JPH10309566A - 超純水製造装置 - Google Patents
超純水製造装置Info
- Publication number
- JPH10309566A JPH10309566A JP11812597A JP11812597A JPH10309566A JP H10309566 A JPH10309566 A JP H10309566A JP 11812597 A JP11812597 A JP 11812597A JP 11812597 A JP11812597 A JP 11812597A JP H10309566 A JPH10309566 A JP H10309566A
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- concentration
- ultrapure water
- water
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- Pending
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- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Removal Of Specific Substances (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 溶存窒素濃度を制御して所定の溶存窒素濃度
の超純水を供給する。 【解決手段】 窒素封入下に貯留されたタンク１内の溶
存酸素濃度５０ｐｐｂ以下の一次純水を、膜脱気装置５
で脱気処理するに当り、脱気処理水の溶存窒素濃度をＮ
2 計８で測定し、この測定値に基いて膜脱気装置５の真
空ポンプ６の真空度を制御する。 【効果】 溶存酸素濃度５０ｐｐｂ以下と、比較的溶存
酸素濃度の低い一次純水であれば、これを膜脱気装置で
脱気処理した場合、真空度に対応して溶存窒素濃度を制
御することができるので、膜脱気装置の真空度の制御で
超純水中の溶存窒素濃度を所望の値に調節することがで
きる。
の超純水を供給する。 【解決手段】 窒素封入下に貯留されたタンク１内の溶
存酸素濃度５０ｐｐｂ以下の一次純水を、膜脱気装置５
で脱気処理するに当り、脱気処理水の溶存窒素濃度をＮ
2 計８で測定し、この測定値に基いて膜脱気装置５の真
空ポンプ６の真空度を制御する。 【効果】 溶存酸素濃度５０ｐｐｂ以下と、比較的溶存
酸素濃度の低い一次純水であれば、これを膜脱気装置で
脱気処理した場合、真空度に対応して溶存窒素濃度を制
御することができるので、膜脱気装置の真空度の制御で
超純水中の溶存窒素濃度を所望の値に調節することがで
きる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は超純水製造装置に係
り、特に、溶存窒素濃度の制御で所定の溶存窒素濃度の
超純水を供給することができる超純水製造装置に関す
る。
り、特に、溶存窒素濃度の制御で所定の溶存窒素濃度の
超純水を供給することができる超純水製造装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造プロセス等で使用され
る超純水は、工水、市水等の原水を前処理した後、逆浸
透（ＲＯ）膜分離装置及びイオン交換装置等で構成され
る一次純水製造設備で処理し、得られた一次純水を更
に、紫外線（ＵＶ）酸化装置及び限外濾過（ＵＦ）膜分
離装置等で構成されるサブシステムで処理することによ
り製造されている。
る超純水は、工水、市水等の原水を前処理した後、逆浸
透（ＲＯ）膜分離装置及びイオン交換装置等で構成され
る一次純水製造設備で処理し、得られた一次純水を更
に、紫外線（ＵＶ）酸化装置及び限外濾過（ＵＦ）膜分
離装置等で構成されるサブシステムで処理することによ
り製造されている。
【０００３】このようにして得られる超純水の水質評価
項目のうち、溶存ガスとしては、従来、溶存酸素のみが
管理基準とされている。即ち、溶存酸素濃度については
できるだけ低いことが要求され、種々の脱酸素装置によ
り溶存酸素濃度５ｐｐｂ以下の水質が達成されている。
項目のうち、溶存ガスとしては、従来、溶存酸素のみが
管理基準とされている。即ち、溶存酸素濃度については
