JPH10310871A - 成膜用基板保持具およびこの保持具を用いた成膜方法、並びに、磁気記録媒体の製造用治具およびこの治具を用いた磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板表面に浸漬法によって薄膜を形成する際
において、基板が支持手段に接触する部分に膜厚の不均
一性が発生するのを防止して均一な膜を形成することを
可能にする。 【解決手段】 非磁性基板１の中心孔内１ａに挿入され
る一対の支持腕１１に張設された支持糸１２によって、
前記非磁性基板の中心孔内周壁を前記支持腕から浮かし
た状態で支持し、この非磁性基板を保護膜形成用の薬液
槽３内に浸漬させて、前記磁性層の表面に保護膜形成用
の薬液Ｌを付着させ、前記薬液槽から引き揚げた後に、
製造用治具と非磁性基板との接触部に溜まる薬液を、前
記支持糸に沿って速やかに除去し、前記非磁性基板の内
周部に突起が形成されることを防止し、あるいは、その
突起を可及的に小さくする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板表面に浸漬法
により薄膜を成膜する際に使用される成膜用基板保持具
および薄膜成膜方法に関し、具体的には、磁気ディスク
装置に使用される磁気記録媒体の製造用治具および磁気
記録媒体の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に基板表面に簡便で比較的均一に膜
を成膜する方法として、浸漬法が知られている。浸漬法
は、形成すべき膜の薬液が貯留された薬液槽内に基板を
浸漬させて成膜する方法である。しかし、基板を薬液か
ら引き上げる際に、基板を支持する支持手段（図示せ
ず）が基板と接触する部分において、不要な薬液が溜ま
って、膜厚の不均一な部分が発生する。その不均一な部
分は、さまざまな悪影響を及ぼす。特に、基板上に薄膜
を形成する技術、特に磁気記録媒体においては、以下の
ような問題がある。一般に、ハードディスク等の磁気記
録媒体は、非磁性基板上に下地層、磁性層、及び保護膜
（必要に応じて潤滑膜）を順次形成した構成を有してお
り、この磁気記録媒体の中心部を回転駆動装置にクラン
プするとともに、この回転駆動装置によって所定速度で
回転させ、その表面上を、磁気ヘッドが搭載されたヘッ
ドスライダーを浮上走行させて情報の記録や読み出しを
行なう。

【０００３】ところで、前述した非磁性基板の磁性層の
表面に保護膜を形成するために、スパッタ法が多く用い
られているが、その処理が真空容器内で行なわれること
から、量産性が悪いという不具合があり、その対策とし
て、前記非磁性基板を保護膜形成用の薬液が貯留されて
いる薬液槽内に浸漬させて、前記磁性層の表面に前記保
護膜を形成することが試みられている。

【０００４】そして、このような浸漬法によって保護膜
を形成する手段としては、図３０に示すように、磁性層
が形成された非磁性基板1 の中心孔１ａに断面が４角形
状の支持棒２を挿入するとともに、前記非磁性基板１の
内周壁を前記支持棒２に接触させることにより、この支
持棒２に前記非磁性基板１を支持させ、ついで、この非
磁性基板１を、図３１に示すように、保護膜形成用の薬
液Ｌが貯留されている薬液層３内に前記支持棒２ととも
に挿入して、前記磁性層上に前記薬液Ｌを付着させ、つ
いで、前記非磁性基板１を引き上げて薬液Ｌを乾燥させ
ることにより、前記保護膜を形成する。このように浸漬
法によって保護膜を形成すると、その処理が開放された
雰囲気内で行なわれることから、工程が簡素化されて磁
気記録媒体の量産性が大幅に改善される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明者等が、前述し
たような浸漬法による保護膜の形成実験や考察を行なっ
た結果、以下の事実が判明した。

【０００６】すなわち、非磁性基板１上に形成された保
護膜の膜厚を測定してみたところ、図３２に示すよう
に、その面方向において、膜厚が不均一となっており、
特に、図３２に符号Ｘで示すように、非磁性基板１の内
周部の２箇所に突起が形成されてしまい、磁気記録媒体
の内周部をクランプして機器へ実装した際に、クランプ
時の圧力によって生じる応力が前記突起Ｘに集中し、こ
の突起Ｘから磁気記録媒体に歪みが発生し、この歪みの
ために磁気ヘッドと磁性層との距離が変動して、出力変
動が引き起こされてしまう。また、前述したクランプの
際に、前述突起Ｘが砕けてしまうことがあり、その破片
が磁気記録媒体を汚すことも知見された。

