JPH10264291A - ハイブリッド層状高分子材料 - Google Patents

ハイブリッド層状高分子材料

Info

Publication number
JPH10264291A
JPH10264291A JP9483997A JP9483997A JPH10264291A JP H10264291 A JPH10264291 A JP H10264291A JP 9483997 A JP9483997 A JP 9483997A JP 9483997 A JP9483997 A JP 9483997A JP H10264291 A JPH10264291 A JP H10264291A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic
inorganic
group
polymer material
organoalkoxysilane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP9483997A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhisa Yano
一久 矢野
Kazuo Okamoto
一夫 岡本
Yoshiaki Fukushima
喜章 福嶋
Masaaki Tani
昌明 谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyota Central R&D Labs Inc filed Critical Toyota Central R&D Labs Inc
Priority to JP9483997A priority Critical patent/JPH10264291A/ja
Publication of JPH10264291A publication Critical patent/JPH10264291A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】無機層と有機層とが強固に結合した積層体であ
って、無機材料の高硬度及び耐熱性と、有機材料の易成
形性等とを兼ね備えたハイブリッド高分子材料を提供す
ること。 【解決手段】塩化セリウム七水和物17.8gと、3−
メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン23.7g
とをメタノール500mlに溶解した後、1N水酸化ナ
トリウム溶液200mlを10倍に希釈した水溶液20
00mlを短時間に添加し、3時間室温で撹拌した後、
吸引濾過することにより、共有結合を介して層状に結合
された白色粉末20gがハイブリッド層状高分子材料と
して得られる。この白色粉末に紫外線硬化処理等の処理
を施すことにより、紫外線カット材料が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無機材料層と有機
材料層とにより構成されるハイブリッド層状高分子材料
に関し、さらに詳しくは、コート材、樹脂へのフィラー
材あるいは種々の機能性材料等への利用が可能な、無機
材料特性と有機材料特性とを兼ね備えたハイブリッド層
状高分子材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、コート材や成形体等の主成分材
料あるいはフィラーとしての無機材料は、高硬度、耐熱
性等の特徴を持つが、液相もしくは溶液から迅速に緻密
な固相を形成するには加熱焼成が必要となる。また有機
溶媒や有機物相との親和性が良くないという性質を有し
ている。一方、有機材料は、可撓性や常温での迅速な成
膜性等の特徴を持つが、硬度や耐熱性が劣るという欠点
を有している。このため従来より、無機材料と有機材料
との上記の特徴を併せ持ち、しかも上記の欠点を解決し
たハイブリッド高分子材料の開発が要望されてきた。
【0003】この要望に応えようとする技術の一つが、
特開平1−108272号公報に示される無機−有機ハ
イブリッド塗料であるが、この塗料は、エポキシシラン
の部分加水分解物と、カルボニル基含有化合物と、非シ
ランベースの脂肪族ポリアミンとの反応生成物とからな
る耐摩耗性コーティング材料として提示されている。
【0004】しかしこの材料は、塗膜中の無機構造が有
機ポリマーに部分的に導入されたにすぎず、しかも室温
付近での有機反応による塗膜形成中に無機構造部分が成
長したり、成膜したりすることがない。そのため、無機
材料の特徴を十分に発現させることができず、有機ポリ
マーに比べて飛躍的な性能向上は望めないという欠点が
ある。
【0005】また、例えば、特開昭62−74957号
公報には、層状粘土鉱物の層間にイオン交換反応により
有機化合物を導入した層間化合物材料が開示されてい
る。しかしこの材料は、有機物をイオン交換反応により
粘土鉱物の層間に導入するため、イオン化の困難な有機