できるだけ低いことが要求され、種々の脱酸素装置によ
り溶存酸素濃度５ｐｐｂ以下の水質が達成されている。
【０００４】しかし、超純水には、溶存ガスとして溶存
酸素以外に溶存窒素も存在する。
酸素以外に溶存窒素も存在する。
【０００５】窒素ガスは、一般に、脱酸素手段（窒素脱
気装置）や一次純水タンクのシールガスとして使用され
ており、このため、超純水中の溶存窒素濃度は、その製
造システムや貯留条件等によって異なるものとなる。
気装置）や一次純水タンクのシールガスとして使用され
ており、このため、超純水中の溶存窒素濃度は、その製
造システムや貯留条件等によって異なるものとなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体製造プロ
セスにおいて、超純水中の溶存ガスによる気泡の発生が
問題となる場合がみられるようになってきた。
セスにおいて、超純水中の溶存ガスによる気泡の発生が
問題となる場合がみられるようになってきた。
【０００７】しかし、溶存ガスとしての溶存酸素につい
てはできるだけ少ないことが要求され、溶存酸素濃度が
管理基準とされているが、溶存窒素については、特別な
管理基準はなく、また、その濃度制御も行われておら
ず、溶存酸素の低減に伴って結果として溶存窒素も低減
されているのが現状である。
てはできるだけ少ないことが要求され、溶存酸素濃度が
管理基準とされているが、溶存窒素については、特別な
管理基準はなく、また、その濃度制御も行われておら
ず、溶存酸素の低減に伴って結果として溶存窒素も低減
されているのが現状である。
【０００８】超純水中の溶存窒素については、超純水が
使用されるプロセスによって好適濃度が異なり、必ずし
も低濃度であることが要求されるわけではない。その理
由は解明されていないが、プロセスによっては若干の溶
存窒素が存在することが好ましい場合もある。
使用されるプロセスによって好適濃度が異なり、必ずし
も低濃度であることが要求されるわけではない。その理
由は解明されていないが、プロセスによっては若干の溶
存窒素が存在することが好ましい場合もある。
【０００９】本発明は上記従来の実状に鑑みてなされた
ものであって、従来、濃度制御が行われていない超純水
中の溶存窒素濃度の制御を可能とし、所望の溶存窒素濃
度の超純水を供給できるようにした超純水製造装置を提
供することを目的とする。
ものであって、従来、濃度制御が行われていない超純水
中の溶存窒素濃度の制御を可能とし、所望の溶存窒素濃
度の超純水を供給できるようにした超純水製造装置を提
供することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の超純水製造装置
は、溶存酸素濃度５０ｐｐｂ以下の一次純水を窒素封入
下に貯留する一次純水貯留槽と、この一次純水を更に高
純度化するサブシステムとを有する超純水製造装置であ
って、該サブシステムは、ガス分離膜（脱気膜）を介し
て一次純水中の溶存ガスを吸引除去するガス分離膜装置
（膜脱気装置）と、該ガス分離膜装置と連絡された真空
ポンプと、前記ガス分離膜装置からの流出水中の溶存窒
素ガス濃度を測定する溶存窒素ガス濃度計と、該溶存窒
素ガス濃度計の測定値に基いて前記真空ポンプの真空度
を制御する制御装置とを備えてなることを特徴とする。
は、溶存酸素濃度５０ｐｐｂ以下の一次純水を窒素封入
下に貯留する一次純水貯留槽と、この一次純水を更に高
純度化するサブシステムとを有する超純水製造装置であ
って、該サブシステムは、ガス分離膜（脱気膜）を介し
て一次純水中の溶存ガスを吸引除去するガス分離膜装置
（膜脱気装置）と、該ガス分離膜装置と連絡された真空
ポンプと、前記ガス分離膜装置からの流出水中の溶存窒
素ガス濃度を測定する溶存窒素ガス濃度計と、該溶存窒
素ガス濃度計の測定値に基いて前記真空ポンプの真空度
を制御する制御装置とを備えてなることを特徴とする。
【００１１】溶存酸素濃度５０ｐｐｂ以下と、比較的溶
存酸素濃度の低い一次純水であれば、これを膜脱気装置
で脱気処理した場合、真空度に対応して溶存窒素濃度を
制御することができる。
存酸素濃度の低い一次純水であれば、これを膜脱気装置
で脱気処理した場合、真空度に対応して溶存窒素濃度を
制御することができる。
【００１２】従って、本発明の超純水製造装置によれ
