JPH10275764A - X線露光用装置 - Google Patents

X線露光用装置

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Publication number
JPH10275764A
JPH10275764A JP9094978A JP9497897A JPH10275764A JP H10275764 A JPH10275764 A JP H10275764A JP 9094978 A JP9094978 A JP 9094978A JP 9497897 A JP9497897 A JP 9497897A JP H10275764 A JPH10275764 A JP H10275764A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray
exposure
rays
protection plate
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9094978A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigehisa Oki
茂久 大木
Akinori Shibayama
昭則 柴山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
N T T ADVANCE TECHNOL KK
NTT Advanced Technology Corp
Original Assignee
N T T ADVANCE TECHNOL KK
NTT Advanced Technology Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by N T T ADVANCE TECHNOL KK, NTT Advanced Technology Corp filed Critical N T T ADVANCE TECHNOL KK
Priority to JP9094978A priority Critical patent/JPH10275764A/ja
Publication of JPH10275764A publication Critical patent/JPH10275764A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 X線露光装置において、未露光時において該
装置の後方部への放射線の漏洩を皆無にする。 【解決手段】 X線マスク上に形成されたパターンをこ
れと対向して保持された基板に焼き付ける機能を有した
X線露光用装置において、露光用X線が通過する経路に
前記露光用X線を吸収する防護板を設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、マスクとウエハを
位置合せした後、マスクパタンをウエハ上に焼き付けて
半導体ICやLSIを製造するための露光装置に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】半導体ICやLSIの高集積化は主に回
路を構成するパターンの線幅を狭めることにより達成さ
れてきた。従来、半導体関連技術におけるパターンの焼
き付けには、一部の分野を除いて紫外線領域の光が用い
られてきた。近年の経緯を説明すると、まず超高圧水銀
灯が発するスペクトルの内のg線(波長365nm)が
露光用の光として用いられた。しかし、集積度の向上に
伴って基板上に焼き付けるべきパターンの線幅がg線の
波長より短くなるという状況になった。このため、さら
に波長の短い輝線であるi線が露光用の光として用いら
れてきた。露光に用いる光の短波長化はこの後も進み、
近年ではより波長の短い光源として波長248nmのK
rFエキシマレーザー、波長193nmのArFエキシ
マレーザーの利用が検討されている。このうち前者のK
rFエキシマレーザーを用いた露光装置は実用化の段階
に入っているが、後者のArFエキシマレーザーを用い
た露光装置の実用化は様々の困難に直面している。
【0003】以上のように、紫外線領域の光を用いたパ
ターンの焼き付けはパターン線幅と露光用の光の波長と
の関係から原理的な困難に直面している。この困難性を
克服する1つの方法として波長1nm近傍の軟X線を用
いるX線露光技術が提唱されている。X線光源として
は、当初高エネルギーに加速した電子を固体に衝突させ
ることにより得られる特性X線を利用する電子励起型X
線源が、次いでピンチプラズマを利用するプラズマX線
源が検討された。現在では高い強度のX線が得られるシ
ンクロトロン加速器をX線光源として利用することが一
般的である。X線を利用したパターンの焼き付けには専
用の露光装置が必要であり、いわゆる「光」を用いた露
光装置とは基板の保持形態が大きく異なっている。すな
わち、X線露光装置では光源であるシンクロトロン加速
器からX線が地面と並行にX線露光装置に導かれるのに
対して、光露光装置では一般に地面に垂直に上から下に
向け「光」が導かれる。
【0004】ところで、作業環境の面から考えると、紫
外線を用いる光露光では問題にはならないが、X線露光
では放射線による被爆の問題がある。X線露光では、基
板が地面に対して垂直に保持され、さらに露光用のX線
も基板に垂直に入射する。このため、露光時には基板が
X線を遮断するが、露光時以外にX線が露光装置に導か
れている場合にはX線露光装置の後部に放射線としての
X線が到達することになり、ひいては被爆につながる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明のうち請求項1
の発明は、基板保持部より後ろの位置に露光用X線を吸
収する防護板を設けることにより、露光時以外にX線が
露光装置に導かれた場合にも、防護板により露光用X線
が吸収されるためX線が遮られることなくX線露光装置
後部へ到達することを防止することを目的としたもので
ある。また、請求項2の発明は上記防護板は平面上の防
護板で、斜め方向に通気部分を有し、かつ、X線進行方
向にはX線吸収材料を有する構造で、X線がX線露光装
置後部へ到達することを防止することを目的とした。
【0006】
【課題を解決するための手段】X線マスク上に形成され
たパターンをこれと対向して保持された基板に焼き付け
る機能を有したX線露光用装置において、露光用X線が
通過する経路に前期露光用X線を吸収する材料であり、
質量の大きい金属材料で構成された防護板を設けたこと
を特徴とするX線露光用装置であり、防護板は、平面状
の防護板、斜め方向に通気部分を有し、且つ、X線吸収
材料を有する構造であることを特徴とする。
【0007】
【発明の実施の形態】以下、図1、図2を参照して本発
明の実施形態の一例を説明する。図1は、本発明に係わ
るX線露光装置の構成、即ち半導体ICやLSIを製造
するためのX線露光装置構成の概略を示すものである。
1のビームライよりX線入射される。第1図は基板が露
光位置にない場合を示している。基板5は露光位置にな
いため第1図のように基板ステージ4と共にX線と平行
に設置されている。このため、1のビームラインにより
導かれた露光用X線3はX線露光装置8の後部まで到達
するが、X線露光装置8の後部に設置された防護板7が
このX線を吸収あるいは遮断する。図1は基板が露光位
置にある場合を示している。この場合は、金属で構成さ
れた基板ステージ4により、通常はX線が後方に対して
遮断される。
【0008】図2は、防護板7のX線進行方向からみた
構成図であり、A−A’断面を示す。図2から、防護材
料板に斜め下方向にスリットを形成している。この構造
から、X線進行方向には防護材料があるため後方にX線
が透過することが無く、且つスリット部を通して空気が
流れる。空気が流れる構造により、X線露光装置無内で
の空気の「よどみ」を生じさせることを防ぐことができ
る。
【0009】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、基
板が露光位置にない場合にも入射するX線がX線露光装
置後部あるいは露光装置外に透過することを防ぐことが
できる。また、防護板を中心に四角錐台状の穴を有する
構造としておくことにより、防護板で反射するX線を常
に防護板内部に向けることが可能となり、防護板のX線
吸収能を効果的に高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わるX線露光装置である。
【図2】防護板のX線進行方向からみた構成図である。
【符号の説明】
1 ビームライン 2 X線露光用マスク 3 X−Yステージ 4 基板ステージ 5 基板 6 露光用X線 7 防護板 8 X線露光装置 9 防護板桟部 10 防護板平板部 11 基板ステージ回転部 71 防護材料 72 スリット部