【０００７】本発明は、前述した背景のもとになされた
もので、浸漬法によって基板表面に、薄膜を均一に成膜
するための成膜用基板保持具、及び薄膜の成膜方法を提
供することを目的としている。また、磁気記録媒体にお
いては、浸漬法による保護膜形成の優位性を確保しつ
つ、出力変動の少ない磁気記録媒体を製造し得る磁気記
録媒体の製造用治具及び磁気記録媒体の製造方法を提供
することを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに、請求項１に記載の発明は、基板の表面上に浸漬法
によって薄膜を成膜する際に基板を保持するための成膜
用基板保持具であって、前記基板を支持する支持腕と、
この支持腕に張設された支持糸とを有し、この支持糸
は、前記基板を前記支持腕から浮かした状態で支持する
ように、前記支持腕に張設されていることを特徴とする
成膜用基板保持具である。

【０００９】請求項２の発明は、前記支持腕が、鋸刃状
に形成されているとともに、この鋸刃の谷部において前
記支持糸が交差するように張設され、この交差部に前記
基板の少なくとも側壁を支持するようにしたことを特徴
とする請求項１に記載の成膜用基板保持具である。

【００１０】請求項３の発明は、中心孔を有するディス
ク状をなした磁気記録媒体用基板の表面上に浸漬法によ
って薄膜を成膜する際に前記磁気記録媒体用基板を保持
するための磁気記録媒体製造用治具であって、前記磁気
記録媒体用基板の中心孔に挿入されて該中心孔内周壁を
支持する支持腕と、この支持腕に張設された支持糸とを
有し、この支持糸は、前記磁気記録媒体用基板の中心孔
内周壁を前記支持腕から浮かした状態で支持するよう
に、前記支持腕に張設されていることを特徴とする磁気
記録媒体製造用治具である。

【００１１】請求項４の発明は、基板と、この基板を支
持する支持腕と該支持腕に張設されて前記基板を前記支
持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによって構成
された製造用治具と、を用意する工程と、前記製造用治
具の支持糸上に前記基板を載置した後、該基板を前記製
造用治具とともに前記基板表面に成膜する薬液が入った
薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜す
る工程と、を有することを特徴とする成膜方法である。
請求項５の発明は、中心孔を有するディスク状基板と、
前記ディスク状基板の中心孔に挿入される支持腕と該支
持腕に張設された支持糸であって前記基板の中心孔内周
壁を前記支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とに
よって構成された製造用治具と、を用意する工程と、前
記基板の中心孔内に前記製造用治具を挿入してその支持
糸上に基板を載せた後、該基板を前記製造用治具ととも
に前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬
させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程と、を有
することを特徴とする成膜方法である。

【００１２】請求項６の発明は、中心孔を有するディス
ク状をなすとともに表面に少なくとも磁性層が形成され
ている磁気記録媒体用基板と、前記磁気記録媒体用基板
の中心孔に挿入される支持腕と該支持腕に張設された支
持糸であって前記基板の中心孔内周壁を該支持腕から浮
かした状態で支持する支持糸とによって構成された製造
用治具と、を用意する工程と、前記基板の中心孔内に前
記製造用治具を挿入してその支持糸上に基板を載せた
後、該基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成
膜する薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の
表面に薬液を成膜する工程と、を有することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法である。

【００１３】

【作用】前述した構成の成膜用基板保持具およびこの保
持具を用いた成膜方法、並びに、磁気記録媒体の製造用
治具およびこの治具を用いた磁気記録媒体の製造方法に
よれば、支持糸を介して基板を支持することにより、基
板の支持面積が極力小さく抑えられ、かつ基板を薬液層
から引き上げた際に、前記基板の表面に付着している余
剰の薬液が前記支持糸とによって支持腕へ向けて誘導除
去される。これによって、前記基板の支持手段と接触す
る部分における膜厚不均一性を消去して、又、磁気記録
媒体にあっては、前記磁気記録媒体の内周面における突
起の発生が制御される。

【００１４】また、支持腕を鋸刃状に形成し、その谷部
において支持糸を交差させるとともに、この交差部で基
板を支持させることにより、前記支持糸の傾斜によって
基板からの余剰の薬液の誘導除去作用が高められる。

【００１５】

【発明の実施の形態】図１ないし図５に基づき本発明の
磁気記録媒体の製造用治具の一実施形態 について説明
する。なお、以下の説明中図３０ないし図３２と共通す
る部分 については同一符号を用いて説明を簡略化す
る。