ば、膜脱気装置の真空度の制御で超純水中の溶存窒素濃
度を所望の値に調節することができる。
ば、膜脱気装置の真空度の制御で超純水中の溶存窒素濃
度を所望の値に調節することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下に図面を参照して本発明を詳
細に説明する。
細に説明する。
【００１４】図１は本発明の超純水製造装置の実施の形
態を示す系統図である。
態を示す系統図である。
【００１５】図１の超純水製造装置は、ＵＶ酸化装置
３、イオン交換装置４、膜脱気装置５及びＵＦ膜分離装
置７で構成されるサブシステムに本発明に係る溶存窒素
濃度の制御手段を適用したものであり、Ｎ2 シールされ
たタンク１内の一次純水は、ポンプ２によりまずＵＶ酸
化装置３でＵＶ酸化により有機物が分解された後、イオ
ン交換装置４でイオン性不純物が除去され、更に膜脱気
装置５で脱気処理され、最後にＵＦ膜分離装置７で微細
な不純物が除去されることで高純度化される。
３、イオン交換装置４、膜脱気装置５及びＵＦ膜分離装
置７で構成されるサブシステムに本発明に係る溶存窒素
濃度の制御手段を適用したものであり、Ｎ2 シールされ
たタンク１内の一次純水は、ポンプ２によりまずＵＶ酸
化装置３でＵＶ酸化により有機物が分解された後、イオ
ン交換装置４でイオン性不純物が除去され、更に膜脱気
装置５で脱気処理され、最後にＵＦ膜分離装置７で微細
な不純物が除去されることで高純度化される。
【００１６】膜脱気装置５は、脱気膜を介して給水室と
減圧室とが画成され、減圧室を真空ポンプ６で真空引き
することにより脱気する一般的な膜脱気装置を用いるこ
とができる。また、真空ポンプ６についても特に制限は
なく、インバーター付きで回転数の制御で真空度の調節
ができるものであれば良い。
減圧室とが画成され、減圧室を真空ポンプ６で真空引き
することにより脱気する一般的な膜脱気装置を用いるこ
とができる。また、真空ポンプ６についても特に制限は
なく、インバーター付きで回転数の制御で真空度の調節
ができるものであれば良い。
【００１７】本発明では、溶存酸素濃度５０ｐｐｂ以下
の水を脱気処理し、脱気処理水（図１ではＵＦ膜分離装
置７の流出水）の溶存窒素濃度をＮ2 計（溶存窒素ガス
濃度計）８で測定し、この測定値に基いて膜脱気装置５
の減圧室を真空引きする真空ポンプ６の真空度を制御す
ることにより、脱気処理後の溶存窒素濃度を調整する。
なお、Ｎ2 計８としては、市販品を用いることができ
る。
の水を脱気処理し、脱気処理水（図１ではＵＦ膜分離装
置７の流出水）の溶存窒素濃度をＮ2 計（溶存窒素ガス
濃度計）８で測定し、この測定値に基いて膜脱気装置５
の減圧室を真空引きする真空ポンプ６の真空度を制御す
ることにより、脱気処理後の溶存窒素濃度を調整する。
なお、Ｎ2 計８としては、市販品を用いることができ
る。
【００１８】この膜脱気装置５に導入される水の溶存酸
素濃度が５０ｐｐｂを超える水であると、膜脱気装置５
で主に溶存酸素の脱気が行われることになり、脱気処理
における真空度を制御しても、溶存酸素濃度が変化する
のみで溶存窒素濃度を調節することはできない。従っ
て、膜脱気装置５の給水の溶存酸素濃度は５０ｐｐｂ以
下とする。
素濃度が５０ｐｐｂを超える水であると、膜脱気装置５
で主に溶存酸素の脱気が行われることになり、脱気処理
における真空度を制御しても、溶存酸素濃度が変化する
のみで溶存窒素濃度を調節することはできない。従っ
て、膜脱気装置５の給水の溶存酸素濃度は５０ｐｐｂ以
下とする。
【００１９】一般に、サブシステムにおいては、膜脱気
装置の前段に溶存酸素を除去する手段は存在しないこと
から、本発明においては、サブシステムに導入される一
次純水の溶存酸素濃度が５０ｐｐｂ以下となるように一
次純水製造設備の処理条件を制御する。膜脱気装置５の
給水の好ましい溶存酸素濃度は、３０ｐｐｂ以下であ
る。
装置の前段に溶存酸素を除去する手段は存在しないこと
から、本発明においては、サブシステムに導入される一
次純水の溶存酸素濃度が５０ｐｐｂ以下となるように一
次純水製造設備の処理条件を制御する。膜脱気装置５の
給水の好ましい溶存酸素濃度は、３０ｐｐｂ以下であ
る。
【００２０】なお、膜脱気処理における水温には特に制
限はないが、２０〜７０℃であることが、脱気性能及び
