JPH10271862A - 静電浮上型搬送装置 - Google Patents
静電浮上型搬送装置Info
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- JPH10271862A JPH10271862A JP7213797A JP7213797A JPH10271862A JP H10271862 A JPH10271862 A JP H10271862A JP 7213797 A JP7213797 A JP 7213797A JP 7213797 A JP7213797 A JP 7213797A JP H10271862 A JPH10271862 A JP H10271862A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 粉体（パーティクル）の発生を低減するため
に、被搬送物を水平方向に対して傾斜させた状態で非接
触に支持するとともに、この状態を保持しながら搬送さ
せることが可能な静電浮上型搬送装置を提供する。 【解決手段】 被搬送物５０１を静電吸着力により非接
触状態で保持するための静電力発生用電極２０４を備え
た絶縁基板２０２を立設してなる保持装置２０１と、こ
の保持装置２０１の静電力発生用電極２０４への印加電
圧を調整する制御部と、前記被搬送物５０１を支持する
支持部材２０６を備えてなり、この支持部材２０６を前
記保持装置２０１に沿って移動させるスライド機構とを
設ける。
に、被搬送物を水平方向に対して傾斜させた状態で非接
触に支持するとともに、この状態を保持しながら搬送さ
せることが可能な静電浮上型搬送装置を提供する。 【解決手段】 被搬送物５０１を静電吸着力により非接
触状態で保持するための静電力発生用電極２０４を備え
た絶縁基板２０２を立設してなる保持装置２０１と、こ
の保持装置２０１の静電力発生用電極２０４への印加電
圧を調整する制御部と、前記被搬送物５０１を支持する
支持部材２０６を備えてなり、この支持部材２０６を前
記保持装置２０１に沿って移動させるスライド機構とを
設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、板状や円筒状の被
搬送物を静電吸着力により非接触の状態で支持しながら
搬送する静電浮上型搬送装置に関するものであり、特
に、半導体ウエハ、サファイア基板、ガラス基板、セラ
ミック基板、プリンター用ドラム等の表面を傷付けるこ
となく固定、搬送するのに好適なものである。
搬送物を静電吸着力により非接触の状態で支持しながら
搬送する静電浮上型搬送装置に関するものであり、特
に、半導体ウエハ、サファイア基板、ガラス基板、セラ
ミック基板、プリンター用ドラム等の表面を傷付けるこ
となく固定、搬送するのに好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造工程等では、半導体ウ
エハを所定の位置に移動させるために図５に示すような
搬送装置が使用されている。この搬送装置は、被搬送物
５０１を保持する静電チャック５０２をハンド５０３に
設け、第１関節５０４と第２関節５０５を第１アーム５
０６にて結合してある。また、第２関節５０５と第３関
節５０７は第２アーム５０８にて結合してあり、第３関
節５０７は上下リフタ５０９と結合してある。更に、上
下リフタ５０９はリスト関節５１０に結合され、いわゆ
る水平多関節の搬送装置を構成している。
エハを所定の位置に移動させるために図５に示すような
搬送装置が使用されている。この搬送装置は、被搬送物
５０１を保持する静電チャック５０２をハンド５０３に
設け、第１関節５０４と第２関節５０５を第１アーム５
０６にて結合してある。また、第２関節５０５と第３関
節５０７は第２アーム５０８にて結合してあり、第３関
節５０７は上下リフタ５０９と結合してある。更に、上
下リフタ５０９はリスト関節５１０に結合され、いわゆ
る水平多関節の搬送装置を構成している。
【０００３】また、上記静電チャック５０２の構造は図
６に示すように、円盤状をした絶縁基体４０１の表面に
半円状をした２枚の静電力発生用電極４０２，４０３を
敷設するとともに、この静電力発生用電極４０２，４０
