（担持体）を含むリソグラフィ装置に関するものである。

リソグラフィ装置は、基板の目標部分上に所望パターンを投影する機械である。リソグラフィ装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造で使用できる。このような状況において、パターン付与デバイスＩＣの個々の層に対応する回路パターンを作るために、マスク等のパターン付与デバイスを使用でき、このパターンを放射線感光材料層（レジスト）を有する基板（例えば、シリコン・ウェハ）の目標部分（例えば、１つまたは複数のダイ部分を含む）に画像形成することができる。一般に、単一基板は、順次露光される網目状に隣接する複数の目標部分を含む。周知のリソグラフィ装置は、パターン全体を１回で目標部分に露光することにより各目標部分の照射が行なわれる所謂ステッパと、所定方向（走査方向）で投影ビームによってパターンを走査し、同時に、前記方向に対して平行または反平行方向で同期させて基板を走査することによって各目標部分の照射が行なわれる所謂スキャナを含む。

物品支持部材を動かし、かつ、支持するための従来の構造（特に、リソグラフィ装置の放射ビームで照射されるウェハを支持するためのウェハ・テーブル、または、回路パターンを規定するマスクを支持するためのマスク・テーブル）では、極めて正確な位置決め要求条件のために、最適な機械的剛特性を有するキャリッジ構造が用いられる。さらに、キャリッジを動かすアクチュエータの発する熱のために、また、照射すべきキャリッジ構造体で受ける放射線のために、キャリッジ構造体の冷却を行う実質的な必要性がある。この目的のために、キャリッジ構造体の内蔵する冷却回路によって冷却されるアルミニウムおよびチタンのような従来の材料が使用される。キャリッジ構造体の冷却と剛性要件に関する１つの問題は、十分な機械的完全性を維持するためにキャリッジ構造体に求められる最小限の厚さがあって、その重量をより小さくするための選択肢がどちらかというと限られていることである。温度の僅かな変動が許容できない材料収縮または膨張を招くため、かかる冷却は、前記従来材料にとって必須である。温度が僅かに２°Ｋ（１．１℃）変化しても、或る距離範囲でキャリッジを動かすためのアクチュエータを駆動するために配設された複数のセンサにとって、所定位置に基板を置くための許容範囲外になる可能性がある。
欧州特許ＥＰ−Ａ−１２４３９７２号

本発明の一目的は、前記問題を解決し、放射線投影ビームを供給するための照明系と、物品支持体上の放射線投影ビームのビーム経路内に置かれる物品を支持するための物品支持部材と、軽量で、剛性が大きく、十分な冷却特性と配設特性を有するリソグラフィ装置用キャリッジとを含むリソグラフィを提供することである。

本発明の一観点によれば、リソグラフィ装置が提供される。このリソグラフィ装置は、放射線ビームを調整する照明系と、放射線ビームのビーム経路内に置かれる物品を支持するための物品支持部材と、物品支持部材を動かすための可動キャリッジとを含む。このキャリッジは、区画分けされた複合構造体を含む。

本発明の別の観点によれば、リソグラフィ装置で使用するための可動キャリッジが提供される。可動キャリッジは、リソグラフィ装置で物品支持部材を動かすためのものである。物品支持部材は、リソグラフィ装置のビーム経路内に置かれる物品を支持し且つ動かすように構成され、配設される。キャリッジは区画分けされた複合構造体を含む。

本発明のさらに別の観点によれば、リソグラフィ装置において物品支持部材を動かすための可動キャリッジの製造方法が提供される。物品支持部材は、リソグラフィ装置のビーム経路内に置かれる物品を支持し且つ動かすように構成され、配設される。この方法は、区画分けされた複合構造体からキャリッジを形成する段階と、区画分けされた複合構造体に非複合装着インタフェースおよび／または冷却インタフェースを設ける段階とを含む。

