JPH09288820A - 磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の製造方法Info
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- JPH09288820A JPH09288820A JP11950496A JP11950496A JPH09288820A JP H09288820 A JPH09288820 A JP H09288820A JP 11950496 A JP11950496 A JP 11950496A JP 11950496 A JP11950496 A JP 11950496A JP H09288820 A JPH09288820 A JP H09288820A
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の品質管理を容易化できるとともに、基
板の品質を向上させること。 【解決手段】 磁気記録媒体用基板の最終仕上研磨を、
所定のクリーン度のクリーンルーム内で研磨テープを用
い水溶液で洗い流しながら実施すること。
板の品質を向上させること。 【解決手段】 磁気記録媒体用基板の最終仕上研磨を、
所定のクリーン度のクリーンルーム内で研磨テープを用
い水溶液で洗い流しながら実施すること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録媒体及び
磁気記録媒体用基板の製造方法に係り、特に最終仕上研
磨工程を改良した磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板
の製造方法に関する。
磁気記録媒体用基板の製造方法に係り、特に最終仕上研
磨工程を改良した磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体（ハードディスク）
の高記録密度化が急速に進んでおり、それに伴い、磁気
記録媒体や磁気記録媒体用基板の表面性に関する要求が
厳しくなっている。このため、上記基板の表面仕上工程
は非常に重要なものとなっている。
の高記録密度化が急速に進んでおり、それに伴い、磁気
記録媒体や磁気記録媒体用基板の表面性に関する要求が
厳しくなっている。このため、上記基板の表面仕上工程
は非常に重要なものとなっている。
【０００３】図４に示すように、基板は、従来、粗研磨
から最終仕上研磨までが通常の大気中で実施された後、
洗浄されて、ごみが極めて少ないクリーンルーム内へ移
動し、再び洗浄された後、成膜工程に送られている。
から最終仕上研磨までが通常の大気中で実施された後、
洗浄されて、ごみが極めて少ないクリーンルーム内へ移
動し、再び洗浄された後、成膜工程に送られている。
【０００４】このうち、基板の最終仕上研磨は、両面ラ
ッピング装置に複数枚の基板を装着し、遊離砥粒等の研
磨液を注入して、基板の両面を同時に研磨することによ
り実施されている。
ッピング装置に複数枚の基板を装着し、遊離砥粒等の研
磨液を注入して、基板の両面を同時に研磨することによ
り実施されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上述のよう
な磁気記録媒体用基板の製造方法では、基板の最終仕上
研磨を実施する両面ラッピング装置は発塵性があり、然
も、研磨液を用いてなされるので、この最終仕上研磨を
クリーンルーム外で実施している。このため、基板の最
終仕上研磨後に大気中のごみが基板の表面に付着する虞
れがあり、最終仕上研磨後の基板の品質を厳しく管理し
て、基板の品質を確保しなければならない。
な磁気記録媒体用基板の製造方法では、基板の最終仕上
研磨を実施する両面ラッピング装置は発塵性があり、然
も、研磨液を用いてなされるので、この最終仕上研磨を
クリーンルーム外で実施している。このため、基板の最
終仕上研磨後に大気中のごみが基板の表面に付着する虞
れがあり、最終仕上研磨後の基板の品質を厳しく管理し
て、基板の品質を確保しなければならない。
【０００６】また、研磨液を用いて両面ラッピング装置
にて実施される最終仕上研磨では、図３に示すように、
例えば磁気記録媒体用基板１の外径端面２に形成される
チャンファ３近傍の表面４及び裏面５に、ロールオフ
（面だれ）６が１点鎖線に示すように進行してしまい、
基板１の品質が低下してしまう。
にて実施される最終仕上研磨では、図３に示すように、
例えば磁気記録媒体用基板１の外径端面２に形成される