３を覆うように絶縁基体４０１の表面を絶縁皮膜４０４
で被覆し、その表面を吸着面４０５としたものであり、
この吸着面４０５に被搬送物５０１を載置し、静電力発
生用電極４０２，４０３間に高電圧を印加することで被
搬送物５０１を分極させて帯電せしめ、その電荷と静電
力発生用電極４０２，４０３との間に作用する静電吸着
力でもって、被搬送物５０１を吸着面４０５に保持する
ようになっており、静電力発生用電極４０２，４０３間
に印加する電圧を上げて、静電吸着力を高めることによ
り、被搬送物５０１と吸着面４０５との間の摩擦力を増
大せしめ、搬送時や外部からの振動に対して位置ズレを
生じることなく、所定の位置に被搬送物５０１を保持す
るようにしていた。
６に示すように、円盤状をした絶縁基体４０１の表面に
半円状をした２枚の静電力発生用電極４０２，４０３を
敷設するとともに、この静電力発生用電極４０２，４０
３を覆うように絶縁基体４０１の表面を絶縁皮膜４０４
で被覆し、その表面を吸着面４０５としたものであり、
この吸着面４０５に被搬送物５０１を載置し、静電力発
生用電極４０２，４０３間に高電圧を印加することで被
搬送物５０１を分極させて帯電せしめ、その電荷と静電
力発生用電極４０２，４０３との間に作用する静電吸着
力でもって、被搬送物５０１を吸着面４０５に保持する
ようになっており、静電力発生用電極４０２，４０３間
に印加する電圧を上げて、静電吸着力を高めることによ
り、被搬送物５０１と吸着面４０５との間の摩擦力を増
大せしめ、搬送時や外部からの振動に対して位置ズレを
生じることなく、所定の位置に被搬送物５０１を保持す
るようにしていた。
【０００４】なお、上記搬送装置の各関節５０４，５０
５，５０７や上下リフタ５０９には回転機構として回転
ベアリング５１１や回転アクチュエータ５１２、あるい
はリニアベアリング５１４やリニアアクチュエータ５１
５をそれぞれ設けてあり、これらの駆動により発生する
油分や粉体（パーティクル）が真空中に飛散することを
防ぐために、各関節５０４，５０５，５０７には回転シ
ール５１３を、上下リフタ５０９にはリニアシール５１
６をそれぞれ設けてある。
５，５０７や上下リフタ５０９には回転機構として回転
ベアリング５１１や回転アクチュエータ５１２、あるい
はリニアベアリング５１４やリニアアクチュエータ５１
５をそれぞれ設けてあり、これらの駆動により発生する
油分や粉体（パーティクル）が真空中に飛散することを
防ぐために、各関節５０４，５０５，５０７には回転シ
ール５１３を、上下リフタ５０９にはリニアシール５１
６をそれぞれ設けてある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
たような搬送装置による真空中の固定や搬送において
は、以下のような問題点があった。 （１）被搬送物５０１を支持する場合、その底面の大部
分が静電チャック５０２の吸着面４０５と接触すること
から、この接触により真空容器中を微小ながら汚染する
ことが知られている。
たような搬送装置による真空中の固定や搬送において
は、以下のような問題点があった。 （１）被搬送物５０１を支持する場合、その底面の大部
分が静電チャック５０２の吸着面４０５と接触すること
から、この接触により真空容器中を微小ながら汚染する
ことが知られている。
【０００６】また、関節５０４，５０５，５０７や上下
リフタ５０９の回転シール５１３やリニアシール５１６
からも、微量ながらパーティクルの発生が検出されるこ
とがあった。一般的な例であるが、被搬送物５０１に８
インチのシリコンウエハを用いた場合、静電チャック５
０２ではチャック動作の１アクションで、０．０２ｍｇ
の粉体（パーティクル）が平均して飛散し、各関節５０
４，５０５，５０７に備える回転シール５１３や上下リ
フタ５０９に備えるリニアシール５１６からは１アクシ
ョンで、０．０５ｍｇの粉体と０．０３ｍｇのガス成分
が平均して飛散していた。
リフタ５０９の回転シール５１３やリニアシール５１６
からも、微量ながらパーティクルの発生が検出されるこ
とがあった。一般的な例であるが、被搬送物５０１に８
インチのシリコンウエハを用いた場合、静電チャック５