本発明のさらに別の観点によれば、リソグラフィ装置を含むデバイスを製造するための方法が提供される。この方法は、放射線ビームを投影する段階と、放射線ビームのビーム経路内に物品を置くことができるように、物品支持部材で物品を支持する段階と、区画分けされた複合構造体を含むキャリッジで物品支持部材を動かす段階とを含む。

とりわけ、本発明によれば、キャリッジが提供される。キャリッジは、区画分けされた複合構造体を含む。このような構成により、例えば、金属材料またはセラミック材料を用いた従来のインタフェースを、高強度、高安定性、高電気抵抗、および低熱膨張率（ＣＴＥ）を必要とする場所および方向で、複合構造体の利点（低比重、高ヤング係数等）と合わせて使用できる。ＣＴＥ値が低いために、キャリッジ用の別体冷却装置を使用する必要がない。このことは、キャリッジの更なる軽量化を図り、構造を更に簡単にできることを意味する。また、アルミニウムおよびチタンのような従来材料とは異なり、磁気の減衰が起こらない。このことは、磁気モータ形態の長行程アクチュエータを用いる場合に極めて有利である。

さらに、この特別な構成により製作経費が廉価になる。何故なら非常に簡単な形状の構造物を接合して製造できるからである。さらに、複合材料を使用することにより、従来の金属およびセラミックで製造することができなかった或る範囲の複雑な形状を提供することができる。

以下、添付図面を見ながら本発明の実施例について説明するが、これは単なる例示である。図中、対応する符号は、対応する部材を示す。

本明細書において、ＩＣ製造の際のリソグラフィ装置の使用について特に参照する場合があるが、本発明のリソグラフィ装置は、集積光学システム、磁気領域メモリ用の案内および検出パターン、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、薄膜磁気ヘッド等の製造のような他の用途にも使用することができることを理解されたい。当業者であれば、このような別の用途の場合、本明細書で使用する「ウェハ」または「ダイ」という用語は、それぞれ一般的な用語である「基板」または「目標部分」と同義語であると見なすことができる。本明細書における基板は、例えば、トラック（通常、基板にレジストの層を塗布し、露光したレジストを現像するツール）または計測または検査ツールのような露光の前後で処理することができる。適用できる場合には、本明細書の開示を、上記およびその他の基板処理ツールに適用することができる。さらに、基板を、例えば、多層ＩＣを形成するために２回以上処理することができる。そのため、本明細書で使用する基板という用語は、多重処理層をすでに含んでいる基板を意味する場合もある。

本明細書で使用する「放射線」および「ビーム」という用語は、紫外線（ＵＶ）放射線（例えば、３６５、２４８、１９３、１５７または１２６ｎｍの波長を有する）、極紫外線（ＥＵＶ）放射線（例えば、５〜２０ｎｍの範囲内の波長を有する）、およびイオン・ビームまたは電子ビームのような粒子ビームを含むすべてのタイプの電磁放射線を含む。

本明細書で使用する用語「パターン付与デバイス」は、基板の目標部分でパターンを形成するためのような投影ビームに或るパターン断面形状を付与するために使用できるデバイスを意味するものとして広義に解釈すべきである。投影ビームに付与されたパターン形状は、基板の目標部分における所望のパターンと正確に対応しない場合のあることに留意されたい。通常、投影ビームに付与されたパターン形状は、集積回路のような目標部分に形成中のデバイス内の特定の機能層に対応する。

パターン付与デバイスは透過性のものであっても反射性のものであってもよい。パターン付与デバイスの例としては、マスク、プログラム可能な・ミラー・アレイおよびプログラム可能なＬＣＤパネルがある。マスクはリソグラフィにおいては周知のもので、２進、交互位相シフト、および減衰位相シフト、並びに種々のハイブリッド・マスク・タイプのようなマスク・タイプを含む。プログラム可能なミラー・アレイの一例は、小さなミラーのマトリックス配置を使用する。各ミラーは、異なる方向に入射放射線ビームを反射するように個々に傾斜することができる。それにより、反射ビームはパターン化される。パターン付与デバイスの各例の場合、支持構造は、例えば、必要に応じて固定または移動することができ、また例えば、投影系に対してパターン付与デバイスを所望の位置に確実に位置させることができるフレームまたはテーブルであってもよい。本明細書で使用する「レチクル」または「マスク」という用語は、もっと一般的な用語である「パターン付与デバイス」と同義語であると見なすことができる。