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線マスク上に形成されたパターンをこ
    れと対向して保持された基板に焼き付ける機能を有した
    X線露光用装置において、露光用X線が通過する経路に
    前記露光用X線を吸収する材料であり、重金属などの質
    量の大きい金属材料で構成された防護板を設けたことを
    特徴とするX線露光用装置。
  2. 【請求項2】 防護板は、平面状の防護板で、斜め方向
    に通気部分を有し、且つ、X線進行方向にはX線吸収材
    料を有する構造であることを特徴とする請求項1記載の
    X線露光装置。
JP9094978A 1997-03-28 1997-03-28 X線露光用装置 Pending JPH10275764A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9094978A JPH10275764A (ja) 1997-03-28 1997-03-28 X線露光用装置

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JP9094978A JPH10275764A (ja) 1997-03-28 1997-03-28 X線露光用装置

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JPH10275764A true JPH10275764A (ja) 1998-10-13

Family

ID=14125002

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9094978A Pending JPH10275764A (ja) 1997-03-28 1997-03-28 X線露光用装置

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JP (1) JPH10275764A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7026192B2 (en) 1998-10-21 2006-04-11 Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Terminal land frame and method for manufacturing the same

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7026192B2 (en) 1998-10-21 2006-04-11 Matsushita Electric Industrial Co. Ltd. Terminal land frame and method for manufacturing the same

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