０２ではチャック動作の１アクションで、０．０２ｍｇ
の粉体（パーティクル）が平均して飛散し、各関節５０
４，５０５，５０７に備える回転シール５１３や上下リ
フタ５０９に備えるリニアシール５１６からは１アクシ
ョンで、０．０５ｍｇの粉体と０．０３ｍｇのガス成分
が平均して飛散していた。
【０００７】（２）被搬送物５０１を常に水平にして保
持する関係で、前述の飛散した粉体やガス成分が舞い上
がり、被搬送物５０１の表面に付着する確率が高く、製
造装置での歩留まりを大きく低下させているのが現状で
あった。この確率は、製造装置の状態（清掃の有無等）
で異なるが、真空中での処理に関する不良の原因を挙げ
ると、その殆どが粉体（パーティクル）汚染であること
が判っている。
持する関係で、前述の飛散した粉体やガス成分が舞い上
がり、被搬送物５０１の表面に付着する確率が高く、製
造装置での歩留まりを大きく低下させているのが現状で
あった。この確率は、製造装置の状態（清掃の有無等）
で異なるが、真空中での処理に関する不良の原因を挙げ
ると、その殆どが粉体（パーティクル）汚染であること
が判っている。
【０００８】本発明は、上記問題点を除去し、粉体（パ
ーティクル）の発生を低減するために、被搬送物を水平
方向に対して傾斜させた状態で非接触に支持するととも
に、この状態を保持しながら搬送することが可能な静電
浮上型搬送装置を提供することを目的とする。
ーティクル）の発生を低減するために、被搬送物を水平
方向に対して傾斜させた状態で非接触に支持するととも
に、この状態を保持しながら搬送することが可能な静電
浮上型搬送装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するために、被搬送物を静電吸着力により非接触状態
で保持するための静電力発生用電極を備えた絶縁基板を
立設してなる保持装置と、この保持装置の静電力発生用
電極への印加電圧を調整する制御部と、前記被搬送物を
支持する支持部材を備えてなり、この支持部材を前記保
持装置に沿って移動させるスライド機構とから静電浮上
型搬送装置を構成したものである。
成するために、被搬送物を静電吸着力により非接触状態
で保持するための静電力発生用電極を備えた絶縁基板を
立設してなる保持装置と、この保持装置の静電力発生用
電極への印加電圧を調整する制御部と、前記被搬送物を
支持する支持部材を備えてなり、この支持部材を前記保
持装置に沿って移動させるスライド機構とから静電浮上
型搬送装置を構成したものである。
【００１０】このように構成した静電浮上型搬送装置
は、被搬送物を支持部材だけで支持することができるた
め、被搬送物との接触面積を飛躍的に小さくでき、接触
摩擦により発生する粉体（パーティクル）の総量を、無
視できるぼと小さくすることができる。しかも、被搬送
物は立設させた保護装置により非接触の状態で保持する
ようにしたことから、処理室内に飛散した粉体やガス成
分が被搬送物の表面に付着する確率を大幅に低減するこ
とが可能である。
は、被搬送物を支持部材だけで支持することができるた
め、被搬送物との接触面積を飛躍的に小さくでき、接触
摩擦により発生する粉体（パーティクル）の総量を、無
視できるぼと小さくすることができる。しかも、被搬送
物は立設させた保護装置により非接触の状態で保持する
ようにしたことから、処理室内に飛散した粉体やガス成
分が被搬送物の表面に付着する確率を大幅に低減するこ
とが可能である。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
実施形態の一例を示す静電浮上型搬送装置の斜視図であ
る。この静電浮上型搬送装置は、一主面２０３に静電力
発生用電極２０４を備えた絶縁基体２０２からなる保持
装置２０１を立設させるとともに、この保持装置２０１
の一主面２０３と平行にスライド装置として浮上リニア
モータ２０７を並設してあり、この浮上リニアモータ２
０７の可動部２０８には被搬送物５０１の外周面を２点
で支持する支持部材２０６を設けてある。
て図面を参照しながら詳細に説明する。図１は本発明の
実施形態の一例を示す静電浮上型搬送装置の斜視図であ
る。この静電浮上型搬送装置は、一主面２０３に静電力
