JPH10291964A - フタル酸ジフェニルの製造方法 - Google Patents

フタル酸ジフェニルの製造方法

Info

Publication number
JPH10291964A
JPH10291964A JP9137401A JP13740197A JPH10291964A JP H10291964 A JPH10291964 A JP H10291964A JP 9137401 A JP9137401 A JP 9137401A JP 13740197 A JP13740197 A JP 13740197A JP H10291964 A JPH10291964 A JP H10291964A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phthalate
phenol
disodium
reacting
diphenyl phthalate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP9137401A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Yago
真一 八児
Kazuyuki Watanabe
一行 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyodo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Kyodo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyodo Chemical Co Ltd filed Critical Kyodo Chemical Co Ltd
Priority to JP9137401A priority Critical patent/JPH10291964A/ja
Publication of JPH10291964A publication Critical patent/JPH10291964A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

Landscapes

  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 フタル酸ジフェニルの製造方法 【解決手段】 フェノールとフタル酸ジナトリウムをオ
キシ塩化リンの存在で反応させて、フタル酸ジフェニル
を製造する方法。本手段により、工業的に有利な方法で
目的物を製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は感熱記録材料の用途
に用いられ、高性能を発揮する固体可塑剤であるフタル
酸ジフェニルの製造法に関して、詳しくは、フタル酸ジ
ナトリウムとフェノールをオキシ塩化リンの存在で反応
させて製造する方法に関する。
【0002】感熱記録材料は、一般に紙、合成紙、プラ
スチックフィルム等の支持体に、熱発色性組成物を主成
分とする感熱発色層を設けたものであるが、該層を加熱
することにより多色の画像が得られる等の利点があり、
図書、文書等の複写に利用されている他、コンビュータ
ー、ファクシミリ、券売機等の多方面に記録材料として
利用されている。これらに使用される固体可塑剤として
フタル酸ジフェニルは有用である。
【0003】
【従来の技術】フタル酸ジフェニルを製造する方法とし
ては、無水フタル酸とフェノールを硫酸、リン酸等を触
媒として反応させて得る方法が挙げられるが、この場
合、得られる目的物の収率が極めて低く実用的ではな
い。また、フタル酸ジクロライドとフェノールを反応さ
せて得る方法(SCHREDER,B.7,705;P
AWLEWSKI,B.28,108)においては、収
率、品質は共に良好であったが、原料であるフタル酸ジ
クロライドが比較的高価であり、コスト的に満足する方
法ではない。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記の無水フタル酸と
フェノールを硫酸を触媒として150〜200℃で反応
させる方法では、得られる目的物はわずかであり、工業
的ではない。一方、フタル酸ジクロライドとフェノール
を80〜110℃で反応させる方法では、収率90%、
LC 99.0%以上で目的物が得られるが、使用する
フタル酸ジクロライドが比較的高価であり、工業的に安
価な方法を提供するものではない。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は上記の課題を解
決する方法を提供するものである。すなわち、フタル酸
ジナトリウムとフェノールをオキシ塩化リンの存在で反
応させて、フタル酸ジフェニルを製造する方法を提供す
るものである。本発明により、工業的に有利な方法で目
的物を製造することができる。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明をさらに詳しく説明する。
フタル酸ジナトリウムとフェノールのモル比は、1.5
〜5.0、好ましくは2.0〜3.0が良好である。
1.5より小さいと、生成率が小さくなり結果として収
率が低い。5.0より大きいと、未反応フェノールが多
く、反応終了後に回収する必要が生じ、結果として好ま
しくない。フタル酸ジナトリウムとオキシ塩化リンのモ
ル比は1.0〜2.0、好ましくは1.2〜1.4が良
好である。1.0より小さいと目的物の生成率が小さ
く、好ましくない。また、2.0より大きいと未反応原
料が残り、好ましくない。
【0007】反応温度は20℃〜140℃、好ましくは
30℃〜125℃が良好である。反応温度が20℃より
低いと反応速度が遅く、未反応原料が多く結果として収
率が低い。140℃より高いと目的物の色調が悪くなる
傾向があり、結果として好ましくない。
【0008】反応溶媒としては、無溶媒でも良いが、適
当な溶媒を使用することが出来る。溶媒としては、トル
エン、キシレンのような芳香族化合物、トリクロロエチ
レン、テトラクロロエチレン等の塩素系化合物、ヘプタ
ン等のパラフィン系化合物が挙げられるが、これらの混
合物でも良い。溶媒量としては、フェノールに対して0
%〜300%、好ましくは100%〜200%が良い。
溶媒量が少ないとスラリー濃度が高くなり、操作上難点
がある。200%より多いと、反応性が落ち、結果とし
て収率が悪くなる。
【0009】反応終了後は中和処理を行い、分液後、有
機層を濃縮することで目的物を得ることが出来るが、適
当な方法で精製を行い、結晶化して取り出すことも出来
る。精製溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族
化合物、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等
の塩素系化合物、エタノール、メタノール等のアルコー
ル類、ヘキサン、ヘプタン等のパラフィン系化合物が挙
げられるが、これらの混合物でも良い。
【0010】[参考例]以下に参考例としてフタル酸ジ
ナトリウムの合成例を示す。 [参考例]200ml4つ口フラスコに攪拌器、温度
計、冷却器、滴下ロートを取り付け、無水フタル酸1
4.8g(0.1mol)、トルエン100gを仕込
み、40%苛性ソーダ溶液20gを10分で滴下する。
滴下終了後、昇温して還流させ、共沸して出てくる水を
取り除きながら水分が留出しなくなるまで脱水する。こ
のことによって、液温は110℃となる。脱水が終了し
たら、冷却して析出しているフタル酸ジナトリウムをろ
別し、乾燥する。収量20.6g、収率98%で目的物
が得られる。
【0011】
【実施例】以下に実施例及び比較例により本発明の効果
を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるも
のではない。 [実施例1]200ml4つ口フラスコに攪拌器、温度
計、冷却器を取り付け、フタル酸ジナトリウム21g
(0.1mol)、フェノール18.8g(0.2mo
l)、トルエン20gを室温で仕込む。攪拌しながら、
オキシ塩化リン20.4g(0.133mol)を30
分かけて滴下する。反応熱で液温は90℃まで上昇す
る。滴下終了後、昇温して液温を125℃にし、1時間
保温する。反応終了後、トルエン20g、水80gを仕
込んで攪拌しその後静置分液する。分液後、30%水酸
化ナトリウム溶液14gを滴下して、PHを約7とす
る。静置後、分液し、水層を除いた後、水20gで有機
層を水洗、静置、分液する。その後、溶媒を除いて30
%トルエン/ヘプタン混合溶媒40gを仕込み、攪拌し
ながら冷却する。冷却後、析出した結晶をろ別し、30
%トルエン/ヘプタン混合溶媒20gで洗浄する。乾燥
終了後14.4gの結晶を得た。これは、フタル酸ジナ
トリウムより45%の収率であった。融点72.0〜7
5.0℃ LC面積百分率98.5%であった。
【0012】[比較例1]実施例1と同様な装置を用い
て無水フタル酸14.8g、フェノール18.8gを仕
込み、98%硫酸10gを仕込んで加熱し150℃〜2
00℃で10時間保温する。反応終了後LC分析する
と、面積比で約1%の目的物が生成したにすぎなかっ
た。
【0013】
【発明の効果】本発明により、フタル酸ジフェニルを安
価で製造することができる。すなわち、フタル酸ジナト
リウムとフェノールをオキシ塩化リンの存在で反応させ
ることにより、工業的に有用な固体可塑剤であるフタル
酸ジフェニルを製造することができる。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フェノールとフタル酸ジナトリウムをオ
    キシ塩化リンの存在で反応させて、フタル酸ジフェニル
    を製造する方法。
JP9137401A 1997-04-21 1997-04-21 フタル酸ジフェニルの製造方法 Withdrawn JPH10291964A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9137401A JPH10291964A (ja) 1997-04-21 1997-04-21 フタル酸ジフェニルの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9137401A JPH10291964A (ja) 1997-04-21 1997-04-21 フタル酸ジフェニルの製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10291964A true JPH10291964A (ja) 1998-11-04

