JPH10287538A - 化粧品組成物 - Google Patents
化粧品組成物Info
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- JPH10287538A JPH10287538A JP10394097A JP10394097A JPH10287538A JP H10287538 A JPH10287538 A JP H10287538A JP 10394097 A JP10394097 A JP 10394097A JP 10394097 A JP10394097 A JP 10394097A JP H10287538 A JPH10287538 A JP H10287538A
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- alkyl
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 優れた日光遮断作用を示す化粧料組成物の提
供。 【解決手段】 本発明は、２８０ nmから４００ nmの領
域にある光線に対する日光遮断剤を含有する、光線安定
性化粧品組成物、並びにＵＶ光線から皮膚を防御するた
めのそれらの使用、に関する。式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｑ及びＧは特定の置換基である］の日光遮断剤
は、式（II） 【化２】 ［式中の基は特定の基である］の化合物により安定化さ
れる。
供。 【解決手段】 本発明は、２８０ nmから４００ nmの領
域にある光線に対する日光遮断剤を含有する、光線安定
性化粧品組成物、並びにＵＶ光線から皮膚を防御するた
めのそれらの使用、に関する。式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｑ及びＧは特定の置換基である］の日光遮断剤
は、式（II） 【化２】 ［式中の基は特定の基である］の化合物により安定化さ
れる。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、２８０nmから４０
０nmの領域にある光線に対する日光遮断剤を含有する、
光線に安定な化粧品組成物、並びにＵＶ光線からの皮膚
の防護のためのそれらの使用、に関する。
０nmの領域にある光線に対する日光遮断剤を含有する、
光線に安定な化粧品組成物、並びにＵＶ光線からの皮膚
の防護のためのそれらの使用、に関する。
【０００２】
【従来の技術】２８０nmから４００nmの領域にある太陽
光線はヒトの皮膚に有害である；特に２８０nmと３２０
nmの間の波長をもつ光線、いわゆるＵＶ−Ｂ光線は紅斑
及び日焼けを誘起させ、その重症度は曝露期間及び皮膚
の性状に依存することが知られている。また、皮膚に日
焼け色をつける原因となる、３２０nmから４００nmの領
域にある光線、いわゆるＵＶ−Ａもまた、特に、敏感な
皮膚の場合又はその光線への連続的曝露の場合には無視
することができない皮膚の変質及び損傷を誘起する可能
性があることも証明されている。
光線はヒトの皮膚に有害である；特に２８０nmと３２０
nmの間の波長をもつ光線、いわゆるＵＶ−Ｂ光線は紅斑
及び日焼けを誘起させ、その重症度は曝露期間及び皮膚
の性状に依存することが知られている。また、皮膚に日
焼け色をつける原因となる、３２０nmから４００nmの領
域にある光線、いわゆるＵＶ−Ａもまた、特に、敏感な
皮膚の場合又はその光線への連続的曝露の場合には無視
することができない皮膚の変質及び損傷を誘起する可能
性があることも証明されている。
【０００３】それらにより皮膚が老化する、エラスチン
及びコラーゲンの損傷の他に、ＵＶ−Ａ光線はまた多数
の光線毒性反応及び光線アレルギー反応を誘起する可能
性があることが示されている。更にＵＶ−Ｂの有害な作
用はＵＶ−Ａの存在により増強される可能性がある（Wi
llis et al.:Jounal of Investigative Dermatologyvo
l. 59, 416, 1972を参照のこと）。
及びコラーゲンの損傷の他に、ＵＶ−Ａ光線はまた多数
の光線毒性反応及び光線アレルギー反応を誘起する可能
性があることが示されている。更にＵＶ−Ｂの有害な作
用はＵＶ−Ａの存在により増強される可能性がある（Wi
llis et al.:Jounal of Investigative Dermatologyvo
l. 59, 416, 1972を参照のこと）。
【０００４】ＵＶ−Ｂ光線からの防御のためには、ケイ
皮酸、４−アミノ安息香酸、ベンジリデンカンファー及
びベンゾフェノンの幾つかの誘導体が知られており、化
粧品組成物の調製のために使用されている。これらの化
合物は多少とも十分な効力の他にまた、許容できる光線
安定性をも備えている。
皮酸、４−アミノ安息香酸、ベンジリデンカンファー及
びベンゾフェノンの幾つかの誘導体が知られており、化
粧品組成物の調製のために使用されている。これらの化
合物は多少とも十分な効力の他にまた、許容できる光線
安定性をも備えている。
【０００５】それに対して、特許文献中には各種化合物
が提供されているにしても、ＵＶ−Ａからの防御のため
に十分に有効な製品はまだ市販されていず；そしてそれ