本明細書で使用する「投影系」という用語は、例えば、使用する露光放射線用に、または浸漬流体の使用または真空の使用のような他の要因のために適している屈折光学系、反射光学系、および反射屈折光学系を含む種々のタイプの投影系を含むものとして広義に解釈すべきである。本明細書で使用する「レンズ」という用語は、一般的な用語である「投影系」と同義語であると見なすことができる。

照明系は、また、放射線の投影ビームをある方向に向けたり、整形したり、または制御するための屈折、反射および反射屈折光学構成要素を含む種々のタイプの光学構成要素を含むことができ、このような構成要素は、また以下に説明するように、単に「レンズ」と総称する場合もある。

リソグラフィ装置は、２つ（二重ステージ）またはもっと多くの基板テーブル（および／または２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプであってもよい。このような「多重ステージ」機械の場合には、追加のテーブルを並列に使用することができ、または準備ステップを、１つまたは複数の他のテーブルを露光に使用しながら、１つまたは複数のテーブル上で実行することができる。

リソグラフィ装置は、また、投影系の最終素子と基板との間の空間を満たすために、例えば、水のような屈折率が比較的高い液体に基板が浸漬されるタイプのものであってもよい。浸漬液体は、例えば、マスクと投影系の第１素子との間のようなリソグラフィ装置内の他の空間にも使用することができる。浸漬技術は、投影系の開口数を増大するための当業者にとって周知の技術である。

図１は、本発明の具体例によるリソグラフィ装置の模式図である。この装置は、放射線（例えば、ＵＶまたはＥＵＶ放射線）の投影ビームＰＢを供給するための照明系（照明装置）ＩＬと、パターン付与デバイス（例えば、マスク）ＭＡを支持し、アイテムＰＬに対してパターン付与デバイスを正確に位置決めするために、第１位置決めデバイスＰＭに接続している第１支持構造（例えば、マスク・テーブル）ＭＴと、基板（例えば、レジストでコーティングされたウェハ）Ｗを保持し、アイテムＰＬに対して基板を正確に位置決めするために第２位置決めデバイスＰＷに接続している基板テーブル（例えば、ウェハ・テーブル）ＷＴと、基板Ｗの目標部分Ｃ（例えば、１つまたは複数のダイを含む）上にパターン付与デバイスＭＡにより、投影ビームＰＢに与えられたパターンの形を画像形成するための投影系（例えば、反射投影レンズ）ＰＬとを備える。

本明細書で説明するように、この装置は、反射タイプのもの（例えば、反射性マスクまたは上記のタイプのプログラマブル・ミラー・アレイを使用する）である。別の方法としては、この装置は、透過タイプのもの（例えば、透過性マスクを使用する）であってもよい。

照明装置ＩＬは、放射線源ＳＯから放射線のビームを受光する。この放射線源およびリソグラフィ装置は、例えば、放射線源がプラズマ放電源の場合のように、別々のエンティティであってもよい。このような場合、放射線源は、リソグラフィ装置の一部を形成するものとは見なされず、放射ビームは、通常、例えば、適当な集光ミラーおよび／またはスペクトル純度フィルタを含む放射集光器の助けを借りて、放射線源ＳＯから照明装置ＩＬに通過する。他の場合、放射線源は、例えば、放射線源が水銀ランプである場合のように、装置の一部であってもよい。放射線源ＳＯと照明装置ＩＬは、放射系と呼ぶ場合もある。

照明装置ＩＬは、ビームの角度輝度分布を調整するための調整デバイスを含むことができる。一般的に、照明装置の瞳面内の輝度分布の少なくとも外部および／または内部半径範囲（通常、それぞれ外側σおよび内側σと呼ばれる）を調整することができる。照明装置は、その断面に所望の均一性と輝度分布を有する投影ビームＰＢと呼ばれる放射線の調整されたビームを供給する。