発生用電極２０４を備えた絶縁基体２０２からなる保持
装置２０１を立設させるとともに、この保持装置２０１
の一主面２０３と平行にスライド装置として浮上リニア
モータ２０７を並設してあり、この浮上リニアモータ２
０７の可動部２０８には被搬送物５０１の外周面を２点
で支持する支持部材２０６を設けてある。
【００１２】さらに、保持装置２０１の一主面２０３と
反対側の面には、被搬送物５０１と静電力発生用電極２
０４との間隔を計測する検出部として複数個の三角測量
式変位センサ２０５を等間隔に並設し、絶縁基体２０２
に設けた貫通穴２０２ａより計測するようにしている。
上記静電力発生用電極２０４に印加する電圧値を調整す
る制御部は、図２に示すように、上記三角測量式変位セ
ンサ２０５からの出力信号１０６と基準信号１０７とを
比較する比較演算器１０８と、ＰＩＤ演算器１０９、及
び高電圧増幅器１１０とから構成してあり、被搬送物５
０１を静電力発生用電極２０４と、ある一定の隙間を設
けて保持するようにしてある。
反対側の面には、被搬送物５０１と静電力発生用電極２
０４との間隔を計測する検出部として複数個の三角測量
式変位センサ２０５を等間隔に並設し、絶縁基体２０２
に設けた貫通穴２０２ａより計測するようにしている。
上記静電力発生用電極２０４に印加する電圧値を調整す
る制御部は、図２に示すように、上記三角測量式変位セ
ンサ２０５からの出力信号１０６と基準信号１０７とを
比較する比較演算器１０８と、ＰＩＤ演算器１０９、及
び高電圧増幅器１１０とから構成してあり、被搬送物５
０１を静電力発生用電極２０４と、ある一定の隙間を設
けて保持するようにしてある。
【００１３】例えば、被搬送物５０１と静電力発生用電
極２０４との隙間が大き過ぎ、三角測量式変位センサ２
０５からの出力信号１０６が基準信号１０７より大きい
場合、比較演算器１０８には正の電圧が出力され、ＰＩ
Ｄ演算器１０９にて応答を調整し、静電力発生用電極２
０４に加える電圧を高くすることで、静電吸着力を高め
て被搬送物５０１と静電力発生用電極２０４との隙間を
小さくし、逆に被搬送物５０１と静電力発生用電極２０
４との隙間が小さ過ぎ、三角測量式変位センサ２０５か
らの出力信号１０６が基準信号１０７より小さい場合、
比較演算器１０８には負の電圧が出力され、ＰＩＤ演算
器１０９にて応答を調整し、静電力発生用電極２０４に
加える電圧を低くすることで、静電吸着力を弱めて被搬
送物５０１と静電力発生用電極２０４との隙間を大きく
するというように、被搬送物５０１と静電力発生用電極
２０４との隙間を所定値に制御することができる。そし
て、この一連の動作は、三角測量式変位センサ２０５か
らの出力信号１０６が基準信号１０７に等しくなるか、
あるいは許容値になるまで自動的に追従（サーボ）する
ことから、常に一定の間隔を保って保持することができ
る。
極２０４との隙間が大き過ぎ、三角測量式変位センサ２
０５からの出力信号１０６が基準信号１０７より大きい
場合、比較演算器１０８には正の電圧が出力され、ＰＩ
Ｄ演算器１０９にて応答を調整し、静電力発生用電極２
０４に加える電圧を高くすることで、静電吸着力を高め
て被搬送物５０１と静電力発生用電極２０４との隙間を
小さくし、逆に被搬送物５０１と静電力発生用電極２０
４との隙間が小さ過ぎ、三角測量式変位センサ２０５か
らの出力信号１０６が基準信号１０７より小さい場合、
比較演算器１０８には負の電圧が出力され、ＰＩＤ演算
器１０９にて応答を調整し、静電力発生用電極２０４に
加える電圧を低くすることで、静電吸着力を弱めて被搬
送物５０１と静電力発生用電極２０４との隙間を大きく
するというように、被搬送物５０１と静電力発生用電極
２０４との隙間を所定値に制御することができる。そし
て、この一連の動作は、三角測量式変位センサ２０５か
らの出力信号１０６が基準信号１０７に等しくなるか、
あるいは許容値になるまで自動的に追従（サーボ）する
ことから、常に一定の間隔を保って保持することができ
る。
【００１４】そのため、被搬送物５０１を倒立させた状
態で支持部材２０６上に配置し、絶縁基体２０２の静電
力発生用電極２０４に電圧を印加すると、被搬送物５０
１と静電力発生用電極２０４との間に静電吸着力が発生