らの実際的な製品は肯定的な結果を示していない。
が提供されているにしても、ＵＶ−Ａからの防御のため
に十分に有効な製品はまだ市販されていず；そしてそれ
らの実際的な製品は肯定的な結果を示していない。
【０００６】今日まで実用されたＵＶ−Ａ光線遮断剤
（吸収剤）はベンゾフェノン誘導体及び幾つかのジベン
ゾイルメタン誘導体に限定されている。
（吸収剤）はベンゾフェノン誘導体及び幾つかのジベン
ゾイルメタン誘導体に限定されている。
【０００７】ベンゾフェノン誘導体のなかでは、2-ヒド
ロキシ-4-メトキシベンゾフェノンがよりしばしば使用
されており、およそ３２５nmにおけるその最大吸収は十
分な防御をもたらすことができるためには低すぎ、更に
その溶解度が低いために、組成物中へのその使用は困難
である。
ロキシ-4-メトキシベンゾフェノンがよりしばしば使用
されており、およそ３２５nmにおけるその最大吸収は十
分な防御をもたらすことができるためには低すぎ、更に
その溶解度が低いために、組成物中へのその使用は困難
である。
【０００８】ジベンゾイルメタン誘導体のなかでは、4-
メトキシ-4'-ter-ブチル-ジベンゾイルメタン及び4-イ
ソプロピルジベンゾイルメタンが商品として知られてい
るものである。
メトキシ-4'-ter-ブチル-ジベンゾイルメタン及び4-イ
ソプロピルジベンゾイルメタンが商品として知られてい
るものである。
【０００９】これらの日光遮断剤はおよそ３６０nmにお
ける良好な吸収（Ｅ1 1は約１１００）及び許容できる溶
解度を有する。
ける良好な吸収（Ｅ1 1は約１１００）及び許容できる溶
解度を有する。
【００１０】しかし、それらは十分に光線安定性ではな
いという重大な欠点をもつためにそれらの使用は困難で
あり（Ing. J. Cosm. Science 10, 53, 1988を参照のこ
と）、そのことにより、これらの化合物を含有する組成
物は、当該日光遮断剤自体が光線により早急に分解され
るためにＵＶ−Ａからの十分な防御を保証することがで
きない。この早急な分解を回避しそしてこれらのＵＶ−
Ａフィルターに、ある程度の光線安定性を付与するため
に、英国特許第2 198 944号明細書、ＰＣＴ国際公開第9
1/11989号及び同第94/04131号パンフレットにおいて、
ベンジリデンカンファー及びジフェニルシアノアクリラ
ート及び、ジベンゾイルメタンの誘導体の群に属するＵ
Ｖ−Ｂフィルターの具体的な組み合わせ物が提案されて
いる。
いという重大な欠点をもつためにそれらの使用は困難で
あり（Ing. J. Cosm. Science 10, 53, 1988を参照のこ
と）、そのことにより、これらの化合物を含有する組成
物は、当該日光遮断剤自体が光線により早急に分解され
るためにＵＶ−Ａからの十分な防御を保証することがで
きない。この早急な分解を回避しそしてこれらのＵＶ−
Ａフィルターに、ある程度の光線安定性を付与するため
に、英国特許第2 198 944号明細書、ＰＣＴ国際公開第9
1/11989号及び同第94/04131号パンフレットにおいて、
ベンジリデンカンファー及びジフェニルシアノアクリラ
ート及び、ジベンゾイルメタンの誘導体の群に属するＵ
Ｖ−Ｂフィルターの具体的な組み合わせ物が提案されて
いる。
【００１１】にもかかわらず、これもジベンゾイルメタ
ン誘導体のある程度の光線安定性を得るためには過剰な
量のＵＶ−Ｂフィルターを添加せねばならないために、
結果は未だ満足すべきものではない。
ン誘導体のある程度の光線安定性を得るためには過剰な
量のＵＶ−Ｂフィルターを添加せねばならないために、
結果は未だ満足すべきものではない。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】従って、化粧品組成物
中の日光遮断剤、特にジベンゾイルメタン誘導体の安定
化の問題は未だ切実である。更に、日焼けを誘起させな
いで快適な日焼け色をつけることを可能にするための、
太陽光線に曝露された皮膚の、化粧品による処置の問題
は未だ探求されている。
中の日光遮断剤、特にジベンゾイルメタン誘導体の安定
化の問題は未だ切実である。更に、日焼けを誘起させな
いで快適な日焼け色をつけることを可能にするための、
太陽光線に曝露された皮膚の、化粧品による処置の問題
は未だ探求されている。
【００１３】
【発明の構成】驚くべきことに、ジベンゾイルメタンの
誘導体の良好な光線安定性は、式（Ｉ）
誘導体の良好な光線安定性は、式（Ｉ）
【００１４】
【化７】
【００１５】［式中、Ｑは水素、Ｃ1-Ｃ4アルキル基を
もつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分
枝アルキルである］のジベンゾイルメタン誘導体を、米
国特許第5,346,691号明細書に記載された、ＵＶ−Ｂ領
域で高い吸収性をもつ、式（II）
もつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分
枝アルキルである］のジベンゾイルメタン誘導体を、米
国特許第5,346,691号明細書に記載された、ＵＶ−Ｂ領
域で高い吸収性をもつ、式（II）
【００１６】
【化８】
