JPH1027969A - 非貫通スルーホール穴を有する多層配線板 - Google Patents

非貫通スルーホール穴を有する多層配線板

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JPH1027969A
JPH1027969A JP8198513A JP19851396A JPH1027969A JP H1027969 A JPH1027969 A JP H1027969A JP 8198513 A JP8198513 A JP 8198513A JP 19851396 A JP19851396 A JP 19851396A JP H1027969 A JPH1027969 A JP H1027969A
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JP
Japan
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hole
wiring board
outer layer
multilayer wiring
land
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JP8198513A
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English (en)
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Kazumitsu Ishikawa
和充 石川
Masayuki Sakurai
正幸 櫻井
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Lincstech Circuit Co Ltd
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Hitachi AIC Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来の非貫通スルーホール穴は高い製作精度
が要求され、作業効率も悪く、通常は電気的な接続には
利用するが部品実装としては使用されず高密度実装が困
難であった。但し、貫通スルーホール穴の内部に充填物
を充填し、穴端部表面に2次めっきを施こして面付ラン
ドを設ける方法もあるが作業管理、品質管理が難しく加
工コストも高くなっていた。 【解決手段】 本発明は、加工工程が単純で複雑な作業
管理や品質管理が不要となり、安定した品質維持と高い
生産性の非貫通スルーホール穴を有する多層配線板を提
供することができる。すなわち非貫通スルーホール穴の
上面と下面の外層導体回路をスルーホールめっきで導通
させ、この非貫通スルーホール穴の両面に面付部品とリ
ード線付挿入部品が高密度に部品実装できる構造の非貫
通スルーホール穴を有した多層配線板である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は多層配線板に関し、
特に高密度の部品実装に用いられるもので、非貫通スル
ーホール穴を有する多層配線板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来は多層配線板において、各配線層間
の電気的接続は図4に示すように、外層導体22〜外層
導体22間または外層導体22〜内層導体12A,12
B〜外層導体22間の電気的接続は通常の貫通スルーホ
ール穴17めっきによるスルーホールめっき層5Bで接
続されている。図4のような外層導体22〜内層導体1
2A間の電気的接続は非貫通スルーホール穴16のスル
ーホールめっき層5Bで接続されている。
【0003】多層配線板の部品実装の高密度化が要求さ
れることにより、多層配線板の配線の高密度化と部品実
装の構造改良との対応が必要となっている。特に配線の
高密度化に伴ない貫通スルーホール穴17の数が増大し
ている。また、非貫通スルーホール穴16は特に高い製
作精度が要求され、複数枚重ねによる穴明加工ができな
く作業効率が悪いことと、さらにスルーホールめっきの
際に非貫通穴内部の気泡が残りスルーホールめっき不良
が生じ易いなどの理由で一般的には貫通スルーホール穴
17で設定されることが多い。但し部品実装の高密度化
の最良手段として部品の小型化と印刷配線板の表面に部
