JPH10284690A - 半導体集積回路装置及びその電源配線方法 - Google Patents

半導体集積回路装置及びその電源配線方法

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JPH10284690A
JPH10284690A JP9088363A JP8836397A JPH10284690A JP H10284690 A JPH10284690 A JP H10284690A JP 9088363 A JP9088363 A JP 9088363A JP 8836397 A JP8836397 A JP 8836397A JP H10284690 A JPH10284690 A JP H10284690A
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supply line
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Reiko Nojima
玲子 野島
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Toshiba Corp
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    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電圧降下を緩和して、回路の安定動作を保証
することができる半導体集積回路装置を提供することで
ある。 【解決手段】 所定の論理動作を行う論理回路部と、前
記論理回路部上に配設され該論理回路部へ電源電圧を供
給する第1の電源線と、前記論理回路部上に前記第1の
電源線と異なる層で配設され、且つ前記第1の電源線と
の交差部分でコンタクトを介して接続された第2の電源
線とを備えた半導体集積回路装置において、前記論理回
路部の電圧降下量が最小となるように、前記第1の電源
線と前記第2の電源線との間に設けられるコンタクトの
数と位置を設定した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、論理LSI等の半
導体集積回路装置、及びその電源配線方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、論理LSIの大規模化と高集積化
により、論理回路部から発生する動作電流の電源線への
流量が増加し、さらに微細化による電源配線抵抗の増加
を原因とする電源線の電圧降下が大きくなる傾向にあ
る。電圧降下の大きい部分では論理ゲートの動作が遅く
なったり、誤動作したりすることがあり、看過できない
問題となってきている。
【0003】そこで、従来では、論理回路部に接続され
る基本電源線に加え、補強電源線を設けて、電圧降下の
緩和を図っている。
【0004】図12は、従来の論理LSI内部における
電源配線のコンタクト配置パターンを示す平面図であ
る。
【0005】この論理LSIの電源配線は、論理回路部
上に格子状で配置された基本電源線101と、その基本
電源線101上の横方向に配置された補強電源線102
とを備えている。基本電源線101と補強電源線102
との全ての交点箇所にはコンタクト103が配置され、
このコンタクト103を介して基本電源線101と補強
電源線102とが電気的に接続されて論理回路部へ電源
を供給するようになっている。
【0006】動作電流は、回路内部の全電源配線から回
路外枠の電源ピンへ向かって流れ出す。その動作電流に
よる電圧降下は、回路中心部から回路外枠への電源配線
抵抗に比例するため、電圧降下は回路中心部へ向かって
次第に大きくなり、回路中心部が最大となる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記したように従来の
論理LSIでは、異層の電源線が交差する点には全てコ
ンタクトを配置しているが、コンタクトを全て置いただ
けでは電圧降下を十分緩和することはできず、回路誤動
作の恐れがあった。
【0008】この事実を示す電圧降下グラフを図13に
示す。このグラフは、基本電源線101の縦方向を30
0本、その横方向を100本とし、さらに補強電源線1
02を9本とした場合において、電圧降下が最大となっ
た位置での電圧降下の様子を表わしている。なお、補強
電源線102は、10本の基本電源線101毎に1本配
置し、その幅は基本電源線101の幅の10倍とする。
【0009】同図から明らかなように、電圧降下が最大
となる回路中心部CEでは、回路誤動作の可能性がある
限界レベル(図中のLV:例えば4.03v)まで電圧