【００１７】［式中、ＲはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
【００１８】
【化９】
【００１９】［ここで、ＡはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはＲ1と同じ意味をもつ］の化
合物の１種類と組み合わせることにより得ることができ
ることが見いだされた。
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはＲ1と同じ意味をもつ］の化
合物の１種類と組み合わせることにより得ることができ
ることが見いだされた。
【００２０】好ましい式（Ｉ）の化合物は、式中、Ｑが
メトキシであり、Ｇがtert-ブチルであるか又は、Ｑが
水素であり、Ｇがイソプロピルである化合物である。
メトキシであり、Ｇがtert-ブチルであるか又は、Ｑが
水素であり、Ｇがイソプロピルである化合物である。
【００２１】好ましい式（II）の化合物は式中、 Ｒ＝ＣＨ3、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ4Ｈ9-ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）-ＣＨ
2-、Ｘ＝Ｏ； Ｒ＝（ＣＨ3）3Ｃ-ＣＨ2-Ｃ（ＣＨ3）2-、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ
4Ｈ9ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）-ＣＨ2-、Ｘ＝Ｏ； Ｒ＝Ｒ2＝（ＣＨ3）2ＣＨ-、Ｒ1＝Ｃ14Ｈ29-、Ｘ＝Ｎ
Ｈ； Ｒ＝（ＣＨ3）3Ｃ-、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ4Ｈ9-ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）
-ＣＨ2-、Ｘ＝Ｏ の化合物である。
2-、Ｘ＝Ｏ； Ｒ＝（ＣＨ3）3Ｃ-ＣＨ2-Ｃ（ＣＨ3）2-、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ
4Ｈ9ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）-ＣＨ2-、Ｘ＝Ｏ； Ｒ＝Ｒ2＝（ＣＨ3）2ＣＨ-、Ｒ1＝Ｃ14Ｈ29-、Ｘ＝Ｎ
Ｈ； Ｒ＝（ＣＨ3）3Ｃ-、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ4Ｈ9-ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）
-ＣＨ2-、Ｘ＝Ｏ の化合物である。
【００２２】１種類以上の式（II）の化合物と、１種類
以上の式（Ｉ）の化合物の間の重量比は６までにするこ
とができる。
以上の式（Ｉ）の化合物の間の重量比は６までにするこ
とができる。
【００２３】式（Ｉ）のジベンゾイルメタンの誘導体は
米国特許第4,387,089号及び同第4,489,057号明細書に記
載されている。市販の化合物はGivaudan社によるParsol
(R)1789（4-メトキシ-4'-tert-ブチルジベンゾイルメタ
ン）及びメルク（Merck）社によるEusolex(R)8020（4-
イソプロピルジベンゾイルメタン）である。式（II）の
ＵＶ−Ｂフィルターとそれらとの組み合わせにより、２
９０ nmから３８０ nmの領域にある波長の光線を吸収
し、それによりＵＶ−Ｂ及びＵＶ−Ａの両者に防御作用
をもつ化粧品組成物が得られるが、特にＵＶ−Ａフィル
ターが最大の光化学安定性をもつ。従って日光に対する
長期間の曝露期間中ですら皮膚の継続的な防護を保証す
るのに適宜な化粧品組成物を調製することが可能であ
り、それにより有効な防護のために要する頻回の、繰り
返しの使用を回避する。
米国特許第4,387,089号及び同第4,489,057号明細書に記
載されている。市販の化合物はGivaudan社によるParsol
(R)1789（4-メトキシ-4'-tert-ブチルジベンゾイルメタ
ン）及びメルク（Merck）社によるEusolex(R)8020（4-
イソプロピルジベンゾイルメタン）である。式（II）の
ＵＶ−Ｂフィルターとそれらとの組み合わせにより、２
９０ nmから３８０ nmの領域にある波長の光線を吸収
し、それによりＵＶ−Ｂ及びＵＶ−Ａの両者に防御作用
をもつ化粧品組成物が得られるが、特にＵＶ−Ａフィル
ターが最大の光化学安定性をもつ。従って日光に対する
長期間の曝露期間中ですら皮膚の継続的な防護を保証す
るのに適宜な化粧品組成物を調製することが可能であ
り、それにより有効な防護のために要する頻回の、繰り
返しの使用を回避する。
【００２４】本発明によると、ＵＶ光線から皮膚を防護
するのに適宜な光線安定性の化粧品組成物は、式（II）
の化合物と式（Ｉ）の化合物の間の重量比が少なくとも
１であることを条件として、１種類以上の、式（Ｉ）の
ジベンゾイルメタン誘導体を、組成物の重量の１から５
重量％並びに式（II）の化合物を１から６重量％含有す
る化粧品基材を含んでなる。
するのに適宜な光線安定性の化粧品組成物は、式（II）
の化合物と式（Ｉ）の化合物の間の重量比が少なくとも