品をはんだ付けする表面実装が主体となっているため配
線板の上面下面貫通スルーホール穴17の上下非貫通ス
ルーホール穴16の反対表面に面付ランド18を配置す
ることが多くなっている。
【0004】上述の配線板の上下貫通スルーホール穴1
7の上下の外層表面に面付ランド18を配置する従来例
2として、特公平8−21764,特開平4−4429
3,特開平4−91489,特公平8−31695,特
公平7−118583などがあるが共通する内容を図5
に示す。この貫通スルーホール穴17に充填物19を充
填した、充填非貫通スルーホール穴3Aを形成する方法
は両面銅張ガラスエポキシ積層板11をエッチング処理
して、内層導体回路12A,12Bを形成し、この両面
にプリプレグ14、外層銅箔板15を積層し、加熱圧着
をする。その後、ドリルで貫通穴を穴明し、次に1次め
っき層13Aを形成してから導電性ペーストやエポキシ
樹脂系、フェノール樹脂系の絶縁物樹脂ペーストなどの
充填物19を充填し乾燥硬化させる、その次に充填穴の
上面、下面端部に2次めっき層13Bを形成してから印
刷法や写真法により所定の外層表面導体回路を形成する
ことにより、充填非貫通スルーホール穴3Aの上面、下
面端部に表面実装用の面付ランド18を形成する。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】前述した従来の技術に
よる多層配線板の構造は次のような欠点を有していた。
図4に示す従来例1の場合は、従来の技術の項で述べた
ように非貫通スルーホール穴16は製作精度、作業効
率、スルーホールめっき不良に起因する歩留り、内層導
体回路12接続の信頼性の他に上下面の外層表面導体回
路22と非貫通スルーホール穴16の反対外層表面に配
置する面付ランド18が電気的に接続されず導通させる
には別箇所に設けた図4のような貫通スルーホール穴1
7を経由して導体回路接続するため配線の高密度化がで
きない構造上の制約があり、すなわち非貫通スルーホー
ル穴16の上下面の外層表面導体回路22は必ず非導通
の導体回路でなければならない構造である。
【0006】また、図5に示すような従来例2の場合、
貫通スルーホール穴17の上,下面の外層表面に面付ラ
ンド18を配置するためには、貫通スルーホール穴17
の内部に充填物19を充填する際、アスペクト比(スル
ーホール穴の深さ/スルーホール穴の直径)が大きくな
ると十分の充填ができず硬化後に凹穴となり平坦な表面
形成とならない。アスペクト比を2〜3程度と小さくす
るためには、非貫通スルーホール穴径が大きくなり高密
度化と相反するという問題があった。また、表面実装部
品は小型化されているため、面付ランド18は微小サイ
ズとなり、高いはんだ付性が必要となり充填物19の端
部表面は、はんだ付性の良好な2次めっき13Bを形成
しなければならず製造工程が多くなり、特殊な2次めっ
き作業や品質管理、充填物の調合、粘度、流動性、充填
性、硬化状態、充填物端面の平坦性、2次めっきとの密
着性、リフローはんだ耐熱性などの作業管理や品質管理
項目が多く、安定した品質での生産が困難となり生産性
向上や低コスト化が課題となっていた。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は前述した従来の
課題を解決した非貫通導通スルーホール穴の構造を有す
る多層配線板を提供することにある。本発明は従来の両
面銅張積層板1Aで内層導体回路12A,12B形成と
スルーホール穴明加工を施し、その上に銅張フィルム体
2Aを積層加熱圧着して、レーザー加工により非貫通穴
内に残存する絶縁樹脂を除去し、凹形非貫通穴を形成し
てからスルーホールめっきを施し、非貫通穴の上下面の
外層表面導体回線22をスルーホールめっき層5Bで電
気的に導通させる構造を特徴とする多層配線板であり、
外層表面導体回路22用の銅張フィルム体2Aを外層材
2として使用すること、レーザー加工で非貫通穴を施す
工程と、非貫通穴内にめっきを施す工程と、さらには非
貫通スルーホール穴3の内部は空洞で片端部の外層表面
に形成した面付ランド18A,18Bに面付部品80
A,80Bを、また非貫通スルーホール穴3には、リー
ド線付挿入部品80Cを高密度実装することのできる非
貫通スルーホール穴3を有する多層配線板を提供でき
る。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて説明する。図1は本発明による非貫通スルーホール