【００１６】図１中、符号１０は、本実施形態に係わる
磁気記録媒体の製造用治具を示し、この製造用治具１０
は、非磁性基板１の中心孔１ａ内に挿入される一対の支
持腕１１と、この支持腕１１に張設されて、前記非磁性
基板１の中心孔１ａ内周壁が載置されることにより、前
記非磁性基板１の中心孔１ａ内周壁を前記支持腕１１か
ら浮かした状態で支持する支持糸１２とによって構成さ
れた基本構成となっている。

【００１７】ついでこれらの詳細について説明すれば、
前記支持腕１１は、図２及び図３に示すように鋸刃状に
形成されており、山部１１ａが３角形状に形成され、ま
た、谷部１１ｂが逆台形状に形成され、かつ、この谷部
１１ｂの底面と支持腕１１の側面との交差角ψが、図５
に示すように、略９０°に設定されている。

【００１８】さらに、前記各山部１１ａの頂部で、支持
腕１１の幅方向の略中間部には、図１に及び図３に示す
ように、切り欠き１３が形成され、また、前記各谷部１
１ｂの下方に位置する部分には、図２に示すように、前
記支持腕１１を幅方向に貫通する貫通孔１４が形成され
ている。

【００１９】前記支持糸１２は、図６（ａ）に示すよう
に、前記貫通孔１４に支持腕１１の内側（他方の支持腕
１１に対向させられた側）から外側へ向けて挿通された
後に、この貫通孔１４の間近の山部１１ａのつぎの山部
１１ａに形成された切り欠き１３へ掛け止めされ、つい
で、この山部１３の間近の谷部１１ｂのつぎの谷部１１
ｂに対応して形成されている貫通孔１４に支持腕１１の
外側から挿通され、さらに、一つ戻った位置にある貫通
孔１４に内側から挿通されることにより、前記山部１１
ａの切り欠き１３に、一つおきに掛け渡され、さらに、
図６（ｂ）に示すように、前述した掛け止め操作を山部
１１ａに対して１ピッチずらして行なうことにより、図
６（ｃ）に示すように、支持糸１２が前記谷部１１ｂ
の、支持腕１１の外側寄りにおいて交差（交差部１２
ａ）するように掛け渡されている。

【００２０】この図６に示すように支持糸１２の掛け渡
し形態は、一つの支持腕１１について示してあるが、他
方の支持腕１１についても同様であり、図１に示すよう
に、前記交差部１２ａが逆の位置となる点において異な
る。

【００２１】そして、前記支持糸１２は、ナイロン製釣
糸、フロロカーボン製釣糸、金属製釣糸や針金等が用い
られ、その太さは、０．０５〜０．５ｍｍの範囲が用い
られる。特に望ましい範囲は、ナイロン製釣糸、フロロ
カーボン釣糸の場合、０．２〜０．３ｍｍが望ましく、
金属製釣糸、針金の場合、０．０５〜０．１ｍｍが望ま
しい。

【００２２】前記支持糸１２と非磁性基板１との接触部
分において、図７（ａ）〜（ｄ）に示すように、この接
触部分に溜まる薬液Ｌが支持糸１２によって引きつけら
れて、前記非磁性基板１から除去される作用が生じる
が、この引きつけ作用が、支持糸１２の太さに依存し、
細すぎると、図８に示すように、前記余剰の薬液の除去
が不十分となるばかりでなく、糸切れを生じてしまい、
また、太くなるにつれて引きつけ作用が大きく、図９に
示すように、前記非磁性基板１からの余剰の薬液の除去
が良好に行なわれて、乾燥後における突起Ｘの発生が制
御されることから、これらを勘案して、前述の範囲で使
用することが望まれる。

【００２３】また、前記交差部１２ａの間隔は、支持す
る磁気記録媒体の間隔を決定するものであり、広すぎる
と処理枚数が少なくなって生産効率が悪くなり、狭すぎ
ると付着した薬液の乾燥速度が遅くなって製造サイクル
が長くなることから、これらを勘案して、３〜９ｍｍの
範囲が好適である。

【００２４】一方、前記支持糸１２と非磁性基板１との
なす角度θが大きくしすぎると、この支持糸１２の交差
部１２ａに載せた非磁性基板１が移動し易くなり、ま
た、小さくしすぎると、非磁性基板１が山部１１ａに接
触したり、あるいは、幾何的に前記支持腕１１が非磁性
基板１の中心孔１ａ内に挿入できなくなることから、前
記角度θは、３０°〜８０°の範囲で、４５°〜７０°
の範囲が好適である。

【００２５】さらに、前述した薬液Ｌの前期非磁性基板
１からの除去作用は、前記支持糸１２の交差部１２ａ
と、前記支持腕１１の谷部１１ｂの底面との距離ｄや、
非磁性基板１の内周面と前記支持腕１１の谷部１１ｂの
底面との距離ｅの距離（図１０および図１１参照）も影
響する。