物、例えばエポキシ部分を含むもの、末端にアミノ基を
有するものなどは導入できない。また、粘土鉱物固有の
イオン交換容量までしか有機物が導入できない。さらに
粘土鉱物と有機物とはイオン結合により結合しているた
め、実用の際の操作などでイオン結合が切れて有機物が
遊離するおそれがある等の問題がある。
【0006】これらの問題を解決するため本件出願人
は、特開平6−200034号公報に、無機構造部分が
十分に成長すると共に、これに対して十分な量の有機物
が導入され、しかも両者間には堅牢な結合が形成されて
いる構造のハイブリッド高分子材料を提示している。こ
の材料は、具体的には、アルコキシ基と有機基とを備え
たオルガノアルコキシシランをMg、Al、Ni、C
o、Cu、Mn、Fe、Li、V、Zrから選ばれた金
属の塩あるいはアルコキシドと弱アルカリ性の液中で反
応させ、ケイ素4面体シートと上記金属の8面体シート
との積層体であって、4面体シートの中心原子に共有結
合によって有機基が結合した構造をなすものである。
【0007】この特開平6−200034号公報に示さ
れた材料によれば、無機構造部分の十分な成長が得ら
れ、有機物が損なわれず、イオン化の困難な有機物で
も容易に導入でき、堅牢で緻密な固相が形成され、
容易な条件下で迅速に製造できる等の利点を有するもの
である。
【0008】また本件出願人による特開平8−1289
9号公報にも、Si原子、又はSi原子の一部をAl又
はFe原子により置換した原子を中心原子とする4面体
層構造と、Mg、Al、Ni、Co、Cu、Mn、F
e、Li、V、Zrから選ばれた金属を中心原子とする
8面体層構造とからなる結晶性の積層構造体フィラーが
開示されている。そしてこの材料の特性も前記特開平6
−200034号公報に示される材料と似たようなもの
であり、優れた材料特性を有している。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
8−12899号公報や特開平6−200034号公報
に開示された材料は、オルガノアルコキシシランのアル
コキシ基に加水分解・脱水縮合により結合される金属原
子が、Mg、Al、Ni、Co、Cu、Mn、Fe、L
i、V、Zr等の周期表における比較的低周期に属する
ものであった。
【0010】本発明者らは更に実験を重ね、上記公報に
示される材料以外にも比較的高い分子量のもので優れた
材料特性を有し、また上記公報には示されない光学特性
等新規な材料特性を有するものまでも開発するに至った
のである。
【0011】本発明の解決しようとする課題は、無機層
と有機層とが強固に結合した積層構造であって、無機材
料の高硬度及び耐熱性と、有機材料の易成形性等とを兼
ね備えたハイブリッド高分子材料を提供することにあ
る。
【0012】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明のハイブリッド層状高分子材料は、少なくとも
アルコキシ基と有機基とを有するオルガノアルコキシシ
ランのアルコキシ基の加水分解・脱水結合により形成さ
れた有機構造層と、Ca、Y、Ga、In、Tl、S
b、Rh、Ru、Pd、Sn、Pb、Zn、Ceから選
ばれた少なくとも1種の金属原子を中心とする無機結晶
構造層とが、互いに共有結合により層状に結合されてい
ることを要旨とするものである。
【0013】ここに「オルガノアルコキシシラン」は、
本発明に係るハイブリッド層状高分子材料に有機基を供
給する機能を有するものであり、少なくとも一つのアル
コキシ基と少なくとも一つの有機基とを有するものであ
り、アルコキシ基と有機基との比がアルコキシ基:有機
基=3:1のものから、アルコキシ基:有機基=1:3
のものまで適用される。アルコキシ基の比が高いと三次
元的結合の傾向がより強くなり有機構造層はより強固に
なると考えられる。
【0014】その具体例として、3−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピル
トリメトキシシラン、2−メタクリロキシエチルトリメ
トキシシラン、2−アクリロキシエチルトリメトキシシ
ラン、3−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン、
3−アクリロキシエチルトリエトキシシラン、2−メタ
クリロキシエチルトリエトキシシラン、2−アクリロキ
シエチルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロ
ピルメチルジメトキシシラン、3−アクリロキシプロピ
ルメチルジメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピ
ルジメチルメトキシシラン、3−アクリロキシプロピル
ジメチルメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、4−ビニルブチルトリメト
キシシラン、8−ビニルオクチルトリメトキシシラン、