穴3を有する多層配線板構造断面図である。内層導体回
路12A,12Bを形成する内層材1、外層表面導体回
路22を形成する外層材2、この内層材1と外層材2
に、非貫通スルーホール穴3、スルーホールめっき層5
B、内層導体回路12A,12B、外層表面導体回路2
2が形成された断面図を示す。この外層導体回路22に
は、非貫通スルーホール穴3の上面のスルーホールラン
ド8A、非貫通スルーホール穴3の上面の面付ランド1
8A、非貫通スルーホール穴3の下面のスルーホールラ
ンド8B、非貫通スルーホール穴3の下面の面付ランド
18Bが示されている。図2(a)〜(g)は本発明に
よる実施例の製造方法を説明する工程順に示した断面図
である。図3は本発明による非貫通スルーホール穴3を
有する多層配線板に電子部品を高密度実装した断面図を
示してある。
【0009】本発明の非貫通スルーホール穴3のスルー
ホールめっき層5Bで、この穴の上下面外層表面導体回
路22を電気的に接続して導通を図っている。また図1
に示すように本発明による非貫通スルーホール穴3の構
造は、この穴の内部は空洞となっており非貫通スルーホ
ール穴3の片端部の外層表面には面付ランド18が通常
の基材上に面付ランドを形成するのと同様に形成されて
いる。すなわちスルーホール穴の内部に充填物19を充
填すること、この充填穴の上下片端部に2次めっき13
Bを施す必要がなくなり、複雑な作業管理や品質管理が
不要となり、安定した品質維持ができるようになった。
さらに加工工程が単純であるため不良発生も少なく、作
業効率も良く、高い生産性が望めることから図5に示す
従来の多層配線板に比べ50〜60%の低コスト化が可
能となった。
【0010】
【実施例】本発明による実施例を図2を参照して説明す
る。先ず、図2(a)に示す内層材1として従来では、
通常に使用されている両面銅張積層板1Aを使用し、図
2(b)に示すようにエッチング処理をして両面に内層
導体回路12A,12Bを形成する。次に図2(c)に
示すように、形成された内層導体回路12A,12Bの
上に外層材2を加熱圧着積層し多層銅張積層板を形成す
る。この外層材としてはガラスエポキシ絶縁樹脂板であ
るプリプレグ14と銅箔板15で構成してもよいが積層
作業効率、レーザー穴明加工性の良い銅張フィルム体2
Aを使用した。このフィルム体は絶縁樹脂層厚み100
μmのエポキシ樹脂とした。次に、図2(d)に示すよ
うにドリル加工6で非貫通穴を多層銅張積層板の下側の
外層表面銅箔の近くまでザグリ穴明けし、図2(e)の
工程で、このザグリ穴の内部に残っている絶縁樹脂をレ
ーザー加工7で除去してから、図2(f)に示すように
従来の通常作業でスルーホールめっき層5Bを形成し、
非貫通穴の上下面の外層表面導体回路を電気的に導通さ
せる。
【0011】その後、図2(g)のように従来工法にて
多層銅張積層板の外層表面に外層表面導体回路22を形
成する。図2(e)の工程で形成される非貫通穴径は
0.3〜0.8φ程度であるが、本実施例としてはリー
ド線付挿入部品80Cを非貫通スルーホール穴3に実装
するため0.6φとした。 またレーザー穴明加工には
CO2ガスレーザーで発信波長8〜30μmの短パルス
で加工した。さらに図2(c)の工程で使用した銅張フ
ィルム体2Aはエポキシ樹脂のみならず、メラミン変成
エポキシ樹脂、テフロン樹脂、ポリイミド樹脂、合成繊
維変成樹脂あるいはエポキシ系やアクリル系の絶縁イン
キによる被膜でもよい。
【0012】本発明による非貫通スルーホール穴3を有
する多層配線板に電子部品を高密度実装する実施例を図
3を参照して説明する。非貫通スルーホール穴3の片端
部の外層表面に形成した面付ランド18Aにリードレス
面付部品80Aをリフローはんだ付で実装し、この面付
ランドと反対側にある非貫通スルーホール穴3のスルー
ホール穴内部に通常のリード線付挿入部品80Cをはん
だ付して部品実装する。特に、このリード線付挿入部品
80Cの実装においては従来の配線板では貫通スルーホ
ール穴17に部品リード線を挿入するため部品実装の反
対面に部品リード線が突出し、この突出した部分に、は
んだフィレットが形成され、この箇所への面付部品80
A,80Bの実装は不可となっていた。上述のように、
この非貫通スルーホール穴3は穴の上下面の外層表面導
体回路22をスルーホールめっき層5Bにより導通さ
せ、且つ、この非貫通スルーホール穴3の面付ランド1
