JPH10301499A - ブランクス又はブラックマトリクス及びこれらの製造方法 - Google Patents

ブランクス又はブラックマトリクス及びこれらの製造方法

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佐々木　　貴英
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昭彦 悳
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Kousuke Ueyama
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6383695B1 (en) * 2000-07-27 2002-05-07 Asahi Glass Company, Limited Black matrix for liquid crystal display devices and color filter
WO2007007483A1 (ja) * 2005-07-11 2007-01-18 Sharp Kabushiki Kaisha 表示装置
JP2007063041A (ja) * 2005-08-30 2007-03-15 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 複合酸化物黒色粒子、その製造方法、黒色塗料およびブラックマトリックス
WO2007125875A1 (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Asahi Glass Co., Ltd. ブランクス、ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ
CN100403063C (zh) * 2003-04-25 2008-07-16 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 黑色矩阵、彩色滤光片和液晶显示装置
JP2010008680A (ja) * 2008-06-26 2010-01-14 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc ブラックマトリックス表面処理用水溶液及びブラックマトリックスの表面処理方法
WO2010070929A1 (ja) * 2008-12-19 2010-06-24 シャープ株式会社 基板および基板を備えた表示パネル
JP2013147734A (ja) * 2011-12-22 2013-08-01 Hitachi Metals Ltd Ｍｏ合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびＭｏ合金スパッタリングターゲット材
CN103993262A (zh) * 2013-02-20 2014-08-20 日立金属株式会社 金属薄膜以及金属薄膜形成用Mo合金溅射靶材
CN104425416A (zh) * 2013-09-10 2015-03-18 日立金属株式会社 层叠布线膜和其制造方法以及Ni合金溅射靶材
KR20160002870A (ko) 2013-04-30 2016-01-08 도판 인사츠 가부시키가이샤 표시 장치용 기판, 표시 장치용 기판의 제조 방법 및 표시 장치
WO2016015352A1 (zh) * 2014-07-31 2016-02-04 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器及液晶显示器的制造方法
JP2016027195A (ja) * 2014-06-27 2016-02-18 三菱マテリアル株式会社 スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、積層配線膜

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100758861B1 (ko) * 2000-07-27 2007-09-14 아사히 가라스 가부시키가이샤 액정 디스플레이 장치용 블랙 매트릭스 및 컬러필터
US6383695B1 (en) * 2000-07-27 2002-05-07 Asahi Glass Company, Limited Black matrix for liquid crystal display devices and color filter
CN100403063C (zh) * 2003-04-25 2008-07-16 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 黑色矩阵、彩色滤光片和液晶显示装置
US8134544B2 (en) 2005-07-11 2012-03-13 Sharp Kabushiki Kaisha Display device
JPWO2007007483A1 (ja) * 2005-07-11 2009-01-29 シャープ株式会社 表示装置
WO2007007483A1 (ja) * 2005-07-11 2007-01-18 Sharp Kabushiki Kaisha 表示装置
JP2007063041A (ja) * 2005-08-30 2007-03-15 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd 複合酸化物黒色粒子、その製造方法、黒色塗料およびブラックマトリックス
JPWO2007125875A1 (ja) * 2006-04-24 2009-09-10 旭硝子株式会社 ブランクス、ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ
WO2007125875A1 (ja) * 2006-04-24 2007-11-08 Asahi Glass Co., Ltd. ブランクス、ブラックマトリクスおよびカラーフィルタ
JP2010008680A (ja) * 2008-06-26 2010-01-14 Mitsubishi Gas Chemical Co Inc ブラックマトリックス表面処理用水溶液及びブラックマトリックスの表面処理方法
US8687153B2 (en) 2008-12-19 2014-04-01 Sharp Kabushiki Kaisha Substrate, and display panel provided with substrate
WO2010070929A1 (ja) * 2008-12-19 2010-06-24 シャープ株式会社 基板および基板を備えた表示パネル
JP5209063B2 (ja) * 2008-12-19 2013-06-12 シャープ株式会社 基板および基板を備えた表示パネル
JP2013147734A (ja) * 2011-12-22 2013-08-01 Hitachi Metals Ltd Ｍｏ合金スパッタリングターゲット材の製造方法およびＭｏ合金スパッタリングターゲット材
CN103993262A (zh) * 2013-02-20 2014-08-20 日立金属株式会社 金属薄膜以及金属薄膜形成用Mo合金溅射靶材
KR20140104358A (ko) * 2013-02-20 2014-08-28 히타치 긴조쿠 가부시키가이샤 금속 박막 및 금속 박막 형성용 Mo 합금 스퍼터링 타깃재
CN103993262B (zh) * 2013-02-20 2016-04-06 日立金属株式会社 金属薄膜以及金属薄膜形成用Mo合金溅射靶材
KR20160002870A (ko) 2013-04-30 2016-01-08 도판 인사츠 가부시키가이샤 표시 장치용 기판, 표시 장치용 기판의 제조 방법 및 표시 장치
CN104425416A (zh) * 2013-09-10 2015-03-18 日立金属株式会社 层叠布线膜和其制造方法以及Ni合金溅射靶材
JP2015079941A (ja) * 2013-09-10 2015-04-23 日立金属株式会社 積層配線膜およびその製造方法ならびにＮｉ合金スパッタリングターゲット材
JP2016027195A (ja) * 2014-06-27 2016-02-18 三菱マテリアル株式会社 スパッタリングターゲット、光学機能膜、及び、積層配線膜
WO2016015352A1 (zh) * 2014-07-31 2016-02-04 深圳市华星光电技术有限公司 液晶显示器及液晶显示器的制造方法

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