JPH1029959A - ４−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法 - Google Patents
４−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法Info
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- JPH1029959A JPH1029959A JP8205219A JP20521996A JPH1029959A JP H1029959 A JPH1029959 A JP H1029959A JP 8205219 A JP8205219 A JP 8205219A JP 20521996 A JP20521996 A JP 20521996A JP H1029959 A JPH1029959 A JP H1029959A
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- activated carbon
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 安全にかつ温和な反応条件で４−ヒドロキシ
シクロヘキサノンを製造でき、しかも反応終了後に反応
系から４−ヒドロキシシクロヘキサノンを容易に分離抽
出することができる４−ヒドロキシシクロヘキサノンの
製造法を提供すること。 【解決手段】 ヒドロキノンをパラジウム触媒の存在下
に水素化して４−ヒドロキシシクロヘキサノンを製造す
る方法において、パラジウム触媒としてパラジウム活性
炭担持触媒を用い、当該水素化を酸触媒作用を有する化
合物を含有する炭化水素系溶媒中で行う。
シクロヘキサノンを製造でき、しかも反応終了後に反応
系から４−ヒドロキシシクロヘキサノンを容易に分離抽
出することができる４−ヒドロキシシクロヘキサノンの
製造法を提供すること。 【解決手段】 ヒドロキノンをパラジウム触媒の存在下
に水素化して４−ヒドロキシシクロヘキサノンを製造す
る方法において、パラジウム触媒としてパラジウム活性
炭担持触媒を用い、当該水素化を酸触媒作用を有する化
合物を含有する炭化水素系溶媒中で行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ヒドロキノンを水
素化して４−ヒドロキシシクロヘキサノンを製造する方
法に関する。本発明の製造法により得られる４−ヒドロ
キシシクロヘキサノンは各種医薬、工業薬品などの原料
として有用な物質である。
素化して４−ヒドロキシシクロヘキサノンを製造する方
法に関する。本発明の製造法により得られる４−ヒドロ
キシシクロヘキサノンは各種医薬、工業薬品などの原料
として有用な物質である。
【０００２】従来より、４−ヒドロキシシクロヘキサノ
ンの製造法としては、たとえば、1，４−シクロヘキサ
ンジオールをジョーンズ・サンドマイヤー法により酸化
する方法や、次亜塩素酸類などにより酸化する製造する
方法が古くから知られている。しかしながら、これら酸
化反応においては爆発の危険性が大きく、また高価な酸
化試薬を量論的に用いなければならない不利がある。
ンの製造法としては、たとえば、1，４−シクロヘキサ
ンジオールをジョーンズ・サンドマイヤー法により酸化
する方法や、次亜塩素酸類などにより酸化する製造する
方法が古くから知られている。しかしながら、これら酸
化反応においては爆発の危険性が大きく、また高価な酸
化試薬を量論的に用いなければならない不利がある。
【０００３】一方、ヒドロキノンを水素化して４−ヒド
ロキシシクロヘキサノンを製造する方法もいくつか知ら
れている。たとえば、水素化触媒としてロジウムまたは
白金触媒を用い、酢酸またはアルコール溶媒中でヒドロ
キノンを水素化する方法が報告されている（Ｊｏｕｎａ
ｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏ
ｃｉａｔｉｅｓ、８３巻、２７３９−４３頁（１９６
１））。しかし、当該報告には４−ヒドロキシシクロヘ