する。そして、三角測量式変位センサ２０５により被搬
送物５０１と静電力発生用電極２０４との隙間を計測
し、制御部にて静電力発生用電極２０４に印加する電圧
値を調整して被搬送物５０１と静電力発生用電極２０４
との隙間が所定値となるように保持することができる。
態で支持部材２０６上に配置し、絶縁基体２０２の静電
力発生用電極２０４に電圧を印加すると、被搬送物５０
１と静電力発生用電極２０４との間に静電吸着力が発生
する。そして、三角測量式変位センサ２０５により被搬
送物５０１と静電力発生用電極２０４との隙間を計測
し、制御部にて静電力発生用電極２０４に印加する電圧
値を調整して被搬送物５０１と静電力発生用電極２０４
との隙間が所定値となるように保持することができる。
【００１５】そして、浮上リニアモータ２０７の可動部
２０８を移動させれば、被搬送物５０１を静電力発生用
電極２０４と、ある一定の間隔を保った状態で搬送する
ことができる。この搬送装置によれば、被搬送物５０１
を支持部材２０６のみで支持することができ、保持装置
２０１とは非接触であることから、被搬送物５０１との
接触面積を飛躍的に小さくでき、接触摩擦により発生す
る粉体（パーティクル）の総量を、無視できるほど小さ
くすることができる。しかも、被搬送物５０１は水平方
向に対して傾斜させた状態で支持するようにしてあるこ
とから、処理室内に飛散した粉体やガス成分が被搬送物
５０１の表面に付着する確率を大幅に低減することがで
きる。
２０８を移動させれば、被搬送物５０１を静電力発生用
電極２０４と、ある一定の間隔を保った状態で搬送する
ことができる。この搬送装置によれば、被搬送物５０１
を支持部材２０６のみで支持することができ、保持装置
２０１とは非接触であることから、被搬送物５０１との
接触面積を飛躍的に小さくでき、接触摩擦により発生す
る粉体（パーティクル）の総量を、無視できるほど小さ
くすることができる。しかも、被搬送物５０１は水平方
向に対して傾斜させた状態で支持するようにしてあるこ
とから、処理室内に飛散した粉体やガス成分が被搬送物
５０１の表面に付着する確率を大幅に低減することがで
きる。
【００１６】例えば、８インチのシリコンウエハを搬送
する場合、接触部の面積比率を理論的に１／５００００
以下にまで小さくすることができ、実際発生した粉体
（パーティクル）の総量は１００回のアクションでも皆
無であり、浮上リニアモータ２０７におけるパーティク
ルの発生も１００回のアクションにおいて皆無とするこ
とができる。なお、上記の計測は搬送装置をクリーンな
処理室に配置し、この処理室内をパーティクルカウンタ
にて計測した結果である。
する場合、接触部の面積比率を理論的に１／５００００
以下にまで小さくすることができ、実際発生した粉体
（パーティクル）の総量は１００回のアクションでも皆
無であり、浮上リニアモータ２０７におけるパーティク
ルの発生も１００回のアクションにおいて皆無とするこ
とができる。なお、上記の計測は搬送装置をクリーンな
処理室に配置し、この処理室内をパーティクルカウンタ
にて計測した結果である。
【００１７】次に、本発明の他の実施形態を図３及び図
４に示す。図３に示す静電浮上型搬送装置は、保持装置
２０１の絶縁基板２０２にＬ字状のガイド壁２０９を一
体に形成したものであり、上記ガイド壁２０９の各内面
には長手方向に沿って縦縞状に細分化した静電力発生用
電極３０２，３０３をそれぞれ形成するとともに、これ
らの静電力発生用電極３０２，３０３間に電圧を印加す
ることで支持体３０１と静電的に浮上させるようにした
ものである。また、上記支持体３０１の先端部にはＶ溝
３０１ａを形成してあり、このＶ溝３０１ａで被搬送物
５０１の外周面を支持するようにしてある。
４に示す。図３に示す静電浮上型搬送装置は、保持装置
２０１の絶縁基板２０２にＬ字状のガイド壁２０９を一
体に形成したものであり、上記ガイド壁２０９の各内面
には長手方向に沿って縦縞状に細分化した静電力発生用
電極３０２，３０３をそれぞれ形成するとともに、これ
らの静電力発生用電極３０２，３０３間に電圧を印加す
ることで支持体３０１と静電的に浮上させるようにした
ものである。また、上記支持体３０１の先端部にはＶ溝