チャンファ３近傍の表面４及び裏面５に、ロールオフ
（面だれ）６が１点鎖線に示すように進行してしまい、
基板１の品質が低下してしまう。
【０００７】本発明の課題は、上述の事情を考慮してな
されたものであり、基板の品質管理を容易化できるとと
もに、磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の品質を向
上させることができる磁気記録媒体及び磁気記録媒体用
基板の製造方法を提供することにある。
されたものであり、基板の品質管理を容易化できるとと
もに、磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の品質を向
上させることができる磁気記録媒体及び磁気記録媒体用
基板の製造方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、磁気記録媒体用基板の最終仕上研磨を、所定クリー
ン度のクリーンルーム内で、研磨テープを用い水溶液で
洗い流しながら実施するようにしたものである。
は、磁気記録媒体用基板の最終仕上研磨を、所定クリー
ン度のクリーンルーム内で、研磨テープを用い水溶液で
洗い流しながら実施するようにしたものである。
【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、上記クリーンルームのクリーン度が1
0,000以下であるものである。
の発明において、上記クリーンルームのクリーン度が1
0,000以下であるものである。
【００１０】請求項３に記載の発明は、最終仕上げ研磨
をクリーンルーム内で研磨テープを用い水洗いしながら
実施し、引き続いて磁気記録媒体用基板をクリーンルー
ム外に出すことなく同一クリーンルームの成膜目的チャ
ンバ内で、少なくとも磁気記録層及び保護層を設けるよ
うにしたものである。
をクリーンルーム内で研磨テープを用い水洗いしながら
実施し、引き続いて磁気記録媒体用基板をクリーンルー
ム外に出すことなく同一クリーンルームの成膜目的チャ
ンバ内で、少なくとも磁気記録層及び保護層を設けるよ
うにしたものである。
【００１１】請求項１、２又は３に記載の発明には、次
の作用がある。磁気記録媒体用基板の最終仕上研磨がク
リーンルーム内で実施されるので、最終仕上研磨から成
膜工程までの間に基板が大気中にさらされず、上記基板
に大気中のごみ等が付着する心配がない。この結果、最
終仕上研磨後の基板の品質管理を容易化できるととも
に、ごみの付着による基板の品質低下を回避でき、基板
と、この基板から製造される磁気記録媒体の品質を向上
させることができる。
の作用がある。磁気記録媒体用基板の最終仕上研磨がク
リーンルーム内で実施されるので、最終仕上研磨から成
膜工程までの間に基板が大気中にさらされず、上記基板
に大気中のごみ等が付着する心配がない。この結果、最
終仕上研磨後の基板の品質管理を容易化できるととも
に、ごみの付着による基板の品質低下を回避でき、基板
と、この基板から製造される磁気記録媒体の品質を向上
させることができる。
【００１２】また、最終仕上研磨が研磨テープにて実施
されるので、最終仕上研磨の前までに基板に発生したロ
ールオフが最終仕上研磨において促進されず、抑制でき
るので、基板と、この基板から製造される磁気記録媒体
の品質を向上させることができる。
されるので、最終仕上研磨の前までに基板に発生したロ
ールオフが最終仕上研磨において促進されず、抑制でき
るので、基板と、この基板から製造される磁気記録媒体
の品質を向上させることができる。
【００１３】更に、基板の最終仕上研磨がクリーンルー
ム内で実施されるので、この最終仕上研磨までに基板に
付着したごみ等を、この最終仕上研磨で研磨と同時に除
去できる。このため、クリーンルーム内で実施される最
終仕上研磨後の基板の洗浄を簡略化できる。
ム内で実施されるので、この最終仕上研磨までに基板に
付着したごみ等を、この最終仕上研磨で研磨と同時に除
去できる。このため、クリーンルーム内で実施される最
終仕上研磨後の基板の洗浄を簡略化できる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は、本発明に係る磁気記録媒
体及び磁気記録媒体用基板の製造方法の一つの実施の形
態を示す工程図である。図２は、図１の最終仕上研磨工
程を示す斜視図である。図３は、磁気記録媒体用基板を
示す側面図である。
に基づいて説明する。図１は、本発明に係る磁気記録媒
体及び磁気記録媒体用基板の製造方法の一つの実施の形