キサノンの明確な収率が示されていない。しかもロジウ
ムまたは白金という高価な金属を触媒として用いる不利
がある。
ロキシシクロヘキサノンを製造する方法もいくつか知ら
れている。たとえば、水素化触媒としてロジウムまたは
白金触媒を用い、酢酸またはアルコール溶媒中でヒドロ
キノンを水素化する方法が報告されている（Ｊｏｕｎａ
ｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏ
ｃｉａｔｉｅｓ、８３巻、２７３９−４３頁（１９６
１））。しかし、当該報告には４−ヒドロキシシクロヘ
キサノンの明確な収率が示されていない。しかもロジウ
ムまたは白金という高価な金属を触媒として用いる不利
がある。
【０００４】また、水素化触媒としてパラジウム触媒を
用い、水中でヒドロキノンを水素化する方法（特公昭６
２−１９４１１号公報）も報告されている。かかる方法
は、４−ヒドロキシシクロヘキサノンの収率が８６％と
反応方法としては優れている。しかし、水を溶媒として
いるため、反応後において反応生成物から４−ヒドロキ
シシクロヘキサノンを分離抽出することが極めて困難で
あるという不利がある。なお、水素化触媒としてパラジ
ウム触媒を用い、炭化水素系溶媒中でヒドロキノンを水
素化する方法（特開平３−１０９３４６号公報）が報告
されているが、かかる方法では４−ヒドロキシシクロヘ
キサノンは得られず、シクロヘキサン−１，４−ジオン
が得られている。
用い、水中でヒドロキノンを水素化する方法（特公昭６
２−１９４１１号公報）も報告されている。かかる方法
は、４−ヒドロキシシクロヘキサノンの収率が８６％と
反応方法としては優れている。しかし、水を溶媒として
いるため、反応後において反応生成物から４−ヒドロキ
シシクロヘキサノンを分離抽出することが極めて困難で
あるという不利がある。なお、水素化触媒としてパラジ
ウム触媒を用い、炭化水素系溶媒中でヒドロキノンを水
素化する方法（特開平３−１０９３４６号公報）が報告
されているが、かかる方法では４−ヒドロキシシクロヘ
キサノンは得られず、シクロヘキサン−１，４−ジオン
が得られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、安全にかつ
温和な反応条件で４−ヒドロキシシクロヘキサノンを製
造でき、しかも反応終了後に反応系から４−ヒドロキシ
シクロヘキサノンを容易に分離抽出することができる４
−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法を提供すること
を目的とする。
温和な反応条件で４−ヒドロキシシクロヘキサノンを製
造でき、しかも反応終了後に反応系から４−ヒドロキシ
シクロヘキサノンを容易に分離抽出することができる４
−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法を提供すること
を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記従来
技術の課題を解決すべく、水素化反応触媒としてパラジ
ウム触媒を用いたヒドロキノンの水素化について鋭意研
究を重ねた。その結果、パラジウム触媒のなかでも特に
パラジウム活性炭担持触媒を用い、反応系から目的物で
ある４−ヒドロキシシクロヘキサノンの分離抽出が容易
な炭化水素系溶媒中において、酸触媒作用を有する化合
物を存在させた条件下でヒドロキノンの水素化を行え
ば、安全にかつ温和な反応条件でヒドロキノンより４−
ヒドロキシシクロヘキサノンが得られることを見出し本
発明を完成するに至った。
技術の課題を解決すべく、水素化反応触媒としてパラジ
ウム触媒を用いたヒドロキノンの水素化について鋭意研
究を重ねた。その結果、パラジウム触媒のなかでも特に
パラジウム活性炭担持触媒を用い、反応系から目的物で
ある４−ヒドロキシシクロヘキサノンの分離抽出が容易
な炭化水素系溶媒中において、酸触媒作用を有する化合
物を存在させた条件下でヒドロキノンの水素化を行え
ば、安全にかつ温和な反応条件でヒドロキノンより４−