膜の耐熱性の点で好ましい。
限はないが、２０〜７０℃であることが、脱気性能及び
膜の耐熱性の点で好ましい。
【００２１】図１に示す超純水製造装置は本発明の超純
水製造装置の一実施例であって、サブシステムの構成等
は何ら図示のものに限定されるものではない。また、Ｎ
2 計８は膜脱気装置５の出口部分に設けることもできる
が、不純物による測定誤差を低減するために、ＵＦ膜分
離装置７の出口部分に設けるのが好ましい。
水製造装置の一実施例であって、サブシステムの構成等
は何ら図示のものに限定されるものではない。また、Ｎ
2 計８は膜脱気装置５の出口部分に設けることもできる
が、不純物による測定誤差を低減するために、ＵＦ膜分
離装置７の出口部分に設けるのが好ましい。
【００２２】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をよ
り具体的に説明する。
り具体的に説明する。
【００２３】実施例１ 厚木市水をＲＯ膜分離装置、真空脱気装置及び混床式イ
オン交換装置で処理して得られた表１に示す水質の一次
純水（水温２５℃）を、膜脱気装置（ヘキスト社脱気膜
「リキセル」（２インチ）使用）に通水し、真空ポンプ
で所定の真空度に真空引きすると共に、流出水の溶存酸
素及び溶存窒素濃度をそれぞれ溶存酸素濃度計（東亜電
波製ＤＯ−３０Ａ）及び溶存窒素濃度計（オーピスフェ
アーラボラトリー社製「Ｍｏｄｅｌ ３６２１」）で測
定した。
オン交換装置で処理して得られた表１に示す水質の一次
純水（水温２５℃）を、膜脱気装置（ヘキスト社脱気膜
「リキセル」（２インチ）使用）に通水し、真空ポンプ
で所定の真空度に真空引きすると共に、流出水の溶存酸
素及び溶存窒素濃度をそれぞれ溶存酸素濃度計（東亜電
波製ＤＯ−３０Ａ）及び溶存窒素濃度計（オーピスフェ
アーラボラトリー社製「Ｍｏｄｅｌ ３６２１」）で測
定した。
【００２４】このときの真空度と溶存酸素及び溶存窒素
濃度との関係を表１に示す。
濃度との関係を表１に示す。
【００２５】比較例１ 実施例１において、表１に示す水質の一次純水を膜脱気
装置に供給したこと以外は同様に行って、結果を表１に
示した。
装置に供給したこと以外は同様に行って、結果を表１に
示した。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１より、溶存酸素の低い一次純水であれ
ば、膜脱気装置の真空度を調節することにより、容易に
溶存窒素濃度を制御することができることがわかる。
ば、膜脱気装置の真空度を調節することにより、容易に
溶存窒素濃度を制御することができることがわかる。
【００２８】本実施例では、真空度を１０〜３０Ｔｏｒ
ｒの範囲で制御することにより、溶存窒素濃度を７００
〜４０００ｐｐｂの範囲で調節しているが、真空度を更
に低下させ５〜１０Ｔｏｒｒの範囲で制御することによ
り溶存窒素濃度を１００〜１０００ｐｐｂの範囲で調節
することもできた。
ｒの範囲で制御することにより、溶存窒素濃度を７００
〜４０００ｐｐｂの範囲で調節しているが、真空度を更
に低下させ５〜１０Ｔｏｒｒの範囲で制御することによ
り溶存窒素濃度を１００〜１０００ｐｐｂの範囲で調節
することもできた。
【００２９】
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の超純水製造
装置によれば、従来、制御対象とされていなかった超純
水中の溶存窒素濃度を容易に制御することができ、目的
に応じて所望の溶存窒素濃度の超純水を供給することが
できる。
装置によれば、従来、制御対象とされていなかった超純
水中の溶存窒素濃度を容易に制御することができ、目的
に応じて所望の溶存窒素濃度の超純水を供給することが
できる。
【図１】本発明の超純水製造装置の実施の形態を示す系
統図である。
統図である。
１ タンク ３ ＵＶ酸化装置 ４ イオン交換装置 ５ 膜脱気装置 ６ 真空ポンプ ７ ＵＦ膜分離装置 ８ Ｎ2 計
Claims (1)
- 【請求項１】 溶存酸素濃度５０ｐｐｂ以下の一次純水
を窒素封入下に貯留する一次純水貯留槽と、この一次純
水を更に高純度化するサブシステムとを有する超純水製
造装置であって、 該サブシステムは、ガス分離膜を介して一次純水中の溶
存ガスを吸引除去するガス分離膜装置と、該ガス分離膜