投影ビームＰＢは、マスク・テーブルＭＴ上に保持されているマスクＭＡ上に入射する。マスクＭＡに反射した後で、投影ビームＰＢはレンズＰＬを通過し、レンズＰＬは基板Ｗの目標部分Ｃ上にビームの焦点を結ぶ。第２位置決めデバイスＰＷおよび位置センサＩＦ２（例えば、干渉計デバイス）の助けを借りて、例えば、ビームＰＢの経路内の異なる目標部分Ｃに位置決めするために、基板テーブルＷＴを正確に移動することができる。同様に、第１位置決めデバイスＰＭおよび位置センサＩＦ１を、例えば、マスク・ライブラリから機械的検索を行った後で、または走査中、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めするために使用することができる。一般に、オブジェクト・テーブルＭＴおよびＷＴは、位置決めデバイスＰＭおよびＰＷの一部を形成する長行程モジュール（粗位置決め）および短行程モジュール（微小位置決め）によって動かすことができる。

位置決めデバイスＰＭおよび／またはＰＷのもう１つの部分は、さらに本発明を具現化するキャリッジであり、これについて、図２を見ながらさらに説明する。一般に、このキャリッジは、長行程モジュールにより移動する完全に平らな表面上を移動する剛性を有する構造体と見なすことができる。一般的に、このような長行程モジュールは、位置の二次元の領域をカバーするための横方向に装着されているリニア磁気モータにより提供することができる。しかし、好適には、長行程モジュールは、例えば、欧州特許ＥＰ−Ａ−１２４３９７２号に記載されている種類の平面電磁モータであることが好ましい。前記欧州特許の内容は引用により本明細書の記載として援用する。キャリッジの頂部上には、通常、短行程モジュールの頂部上に装着されるウェハ・テーブルの微小位置決めを行うための短行程モジュールが装着される。それ故、キャリッジは、長行程モジュールと短行程モジュールとの間にフレームを提供し、そのため軽量でなければならないし、重い負荷と協力して高い剛性を提供するものでなければならない。

しかし、（スキャナとは反対の）ステッパの場合には、マスク・テーブルＭＴを、短行程アクチュエータだけに接続することもできるし、または固定することもできる。マスクＭＡおよび基板Ｗは、マスク整合マークＭ１、Ｍ２および基板整合マークＰ１、Ｐ２により整合することができる。

図の装置は、下記の好適なモードで使用することができる。

１．ステップ・モードの場合には、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは本質的に固定されていて、一方、投影ビームに与えられた全パターンが、１回（すなわち、１回の静的露光）で目標部分Ｃ上に投影される。基板テーブルＷＴは、次に、Ｘおよび／またはＹ方向にシフトされ、そのため異なる目標部分Ｃを露光することができる。ステップ・モードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより１回の静的露光で画像形成される目標部分Ｃのサイズが制限される。

２．走査モードの場合、マスク・テーブルＭＴおよび基板テーブルＷＴは同期状態で走査され、一方、投影ビームに与えられたパターンが、目標部分Ｃ上に投影される（すなわち、１回の動的露光）。マスク・テーブルＭＴに対する基板テーブルＷＴの速度および方向は、拡大（縮小）および投影系ＰＬの画像の逆特性により決まる。走査モードの場合には、露光フィールドの最大サイズにより１回の動的露光の際の目標部分の幅（走査方向でない方向）が制限され、一方、走査運動の長さにより目標部分の高さ（走査方向）が決まる。