が降下している。
【0010】本発明は、上述の如き従来の問題点を解決
するためになされたもので、その目的は、電圧降下を緩
和して、回路の安定動作を保証する半導体集積回路装置
を提供することである。また、その他の目的は、電源配
線において、コンタクトの数と位置を最適化することが
できる半導体集積回路装置の電源配線方法を提供するこ
とである。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第1の発明である半導体集積回路装置の特徴は、所
定の論理動作を行う論理回路部と、前記論理回路部上に
配設され該論理回路部へ電源電圧を供給する第1の電源
線と、前記論理回路部上に前記第1の電源線と異なる層
で配設され、且つ前記第1の電源線との交差部分でコン
タクトを介して接続された第2の電源線とを備えた半導
体集積回路装置において、前記論理回路部の電圧降下量
が最小となるように、前記第1の電源線と前記第2の電
源線との間に設けられるコンタクトの数と位置を設定し
たことにある。
【0012】この第1の発明によれば、電源配線におい
て、コンタクトの数と位置が最適化され、電圧降下が緩
和される。
【0013】第2の発明である半導体集積回路装置の特
徴は、上記第1の発明において、前記第2の電源線は、
前記第1の電源線を電気的に補強する補強電源線とした
ことにある。
【0014】この第2の発明によれば、電源配線におい
て、補強電源線とのコンタクトの数と位置が最適化さ
れ、電圧降下が緩和される。
【0015】第3の発明である半導体集積回路装置の電
源配線方法の特徴は、半導体集積回路装置の論理回路部
へ電源を供給するための第1の電源線、及びこの第1の
電源線と異なる層の第2の電源線を配線する第1のステ
ップと、前記第1のステップの後に装置内部の各位置で
の電圧降下値を求める第2のステップと、前記電圧降下
値が最大となる位置で前記第1と第2の電源線の間にコ
ンタクトを置く第3のステップとを有し、前記電圧降下
値が前回値よりも増加するまで前記第2のステップと前
記第3のステップとを順次繰り返し実行することにあ
る。
【0016】この第3の発明によれば、電圧降下の要因
である動作電流が多量に発生する区画から優先的に第2
の電源線へ動作電流を流すことができ、回路の電圧降下
が緩和される。
【0017】第4の発明である半導体集積回路装置の電
源配線方法の特徴は、半導体集積回路装置の論理回路部
へ電源を供給するための第1の電源線、及びこの第1の
電源線と異なる層の第2の電源線を配線すると共に、前
記第1の電源線と前記第2の電源線との交点間に全てコ
ンタクトを置く第1のステップと、前記第1のステップ
後に装置内部の各位置での電圧降下値を求める第2のス
テップと、前記電圧降下値が最小となる位置の前記コン
タクトを除去する第3のステップとを有し、前記電圧降
下値が前回値よりも増加するまで前記第2のステップと
前記第3のステップとを順次繰り返し実行することにあ
る。
【0018】この第4の発明によれば、電圧降下の要因
である動作電流が多量に発生する区画から優先的に第2
の電源線へ動作電流を流すことができ、回路の電圧降下
が緩和される。
【0019】第5の発明である半導体集積回路装置の電
源配線方法の特徴は、上記第3または第4の発明におい
て、前記第2の電源線を、前記第1の電源線を電気的に
補強する補強電源線としたことにある。
【0020】この第5の発明によれば、電圧降下の要因
である動作電流が多量に発生する区画から優先的に補強
電源線へ動作電流を流すことができる。
【0021】第6の発明である記憶媒体の特徴は、半導
体集積回路装置の論理回路部へ電源を供給するための第
1の電源線、及びこの第1の電源線と異なる層の第2の
電源線を配線する第1の手段と、前記第1の手段の後に
装置内部の各位置での電圧降下値を求める第2の手段
と、前記電圧降下値が最大となる位置で前記第1と第2
の電源線の間にコンタクトを置く第3の手段と、前記電
圧降下値が前回値よりも増加するまで前記第2の手段と
前記第3の手段とを順次繰り返し実行する第4の手段と
を記憶したことにある。
【0022】この第6の発明によれば、第1の手段から
第4の手段までを読み出し実行することにより、上記第
3の発明と同様の作用を呈する。
【0023】第7の発明である記憶媒体の特徴は、半導
体集積回路装置の論理回路部へ電源を供給するための第
1の電源線、及びこの第1の電源線と異なる層の第2の
電源線を配線すると共に、前記第1の電源線と前記第2
の電源線との交点間に全てコンタクトを置く第1の手段
と、前記第1の手段後に装置内部の各位置での電圧降下
値を求める第2の手段と、前記電圧降下値が最小となる