態を示す工程図である。図２は、図１の最終仕上研磨工
程を示す斜視図である。図３は、磁気記録媒体用基板を
示す側面図である。
【００１５】磁気記録媒体用基板１としては、下記〜
のようなガラス状カーボン基板、、アルミニウム基
板、アルミニウム合金基板、ガラス基板、シリコン基板
等が使用される。 熱硬化性樹脂を炭素化して得られるガラス状カーボン
基板。
のようなガラス状カーボン基板、、アルミニウム基
板、アルミニウム合金基板、ガラス基板、シリコン基板
等が使用される。 熱硬化性樹脂を炭素化して得られるガラス状カーボン
基板。
【００１６】共重合や共縮合等により熱硬化するよう
変性された樹脂を炭素化して得られるガラス状カーボン
基板。
変性された樹脂を炭素化して得られるガラス状カーボン
基板。
【００１７】硬化又は炭素化の過程での化学処理によ
り、結晶化を著しく妨げて得られるガラス状カーボン基
板。
り、結晶化を著しく妨げて得られるガラス状カーボン基
板。
【００１８】このような基板１には、図２及び図３に示
すように、中央部にセンタホール７が形成されている。
すように、中央部にセンタホール７が形成されている。
【００１９】基板１の製造工程では、図１に示すよう
に、クリーンルーム外の通常の大気中で、表面４及び裏
面５の粗研磨及び中間研磨を順次実施し、その後、外径
端面２とセンタホール７を形成する内径端面８とにチャ
ンファ３を加工する。その後、基板１の表面４及び裏面
５を中仕上研磨する。
に、クリーンルーム外の通常の大気中で、表面４及び裏
面５の粗研磨及び中間研磨を順次実施し、その後、外径
端面２とセンタホール７を形成する内径端面８とにチャ
ンファ３を加工する。その後、基板１の表面４及び裏面
５を中仕上研磨する。
【００２０】基板１の中仕上研磨後、所定クリーン度の
クリーンルーム内へ基板１を出荷し、このクリーンルー
ム内にて基板１を最終仕上研磨し、更に、スクラブパッ
ドを用いて洗浄する。その後、基板１をクリーンルーム
外に出すことなく、同一のクリーンルームの成膜目的チ
ャンバ内で、上記基板１に磁気記録層及び保護層を設け
て成膜処理する。クリーン度は、1ft3（立方フィート）
の雰囲気中に0.5 μm以上の粒子の存在数で定義され
る。本発明においては、１万以下のクリーン度が好まし
く、特に 1,000以下のクリーン度であると好ましい。
クリーンルーム内へ基板１を出荷し、このクリーンルー
ム内にて基板１を最終仕上研磨し、更に、スクラブパッ
ドを用いて洗浄する。その後、基板１をクリーンルーム
外に出すことなく、同一のクリーンルームの成膜目的チ
ャンバ内で、上記基板１に磁気記録層及び保護層を設け
て成膜処理する。クリーン度は、1ft3（立方フィート）
の雰囲気中に0.5 μm以上の粒子の存在数で定義され
る。本発明においては、１万以下のクリーン度が好まし
く、特に 1,000以下のクリーン度であると好ましい。
【００２１】基板１の上記最終仕上研磨は１枚毎に実施
され、図２に示すように、基板１の内径端面８をクラン
プして所定速度ＶA で回転させ、この回転中の基板１の
表面４及び裏面５に、所定速度ＶB で送られる研磨テー
プ１０を、ロール１１を介して一定圧力で押し付けるこ
とによりなされる。このロール１１は例えばゴム製であ
り、研磨中に軸方向に往復移動される。
され、図２に示すように、基板１の内径端面８をクラン
プして所定速度ＶA で回転させ、この回転中の基板１の
表面４及び裏面５に、所定速度ＶB で送られる研磨テー
プ１０を、ロール１１を介して一定圧力で押し付けるこ
とによりなされる。このロール１１は例えばゴム製であ
り、研磨中に軸方向に往復移動される。
【００２２】上記研磨テープ１０は、アルミナ、炭化珪
素、ダイヤモンド、ジルコニア、酸化セリウム、或いは
シリカ等の砥粒を有機バインダにてベースフィルム上に
付着させたものである。また、この最終仕上研磨中に
は、基板１の正面４及び裏面５と研磨テープ１０との間
に水又はクーランド等の水溶液１２がノズル（図示せ
ず）より注水され、研磨屑が流される。
素、ダイヤモンド、ジルコニア、酸化セリウム、或いは
シリカ等の砥粒を有機バインダにてベースフィルム上に
付着させたものである。また、この最終仕上研磨中に
は、基板１の正面４及び裏面５と研磨テープ１０との間
に水又はクーランド等の水溶液１２がノズル（図示せ
ず）より注水され、研磨屑が流される。
【００２３】このように、最終仕上研磨は、研磨テープ
１０を用いたものであって、発塵せず、然も、研磨屑が
水又はクーランド等の水溶液１２にて洗い流されるの