３０１ａを形成してあり、このＶ溝３０１ａで被搬送物
５０１の外周面を支持するようにしてある。
【００１８】この実施形態によれば、スライド装置を保
持装置２０１に一体的に形成してあることから、静電浮
上型搬送装置をより小型化することができるとともに、
被搬送物５０１の外周面を支持する支持体３０１を静電
的に浮上させ、縦縞状の静電力発生用電極３０２，３０
３に印加する電圧を順次移行させることにより駆動力を
発生させ、支持体３０１とともに被搬送物５０１を長手
方向に沿って搬送することができる。
持装置２０１に一体的に形成してあることから、静電浮
上型搬送装置をより小型化することができるとともに、
被搬送物５０１の外周面を支持する支持体３０１を静電
的に浮上させ、縦縞状の静電力発生用電極３０２，３０
３に印加する電圧を順次移行させることにより駆動力を
発生させ、支持体３０１とともに被搬送物５０１を長手
方向に沿って搬送することができる。
【００１９】図４に示す静電浮上型搬送装置は、静電力
発生用電極２０４を縦縞状に細分化するとともに、スラ
イド装置として可動部３０８に被搬送物５０１の外周面
を２点で支持する支持部材３０６を備えたリニアガイド
３０７を用いたものであり、その他は図１と同様の構造
をしたものである。この実施形態によれば、縦縞状の静
電力発生用電極２０４に印加する電圧を順次移行させる
ことにより駆動力を発生させ、支持部材３０６により支
持された被搬送物５０１を保持装置２０１の一主面に沿
って非接触の状態で搬送することができる。
発生用電極２０４を縦縞状に細分化するとともに、スラ
イド装置として可動部３０８に被搬送物５０１の外周面
を２点で支持する支持部材３０６を備えたリニアガイド
３０７を用いたものであり、その他は図１と同様の構造
をしたものである。この実施形態によれば、縦縞状の静
電力発生用電極２０４に印加する電圧を順次移行させる
ことにより駆動力を発生させ、支持部材３０６により支
持された被搬送物５０１を保持装置２０１の一主面に沿
って非接触の状態で搬送することができる。
【００２０】なお、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
【００２１】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、被搬送物を静電吸着力により非接触状態で保持
するための静電力発生用電極を備えた絶縁基板を立設し
てなる保持装置と、この保持装置の静電力発生用電極へ
の印加電圧を調整する制御部と、前記被搬送物を支持す
る支持部材を備えてなり、この支持部材を前記保持装置
に沿って移動させるスライド機構とから静電浮上型搬送
装置を構成したことから、被搬送物との接触面積を飛躍
的に小さくでき、接触摩擦で発生する粉体（パーティク
ル）の総量を、無視できるほど小さくすることができる
とともに、被搬送物は水平方向に対して傾斜させた状態
で保持することができるため、処理室内に飛散した粉体
やガス成分が被搬送物の表面に付着する確率を大幅に低
減することができる。
よれば、被搬送物を静電吸着力により非接触状態で保持
するための静電力発生用電極を備えた絶縁基板を立設し
てなる保持装置と、この保持装置の静電力発生用電極へ
の印加電圧を調整する制御部と、前記被搬送物を支持す
る支持部材を備えてなり、この支持部材を前記保持装置
に沿って移動させるスライド機構とから静電浮上型搬送
装置を構成したことから、被搬送物との接触面積を飛躍
的に小さくでき、接触摩擦で発生する粉体（パーティク
ル）の総量を、無視できるほど小さくすることができる
とともに、被搬送物は水平方向に対して傾斜させた状態
で保持することができるため、処理室内に飛散した粉体
やガス成分が被搬送物の表面に付着する確率を大幅に低
減することができる。
【図１】本発明の実施形態の一例である静電浮上型搬送
装置を示す斜視図である。
装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の実施形態の一例である静電浮上型搬送
装置の制御部を示す制御回路図である。
装置の制御部を示す制御回路図である。