位置の前記コンタクトを除去する第3の手段と、前記電
圧降下値が前回値よりも増加するまで前記第2の手段と
前記第3の手段とを順次繰り返し実行する第4の手段と
を記憶したことにある。
【0024】この第7の発明によれば、第1の手段から
第4の手段までを読み出し実行することにより、上記第
4の発明と同様の作用を呈する。
【0025】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。図1は、本発明の半導体集積回路装
置の第1実施形態に係る論理LSI内部の電源配線のコ
ンタクト配置パターンを示す平面図である。また、図2
(a),(b)は、本発明の半導体集積回路装置の基本
的原理を示す電源配線のコンタクト配置パターンを示す
図であり、同図(a)は全体図、同図(b)はそのA部
拡大図である。
【0026】まず、第1実施形態を説明する前に、図2
を用いて本発明の基本的原理を説明する。
【0027】図2(a),(b)に示す電源配線のコン
タクト配置パターンは、前記の図12に示す論理LSI
の電源配線において、中心部に1個ずつコンタクト10
3を置いた場合を表わしている。なお、図2(b)中の
Ntrは、NチャネルMOSトランジスタの領域を示
し、Ptrは、PチャネルMOSトランジスタの領域を
示している。
【0028】このように、中心部に1個ずつコンタクト
103を配置した場合において、電圧降下が最大となっ
た位置での電圧降下グラフを、図13の従来の電圧降下
グラフと対比して図3に示す。図3中の実線P1が図2
に示す本例の電圧降下の様子を表わし、破線P2が図1
3に示す従来例の電圧降下の様子を表わしている。
【0029】図3より明らかなように、異層の電源配線
の全ての交点にコンタクト103を配置する従来例に比
べて、中心部に1個ずつコンタクト103を配置した本
例の方が、回路中心部CEの電圧降下が緩和されてい
る。これにより、本例では、回路の全ての位置におい
て、回路誤動作の可能性がある限界レベル(図中のL
V:例えば4.03v)まで電圧が降下することはな
く、回路の誤動作を防止することができる。
【0030】このように、論理LSI内部の異層の電源
配線が交差している場合に、その交差箇所に全てコンタ
クトを置かない方が回路全体の電圧降下が少ない、とい
う検証事実に基づき、以下に述べる実施形態では、電源
配線におけるコンタクトの数と位置の最適化を行う。
【0031】次に、図1と図4を用いて本発明の第1実
施形態の構成を説明する。なお、図4は、図1に示した
論理LSI内部の構造を示す断面図である。また、説明
の簡単化を図るため接地線の図示は省略してある。
【0032】この論理LSIは、図4に示すように半導
体基板11の主面側にウェル領域12が形成され、さら
にそのウェル領域12の表面側には、論理回路部を構成
する各MOSトランジスタのソース領域12a及びドレ
イン領域12bが形成されている。この半導体基板11
の表面には絶縁層13を介して基本電源線21が格子状
に配線され(例えば縦:350本、横:86本)、この
絶縁層13内に埋設される形で各MOSトランジスタの
ゲート電極14が形成されている。ここで、格子状に配
置された基本電源線21の各交点は、図示しないコンタ
クトで接続されている。また、基本電源線21はコンタ
クト15を介してPチャネルMOSトランジスタのソー
ス領域12aと電気的に接続されている。
【0033】そして、基本電源線21上には、補強電源
線22(例えば横方向の基本電源線21と同じ幅)が層
間絶縁膜23を介して格子状に配設され、さらに基本電
源線21と補強電源線22の各交点にはコンタクト31
が配置されている。このコンタクト31は、後述する最
適化法によってその数と配置の位置が最適化されてお
り、図1のコンタクト配置パターンは、コンタクト31
を1つでも削除したり追加したりすると、回路動作時に
おける最大の電位降下が悪化するようなコンタクト31
の配置パターンとなっている。
【0034】例えば、図1の交差箇所Z1,Z2にコン
タクト31を配置しない場合(最適化された図1の配置
パターン)では、図5の実線P11に示すような電圧降
下状態となるのに対し、図1及び図5に示すように交差
箇所Z1,Z2にコンタクト31を配置した場合(図1
の配置パターンにコンタクトを追加)では、図5の破線
P12に示すような状態となり、電圧降下が悪化するの
が分かる。なお、図5のグラフは、図1の電圧降下が最
大となった位置(A−B:回路中心部を通る部分)での
電圧降下の様子を表わしている。
【0035】このように、図1に示すような電源配線の
コンタクト配置パターンを持った論理LSIでは、全部
にコンタクトを置くよりも電圧降下が緩和でき、回路動