で、クリーンルーム内で実施可能とされるのである。ま
た、研磨時には若干量の界面活性剤を添加した水溶液を
供給して、研磨終了後に水好ましくは超純水でリンスを
行っても良い。
１０を用いたものであって、発塵せず、然も、研磨屑が
水又はクーランド等の水溶液１２にて洗い流されるの
で、クリーンルーム内で実施可能とされるのである。ま
た、研磨時には若干量の界面活性剤を添加した水溶液を
供給して、研磨終了後に水好ましくは超純水でリンスを
行っても良い。
【００２４】従って、上記実施の形態によれば、磁気記
録媒体用基板１の最終仕上研磨及び成膜工程がクリーン
ルーム内で実施されるので、最終仕上研磨後に実施され
る成膜工程までの間に基板１が大気中にさらされず、上
記基板１に大気中のごみ等が付着する心配がない。この
結果、最終仕上研磨後の基板の品質管理を容易化できる
とともに、ごみの付着による基板１の品質低下を回避で
き、基板１と、この基板１から製造される磁気記録媒体
の品質を向上させることができる。
録媒体用基板１の最終仕上研磨及び成膜工程がクリーン
ルーム内で実施されるので、最終仕上研磨後に実施され
る成膜工程までの間に基板１が大気中にさらされず、上
記基板１に大気中のごみ等が付着する心配がない。この
結果、最終仕上研磨後の基板の品質管理を容易化できる
とともに、ごみの付着による基板１の品質低下を回避で
き、基板１と、この基板１から製造される磁気記録媒体
の品質を向上させることができる。
【００２５】また、最終仕上研磨が研磨テープ１０にて
実施されるので、最終仕上研磨までの研磨において、基
板１に発生したロールオフ６をこの最終仕上研磨におい
て促進せず、抑制できるので、基板１と、この基板１か
ら製造される磁気記録媒体の品質を向上させることがで
きる。
実施されるので、最終仕上研磨までの研磨において、基
板１に発生したロールオフ６をこの最終仕上研磨におい
て促進せず、抑制できるので、基板１と、この基板１か
ら製造される磁気記録媒体の品質を向上させることがで
きる。
【００２６】更に、基板１の最終仕上研磨がクリーンル
ーム内で実施されるので、この最終仕上研磨までに基板
１に付着したごみ等を、この最終仕上研磨で研磨と同時
に除去できる。このため、クリーンルーム内で実施され
る最終仕上研磨後の基板１の洗浄を簡略化できる。
ーム内で実施されるので、この最終仕上研磨までに基板
１に付着したごみ等を、この最終仕上研磨で研磨と同時
に除去できる。このため、クリーンルーム内で実施され
る最終仕上研磨後の基板１の洗浄を簡略化できる。
【００２７】
【実施例】基板１の最終仕上研磨を２段階に分けて実施
し、その結果を示す。研磨１段階目では番手＃8000の研
磨テープ１０を用い、研磨２段階目では番手＃10000 の
研磨テープ１０を用いる。両段階の研磨において、基板
１の回転速度ＶA は50rpm であり、ロール１１の硬度は
80度であり、このロール１１を軸方向に往復移動させ
る。両段階の研磨の加工時間のトータルは、10〜100 秒
である。また、両段階ともジョンソン（株）製ＪＳ602
の3wt ％水溶液（クーラント）を基板に供給しながら行
った。
し、その結果を示す。研磨１段階目では番手＃8000の研
磨テープ１０を用い、研磨２段階目では番手＃10000 の
研磨テープ１０を用いる。両段階の研磨において、基板
１の回転速度ＶA は50rpm であり、ロール１１の硬度は
80度であり、このロール１１を軸方向に往復移動させ
る。両段階の研磨の加工時間のトータルは、10〜100 秒
である。また、両段階ともジョンソン（株）製ＪＳ602
の3wt ％水溶液（クーラント）を基板に供給しながら行
った。
【００２８】上述の条件で、最終仕上研磨をした結果、
最終仕上研磨前に表面粗さとしての指標である中心線平
均粗さＲA が10 であった基板１は、最終仕上研磨後 5
以下になった。また、この最終仕上研磨後の基板１を
用いた磁気記録媒体（ハードディスク）の評価は、ＧＨ
Ｔ（グライドハイドテスト）で0.8 μinchとなり、グラ
イド高さが低く合格であった。
最終仕上研磨前に表面粗さとしての指標である中心線平
均粗さＲA が10 であった基板１は、最終仕上研磨後 5
以下になった。また、この最終仕上研磨後の基板１を
用いた磁気記録媒体（ハードディスク）の評価は、ＧＨ
Ｔ（グライドハイドテスト）で0.8 μinchとなり、グラ
イド高さが低く合格であった。
【００２９】
【発明の効果】以上のように、本発明に係る磁気記録媒
体及び磁気記録媒体用基板の製造方法によれば、磁気記