ヒドロキシシクロヘキサノンが得られることを見出し本
発明を完成するに至った。
【０００７】すなわち、本発明は、ヒドロキノンをパラ
ジウム触媒の存在下に水素化して４−ヒドロキシシクロ
ヘキサノンを製造する方法において、パラジウム触媒と
してパラジウム活性炭担持触媒を用い、当該水素化を酸
触媒作用を有する化合物を含有する炭化水素系溶媒中で
行うことを特徴とする４−ヒドロキシシクロヘキサノン
の製造法に関する。
ジウム触媒の存在下に水素化して４−ヒドロキシシクロ
ヘキサノンを製造する方法において、パラジウム触媒と
してパラジウム活性炭担持触媒を用い、当該水素化を酸
触媒作用を有する化合物を含有する炭化水素系溶媒中で
行うことを特徴とする４−ヒドロキシシクロヘキサノン
の製造法に関する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の製造法においては、パラ
ジウム触媒を活性炭に担持したパラジウム活性炭担持触
媒であれば各種のものを特に限定なく使用できるが、パ
ラジウム活性炭担持触媒は、活性炭の種類または触媒に
施す処理により、４−ヒドロキシシクロヘキサノンの収
率および副生する1 ，４−シクロヘキサンジオールの生
成量に影響を及ぼすため、特に以下に示すようなものが
好ましい。たとえば、木材より作られ水蒸気賦活処理に
より活性化された活性炭であって、その比表面積が１グ
ラムあたり１１００〜１３００平方メートルの範囲にあ
る活性炭を用いたパラジウム活性炭担持触媒は、他の活
性炭を用いたパラジウム活性炭担時触媒に比べて、４−
ヒドロキシシクロヘキサノンの収率が高い。また、硫黄
被毒処理によって水素化活性を減少させたパラジウム活
性炭担持触媒は、硫黄被毒処理濃度の増加に従って、副
生物の１，４−シクロヘキサンジオールの生成量が減少
し、かつ４−ヒドロキシシクロヘキサノンの生成量が増
加する。ただし、パラジウム活性炭担持触媒の硫黄被毒
処理濃度が高い場合には水素化活性がなくなってしまう
ので、硫黄被毒処理濃度は水素化活性を減少させた程度
にする必要がある。通常、硫黄被毒処理濃度は、パラジ
ウム金属原子１モルに対し、被毒に用いる硫黄化合物
（たとえば、チオフェン等）中の硫黄原子が１００００
モルｐｐｍ以下となる範囲である。好ましくは、５０〜
３０００ｐｐｍとなる範囲、より好ましくは１００〜１
０００ｐｐｍとなる範囲である。
ジウム触媒を活性炭に担持したパラジウム活性炭担持触
媒であれば各種のものを特に限定なく使用できるが、パ
ラジウム活性炭担持触媒は、活性炭の種類または触媒に
施す処理により、４−ヒドロキシシクロヘキサノンの収
率および副生する1 ，４−シクロヘキサンジオールの生
成量に影響を及ぼすため、特に以下に示すようなものが
好ましい。たとえば、木材より作られ水蒸気賦活処理に
より活性化された活性炭であって、その比表面積が１グ
ラムあたり１１００〜１３００平方メートルの範囲にあ
る活性炭を用いたパラジウム活性炭担持触媒は、他の活
性炭を用いたパラジウム活性炭担時触媒に比べて、４−
ヒドロキシシクロヘキサノンの収率が高い。また、硫黄
被毒処理によって水素化活性を減少させたパラジウム活
性炭担持触媒は、硫黄被毒処理濃度の増加に従って、副
生物の１，４−シクロヘキサンジオールの生成量が減少
し、かつ４−ヒドロキシシクロヘキサノンの生成量が増
加する。ただし、パラジウム活性炭担持触媒の硫黄被毒
処理濃度が高い場合には水素化活性がなくなってしまう
ので、硫黄被毒処理濃度は水素化活性を減少させた程度
にする必要がある。通常、硫黄被毒処理濃度は、パラジ
ウム金属原子１モルに対し、被毒に用いる硫黄化合物
（たとえば、チオフェン等）中の硫黄原子が１００００
モルｐｐｍ以下となる範囲である。好ましくは、５０〜
３０００ｐｐｍとなる範囲、より好ましくは１００〜１
０００ｐｐｍとなる範囲である。
【０００９】前記パラジウム活性炭担持触媒におけるパ
ラジウムの担持率は、特に制限はないが、反応速度およ
び経済的効果を勘案すると、０．０１〜２５重量％程
度、好ましくは０．１〜１０重量％である。０．０１重
量％を下回る場合には反応速度が低下し反応時間が長く