１であることを条件として、１種類以上の、式（Ｉ）の
ジベンゾイルメタン誘導体を、組成物の重量の１から５
重量％並びに式（II）の化合物を１から６重量％含有す
る化粧品基材を含んでなる。
【００２５】本発明による組成物は２９０nmから３８０
nmを含んでなる領域のＵＶ光線を吸収し、そしてＵＶ−
Ａ及びＵＶ−Ｂ太陽光線からの皮膚の防護のために有効
に使用することができる。
nmを含んでなる領域のＵＶ光線を吸収し、そしてＵＶ−
Ａ及びＵＶ−Ｂ太陽光線からの皮膚の防護のために有効
に使用することができる。
【００２６】本発明による組成物はまた、毛髪のトリー
トメント、従って保護のため、又は装飾用化粧品におけ
るメークアップのためにも有用である。
トメント、従って保護のため、又は装飾用化粧品におけ
るメークアップのためにも有用である。
【００２７】本発明による化粧品組成物は溶液、ローシ
ョン、油中水もしくは水中油型のエマルションにするこ
とができるか；あるいはまたゲル、口紅スティック、エ
アゾールの形態にすることもできる。
ョン、油中水もしくは水中油型のエマルションにするこ
とができるか；あるいはまたゲル、口紅スティック、エ
アゾールの形態にすることもできる。
【００２８】本発明による組成物は、例えば油、脂肪、
緩和剤、水和剤、加湿剤、柔軟剤、保存剤、界面活性
剤、増粘剤、発泡抑制剤、香料、顔料、染料及び、アル
コール、ポリオール、電解質、シリコーン誘導体のよう
なその他の物質のような、通常使用される成分を調製す
ることにより製造される。
緩和剤、水和剤、加湿剤、柔軟剤、保存剤、界面活性
剤、増粘剤、発泡抑制剤、香料、顔料、染料及び、アル
コール、ポリオール、電解質、シリコーン誘導体のよう
なその他の物質のような、通常使用される成分を調製す
ることにより製造される。
【００２９】最も一般的に使用される溶媒は、カプリン
酸もしくはカプリル酸のトリグリセリド、例えばヒマシ
油、イソプロパノール、プロピレングリコール、グリセ
リン、プロピレングリコール−モノメチルもしくはモノ
エチルもしくはモノブチルエーテルと脂肪酸のエステ
ル、である。
酸もしくはカプリル酸のトリグリセリド、例えばヒマシ
油、イソプロパノール、プロピレングリコール、グリセ
リン、プロピレングリコール−モノメチルもしくはモノ
エチルもしくはモノブチルエーテルと脂肪酸のエステ
ル、である。
【００３０】本発明による化粧品組成物は、式（Ｉ）及
び式（II）のＵＶ−吸収剤以外に、化粧品中に通常使用
されるその他の日光遮断剤、例えば：3-（4-メチルベン
ジリデン）-カンファー；2-エチルヘキシル-（4-ジメチ
ルアミノ）ベンゾアート、2-エチルヘキシル-4-メトキ
シ-シンナマート、サリチル酸メンチル、2-ヒドロキシ-
4-メトキシ-ベンゾフェノン、2,4,6-トリアニリノ-（p-
カルボ-2-エチルヘキシルオキシ）-1,3,5-トリアジン、
4-（1,1-ジメチルエチル）-4-メトキシジベンゾイルメ
タン、2-フェニル-ベンズイミダゾール-5-スルホン酸も
しくは2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン-5-ス
ルホン酸の塩、をも含有することができる。 本発明は
また、式（Ｉ）のジベンゾイルメタンの誘導体と、式
（II）の化合物の組み合わせ物の使用により、ＵＶ光線
からの化粧品組成物自体の防護をも含んでなる。この場
合、例えばシャンプー剤及び毛髪仕上げ剤、ヘアセット
用ローション、染髪用組成物、マニキュア用ラッカー、
ファンデーション、口紅スティックのようなメークアッ
プ用組成物、のような、それらの成分が光線により誘起
される劣化又は望ましくない着色を受ける可能性がある
組成物がある。好ましい化粧品調製物は、太陽光線から
皮膚を防護するための調製物である。
び式（II）のＵＶ−吸収剤以外に、化粧品中に通常使用
されるその他の日光遮断剤、例えば：3-（4-メチルベン
ジリデン）-カンファー；2-エチルヘキシル-（4-ジメチ
ルアミノ）ベンゾアート、2-エチルヘキシル-4-メトキ
シ-シンナマート、サリチル酸メンチル、2-ヒドロキシ-
4-メトキシ-ベンゾフェノン、2,4,6-トリアニリノ-（p-
カルボ-2-エチルヘキシルオキシ）-1,3,5-トリアジン、
4-（1,1-ジメチルエチル）-4-メトキシジベンゾイルメ
タン、2-フェニル-ベンズイミダゾール-5-スルホン酸も
しくは2-ヒドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン-5-ス
ルホン酸の塩、をも含有することができる。 本発明は
また、式（Ｉ）のジベンゾイルメタンの誘導体と、式
（II）の化合物の組み合わせ物の使用により、ＵＶ光線
からの化粧品組成物自体の防護をも含んでなる。この場
合、例えばシャンプー剤及び毛髪仕上げ剤、ヘアセット
用ローション、染髪用組成物、マニキュア用ラッカー、
ファンデーション、口紅スティックのようなメークアッ
プ用組成物、のような、それらの成分が光線により誘起
される劣化又は望ましくない着色を受ける可能性がある
組成物がある。好ましい化粧品調製物は、太陽光線から
皮膚を防護するための調製物である。
【００３１】本発明により防護することができる化粧品
組成物は、該組成物の総量に対して、１種類以上の式