8A,18Bに、リードレス面付部品80Aやリード線
付面付部品80Bを、スルーホールランド8A,8Bに
はリード線付挿入部品80Cを実装できる構造が特徴と
なる非貫通スルーホール穴3である。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば非貫
通スルーホール穴3は、この穴の上、下外層表面導体回
路22をスルーホールめっきにより電気的に接続し導通
させ、非貫通スルーホール穴の内部に充填物を充填する
必要もなく、図5の従来の充填非貫通スルーホール穴3
Aのアスペクト比2〜3から、この非貫通スルーホール
穴3のアスペクト比は4〜6と小径化することができ、
図4の従来工法の非貫通スルーホール穴16の多層配線
板に対して130〜140%の高密度化が図られる。そ
の他に2次めっきを施す必要もなく、加工工程が単純な
ため複雑な作業管理や品質管理が不要となり、安定した
品質維持と高い生産性により、図5に示す従来の多層配
線板に比べ50〜60%に低コストで非貫通スルーホー
ル穴を有する多層配線板を提供することができる。
【0014】また、多層配線板の部品実装においても、
本発明による非貫通スルーホール穴3の両面に面付部品
80A,80Bとリード線付挿入部品80Cを高密度に
実装することができる構造のため図4の従来工法の多層
配線板に対して140〜160%の高密度実装化が達成
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の断面図。
【図2】本発明の工程を示す断面図。
【図3】本発明による部品実装の断面図。
【図4】従来例1を示す断面図。
【図5】従来例2を示す断面図。
【符号の説明】
1…内層材 1A…両面銅張積層板 1C…内層材の銅
箔 2…外層材 2A…銅張フィルム体 2C…外層材の銅箔 3…非貫
通スルーホール穴 3A…充填非貫通スルーホール穴 5A…めっき層 5B…スルーホールめっき層 6…ドリル加工 7…レ
ーザー加工 8…スルーホールランド 8A…非貫通穴上面のスルー
ホールランド 8B…非貫通穴下面のスルーホールランド 11…ガラ
スエポキシ積層板 12A…第1の内層導体回路 12B…第2の内層導体
回路 13A…1次めっき層 13B…2次めっき層 14…
プリプレグ 15…外層銅箔板 16…ザグリ加工による非貫通スル
ーホール穴 17…貫通スルーホール穴 18…面付ランド 18A…非貫通穴上面の面付ランド 18B…非貫通穴
下面の面付ランド 19…充填物 22…外層表面導体回路 80A…リー
ドレス面付部品 80B…リード線付面付部品 80C…リード線付挿入
部品 85…はんだ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定の内層導体回路を形成した内層材
    と、この両面に外層材を積層し一体化してなる多層配線
    板を用い、この多層配線板の所定箇所に非貫通穴を有し
    た多層配線板であって、この多層配線板の非貫通穴内に
    残存する絶縁樹脂をレーザー加工で除去して、外層表面
    にある導体回路の銅部分のみを残した非貫通穴を形成
    し、この非貫通穴内にスルーホールのめっき層を形成
    し、この非貫通穴の上面と下面にある外層表面導体回路
    を導通させることを特徴とする非貫通スルーホール穴を
    有する多層配線板。
  2. 【請求項2】 請求項1において、外層材に銅張フィル
    ム体を使うことを特徴とする非貫通スルーホール穴を有
    する多層配線板。
JP8198513A 1996-07-10 1996-07-10 非貫通スルーホール穴を有する多層配線板 Pending JPH1027969A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008004660A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk ブラインドホールカット配線板およびその製造方法
JP2010192792A (ja) * 2009-02-20 2010-09-02 Nippon Avionics Co Ltd プリント配線板の孔部への選択的樹脂充填方法

Cited By (3)

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