【００２６】すなわち、図１２に示すように前者の距離
ｄを大きくすれば、支持糸１２と非磁性基板１との接触
部に溜まった薬液Ｌが真下に引かれ、これによって、前
記支持糸１２による薬液Ｌの引きつけ作用が高められ
て、内周部近傍の突起Ｘの発生が防止され、図１３に示
すように小さい場合には、前記接触部に溜まった薬液Ｌ
の下方への引きつけ作用が小さくなり、前記突起Ｘの消
去作用が低下するために、これらを勘案して、前記距離
ｄは、０．５ｍｍ〜３．０ｍｍ、好ましくは、０．５ｍ
ｍ〜１．５ｍｍの範囲に設定することが望ましい。

【００２７】一方、前記距離ｄを大きくすると、非磁性
基板１の内周面と前記谷部１１ｂの底面との距離ｅも大
きくなるが、この距離ｅが大きくなると、非磁性基板１
と谷部１１ｂとの間に形成される薬液のブリッジが早期
に破断して、余剰の薬液Ｌの除去が進行せず、膜厚にむ
らが生じ、また、前記距離ｅが短いと、前記ブリッジが
切れなくなり、この部分で突起が発生することとなり好
ましくなく、このブリッジを介した薬液Ｌの円滑な除去
のためには、前記距離ｅを０．０２ｍｍ〜２．０ｍｍ、
好ましくは、０．０３ｍｍ〜１．０ｍｍの範囲に設定す
ることが望ましい。

【００２８】そして、前述したように、突起の発生を防
止しつつ膜厚分布の悪化を制御するためには、距離ｄを
確保しつつ距離ｅを前記範囲内に近づける必要がある。
このためには、図１１に示すように、前記支持腕１１の
谷部１１ｂの底面と支持腕１１の側面との交差角度ψを
大きくすることによって実現可能となる。

【００２９】そして、この交差角度ψは、距離ｄと距離
ｅとを前述した好適な範囲内とするために９０°〜１７
０°、好ましくは１１０°〜１４０°の範囲に設定する
ことが望ましい。

【００３０】さらに、前記支持腕１１の谷部１１ａの形
状は、前述した逆台形状の他に、丸底形状やＶ型形状等
が採用される。

【００３１】ここで、支持糸１２の交差部１２ａと支持
腕１１の谷部１１ｂの底面との距離ｄの変化に対する突
起Ｘの出現率の変化を図１４に示した。なお、表中にお
いてｗは突起Ｘの、前記非磁性基板１の周方向に沿った
長さを示し、ｌは、突起Ｘの、前記非磁性基板１の半径
方向に沿った長さを示し、ｈは、突起Ｘの、前記非磁性
基板１の面に対する垂直に沿った高さを示し、ｗが０．
２ｍｍ以下で、ｌが０．１ｍｍ以下である場合に突起Ｘ
が消滅したとみなした。

【００３２】この図１４からも明らかなように、距離ｄ
が大きい場合に突起Ｘが消滅していく傾向が確認でき
る。

【００３３】また、支持糸１２の太さと突起Ｘの出現率
との関係を図１５に示す。この図からも明らかなよう
に、支持糸１２が太くなるにしたがって突起Ｘの出現率
が低下していく傾向が理解できる。

【００３４】このように構成された磁気記録媒体の製造
用治具１０を用いて磁気記録媒体を製造するには、ま
ず、前記非磁性基板１の表面を精密研磨した後に、この
非磁性基板１の表面にスパッタ等によって磁性層を形成
し、この非磁性基板１の中心孔１ａ内に製造用治具１０
の一対の支持腕１１を挿入して、これらの支持腕１１に
張設されている各支持糸１２の交差部１２ａ上に前記非
磁性基板１の内周壁を載せることにより、この非磁性基
板１をその内周壁を前記支持腕１１から浮かした状態で
支持し、ついで、この非磁性基板1 を前記製造用治具１
０とともに保護膜形成用の薬液槽３内に浸漬させて、前
記磁性層の表面に保護膜形成用の薬液Ｌを付着させ、つ
いで、前記製造用治具１０を薬液槽３から引き上げて前
記薬液Ｌを乾燥させることにより行われる。