作を保証することができる。
【0036】次に、図1に示したコンタクト配置パター
ンを作成する方法を図6のフローチャートを参照しつつ
説明する。
【0037】まず、ステップS11では、論理LSI内
部において基本電源線21と補強電源線22をチップ全
面に配線する。このとき、基本電源線21と補強電源線
22の間にはコンタクト31は未だ置かない。この状態
を図7に示す。
【0038】続く、ステップS12においては、回路検
証計算を行い、回路動作時に電圧降下が最大となる位置
を求める。これは、論理LSI内部でトランジスタ動作
時に発生した動作電流がPチャネルMOSトランジスタ
へ基本電源線21から流れ出し、NチャネルMOSトラ
ンジスタから接地線へ流れ込むことで、供給電圧が基本
電源線21では降下し、接地線では上昇する現象であ
る。この電圧降下問題について、論理LSI全面を例え
ばSPICE解析などで検証計算して、論理LSIの各
位置での電位や電圧降下値を求める。
【0039】そして、初めはステップS13の判断処理
(後述する)の結果が否定(NO)となるので、そのま
まステップS14へ移る。
【0040】ステップS14では、論理LSI内部で電
圧降下が最大の位置(A−B:回路中心部を通る部分)
に基本電源線21と補強電源線22の間にコンタクト3
1を置く。ここでの電圧降下が最大の位置とは、前記ス
テップS12で求めた情報を利用して割り出したもので
ある。この位置Z3,Z4と電圧降下の状態の例を図8
(a),(b)に示す。
【0041】再びステップS12に戻り、回路検証計算
を行い、ステップS13の条件(後述する)に適合する
かをチェックする。ステップS13の条件を満たした
ら、手続きを停止する。条件を満たさなければ、ステッ
プS14へ移り、手続きを続ける。条件を満たすまでの
ステップS12からステップS14までの繰り返し回数
をi(i=1、2、…)とする。
【0042】ここで、ステップS13の条件とは、i+
1回目の手続きにおいて、i+1番目に置いたコンタク
ト31により論理LSI内部の最大の電圧降下が、i番
目のコンタクト31を置いたときの電圧降下よりも増大
したら、手続きを停止することである。このとき、電圧
降下のグラフは図5の実線P11に示すようになる。
【0043】以上、フローチャートに従い完成した電源
配線のコンタクト31の配置状態の例が図1である。
【0044】上述したように、本実施形態の電源配線方
法では、回路動作時に電圧降下が最大の交差部分を優先
して電源配線間にコンタクト31を順に置くようにし、
そのとき、電圧降下が増大する場合はその交差部分には
コンタクト31を置かないものとした。これにより、電
源配線において、コンタクト31の数と位置を最適化す
ることが可能になり、電圧降下を緩和できる電源配線が
実現する。
【0045】次に、本発明の第2実施形態を説明する。
【0046】第2実施形態では、上記図1のコンタクト
配置パターンを作成するための別の方法を説明する。
【0047】本第2実施形態は、図9のフローチャート
に従い実施する。
【0048】図9のステップS21では、上記第1実施
形態でのステップS11の段階とは反対に、論理LSI
内部において基本電源線21と補強電源線22との間に
コンタクト31を配線上の全ての交差箇所に置く。この
状態の例を図10に示す。すなわち、図7に示す電源配
線の全交差箇所にコンタクトを置いた状態である。
【0049】ステップS22では、図6のステップS1
2の段階と同様に、回路検証計算を行い、論理LSIの
各位置における電圧降下値を求める。
【0050】そして、初めはステップS23の判断処理
(後述する)の結果が否定(NO)となるので、そのま
まステップS24へ移る。
【0051】ステップS24では、ステップS22の段
階の情報を利用して、論理LSI内部で電圧降下が最小
の位置を求め、その位置での基本電源線21と補強電源
線22の間のコンタクト31を消すことを行う。この位
置Z5,Z6、Z7,Z8と電圧降下の状態を図11
(a),(b)に示す。
【0052】再び、ステップS22へ戻り、回路検証計
算を行い、ステップS23の条件に適合するかをチェッ
クする。ステップS23の条件を満たしたら、手続きを
停止する。条件を満たさなければ、ステップS24の段
階へ移り、手続きを続ける。条件を満たすまでのステッ
プS22からステップS24までの繰り返し回数をi
(i=1、2、…)とする。
【0053】ここで、ステップS23の条件とは、i+
1回目の手続きにおいて、i+1番目に消したコンタク
ト31により論理LSI内部の最大の電圧降下が、i番
目にコンタクト31を消したときよりも増大したら停止