３．他のモードの場合、マスク・テーブルＭＴは、プログラマブル・パターン付与デバイスを保持する本質的に固定状態に維持され、基板テーブルＷＴは、投影ビームに与えられたパターンの形が目標部分Ｃ上に投影されている間に移動または走査される。このモードの場合、通常、パルス放射線源が使用され、プログラマブル・パターン付与デバイスが、基板テーブルＷＴの各運動の後で、または走査中の連続放射パルスの間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上記タイプのプログラマブル・ミラー・アレイのようなプログラマブル・パターン付与デバイスを使用し、マスクを使用しないリソグラフィに容易に適用することができる。

上記の使用モードの組合わせおよび／または変更したもの、または全く異なる使用モードを使用することもできる。

図２（ａ）、（ｂ）について説明すると、これらの図は、区画分けされている複合構造１の平面図である。複合構造体１は、炭素繊維等のような繊維補強複合材料から作られ、図４のところでさらに説明するように組み立てられる。図の例示としての実施形態の特色のある特徴は、長方形の外側のボックス２および外側のボックス２内の三角形の内側のボックス３である。このような配置になっているので、配線および電子回路等（図示せず）を収容するために使用される区画分けされた構造体の内部にアクセスできる状態で極めて剛性の高い構造体ができる。三角形の内側のボックス３は、特に図４および図９〜図１１に示すようなサブボックスおよびリブ補強構造によりさらに分割することができる。図２ｂに示すように、構造体のリブに沿って冷却ダクト４を提供し、配置した状態で、この構造体の場合は、キャリッジの内部に最も楽にアクセスすることができる。この場合、図２ａの複合構造体１は、図に示すように、短行程・モータ（図示せず）を装着するための、三角形３の隅の近くに配置されている非複合装着インタフェース５を備える。さらに、好適には、アルミニウム、チタンまたはステンレス鋼等でできていることが好ましい冷却ダクト４は、短行程モータを冷却する。ダクト４の一部を、例えば、冷却ダクトとしての細長い区画を使用することにより、複合ボックス構造体から形成することができる。このような実施形態の場合、短行程アクチュエータ（図示せず）のような関連電子回路部材に、クーラントを提供する冷却インタフェースのところだけを金属面にすることができる。それにより重量をさらに最小限度まで軽くすることができる。クーラント・ダクト４はボックスに入っている構造体１の頂面をカバーしている三角形の金属プレート６であり、このプレートのコーナーは、短行程モジュールを装着するために使用され、それによりウェハ・テーブルを極度に安定して位置決めするための最適な装着配置を提供する。さらに、キャリッジ構造体１が作動するその頂部上の面の側壁部に予想しない衝突をした場合に、剛性および保護をより優れたものにする高い負荷インタフェースを提供するための通常は金属材料でできている丈夫なコーナー素子７が追加される。

図３は、本発明の複雑な複合構造体を、図１２および図１３のところでも説明するように、モールド８により容易に製造することができる正方形または三角形のようなかなり簡単な形の構造体を組み立てることにより提供することができることをはっきりと示す。これらのモールド８を使用することにより、後で接合しなければならない部品の量（製造ステップ）を減らすためにもっと複雑な形にすることができ、統合することができる。図４に示すように、これらのモールド８を使用する一連の組立てステップが行われる。これらのステップは、右下の図面からスタートして、次に底部プレート９上に第１直立リム輪郭部１０が追加される。次に、正方形の直立長方形の輪郭部１１が供給され、底部プレート９上に装着される。頂部プレート１３に接合するためのＬ字形外側装着断面部を含む三角形のボックス１２は、長方形の輪郭部１１内に挿入される。次に、キャリッジにもっと高い剛性を与えるためのもう１つのボックス素子１４を追加することができる。最後に、頂部プレート１３は、直立輪郭部１１、１２および１４の頂面上に装着され接合される。

図５は、三角形の構造体１１の平面図である。この平面図については、複合構造体の複数の断面図を示す図６〜図８を参照しながらさらに説明する。図６は、Ａ−Ａ線（図５）のところで切断した三角形の構造体１２の断面図である。この場合、直立プロファイルは、底部プレート９および／または頂部プレート１３に構造体１２を接合するためのＬ字形外側装着断面部を有するＵ字形プロファイルであってもよい。長方形の外部輪郭１１と三角形の内部構造体１２の間に、例えば、アルミニウム・プレート１５のような装着インタフェースを提供することができる。