【００３５】ついで、本発明を以下に示す具体的な実施
例に基づいて詳細に説明する。

【００３６】

【実施例１】厚さ２ｍｍのステンレスにて各部１１ｂの
形状が逆台形状で各部の形状ならびに寸法が以下の条件
の製造用治具を作製した。

【００３７】山部の間隔＝０．６３５ｍｍ θ＝５６° ψ＝１３５° δ＝５０° ｄ＝１．４ｍｍ ｅ＝０．６ｍｍ 支持糸；直径０．０７４ｍｍのチタン・ニッケル合金製
釣り糸 ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍ
ｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、そ
の内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するよ
うにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用
治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されてい
る薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を
形成した。

【００３８】前記薬液Ｌとして、金属アルコキドである
テトラエトキシシランとコイダルシリカとイソプロピル
アルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。

【００３９】そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁
性基板１を、オーブンで、温度が３００℃で１．５時間
の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化
物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の
表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記
録媒体を作製した。

【００４０】この磁気記録媒体を観察したところ、内周
部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１６ｍｍ、ｌ＝０．
０８ｍｍであり、発生しないといってもよいレベルに抑
えられている。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測
定結果を図１６及び図１７に示す。これらの図におい
て、半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において膜厚がほぼ一定
となっており、良好な膜厚分布を有する磁気記録媒体が
得られたことが解る。

【００４１】

【実施例２】厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの
形状が逆台形状で、各部の形状ならびに寸法が以下の条
件の製造用治具を作製した。

【００４２】山部の間隔＝０．６３５ｍｍ θ＝５６° ψ＝１３５° δ＝５０° ｄ＝１．４ｍｍ ｅ＝０．６ｍｍ 支持糸；直径０．２８５ｍｍのフロロカーボン製釣り糸 ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍ
ｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、そ
の内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するよ
うにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用
治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されてい
る薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を
形成した。

【００４３】前記薬液Ｌとして、金属アルコキドである
テトラエトキシシランとコイダルシリカとイソプロピル
アルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。

【００４４】そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁
性基板１をオーブンで、温度が３００℃で１．５時間の
焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物
に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表
面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録
媒体を作製した。

【００４５】この磁気記録媒体を観察したところ、内周
部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１４ｍｍ、ｌ＝０．
０７ｍｍであり、発生しないといってもよいレベルに抑
えられている。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測
定結果を図１８及び図１９に示す。これらの図におい
て、半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において、３０°〜６０
°、および、３００°〜３３０°の方向がやや厚いもの
の、良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得られたことが解
る。

【００４６】また、この磁気記録媒体の半径１６ｍｍに
おけるデビエーションエンベロープを図２０に示し、比
較のために、突起Ｘの発生した磁気記録媒体のデビエー
ションエンベロープを図２１に示す。これらの比較から
も明らかなように、本実施例の磁気記録媒体では出力変
動が極めて少ない。

【００４７】

【実施例３】厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの
形状がＶ型形状で、各部の形状ならびに寸法が以下の条
件の製造用治具を作製した。

【００４８】山部の間隔＝０．６３５ｍｍ θ＝５６° ψ＝９０° δ＝８０° ｄ＝１．５ｍｍ ｅ＝１．３ｍｍ 支持糸；直径０．１０４ｍｍのナイロン製釣り糸 ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍ
ｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、そ
の内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するよ
うにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用
治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されてい
る薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を
形成した。

【００４９】前記薬液Ｌとして、金属アルコキドである
テトラエトキシシランとコイダルシリカとイソプロピル
アルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。そし
て、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オー
ブンで、温度３００℃で１．５時間の焼成を行い、前記
テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保護
膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロカ
ーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。

【００５０】この磁気記録媒体を観察したところ、内周
部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝１．２ｍｍ、ｌ＝０．８
ｍｍ、ｈ＝０．４μｍであり、支持糸１２を張らない支
持腕１１を用いて作製した磁気記録媒体に比して小さく
抑えられた。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の測定
結果を図２２及び図２３に示す。これらの図において、
半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において、６０°および３０
０°方向がやや厚いものの、ほぼ良好な膜厚分布の磁気
記録媒体が得られたことが解る。

【００５１】

【実施例４】厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの
形状がＶ型形状で、各部の形状ならびに寸法が以下の条
件の製造用治具を作製した。

【００５２】山部の間隔＝０．６３５ｍｍ θ＝５６° ψ＝９０° δ＝８０° ｄ＝１．５ｍｍ ｅ＝１．３ｍｍ 支持糸；直径０．２０５ｍｍのナイロン製釣り糸 ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍ
ｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、そ
の内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するよ
うにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用
治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されてい
る薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を
形成した。

【００５３】前記薬液Ｌとして、金属アルコキドである
テトラエトキシシランとコロイダルシリカとイソプロピ
ルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。そ
して、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オ
ーブンで、温度が３００℃で１．５時間の焼成を行い、
前記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて
保護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロ
ロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製し
た。