なり傾向があり。２５重量％を超える場合には不経済で
ある。
ラジウムの担持率は、特に制限はないが、反応速度およ
び経済的効果を勘案すると、０．０１〜２５重量％程
度、好ましくは０．１〜１０重量％である。０．０１重
量％を下回る場合には反応速度が低下し反応時間が長く
なり傾向があり。２５重量％を超える場合には不経済で
ある。
【００１０】また、パラジウム活性炭担持触媒触媒の使
用量は、特に制限はないが、反応速度および経済効果を
勘案すると、原料のヒドロキノンの重量に対し、０．０
１〜４０重量％程度、好ましくは０．１〜１０重量％で
ある。０．０１重量％を下回る場合には反応速度が低下
し反応時間が長くなり傾向があり。４０重量％を超える
場合には不経済である。
用量は、特に制限はないが、反応速度および経済効果を
勘案すると、原料のヒドロキノンの重量に対し、０．０
１〜４０重量％程度、好ましくは０．１〜１０重量％で
ある。０．０１重量％を下回る場合には反応速度が低下
し反応時間が長くなり傾向があり。４０重量％を超える
場合には不経済である。
【００１１】本発明で用いる炭化水素系溶媒は、反応終
了後に反応系から４−ヒドロキシシクロヘキサノンを容
易に分離抽出することができるものであれば特に制限は
ない。このような炭化水素系溶媒としては、たとえば、
メシチレン、キシレン、ベンゼン、トルエン、エチルベ
ンゼン、イソブチルベンゼン、テトラリンなどの各種芳
香族系炭化水素、デカリン、ｎ−ヘプタン、２−メチル
ヘキサン、２−エチルペンタン、２，４−ジメチルペン
タンなどの各種環状または鎖状の炭化水素などがあげら
れる。本発明では、これら各種の炭化水素系溶媒のなか
でもメシチレンを使用するのが好ましい。
了後に反応系から４−ヒドロキシシクロヘキサノンを容
易に分離抽出することができるものであれば特に制限は
ない。このような炭化水素系溶媒としては、たとえば、
メシチレン、キシレン、ベンゼン、トルエン、エチルベ
ンゼン、イソブチルベンゼン、テトラリンなどの各種芳
香族系炭化水素、デカリン、ｎ−ヘプタン、２−メチル
ヘキサン、２−エチルペンタン、２，４−ジメチルペン
タンなどの各種環状または鎖状の炭化水素などがあげら
れる。本発明では、これら各種の炭化水素系溶媒のなか
でもメシチレンを使用するのが好ましい。
【００１２】酸触媒作用を有する化合物としては、一般
的に酸触媒として作用する各種鉱酸や固体酸などを特に
制限なく使用できる。たとえば、前記鉱酸としては硫
酸、塩酸、硝酸などがあげられ、固体酸としては固体酸
点を有する合成雲母、アルミナ、シリカアルミナ、シリ
カ、チタニア、タングステン酸、酸化バナジウム、酸化
ニオブ、酸化タンタルなどの金属酸化物があげられる。
本発明では、これら酸触媒作用を有する化合物のなかで
も、反応時の反応器への影響が少なく、反応後処理の分
離が容易な固体酸を使用するのが好ましい。特に固体酸
点を有する合成雲母を使用するのが好ましい。
的に酸触媒として作用する各種鉱酸や固体酸などを特に
制限なく使用できる。たとえば、前記鉱酸としては硫
酸、塩酸、硝酸などがあげられ、固体酸としては固体酸
点を有する合成雲母、アルミナ、シリカアルミナ、シリ
カ、チタニア、タングステン酸、酸化バナジウム、酸化
ニオブ、酸化タンタルなどの金属酸化物があげられる。
本発明では、これら酸触媒作用を有する化合物のなかで
も、反応時の反応器への影響が少なく、反応後処理の分
離が容易な固体酸を使用するのが好ましい。特に固体酸
点を有する合成雲母を使用するのが好ましい。
【００１３】前記酸触媒作用を有する化合物の使用量
は、特に制限はないが、反応効率および経済効果を勘案
すると、原料のヒドロキノンの重量に対し、０．００１
〜４０重量％程度、好ましくは０．０１〜１０重量％で
ある。０．００１重量％を下回る場合には反応効率が低
下する傾向がある。４０重量％を超える場合には不経済
である。
は、特に制限はないが、反応効率および経済効果を勘案
すると、原料のヒドロキノンの重量に対し、０．００１
〜４０重量％程度、好ましくは０．０１〜１０重量％で
ある。０．００１重量％を下回る場合には反応効率が低