図７および図８は、図５のＢ−Ｂ線のところで切断した別の断面エリアである。図７に示すように、外側の輪郭部１１および内側の輪郭部１２は、図４にも示すようにボックスの形をしている。それ故、内側の三角形のボックス１２は、基礎板９を内蔵する直立輪郭部１１を有する基礎板９上に接合される。頂部プレート１３は、Ｌ字形外側装着断面部１６により、直立輪郭部１１、１２上に装着される。図８は、複雑な上部部材１７の一部が、長方形の構造体１１（側面チャンバ１８）および三角形の構造体１２（内部チャンバ）を形成している別の構成を示す。三角形の構造体１２の底部プレートを形成している下の底部プレート１９は、複雑な部材１７に接合することができる。

図９〜図１１は、本発明によるキャリッジを提供するための別のボックスに入っているリブ補強された複数の構造体である。図９は、例えば、図８に示す複雑な構造体２０が、さらに複合材料から成る単一シート２２によるリブ補強構造体２１を有し得ることを示す。複雑構造体２０の頂部２３を除去した後で、リブ２１が直立し、その後、頂部シートに接合できる。図１０は、各種リブ補強素子２１、特に１つの側面のＬ字形外側装着断面部１６のみを有する幅の狭い非対称リブ２４、内部チャンバ２６を形成している幅の広いリブ２５および両側面Ｌ字形外側装着断面部１６だけを有する対称リブ２７を示す。これらの内部チャンバ２６は、例えば、冷却ダクトとして使用でき、あるいはまた、図９に示すように、２つの非対称リブを形成するようにフライス切削された頂面２８を有し得る。また、図１１に示すように、対称リブを生成するために余分なボックス２９を追加することができる。

図１２〜図１３は、本発明によるキャリッジを組み立てる際に使用するためのモールド８の実施例を示す。モールド８は、単一部材３０を提供するために包装される。１枚のシートおよび複数のモールドを用いることにより、複数の区画３１を形成できる。モールド８は、部材３０の頂面をフライス切削することにより除去される。図１３は、図１２に示すような内部モールド８と組み合わせて使用できる。図の外部モールド３２は、側壁部３３により長方形のボックス１１の輪郭部を規定し、内部大容量部３４により三角形構造体１２の三角形を規定する。

図１４は、リソグラフィ装置のビーム経路内に置かれる物品３７を移動し、支持するためのリソグラフィ装置でウェハ・テーブル３６を移動するためのものである可動キャリッジ３５を示す。キャリッジ３５は、図２ａおよび図２ｂのところで説明した区画分けされている複合構造体を含む。これらの図を見れば分かるように、位置基準４０に対して物品３７を位置決めするために使用する複数のセンサ３８、３９がキャリッジ３５上に装着される。これらのセンサは、距離Ｄのところに位置していて、原則として、温度の影響による位置測定問題に対処することができる。しかし、熱膨張率が非常に小さいために、特に、使用する複合材料４１が炭素繊維を含んでいる場合には、これらの変動を制御可能な範囲内に維持することができる。そのため、キャリッジ・フレーム３５をさらに冷却する必要はない。それにより重量がもっと軽くなり構造体がもっと簡単になる。

第１センサ３８は、例えば、平面モータ４２であってもよい長行程アクチュエータに対してキャリッジを位置決めするためのものである。第１センサ３８とは異なる位置に位置する第２センサ３９は、物品３７を位置決めする目的で、キャリッジ３５に対してウェハ・テーブル３６を位置決めするためのものである。第２センサ３９は、キャリッジ３５の頂面上に装着されている短行程アクチュエータ４３と連絡することができる。このような連絡は、キャリッジ３５の複合材料上に接合されている冷却インタフェースを含んでいてもよい従来の装着インタフェース４４により行うことができる。