【００５４】この磁気記録媒体を観察したところ、内周
部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝１．３ｍｍ、ｌ＝０．９
ｍｍ、ｈ＝０．４μｍであり、支持糸１２を張らない支
持腕１１を用いて作製した磁気記録媒体に比して小さく
抑えられていた。また、この磁気記録媒体の膜厚分布の
測定結果を図２４及び図２５に示す。前記第３実施例と
ほぼ同様に、半径ｒ＝１４ｍｍの内周部において、６０
°および３００°方向がやや厚いものの、ほぼ良好な膜
厚分布の磁気記録媒体が得られたことが解る。

【００５５】

【実施例５】厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの
形状が逆台形状で谷底が平らで、各部の形状ならびに寸
法が以下の条件の製造用治具を作製した。

【００５６】山部の間隔＝０．６３５ｍｍ θ＝５６° ψ＝９０° δ＝５０° ｄ＝１．５ｍｍ ｅ＝１．３ｍｍ 支持糸；直径０．２０５ｍｍのナイロン製釣り糸 ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍ
ｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、そ
の内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するよ
うにして載置した後、これらの非磁性基板１を製造用治
具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されている
薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を形
成した。

【００５７】前記薬液Ｌとして、金属アルコキドである
テトラエトキシシランとコロイダルシリカとイソプロピ
ルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。そ
して、前記薬液槽２から引き上げた非磁性基板１を、オ
ーブンで、温度３００℃で１．５時間の焼成を行い、前
記テトラエトキシシランをケイ素酸化物に変化させて保
護膜を形成し、さらに、この保護膜の表面にパーフロロ
カーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製し
た。

【００５８】この磁気記録媒体を観察したところ、内周
部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１６ｍｍ、ｌ＝０．
０８μｍであり、突起Ｘが消滅したに等しい磁気記録媒
体が得られた。本実施例と、前記実施例４と比較した場
合、支持腕１１の谷部１１ｂの形状が異なるだけである
から、Ｖ字型から逆台形状に代えたことによる変化、す
なわち、支持糸１２と支持腕１１との間に形成される隙
間を大きくすることにより、突起Ｘの除去効果が飛躍的
に改善されることが解る。また、この磁気記録媒体の膜
厚分布の測定結果を図２６及び図２７に示す。この実施
例においても、ほぼ良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得
られたことが解る。

【００５８】

【実施例６】厚さ２ｍｍのステンレスにて谷部１１ｂの
形状が逆台形状で谷底が平らで、各部の形状ならびに寸
法が以下の条件の製造用治具を作製した。

【００５９】山部の間隔＝０．６３５ｍｍ θ＝５６° ψ＝１３５° δ＝５０° ｄ＝１．５ｍｍ ｅ＝０．２ｍｍ 支持糸；直径０．２０５ｍｍのナイロン製釣り糸 ついで、磁気層が形成された外径６５ｍｍ、内径２０ｍ
ｍ、厚さ０．６３５ｍｍの非磁性基板１の複数枚を、そ
の内周が前記支持糸１２の交差部１２ａ上に接触するよ
うにして載置した後に、これらの非磁性基板１を製造用
治具１０とともに保護膜形成用の薬液Ｌが貯留されてい
る薬液槽３内に浸漬させ、その後に引き上げて保護膜を
形成した。

【００６０】前記薬液Ｌとして、金属アルコキドである
テトラエトキシシランとコロイダルシリカとイソプロピ
ルアルコール、及び、ブタノールの混合液を用いた。

【００６１】そして、前記薬液槽２から引き上げた非磁
性基板１を、オーブンで、温度が３００℃で１．５時間
の焼成を行い、前記テトラエトキシシランをケイ素酸化
物に変化させて保護膜を形成し、さらに、この保護膜の
表面にパーフロロカーボン系の潤滑剤を塗布して磁気記
録媒体を作製した。

【００６２】この磁気記録媒体を観察したところ、内周
部に形成された突起Ｘは、Ｗ＝０．１６ｍｍ、ｌ＝０．
０７μｍであり、突起Ｘが消滅したに等しい磁気記録媒
体が得られた。この磁気記録媒体の膜厚分布の測定結果
を図２８及び図２９に示す。これらの図から明らかなよ
うに、本実施例においては、前記実施例５と比較して、
さらに良好な膜厚分布の磁気記録媒体が得られたことが
解る。