下する傾向がある。４０重量％を超える場合には不経済
である。
【００１４】水素化反応は、水素雰囲気下、水素流通下
または水素圧力下で進行させる。反応時の水素圧力、反
応器中の水素の状態に特に制限はないが、反応効率と反
応設備の面より考えて水素圧力は１〜２０気圧程度が好
ましい。好ましくは１〜１０気圧である。なお、本記述
は減圧条件を排除するものではないが１気圧未満の場合
には減圧水素を作り出す装置が必要となるため不経済で
あり、２０気圧を超える場合にはそれだけより高い加圧
水素が必要であるため不経済である。
または水素圧力下で進行させる。反応時の水素圧力、反
応器中の水素の状態に特に制限はないが、反応効率と反
応設備の面より考えて水素圧力は１〜２０気圧程度が好
ましい。好ましくは１〜１０気圧である。なお、本記述
は減圧条件を排除するものではないが１気圧未満の場合
には減圧水素を作り出す装置が必要となるため不経済で
あり、２０気圧を超える場合にはそれだけより高い加圧
水素が必要であるため不経済である。
【００１５】水素化反応温度は、反応速度より考えて、
５０℃〜３００℃が好ましい。さらに好ましくは１２５
〜２００℃である。反応温度が５０℃以下となると反応
速度が低下し、反応完結にかかる時間が長くなる傾向が
ある。また３００℃を超えると加熱に要する経費ならび
に冷却に要する経費が多くなり不経済である。なお、反
応系には、原料のヒドロキノン濃度が、通常、１〜３５
重量％程度になるように仕込む。
５０℃〜３００℃が好ましい。さらに好ましくは１２５
〜２００℃である。反応温度が５０℃以下となると反応
速度が低下し、反応完結にかかる時間が長くなる傾向が
ある。また３００℃を超えると加熱に要する経費ならび
に冷却に要する経費が多くなり不経済である。なお、反
応系には、原料のヒドロキノン濃度が、通常、１〜３５
重量％程度になるように仕込む。
【００１６】水素化反応に用いる装置は、反応水素圧力
および反応温度によって適宜選択すればよい。たとえ
ば、加圧条件では、オートクレーブなどの耐圧容器を用
い、常圧条件では、水素の流通が可能な装置を用いる。
装置の形状は特に限定されない。
および反応温度によって適宜選択すればよい。たとえ
ば、加圧条件では、オートクレーブなどの耐圧容器を用
い、常圧条件では、水素の流通が可能な装置を用いる。
装置の形状は特に限定されない。
【００１７】反応終了後には、酢酸エチル等により、反
応生成物から４−ヒドロキシシクロヘキサノンを容易に
分離抽出することができる。また、分離抽出物が、目的
物である４−ヒドロキシシクロヘキサノンの他に、1 ，
４−シクロヘキサンジオール等の副生物を含む場合に
は、蒸留、再結晶、カラムクロマト等により精製して、
目的物の４−ヒドロキシシクロヘキサノンを単離でき
る。
応生成物から４−ヒドロキシシクロヘキサノンを容易に
分離抽出することができる。また、分離抽出物が、目的
物である４−ヒドロキシシクロヘキサノンの他に、1 ，
４−シクロヘキサンジオール等の副生物を含む場合に
は、蒸留、再結晶、カラムクロマト等により精製して、
目的物の４−ヒドロキシシクロヘキサノンを単離でき
る。
【００１８】
【実施例】以下に実施例をあげて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。なお、％は特記しない限りいずれも重量基準
である。
に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもの
ではない。なお、％は特記しない限りいずれも重量基準
である。
【００１９】製造例１（固体酸点を有する合成雲母の調
製） 合成雲母（トピー工業社製、商品名：１０％Ｎａ−ＴＳ
ゾル）１００ｇを蒸留水６００ｍｌで希釈し１．４％ゾ
ルとした。室温で激しく撹拌しながら、この中に硝酸ア
ルミニウム４．７６ｇを蒸留水４０ｍｌに溶解させた溶
液を一度に加え、５分間撹拌した。イオン交換により合
成雲母は限定膨張型になり、イオン交換体は凝集し沈殿
となった。この沈殿をすぐ、遠心分離器により濾別し、
濾布上で蒸留水４００ｍｌに分散する洗浄操作を５回行