Family

ID=15197795

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9137401A Withdrawn JPH10291964A (ja) 1997-04-21 1997-04-21 フタル酸ジフェニルの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10291964A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109400470A (zh) * 2018-10-30 2019-03-01 上海化工研究院有限公司 一种稳定同位素标记邻苯二甲酸二苯酯的合成方法
CN110003001A (zh) * 2019-05-08 2019-07-12 葫芦岛市载大瀛嘉化工有限公司 一种邻苯二甲酸二苯酯的制备方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109400470A (zh) * 2018-10-30 2019-03-01 上海化工研究院有限公司 一种稳定同位素标记邻苯二甲酸二苯酯的合成方法
CN109400470B (zh) * 2018-10-30 2022-03-18 上海化工研究院有限公司 一种稳定同位素标记邻苯二甲酸二苯酯的合成方法
CN110003001A (zh) * 2019-05-08 2019-07-12 葫芦岛市载大瀛嘉化工有限公司 一种邻苯二甲酸二苯酯的制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10291964A (ja) フタル酸ジフェニルの製造方法
SU671723A3 (ru) Способ получени пропан-1,2-диондиоксимов
JPS5965053A (ja) 安息香酸誘導体およびその製法
JP3876933B2 (ja) 硫酸水素エステルの製造方法
JP2759087B2 (ja) 1,4―ジヒドロキシ―2―ナフトエ酸アリールエステルの精製方法
JP2758945B2 (ja) ポリヒドロキシベンゾフェノン類の製造方法
JP3149652B2 (ja) O,o’−ジアシル酒石酸無水物の製造方法
JPS59148770A (ja) 2,4−ジクロロ−5−チアゾ−ルカルボキサルデヒドとその製造方法
JP3890543B2 (ja) グアニジン類の製造方法
JPS61151158A (ja) ベンゾイル安息香酸誘導体及びその製造法
JPH0665200A (ja) フタルイミド化合物の製造法
JPS6310149B2 (ja)
JPS5965039A (ja) 2,4−ジヒドロキシアセトフエノンの製造方法
JP3149651B2 (ja) O,o’−ジアシル酒石酸無水物の製造方法
JPS60209552A (ja) 4,4’−ビス(カルボアルコキシメチレンアミノ)ジフエニルメタンの製造法
SU1766914A1 (ru) Способ получени 2-хлор-5-(3 @ ,5 @ -дикарбометоксифенилсульфамидо)-нитробензола
JP2560431B2 (ja) 2,4−ジヒドロキシアセトフェノンの製造法
JP3547497B2 (ja) ベンゾチアゾロン化合物の製造方法
JPH1160550A (ja) スルホニルオキシトロポン類の製造方法
JPS58183669A (ja) 光学活性なプロピオン酸誘導体の製造方法
JPS63250353A (ja) テレフタル酸ジアニリド類の製造法
JPS59122449A (ja) 芳香族カルボン酸アミド誘導体の製造方法
JPS59163370A (ja) O−(アミノメチル)フエニル酢酸ラクタムの製造方法
JPS5822112B2 (ja) N−(ヒドロキシフェニル)マレイミド類の製造方法
JPS62155237A (ja) 2−(p−ブロモメチルフエニル)プロピオン酸とその製法

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20040706