（Ｉ）の化合物を１−５重量％及び式（II）の化合物を
１−６重量％含有することができる。
組成物は、該組成物の総量に対して、１種類以上の式
（Ｉ）の化合物を１−５重量％及び式（II）の化合物を
１−６重量％含有することができる。
【００３２】本発明による化粧品組成物はまた、例えば
酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ケイ素又は酸化アルミニウ
ムのような、化粧品中に通常使用される無機顔料を含有
することができる。
酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ケイ素又は酸化アルミニウ
ムのような、化粧品中に通常使用される無機顔料を含有
することができる。
【００３３】下記の実施例は本発明を更に具体的に説明
する。
する。
【００３４】
【実施例】 （実施例１）ローション 化合物Ａ ３．０ g 4-メトキシ-4'-tert-ブチル-ベンゾイルメタン （Parsol(R)1789） ２．０ g ミリスチン酸イソプロピル q.b. １００．０ g 成分を混合し、３０−４０℃で１０分間、撹拌すること
によりホモジナイズさせる。
によりホモジナイズさせる。
【００３５】化合物Ａ＝式（II）の化合物 Ｒ＝ＣＨ3-；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ4Ｈ9-ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）-ＣＨ
2-；Ｘ＝Ｏ ローション１gをエタノール１０００ml中に希釈する；
得られた溶液１０mlを１０時間、太陽シミュレーターに
より照射する。
2-；Ｘ＝Ｏ ローション１gをエタノール１０００ml中に希釈する；
得られた溶液１０mlを１０時間、太陽シミュレーターに
より照射する。
【００３６】ＵＶ−ＡフィルターのParsol(R)1789の含
量を照射の前後にＨＰＬＣにより測定する。Parsol(R)1
789の減少は、Parsol(R)1789のみを含有するローション
でおこる減少と比較すると無視できるものである。
量を照射の前後にＨＰＬＣにより測定する。Parsol(R)1
789の減少は、Parsol(R)1789のみを含有するローション
でおこる減少と比較すると無視できるものである。
【００３７】 （実施例２）日焼け止め乳剤 脂肪酸のトリグリセリド ２０．０ g セチルアルコール ２．０ g セチルステアリルアルコール ２．０ g ラノリン ４．０ g シリコーン油 ０．４ g 4-メトキシ-4'-tert-ブチルジベンゾイルメタン ３ g 化合物Ｂ ３．５ g Abiol(R)（3V-SIGMA社による保存剤） ０．２ g Synthalen(R)M （3V SIGMA社による架橋ポリアクリル酸） ０．１ g トリエタノールアミン ０．１５g 香料 ０．３ g 蒸留水 全１００．０ g 脂肪相を８０−９０℃に温め、日光遮断剤を添加し、次いで該混合物を、８０ −９０℃に加熱された水溶性化合物含有の水に添加す
る。温めながら１５−２０分間、撹拌を継続する。混合
物を緩徐に冷却し香料を添加する。
る。温めながら１５−２０分間、撹拌を継続する。混合
物を緩徐に冷却し香料を添加する。
【００３８】化合物Ｂ＝式（II）の化合物 Ｒ＝（ＣＨ3）3Ｃ-ＣＨ2-Ｃ（ＣＨ3）2-；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ
4Ｈ9ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）-ＣＨ2-；Ｘ＝Ｏ （実施例３）日中用クリーム （Ｃ8-Ｃ18）酸のトリグリセリド ２９．０ g モノステアリン酸グリセリン ７．０ g ステアリン酸 ２．０ g ラノリン ４．０ g 保存剤 ０．２ g 化合物Ｃ ２．５ g 4-イソプロピルジベンゾイルメタン（Eusolex(R)8020） １．５ g プロピレングリコール ２．５ g トリエタノールアミン ０．５ g 香料 ０．３ g 蒸留水 全１００．０ g 調製は実施例２に記載のように実施される。
4Ｈ9ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）-ＣＨ2-；Ｘ＝Ｏ （実施例３）日中用クリーム （Ｃ8-Ｃ18）酸のトリグリセリド ２９．０ g モノステアリン酸グリセリン ７．０ g ステアリン酸 ２．０ g ラノリン ４．０ g 保存剤 ０．２ g 化合物Ｃ ２．５ g 4-イソプロピルジベンゾイルメタン（Eusolex(R)8020） １．５ g プロピレングリコール ２．５ g トリエタノールアミン ０．５ g 香料 ０．３ g 蒸留水 全１００．０ g 調製は実施例２に記載のように実施される。
【００３９】化合物Ｃ＝式（II）の化合物 Ｒ＝Ｒ2＝（ＣＨ3）2ＣＨ-；Ｒ1＝Ｃ14Ｈ29-；Ｘ＝ＮＨ （実施例４）日焼け止めクリーム Ｃ12-Ｃ15アルコールのベンゾアート ５．０ g （Finisol(R)IN、Witco社） セチルステアリルアルコール ３．０ g モノ及びジステアリン酸グリセリン ４．０ g ポリグリコール（Arlacel(R)165 ICI社） ２．０ g 酸化プロピレン３モルを含むミリスチン酸アルコール （Witconol(R)APM-Witco社） ２１．０ g 化合物Ｄ ５．０ g 4-メトキシ-4'-tert-ブチル-ジベンゾイルメタン （Parsol(R)1789） ３．０ g 蒸留水 全１００．０ g 方法は実施例２に記載の方法と同様である。