装置と連絡された真空ポンプと、前記ガス分離膜装置か
らの流出水中の溶存窒素ガス濃度を測定する溶存窒素ガ
ス濃度計と、該溶存窒素ガス濃度計の測定値に基いて前
記真空ポンプの真空度を制御する制御装置とを備えてな
ることを特徴とする超純水製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11812597A JPH10309566A (ja) | 1997-05-08 | 1997-05-08 | 超純水製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11812597A JPH10309566A (ja) | 1997-05-08 | 1997-05-08 | 超純水製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10309566A true JPH10309566A (ja) | 1998-11-24 |
Family
ID=14728664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11812597A Pending JPH10309566A (ja) | 1997-05-08 | 1997-05-08 | 超純水製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10309566A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005089919A1 (ja) * | 2004-03-24 | 2005-09-29 | Kurita Water Industries Ltd. | 窒素溶解水の製造装置 |
| JP2012254428A (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-27 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造方法及び装置 |
| CN103116345A (zh) * | 2013-02-06 | 2013-05-22 | 林莹陈 | 超纯水机全自动控制系统及控制方法 |
| JP5324913B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2013-10-23 | アークレイ株式会社 | 脱気装置およびそれを備えた液体クロマトグラフィ装置 |
| CN106115831A (zh) * | 2016-06-30 | 2016-11-16 | 东软安德医疗科技有限公司 | 一种纯水供给装置 |
-
1997
- 1997-05-08 JP JP11812597A patent/JPH10309566A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005089919A1 (ja) * | 2004-03-24 | 2005-09-29 | Kurita Water Industries Ltd. | 窒素溶解水の製造装置 |
| JP2005270793A (ja) * | 2004-03-24 | 2005-10-06 | Kurita Water Ind Ltd | 窒素溶解水の製造装置 |
| JP5324913B2 (ja) * | 2006-02-16 | 2013-10-23 | アークレイ株式会社 | 脱気装置およびそれを備えた液体クロマトグラフィ装置 |
| JP2012254428A (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-27 | Japan Organo Co Ltd | 超純水製造方法及び装置 |
| CN103116345A (zh) * | 2013-02-06 | 2013-05-22 | 林莹陈 | 超纯水机全自动控制系统及控制方法 |
| CN106115831A (zh) * | 2016-06-30 | 2016-11-16 | 东软安德医疗科技有限公司 | 一种纯水供给装置 |
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