ウェハ・テーブルの短行程モジュールを支持するように特に設計されているキャリッジ構造体を参照しながら本発明を説明してきたが、本発明はこれに限定されるものではなく、実際には長行程アクチュエータと短行程アクチュエータの間の他のインタフェースに対しても使用することができる。これらのアクチュエータは、例えば、反射マスク技術を使用するフォトリソグラフィ装置のマスク・テーブル、または遮光ブレード等のような光ビーム内に他の素子を作動させるための装置でも使用することができる。

以上、本発明の具体例について説明したが、本発明は前記以外の方法で実行できることが判るだろう。前記説明によって本発明を制限する意図はない。

本発明の一実施例によるリソグラフィ装置を示す。 本発明による非複合インタフェース（ｂ）を有する、ボックス入り複合構造体（ａ）の模式的平面図。 図２（ａ）のボックス入り複合構造体用の複数のモールドの斜視図。 本発明によるキャリッジを提供するための組立方法を模式的に示す。 本発明の一実施例に係わるキャリッジの平面図。 図５におけるＡ−Ａ線に沿って切断した断面図。 図５におけるＢ−Ｂ線に沿って切断した断面図。 図５におけるＢ−Ｂ線に沿って切断した別の断面図。 本発明の一実施例によるキャリッジを提供するためのボックス入りリブ補強構造体の模式図。 本発明の別実施例に係わるキャリッジを提供するためのボックス入りリブ補強構造体の模式図。 本発明の別実施例に係わるキャリッジを提供するためのボックス入りリブ補強構造体の模式図。 本発明によるキャリッジを組み立てる際に使用するためのモールドの模式図。 本発明によるキャリッジを組み立てる際に使用するための別のモールドの模式図。 本発明による物品支持部材を動かすための可動キャリッジを示す。

Claims (33)