った。洗浄後の含水Ａｌ3+合成雲母をアセトン２００ｍ
ｌに分散させ室温で３０分撹拌した後に濾過した。濾物
を再びアセトン１００ｍｌに分散し室温で３０分間撹拌
後濾過した。この濾物を真空デシケータを用いて室温で
乾燥し、固体酸点を有する合成雲母を調製した。
製） 合成雲母（トピー工業社製、商品名：１０％Ｎａ−ＴＳ
ゾル）１００ｇを蒸留水６００ｍｌで希釈し１．４％ゾ
ルとした。室温で激しく撹拌しながら、この中に硝酸ア
ルミニウム４．７６ｇを蒸留水４０ｍｌに溶解させた溶
液を一度に加え、５分間撹拌した。イオン交換により合
成雲母は限定膨張型になり、イオン交換体は凝集し沈殿
となった。この沈殿をすぐ、遠心分離器により濾別し、
濾布上で蒸留水４００ｍｌに分散する洗浄操作を５回行
った。洗浄後の含水Ａｌ3+合成雲母をアセトン２００ｍ
ｌに分散させ室温で３０分撹拌した後に濾過した。濾物
を再びアセトン１００ｍｌに分散し室温で３０分間撹拌
後濾過した。この濾物を真空デシケータを用いて室温で
乾燥し、固体酸点を有する合成雲母を調製した。
【００２０】実施例１ 還流管を備えた１００ｍｌのガラス製三つ口フラスコに
ヒドロキノン４ｇ、製造例１で調製した合成雲母０．２
ｇ、パラジウム活性炭担持触媒（木材より作られ水蒸気
賦活処理により活性化された活性炭であって、その比表
面積が１グラムあたり１２００平方メートルのものに、
パラジウムを５％担持したもの）０．２ｇおよびメシチ
レン４０ｍｌを加え、反応容器内を窒素ガスで十分置換
した後、加熱し、メシチレンの還流温度（１６４℃）ま
で反応系内の温度を上げた。メシチレンが還流を始めた
ところで水素ガスを５０ｍｌ／分で導入し、５時間反応
させた。冷却後、２−プロパノール４０ｍｌを加え、濾
過した。この濾液をガスクロマトグラフ法にて分析し
た。目的物の４−ヒドロキシシクロヘキサノンの生成率
は原料であるヒドロキノンに対して４１モル％であっ
た。
ヒドロキノン４ｇ、製造例１で調製した合成雲母０．２
ｇ、パラジウム活性炭担持触媒（木材より作られ水蒸気
賦活処理により活性化された活性炭であって、その比表
面積が１グラムあたり１２００平方メートルのものに、
パラジウムを５％担持したもの）０．２ｇおよびメシチ
レン４０ｍｌを加え、反応容器内を窒素ガスで十分置換
した後、加熱し、メシチレンの還流温度（１６４℃）ま
で反応系内の温度を上げた。メシチレンが還流を始めた
ところで水素ガスを５０ｍｌ／分で導入し、５時間反応
させた。冷却後、２−プロパノール４０ｍｌを加え、濾
過した。この濾液をガスクロマトグラフ法にて分析し
た。目的物の４−ヒドロキシシクロヘキサノンの生成率
は原料であるヒドロキノンに対して４１モル％であっ
た。
【００２１】実施例２ ２００ｍｌのステンレス製オートクレーブ装置にヒドロ
キノン４ｇ、製造例１で調製した合成雲母０．２ｇ、パ
ラジウム活性炭担持触媒（硫黄被毒処理濃度１００ｐｐ
ｍ、パラジウム担持率５％）０．２ｇおよびメシチレン
４０ｍｌを加え、容器内を水素ガスで十分置換した後、
反応初期圧力を７．８５×１０5 Ｐａとし、１６４℃ま
で反応系内の温度を上げた。この温度に達した時、水素
圧力を９．８１×１０5 Ｐａとし、適宜圧力減少分を補
給しつつ、５時間反応させた。冷却後、２−プロパノー
ル４０ｍｌを加え、濾過した。この濾液をガスクロマト
グラフ法にて分析した。目的物の４−ヒドロキシシクロ
ヘキサノンの生成率は原料であるヒドロキノンに対して
３０モル％であった。
キノン４ｇ、製造例１で調製した合成雲母０．２ｇ、パ
ラジウム活性炭担持触媒（硫黄被毒処理濃度１００ｐｐ
ｍ、パラジウム担持率５％）０．２ｇおよびメシチレン
４０ｍｌを加え、容器内を水素ガスで十分置換した後、
反応初期圧力を７．８５×１０5 Ｐａとし、１６４℃ま
で反応系内の温度を上げた。この温度に達した時、水素
圧力を９．８１×１０5 Ｐａとし、適宜圧力減少分を補
給しつつ、５時間反応させた。冷却後、２−プロパノー
ル４０ｍｌを加え、濾過した。この濾液をガスクロマト
グラフ法にて分析した。目的物の４−ヒドロキシシクロ
ヘキサノンの生成率は原料であるヒドロキノンに対して