【００４０】化合物Ｄ＝式（II）の化合物 Ｒ＝（ＣＨ3）3Ｃ-；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｃ4Ｈ9-ＣＨ（Ｃ2Ｈ5）
-ＣＨ2-；Ｘ＝Ｏ （実施例５）アルコール性ゲル剤 プロピレングリコール ２５．０ g エチルアルコール９６％ ２５．０ g Synthalen(R)M(3V SIGMA社による架橋ポリアクリル酸) ０．６ g 化合物Ａ １．５ g 4-メトキシ-4'-tert-ブチル-ジベンゾイルメタン （Parsol(R)1789） １．０ g トリエタノールアミン ０．３ g 保存剤 ０．３ g 香料 ０．３ g 蒸留水 全１００．０ g Synthalen(R)Mを水に分散させ、次いでトリエタノール
アミンを添加し、化合物Ａ及びParsol(R)1789を前以て
溶解させてあるプロピレングリコール及びエタノールの
混合物を最後に添加する。
-ＣＨ2-；Ｘ＝Ｏ （実施例５）アルコール性ゲル剤 プロピレングリコール ２５．０ g エチルアルコール９６％ ２５．０ g Synthalen(R)M(3V SIGMA社による架橋ポリアクリル酸) ０．６ g 化合物Ａ １．５ g 4-メトキシ-4'-tert-ブチル-ジベンゾイルメタン （Parsol(R)1789） １．０ g トリエタノールアミン ０．３ g 保存剤 ０．３ g 香料 ０．３ g 蒸留水 全１００．０ g Synthalen(R)Mを水に分散させ、次いでトリエタノール
アミンを添加し、化合物Ａ及びParsol(R)1789を前以て
溶解させてあるプロピレングリコール及びエタノールの
混合物を最後に添加する。
【００４１】実施例１に記載されたものと同様なテスト
を実施例２−５に繰り返すことにより、Parsol(R)1789
の減少は常にParsol(R)1789単独で使用される場合に起
こる減少よりも少ないことが見いだされる。
を実施例２−５に繰り返すことにより、Parsol(R)1789
の減少は常にParsol(R)1789単独で使用される場合に起
こる減少よりも少ないことが見いだされる。
【００４２】本発明の特徴と態様を以下に示す。
【００４３】１． 式（Ｉ）
【００４４】
【化１０】
【００４５】［式中、Ｑは水素又は、Ｃ1-Ｃ4アルキル
基をもつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしく
は分枝アルキルである］のジベンゾイルメタンの１種類
以上の誘導体を１から５重量％並びに、式（II）
基をもつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしく
は分枝アルキルである］のジベンゾイルメタンの１種類
以上の誘導体を１から５重量％並びに、式（II）
【００４６】
【化１１】
【００４７】［式中、ＲはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
【００４８】
【化１２】
【００４９】［ここで、ＡはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはＲ1と同じ意味をもつ］の１
種類以上の化合物を１から６重量％含有し、但し式（I
I）の化合物と式(Ｉ)の化合物の間の重量比が少なくと
も１であることを条件とする、化粧品基材を含んでなる
化粧品組成物。
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはＲ1と同じ意味をもつ］の１
種類以上の化合物を１から６重量％含有し、但し式（I
I）の化合物と式(Ｉ)の化合物の間の重量比が少なくと
も１であることを条件とする、化粧品基材を含んでなる
化粧品組成物。
【００５０】２． 式（Ｉ）においてＱがメトキシであ
り、Ｇがtert-ブチルである、第１項記載の化粧品組成
物。
り、Ｇがtert-ブチルである、第１項記載の化粧品組成
物。
【００５１】３． 式（Ｉ）においてＱが水素であり、
Ｇがイソプロピルである、第１項記載の化粧品組成物。
Ｇがイソプロピルである、第１項記載の化粧品組成物。
【００５２】４． １種類以上の、式（II）の化合物
と、１種類以上の、式（Ｉ）の化合物の間の重量比が最
大６である、第１項−第３項記載の化粧品組成物。
と、１種類以上の、式（Ｉ）の化合物の間の重量比が最
大６である、第１項−第３項記載の化粧品組成物。
【００５３】５． 更に酸化亜鉛を含有する、第１項か
ら第４項記載の組成物。
ら第４項記載の組成物。
【００５４】６． 更に酸化チタンを含有する、第１項
から第４項記載の組成物。
から第４項記載の組成物。
【００５５】７． 更に、3-（4-メチルベンジリデン）
-カンファー；2-エチルヘキシル-（4-ジメチルアミノ）
ベンゾアート、2-エチルヘキシル-4-メトキシ-シンナマ
ート、サリチル酸メンチル、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-