1. 放射線ビームを調整する照明系と、
   前記放射線ビームのビーム経路内に置かれる物品を支持するための物品支持部材と、
   前記物品支持部材を動かすための可動キャリッジとを含むリソグラフィ装置において、
   前記キャリッジが区画分けされた複合構造体を有するリソグラフィ装置。
2. 前記可動キャリッジが、長行程アクチュエータと短行程アクチュエータとの間にインターフェイスを提供し、
   さらに、前記可動キャリッジが、前記長行程アクチュエータを駆動するための第１センサと、
   前記物品を所定位置に置くべく、前記短行程アクチュエータを駆動するために、前記第１センサから離れた位置に設置された第２センサと第１第２を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
3. 前記キャリッジが、短行程アクチュエータを配設し、および／または、冷却するための、非複合装着インターフェイス、および／または、冷却インターフェイスを含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
4. 前記キャリッジが冷却されない請求項３に記載されたリソグラフィ装置。
5. 前記複合構造体が、低熱膨張率材料（ＣＴＥ）から成る群から選択される請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
6. 前記複合構造体が炭素繊維を含む請求項５に記載されたリソグラフィ装置。
7. 前記長行程アクチュエータが平面磁気モータである請求項２に記載されたリソグラフィ装置。
8. 前記複合構造体が、少なくとも１つの複合ボックス構造体を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
9. 前記ボックス構造が、基礎板および直立輪郭部を有する請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
10. 前記直立輪郭部が前記基礎板と一体になっている請求項９に記載されたリソグラフィ装置。
11. 前記直立輪郭部が、カバー板に接合するためのＬ字形外側装着断面部を含む請求項９に記載されたリソグラフィ装置。
12. 前記複合ボックス構造体が、長方形の外側ボックスと、前記外側ボックス内に位置する三角形の内側ボックスとを有する請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
13. 前記複合ボックス構造体が、複合リブ構造を有する請求項８に記載されたリソグラフィ装置。
14. 前記複合リブ構造が、前記ボックス構造体に接合されている請求項１３に記載されたリソグラフィ装置。
15. 前記複合リブ構造が、カバー板に接合するためのＬ字形外側装着断面部を含む請求項１４に記載されたリソグラフィ装置。
16. 前記複合構造体が、ボックス内の互いに接合された複数の区画を含む請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
17. 前記非複合装着インターフェイスが、前記複合材料に接合された金属および／またはセラミック材料を含む請求項３に記載されたリソグラフィ装置。
18. 前記冷却インターフェイスが、金属冷却面を含む請求項３に記載されたリソグラフィ装置。
19. 前記金属冷却面が、クーラントを通すダクトに結合している請求項１８に記載されたリソグラフィ装置。
20. 前記ダクトが複合材料を含む請求項１９に記載されたリソグラフィ装置。
21. 前記物品支持体が、パターン付与デバイスを支持するための支持体であり、前記パターン付与デバイスが、放射線ビームの断面にパターンを付与する働きをする請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
22. 前記物品支持体が基板を保持するための基板テーブルであり、前記基板は、その目標部分に、パターン付与されたビームによってパターンが投与されるべきものである請求項１に記載されたリソグラフィ装置。
23. リソグラフィ装置で物品支持部材を動かすための可動キャリッジにおいて、前記物品支持部材が、前記リソグラフィ装置のビーム経路内に置かれる物品を支持し且つ動かすように構成され、前記キャリッジが区画分けされた複合構造体を含む可動キャリッジ。
24. リソグラフィ装置で物品支持部材を動かすための可動キャリッジを製造する方法であって、前記物品支持部材が、前記リソグラフィ装置のビーム経路内に置かれる物品を支持し且つ動かすように構成され、配設される前記可動キャリッジの製造方法において、
    区画分けされた複合構造体から前記可動キャリッジを形成する段階と、
    前記区画分けされた複合構造体に非複合装着インターフェイスおよび／または冷却インターフェイスを設ける段階とを含む可動キャリッジの製造方法。
25. 前記区画分けされた構造体が、複数のボックス構造体を共に接合することによって形成されている請求項２４に記載された可動キャリッジの製造方法。
26. 前記ボックス構造体を規定するためにモールド上に複合材料を包装し、前記複合材料をフライス切削して前記モールドを除去することによって、前記ボックス構造体が形成される請求項２５に記載された可動キャリッジの製造方法。
27. 前記ボックス構造体が、区画分けされた複雑な構造体を規定するために、モールド内に複合材料を包装することにより形成される請求項２５に記載された可動キャリッジの製造方法。
28. 前記区画分けされた複雑な構造体が、頂部プレートおよび／または底部プレートを有する請求項２７に記載された可動キャリッジの製造方法。
29. 前記区画分けされた複雑な構造体が、前記区画分けされた構造体の余分な接続壁部を除去するためにフライス切削される請求項２８に記載された可動キャリッジの製造方法。
30. 前記非複合インターフェイスが、前記区画分けされた複合構造体に接合されている請求項２４に記載された可動キャリッジの製造方法。
31. リソグラフィ装置を含むデバイスの製造方法において、
    放射線のビームを投影する段階と、
    前記放射線ビームのビーム経路内に物品を置くことができるように、前記物品支持部材で物品を支持する段階と、
    区画分けされた複合構造体を含むキャリッジで前記物品支持部材を動かする段階とを含むリソグラフィ装置を含むデバイスの製造方法。
32. 前記キャリッジが、長行程アクチュエータと短行程アクチュエータとの間にインターフェイスを提供し、前記キャリッジが、さらに、前記長行程アクチュエータを駆動するための第１センサと、前記物品が所定の位置に置かれるように配置されるように、前記第１センサから離れている位置に設置される、前記短行程アクチュエータを駆動するための第２センサとを備える請求項３１に記載されたリソグラフィ装置を含むデバイスの製造方法。
33. 前記キャリッジが、前記キャリッジが、短行程アクチュエータを配設し、および／または、冷却するための、非複合装着インターフェイス、および／または、冷却インターフェイスを含む請求項３１に記載されたリソグラフィ装置を含むデバイスの製造方法。

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