【００６３】そして、本実施例と、前記実施例５と比較
した場合、支持腕１１の谷部１１ｂの谷底が大きく傾斜
させられた点が異なるだけであるから、谷底の傾斜角度
ψを大きくしたことによる変化、すなわち、非磁性基板
１の内周面と支 持腕１１の谷部１１ｂの底面（谷底）
との距離ｅを小さくすることにより、膜厚分布が大幅に
改善されることが解る。

【００６４】上述の実施例では、支持腕をディスク状基
板の中心孔内に挿入させ、基板を支持したが、これに限
らず、支持腕をデイスク用基板の外周に載置し、ディス
ク用基板の外周側壁を支持してもよい。

【００６５】また、上述の実施例で使用した薬液は、磁
気記録媒体の保護膜形成用に限って挙げたが、これに限
らず、潤滑膜形成用の薬液（例えば、パーフルオロポリ
エーテル系液体潤滑剤、等）や、浸漬法によって基板表
面に形成されるさまざまな薬液についても使用できる。
また、支持糸が薬液に対して耐久性を有するものであれ
ば、基板をある液に浸漬させて特定の処理を施す（例え
ば、ガラス基板の化学強化処理、洗浄等）用途にも使用
できる。

【００６５】さらに、上述の実施例の成膜用基板保持具
は、磁気記録媒体用に限って説明した（磁気記録媒体用
製造用治具）が、これに限らず、光ディスク、半導体ウ
エハ、フォトマスクや液晶用に使用される電子デバイス
用基板等に、薄膜を形成するための成膜用基板保持具と
しても使用できる。その際、支持腕は、基板の外周側壁
近傍に配置し、張設された支持糸によって外周側壁を支
持する。

【００６６】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る成膜
用基板保持具およびこの保持具を用いた成膜方法、並び
に、磁気記録媒体の製造用治具およびこの治具を用いた
磁気記録媒体の製造方法によれば、浸漬法によって基板
の表面上に薄膜を成膜する際に、支持腕に張設した支持
糸によって該支持腕から浮かした状態で基板を支持する
ようにしたことにより、前記非磁性基板を支持腕から浮
かした状態で支持し、この状態で基板を薬液槽内に浸漬
させて薄膜形成用の薬液を付着させるようにしたもの
で、これにより、基板の支持面積が極力小さく抑えら
れ、かつ基板を薬液層から引き上げた際に、基板の表面
に付着している余剰の薬液が支持糸とによって支持腕へ
向けて誘導除去される。これによって、基板の支持手段
と接触する部分における膜厚不均一性の発生を防止して
膜厚の均一な薄膜の形成を可能にしているものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具の一部を示す平面図である。

【図２】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具の側面図である。

【図３】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具の縦断面図である。

【図４】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具の要部を示す拡大側面図である。

【図５】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具の縦断面図である。

【図６】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具における支持糸の張設手順を示す平面図であ
る。

【図７】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具における薬液の排出メカニズムを模擬的に示し
た要部の拡大縦断面図である。

【図８】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具における薬液の排出メカニズムを模擬的に示し
た支持糸と非磁性基板との接触部を示す拡大縦断面図で
ある。

【図９】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の製
造用治具における薬液の排出メカニズムを模擬的に示し
た支持糸と非磁性基板との接触部を示す拡大縦断面図で
ある。

【図１０】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の
製造用治具における支持糸ならびに支持腕と非磁性基板
との位置関係を示す拡大縦断面図である。

【図１１】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の
製造用治具における支持糸ならびに支持腕と非磁性基板
との位置関係の変形例を示す拡大縦断面図である。

【図１２】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の
製造用治具における支持糸と支持腕との位置関係が異な
る場合における残存薬液の状態を示す拡大縦断面図であ
る。

【図１３】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の
製造用治具における支持糸と支持腕との位置関係が異な
る場合における残存薬液の状態を示す拡大縦断面図であ
る。

【図１４】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の
製造用治具における支持糸と支持腕の谷部との距離と、
突起の出現率との関係を示す図である。

【図１５】本発明の一実施形態に係わる磁気記録媒体の
製造用治具における支持糸の直径と、突起の出現率との
関係を示す図である。

【図１６】本発明の実施例１における膜厚分布を示すも
ので、中心からの距離をパラメータとしたグラフであ
る。

【図１７】本発明の実施例１における膜厚分布を示すも
ので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。

【図１８】本発明の実施例２における膜厚分布を示すも
ので、中心からの距離をパラメータとしたグラフであ
る。

【図１９】本発明の実施例２における膜厚分布を示すも
ので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。