ベンゾフェノン、2,4,6-トリアニリノ-（p-カルボ-2-エ
チルヘキシルオキシ）-1,3,5-トリアジン、4-（1,1-ジ
メチルエチル）-4-メトキシジベンゾイルメタン、2-フ
ェニル-ベンズイミダゾール-5-スルホン酸もしくは2-ヒ
ドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン-5-スルホン酸の
塩からなる群から選ばれる、その他の日光遮断剤を含有
する、第１項から第６項のいずれかに記載の組成物。
-カンファー；2-エチルヘキシル-（4-ジメチルアミノ）
ベンゾアート、2-エチルヘキシル-4-メトキシ-シンナマ
ート、サリチル酸メンチル、2-ヒドロキシ-4-メトキシ-
ベンゾフェノン、2,4,6-トリアニリノ-（p-カルボ-2-エ
チルヘキシルオキシ）-1,3,5-トリアジン、4-（1,1-ジ
メチルエチル）-4-メトキシジベンゾイルメタン、2-フ
ェニル-ベンズイミダゾール-5-スルホン酸もしくは2-ヒ
ドロキシ-4-メトキシ-ベンゾフェノン-5-スルホン酸の
塩からなる群から選ばれる、その他の日光遮断剤を含有
する、第１項から第６項のいずれかに記載の組成物。
【００５６】８． 共補助剤として、増粘剤、緩和剤、
水和剤、保存剤、香料から選ばれる、１種類以上の成分
を含有する、第１項−第７項のいずれかに記載の組成
物。
水和剤、保存剤、香料から選ばれる、１種類以上の成分
を含有する、第１項−第７項のいずれかに記載の組成
物。
【００５７】９． 日光に被曝時のヒトの皮膚の、化粧
品による処置のための、第１項−第８項のいずれかに記
載の化粧品組成物の使用。
品による処置のための、第１項−第８項のいずれかに記
載の化粧品組成物の使用。
【００５８】１０． 化粧品基材に対して、式（Ｉ）
【００５９】
【化１３】
【００６０】［式中、Ｑは水素又はＣ1-Ｃ4アルキル基
をもつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしくは
分枝アルキルである］の化合物を１から５重量％並び
に、１種類の、式（II）
をもつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしくは
分枝アルキルである］の化合物を１から５重量％並び
に、１種類の、式（II）
【００６１】
【化１４】
【００６２】［式中、ＲはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
【００６３】
【化１５】
【００６４】［ここで、ＡはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはＲ1と同じ意味をもつ］の化
合物を１から６重量％添加することを含んでなる、ＵＶ
光線からの化粧品組成物の防護方法。
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはＲ1と同じ意味をもつ］の化
合物を１から６重量％添加することを含んでなる、ＵＶ
光線からの化粧品組成物の防護方法。
【００６５】１１． 少なくとも１種類の、式（Ｉ）
【００６６】
【化１６】
【００６７】［式中、Ｑは水素又はＣ1-Ｃ4アルキル基
をもつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしくは
分枝アルキルである］のジベンゾイルメタン誘導体及び
少なくとも１種類の、式（II）
をもつアルコキシであり、ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしくは
分枝アルキルである］のジベンゾイルメタン誘導体及び
少なくとも１種類の、式（II）
【００６８】
【化１７】
【００６９】［式中、ＲはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
アルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキ
ルで置換されているＣ5-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘ
は酸素又は−ＮＨ−基であり；Ｒ1はＲと同じ意味をも
つかあるいは水素、アルカリ金属、アンモニウム基又は
式（III）:
【００７０】
【化１８】
【００７１】［ここで、ＡはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはがＲ1と同じ意味をもつ］の
化合物からなり、但し前記の化合物（II）と前記の化合
物(Ｉ)の間の重量比が１から６に範囲にあることを条件
とする、光線安定化混合物。
枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシクロアルキル、場合によって
は１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているアリ
ールであり、Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１
から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−Ｎ