することである。このとき、電圧降下のグラフは図5の
実線P11に示すようになる。
【0054】上述したように、本実施形態の電源配線方
法では、基本電源線21と補強電源線22間にコンタク
ト31を全て置いた後、回路動作時において除去するこ
とで電圧降下量が減少するコンタクトから順に消すよう
にした。これにより、電源配線において、コンタクト3
1の数と位置を最適化することが可能になり、電圧降下
を緩和できる電源配線が実現する。また、論理回路部に
動作電流を多量に発生するブロックが多いほど、上記第
1実施形態の方法に比べて本実施形態の方法が早く最適
化を実現できる。
【0055】なお、本発明は、上記のフローチャート
(図6または図9)に従ったプログラムを記憶媒体(メ
モリ)に格納し、コンピュータ等で動作させることによ
り、上述の電源配線方法を実現させることも可能であ
る。この場合、上記プログラムを格納した記憶媒体が本
発明を構成する。
【0056】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1の発明
である半導体集積回路装置によれば、論理回路部の電圧
降下量が最小となるように、第1の電源線と第2の電源
線との間に設けられるコンタクトの数と位置を設定した
ので、電源配線において、コンタクトの数と位置を最適
化することができ、電圧降下を緩和することが可能にな
る。さらに、電圧降下を最小限に抑えられるため、論理
回路部内のトランジスタの正常動作と回路の安定動作を
保証することができる。
【0057】第2の発明である半導体集積回路装置によ
れば、上記第1の発明において、第2の電源線は、第1
の電源線を電気的に補強する補強電源線としたので、電
源配線において、補強電源線とのコンタクトの数と位置
を最適化することができる。
【0058】第3の発明である半導体集積回路装置の電
源配線方法によれば、半導体集積回路装置の論理回路部
へ電源を供給するための第1の電源線、及びこの第1の
電源線と異なる層の第2の電源線を配線する第1のステ
ップと、前記第1のステップの後に装置内部の各位置で
の電圧降下値を求める第2のステップと、前記電圧降下
値が最大となる位置で前記第1と第2の電源線の間にコ
ンタクトを置く第3のステップとを有し、前記電圧降下
値が前回値よりも増加するまで前記第2のステップと前
記第3のステップとを順次繰り返し実行するようにした
ので、電源配線において、コンタクトの数と位置を最適
化することができ、回路の電圧降下を緩和することがで
きる。さらに、電圧降下を最小限に抑えられるため、論
理回路部内のトランジスタの正常動作と回路の安定動作
を保証することができる。
【0059】第4の発明である半導体集積回路装置の電
源配線方法によれば、半導体集積回路装置の論理回路部
へ電源を供給するための第1の電源線、及びこの第1の
電源線と異なる層の第2の電源線を配線すると共に、前
記第1の電源線と前記第2の電源線との交点間に全てコ
ンタクトを置く第1のステップと、前記第1のステップ
後に装置内部の各位置での電圧降下値を求める第2のス
テップと、前記電圧降下値が最小となる位置の前記コン
タクトを除去する第3のステップとを有し、前記電圧降
下値が前回値よりも増加するまで前記第2のステップと
前記第3のステップとを順次繰り返し実行するようにし
たので、論理回路部に動作電流を多量に発生するブロッ
クが多いほど、上記第4の発明よりも早く最適化を実現
できる。
【0060】第5の発明である半導体集積回路装置の電
源配線方法によれば、上記第3または第4の発明におい
て、第2の電源線を、第1の電源線を電気的に補強する
補強電源線としたので、補強電源線とのコンタクトの数
と位置を最適化することができる。
【0061】第6の発明である記憶媒体によれば、第1
の手段から第4の手段までを読み出し実行することによ
り、上記第3の発明と同等の効果を奏する。
【0062】第7の発明である記憶媒体によれば、第1
の手段から第4の手段までを読み出し実行することによ
り、上記第4の発明と同等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体集積回路装置の第1実施形態に
係る論理LSI内部の電源配線のコンタクト配置パター
ンを示す平面図である。
【図2】本発明の半導体集積回路装置の基本的原理を示
す電源配線のコンタクト配置パターンを示す図である。
【図3】最大電圧降下の比較グラフである。
【図4】図1に示した論理LSI内部の構造を示す断面
図である。
【図5】コンタクト配置パターンからコンタクトを一個
取り除く前後の最大の電圧降下グラフである。
【図6】第1実施形態の電源配線方法を示すフローチャ
ートである。