３０モル％であった。
【００２２】実施例３ パラジウム活性炭担持触媒の硫黄被毒処理濃度を１００
０ｐｐｍに変えた他は実施例２と同様の操作を行った。
目的物の４−ヒドロキシシクロヘキサノンの生成率は原
料であるヒドロキノンに対して４１モル％であった。
０ｐｐｍに変えた他は実施例２と同様の操作を行った。
目的物の４−ヒドロキシシクロヘキサノンの生成率は原
料であるヒドロキノンに対して４１モル％であった。
Claims (6)
- 【請求項１】 ヒドロキノンをパラジウム触媒の存在下
に水素化して４−ヒドロキシシクロヘキサノンを製造す
る方法において、パラジウム触媒としてパラジウム活性
炭担持触媒を用い、当該水素化を酸触媒作用を有する化
合物を含有する炭化水素系溶媒中で行うことを特徴とす
る４−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法。 - 【請求項２】 パラジウム活性炭担持触媒に用いる活性
炭が、木材より作られ水蒸気賦活処理により活性化され
た活性炭であって、その比表面積が１グラムあたり１１
００〜１３００平方メートルの範囲にあるものである請
求項１記載の製造法。 - 【請求項３】 パラジウム活性炭担持触媒が、硫黄被毒
処理によって水素化活性を減少させたものである請求項
１または２記載の製造法。 - 【請求項４】 酸触媒作用を有する化合物が、固体酸で
ある請求項１〜３のいずれかに記載の製造法。 - 【請求項５】 固体酸が、固体酸点を有する合成雲母で
ある請求項３記載の製造法。 - 【請求項６】 炭化水素系溶媒がメシチレンである請求
項１〜５のいずれかに記載の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205219A JPH1029959A (ja) | 1996-07-15 | 1996-07-15 | ４−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8205219A JPH1029959A (ja) | 1996-07-15 | 1996-07-15 | ４−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1029959A true JPH1029959A (ja) | 1998-02-03 |
Family
ID=16503389
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8205219A Pending JPH1029959A (ja) | 1996-07-15 | 1996-07-15 | ４−ヒドロキシシクロヘキサノンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1029959A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007238448A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-20 | Ne Chemcat Corp | 炭素−炭素結合の生成方法 |
| JP2012031190A (ja) * | 2011-09-30 | 2012-02-16 | Ne Chemcat Corp | 炭素−炭素結合の生成方法 |
-
1996
- 1996-07-15 JP JP8205219A patent/JPH1029959A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007238448A (ja) * | 2006-03-03 | 2007-09-20 | Ne Chemcat Corp | 炭素−炭素結合の生成方法 |
| JP2012031190A (ja) * | 2011-09-30 | 2012-02-16 | Ne Chemcat Corp | 炭素−炭素結合の生成方法 |
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