Ｈ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2
はＸが酸素である場合にはがＲ1と同じ意味をもつ］の
化合物からなり、但し前記の化合物（II）と前記の化合
物(Ｉ)の間の重量比が１から６に範囲にあることを条件
とする、光線安定化混合物。
【００７２】１２． ヒトの皮膚を紫外線から防護する
ための皮膚科学的組成物の調製のための、第１１項記載
の混合物の使用。
ための皮膚科学的組成物の調製のための、第１１項記載
の混合物の使用。
Claims (2)
- 【請求項１】 １種類以上の、式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｑは水素又は、Ｃ1-Ｃ4アルキル基をもつアル
コキシであり、 ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしくは分枝アルキルである］のジ
ベンゾイルメタン誘導体を１から５重量％並びに１種類
以上の、式（II） 【化２】 ［式中、 ＲはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝アルキル、場合によっ
ては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているＣ5
-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘは酸素又は−ＮＨ−基
であり；Ｒ1はＲと同じ意味をもつかあるいは水素、ア
ルカリ金属、アンモニウム基又は式（III）: 【化３】 ［ここで、 ＡはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシ
クロアルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4ア
ルキルで置換されているアリールであり、Ｒ3は水素又
はメチルでありそして ｎは１から１０の整数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘ
が−ＮＨ−基である場合にはＲと同じ意味をもつか又
は、Ｒ2はＸが酸素である場合にはＲ1と同じ意味をも
つ］の化合物を１から６重量％含有し、但し式（II）の
化合物と式(Ｉ)の化合物の間の重量比が少なくとも１で
あることを条件とする、化粧品基材を含んでなる化粧品
組成物。 - 【請求項２】 化粧品基材に対して、式（Ｉ） 【化４】 ［式中、 Ｑは水素又はＣ1-Ｃ4アルキル基をもつアルコキシであ
り、 ＧはＣ1-Ｃ4の直鎖もしくは分枝アルキルである］の化
合物を１から５重量％並びに、式（II） 【化５】 ［式中、 ＲはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝アルキル、場合によっ
ては１種類以上のＣ1-Ｃ4アルキルで置換されているＣ5
-Ｃ12シクロアルキルであり；Ｘは酸素又は−ＮＨ−基
であり；Ｒ1はＲと同じ意味をもつかあるいは水素、ア
ルキル金属、アンモニウム基又は式（III）: 【化６】 ［ここで、 ＡはＣ1-Ｃ8の直鎖もしくは分枝アルキル、Ｃ5-Ｃ8のシ
クロアルキル、場合によっては１種類以上のＣ1-Ｃ4ア
ルキルで置換されているアリールであり、 Ｒ3は水素又はメチルでありそしてｎは１から１０の整
数である］の基であり；Ｒ2は、Ｘが−ＮＨ−基である
場合にはＲと同じ意味をもつか又は、Ｒ2はＸが酸素で
ある場合にはＲ1と同じ意味をもつ］の化合物を１から
６重量％添加することを含んでなる、ＵＶ光線からの化
粧品組成物の防護方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10394097A JPH10287538A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | 化粧品組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10394097A JPH10287538A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | 化粧品組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10287538A true JPH10287538A (ja) | 1998-10-27 |
Family
ID=14367450
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10394097A Pending JPH10287538A (ja) | 1997-04-07 | 1997-04-07 | 化粧品組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10287538A (ja) |
-
1997
- 1997-04-07 JP JP10394097A patent/JPH10287538A/ja active Pending
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