【図7】図6のステップS11でのコンタクト配置パタ
ーン図である。
【図8】コンタクトを置く位置と電圧降下の状態のグラ
フである。
【図9】第2実施形態の電源配線方法を示すフローチャ
ートである。
【図10】図9のステップS21でのコンタクト配置パ
ターン図である。
【図11】コンタクトを置く位置と電圧降下の状態のグ
ラフである。
【図12】従来の論理LSI内部の電源配線のコンタク
ト配置パターンを示す平面図である。
【図13】従来のコンタクト配置パターンでの最大電圧
降下を示すグラフである。
【符号の説明】
21 基本電源線 22 補強電源線 31 コンタクト CE 論理LSIの中心部

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の論理動作を行う論理回路部と、前
    記論理回路部上に配設され該論理回路部へ電源電圧を供
    給する第1の電源線と、前記論理回路部上に前記第1の
    電源線と異なる層で配設され、且つ前記第1の電源線と
    の交差部分でコンタクトを介して接続された第2の電源
    線とを備えた半導体集積回路装置において、 前記論理回路部の電圧降下量が最小となるように、前記
    第1の電源線と前記第2の電源線との間に設けられるコ
    ンタクトの数と位置を設定したことを特徴とする半導体
    集積回路装置。
  2. 【請求項2】 前記第2の電源線は、前記第1の電源線
    を電気的に補強する補強電源線であることを特徴とする
    請求項1記載の半導体集積回路装置。
  3. 【請求項3】 半導体集積回路装置の論理回路部へ電源
    を供給するための第1の電源線、及びこの第1の電源線
    と異なる層の第2の電源線を配線する第1のステップ
    と、 前記第1のステップの後に装置内部の各位置での電圧降
    下値を求める第2のステップと、 前記電圧降下値が最大となる位置で前記第1と第2の電
    源線の間にコンタクトを置く第3のステップとを有し、 前記電圧降下値が前回値よりも増加するまで前記第2の
    ステップと前記第3のステップとを順次繰り返し実行す
    ることを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線方
    法。
  4. 【請求項4】 半導体集積回路装置の論理回路部へ電源
    を供給するための第1の電源線、及びこの第1の電源線
    と異なる層の第2の電源線を配線すると共に、前記第1
    の電源線と前記第2の電源線との交点間に全てコンタク
    トを置く第1のステップと、 前記第1のステップ後に装置内部の各位置での電圧降下
    値を求める第2のステップと、 前記電圧降下値が最小となる位置の前記コンタクトを除
    去する第3のステップとを有し、 前記電圧降下値が前回値よりも増加するまで前記第2の
    ステップと前記第3のステップとを順次繰り返し実行す
    ることを特徴とする半導体集積回路装置の電源配線方
    法。
  5. 【請求項5】 前記第2の電源線は、前記第1の電源線
    を電気的に補強する補強電源線であることを特徴とする
    請求項3または請求項4記載の半導体集積回路装置の電
    源配線方法。
  6. 【請求項6】 半導体集積回路装置の論理回路部へ電源
    を供給するための第1の電源線、及びこの第1の電源線
    と異なる層の第2の電源線を配線する第1の手段と、 前記第1の手段の後に装置内部の各位置での電圧降下値
    を求める第2の手段と、 前記電圧降下値が最大となる位置で前記第1と第2の電
    源線の間にコンタクトを置く第3の手段と、 前記電圧降下値が前回値よりも増加するまで前記第2の
    手段と前記第3の手段とを順次繰り返し実行する第4の
    手段とを記憶したことを特徴とする記憶媒体。
  7. 【請求項7】 半導体集積回路装置の論理回路部へ電源
    を供給するための第1の電源線、及びこの第1の電源線
    と異なる層の第2の電源線を配線すると共に、前記第1
    の電源線と前記第2の電源線との交点間に全てコンタク
    トを置く第1の手段と、 前記第1の手段後に装置内部の各位置での電圧降下値を
    求める第2の手段と、 前記電圧降下値が最小となる位置の前記コンタクトを除
    去する第3の手段と、 前記電圧降下値が前回値よりも増加するまで前記第2の
    手段と前記第3の手段とを順次繰り返し実行する第4の
    手段とを記憶したことを特徴とする記憶媒体。
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