録媒体用基板の最終仕上研磨及び成膜工程をクリーンル
ーム内で実施したことから、基板の品質管理を容易化で
きるとともに、基板と、この基板から製造される磁気記
録媒体の品質を向上させることができる。
体及び磁気記録媒体用基板の製造方法によれば、磁気記
録媒体用基板の最終仕上研磨及び成膜工程をクリーンル
ーム内で実施したことから、基板の品質管理を容易化で
きるとともに、基板と、この基板から製造される磁気記
録媒体の品質を向上させることができる。
【図１】図１は、本発明に係る磁気記録媒体及び磁気記
録媒体用基板の製造方法の一つの実施の形態を示す工程
図である。
録媒体用基板の製造方法の一つの実施の形態を示す工程
図である。
【図２】図２は、図１の最終仕上研磨工程を示す斜視図
である。
である。
【図３】図３は、磁気記録媒体用基板を示す側面図であ
る。
る。
【図４】図４は、従来の記録媒体用基板の製造方法を示
す工程図である。
す工程図である。
１ 基板 １０ 研磨テープ １２ 水溶液
Claims (3)
- 【請求項１】 磁気記録媒体用基板の最終仕上研磨を、
所定クリーン度のクリーンルーム内で、研磨テープを用
い水溶液で洗い流しながら実施することを特徴とする磁
気記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項２】 上記クリーンルームのクリーン度が10,0
00以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記
録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項３】 最終仕上げ研磨をクリーンルーム内で研
磨テープを用い水洗いしながら実施し、引き続いて磁気
記録媒体用基板をクリーンルーム外に出すことなく同一
クリーンルームの成膜目的チャンバ内で、少なくとも磁
気記録層及び保護層を設けることを特徴とする磁気記録
媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11950496A JPH09288820A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11950496A JPH09288820A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09288820A true JPH09288820A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14762905
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11950496A Withdrawn JPH09288820A (ja) | 1996-04-18 | 1996-04-18 | 磁気記録媒体及び磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09288820A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006315160A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の仕上げ研磨方法 |
| US8137161B2 (en) | 2007-03-23 | 2012-03-20 | Showa Denko K.K. | Disk-shaped substrate manufacturing method |
-
1996
- 1996-04-18 JP JP11950496A patent/JPH09288820A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006315160A (ja) * | 2005-05-16 | 2006-11-24 | Fuji Electric Holdings Co Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板の仕上げ研磨方法 |
| US8137161B2 (en) | 2007-03-23 | 2012-03-20 | Showa Denko K.K. | Disk-shaped substrate manufacturing method |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030701 |