【図２０】本発明の実施例２における出力特性図であ
る。

【図２１】一従来例における出力特性図である。

【図２２】本発明の実施例３における膜厚分布を示すも
ので、中心からの距離をパラメータとしたグラフであ
る。

【図２３】本発明の実施例３における膜厚分布を示すも
ので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。

【図２４】本発明の実施例４における膜厚分布を示すも
ので、中心からの距離をパラメータとしたグラフであ
る。

【図２５】本発明の実施例４における膜厚分布を示すも
ので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。

【図２６】本発明の実施例５における膜厚分布を示すも
ので、中心からの距離をパラメータとしたグラフであ
る。

【図２７】本発明の実施例５における膜厚分布を示すも
ので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。

【図２８】本発明の実施例６における膜厚分布を示すも
ので、中心からの距離をパラメータとしたグラフであ
る。

【図２９】本発明の実施例６における膜厚分布を示すも
ので、周方向の角度をパラメータとしたグラフである。

【図３０】従来の浸漬法による保護膜の形成装置におけ
る非磁性基板の支持形態を示す正面図である。

【図３１】従来の浸漬法による保護膜の形成装置を示す
縦断面図である。

【図３２】従来の浸漬法によって保護膜を形成した際に
おける保護膜の膜厚分布を示す概略図である。

【符号の説明】

１ 非磁性基板 １ａ 中心孔 ３ 薬液槽 １０ （磁気記録媒体の）製造用治具 １１ 支持腕 １１ａ 山部 １１ｂ 谷部 １２ 支持糸 １２ａ 交差部 １３ 切り欠き １４ 貫通孔 Ｌ 薬液

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板の表面上に浸漬法によって薄膜を成
   膜する際に基板を保持するための成膜用基板保持具であ
   って、 前記基板を支持する支持腕と、 この支持腕に張設された支持糸とを有し、 この支持糸は、前記基板を前記支持腕から浮かした状態
   で支持するように、前記支持腕に張設されていることを
   特徴とする成膜用基板保持具。
2. 【請求項２】 前記支持腕が、鋸刃状に形成されている
   とともに、この鋸刃の谷部において前記支持糸が交差す
   るように張設され、この交差部に前記基板の少なくとも
   側壁を支持するようにしたことを特徴とする請求項１に
   記載の成膜用基板保持具。
3. 【請求項３】 中心孔を有するディスク状をなした磁気
   記録媒体用基板の表面上に浸漬法によって薄膜を成膜す
   る際に前記磁気記録媒体用基板を保持するための磁気記
   録媒体製造用治具であって、 前記磁気記録媒体用基板の中心孔に挿入されて該中心孔
   内周壁を支持する支持腕と、 この支持腕に張設された支持糸とを有し、 この支持糸は、前記磁気記録媒体用基板の中心孔内周壁
   を前記支持腕から浮かした状態で支持するように、前記
   支持腕に張設されていることを特徴とする磁気記録媒体
   製造用治具。
4. 【請求項４】 基板と、この基板を支持する支持腕と該
   支持腕に張設されて前記基板を前記支持腕から浮かした
   状態で支持する支持糸とによって構成された製造用治具
   と、を用意する工程と、 前記製造用治具の支持糸上に前記基板を載置した後、該
   基板を前記製造用治具とともに前記基板表面に成膜する
   薬液が入った薬液槽内に浸漬させて、前記基板の表面に
   薬液を成膜する工程と、 を有することを特徴とする成膜方法。
5. 【請求項５】 中心孔を有するディスク状基板と、前記
   ディスク状基板の中心孔に挿入される支持腕と該支持腕
   に張設された支持糸であって前記基板の中心孔内周壁を
   前記支持腕から浮かした状態で支持する支持糸とによっ
   て構成された製造用治具と、を用意する工程と、 前記基板の中心孔内に前記製造用治具を挿入してその支
   持糸上に基板を載せた後、該基板を前記製造用治具とと
   もに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸
   漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程と、を
   有することを特徴とする成膜方法。
6. 【請求項６】 中心孔を有するディスク状をなすととも
   に表面に少なくとも磁性層が形成されている磁気記録媒
   体用基板と、前記磁気記録媒体用基板の中心孔に挿入さ
   れる支持腕と該支持腕に張設された支持糸であって前記
   基板の中心孔内周壁を該支持腕から浮かした状態で支持
   する支持糸とによって構成された製造用治具と、を用意
   する工程と、 前記基板の中心孔内に前記製造用治具を挿入してその支
   持糸上に基板を載せた後、該基板を前記製造用治具とと
   もに前記基板表面に成膜する薬液が入った薬液槽内に浸
   漬させて、前記基板の表面に薬液を成膜する工程と、を
   有することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。