【図３】本発明の他の実施形態である静電浮上型搬送装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
【図４】本発明の他の実施形態である静電浮上型搬送装
置を示す斜視図である。
置を示す斜視図である。
【図５】従来の搬送装置を示す斜視図である。
【図６】従来の搬送装置に有する静電チャックを示す断
面図である。
面図である。
１０８ 比較演算器 １０９ ＰＩＤ演算器 １１０ 高電圧増幅器 ２０１ 保持装置 ２０２ 絶縁基体 ２０２ａ 貫通穴 ２０４，３０２，３０３ 静電力発生用電極 ２０５ 三角測量式変位センサ ２０６，３０６ 支持部材 ２０７ 浮上リニアモータ ２０８，３０８ 可動部 ２０９ Ｌ字状のガイド壁 ３０１ 支持体 ３０１ａ Ｖ溝 ３０７ リニアガイド ５０１ 被搬送物
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ▲靱▼ 巨 神奈川県川崎市高津区坂戸３−２−１ 財 団法人 神奈川科学技術アカデミー内
Claims (1)
- 【請求項１】 被搬送物を静電吸着力により非接触状態
で保持するための静電力発生用電極を備えた絶縁基板を
立設してなる保持装置と、該保持装置の静電力発生用電
極への印加電圧を調整する制御部と、前記被搬送物を支
持する支持部材を備えてなり、該支持部材を前記保持装
置に沿って移動させるスライド機構とからなる静電浮上
型搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7213797A JP3936015B2 (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 静電浮上型搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7213797A JP3936015B2 (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 静電浮上型搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10271862A true JPH10271862A (ja) | 1998-10-09 |
| JP3936015B2 JP3936015B2 (ja) | 2007-06-27 |
Family
ID=13480612
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7213797A Expired - Fee Related JP3936015B2 (ja) | 1997-03-25 | 1997-03-25 | 静電浮上型搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3936015B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007096056A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Dainippon Printing Co Ltd | スパッタ装置およびスパッタ装置用キャリア |
-
1997
- 1997-03-25 JP JP7213797A patent/JP3936015B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007096056A (ja) * | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Dainippon Printing Co Ltd | スパッタ装置およびスパッタ装置用キャリア |
| JP4612516B2 (ja) * | 2005-09-29 | 2011-01-12 | 大日本印刷株式会社 | スパッタ装置およびスパッタ装置用キャリア |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3936015B2 (ja) | 2007-06-27 |
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