3−ビニルオキシプロピルトリメトキシシラン、スチリ
ルシラン、メチルトリメトキシシラン、プロピルトリメ
トキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキサデ
シルトリメトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルメチルジエトキシシラン、β−(3,4エポキシシク
ロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、N−β(アミ
ノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロ
プロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらの
単量体は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を混
合して用いてもよい。
【0015】このオルガノアルコキシシランは、少なく
ともアルコキシ基と有機基とを有するものであるが、
「アルコキシ基」は、このオルガノアルコキシシランが
このアルコキシ基の加水分解後の脱水縮合により有機構
造層を形成するのに機能するものである。また「有機
基」は、アルコキシ基を含まない有機基を示しており、
Si又はこれに置き換えられる金属の一部〜全部に対し
て1〜3個の有機基が共有結合により結合した構造をと
るものであり、ハイブリッド層状高分子材料に導入可能
でかつこの高分子材料に有機材料の特徴を付与し得るも
のであればよい。
【0016】一方、無機結晶構造層を形成するCa、
Y、Ga、In、Tl、Sb、Rh、Ru、Pd、S
n、Pb、Zn、Ce等の金属原子は、2a族、3a
族、8族、2b族、3b族、4b族、5b族に分布して
おり、原子量が比較的大きいものが選択されたものであ
る。
【0017】本発明のハイブリッド高分子材料は、オル
ガノアルコキシシランと、Ca、Y、Ga、In、T
l、Sb、Rh、Ru、Pd、Sn、Pb、Zn、Ce
等の金属のうち少なくとも一種の金属の無機塩、有機塩
あるいはアルコキシドとを適当な環境下で反応させるこ
とにより有機構造層と無機構造層とが層状に共有結合に
より結合したものであるが、この有機構造層と無機構造
層との組成比は、反応に供されるオルガノアルコキシシ
ランとCa、Y、Ga等の金属の無機塩、有機塩あるい
はアルコキシドとの配合比を調製することにより任意に
調製されるものである。
【0018】上記構成を有する本発明のハイブリッド層
状高分子材料によれば、少なくともアルコキシ基と有機
基とを有するオルガノアルコキシシランのアルコキシ基
の加水分解・脱水結合により形成された有機構造層と、
Ca、Y、Ga、In、Tl、Sb、Rh、Ru、P
d、Sn、Pb、Zn、Ceから選ばれた少なくとも1
種の金属原子を中心とする無機結晶構造層とが、互いに
共有結合により層状に結合される。これにより無機層と
有機層とが強固に結合され、無機材料の高硬度、耐熱性
と、有機材料の易成形性等とが兼ね備えられる。
【0019】本発明のハイブリッド層状高分子材料の製
造方法の一例を示すと、下記のa),及びb),さらに
必要に応じてc)を、d)の極性溶液中に溶解又は分解
させ、さらにアルカリを加えてpHを弱アルカリ性に調
製する。 a)少なくとも1つのアルコキシ基と、少なくとも1つ
の有機基とを有するオルガノアルコキシシラン、 b)Ca、Y、Ga、In、Tl、Sb、Rh、Ru、
Pd、Sn、Pb、Zn、Ceのうち少なくとも1種の
金属の無機塩、有機塩あるいはアルコキシド、 c)少なくとも1つのアルコキシ基を有するシリコンア
ルコキシド、 d)無機又は有機の1種類の極性溶媒あるいはその2種
類以上の極性溶媒の混合溶液。
【0020】これにより本発明のハイブリッド高分子材
料が得られるものであるが、そのメカニズムとしては、
この弱アルカリ性の極性溶液中でCa、Y、Ga等の金
属を中心原子とし、酸素原子、水酸基から構成される無
機結晶構造が先行して成長しつつ、これに追従してオル
ガノアルコキシシランのケイ素がアルコキシ基の加水分
解後の脱水縮合によりCa、Y、Ga等の無機結晶層に
結合し、このケイ素を中心に4面体層の結晶構造が成長
するものと推測されるものである。
【0021】Ca、Y、Ga等の金属の「無機塩」とし
ては、塩酸塩、硝酸塩、硫酸塩等の一般の金属塩が挙げ
られ、またこれらの金属の「有機塩」としては、酢酸
塩、炭酸塩、蓚酸塩等が一般的なものとして挙げられ
る。さらに「アルコキシド」としては、メタノール、エ
タノール、プロパノール等のアルコールにこれらの金属
を置換導入したものが用いられる。
【0022】また「Ca、Y、Ga、In、Tl、S
b、Rh、Ru、Pd、Sn、Pb、Zn、Ceのうち
少なくとも1種の金属の無機塩、有機塩あるいはアルコ
キシド」とは、これらのうち1種類又は2種類以上のも
のが用いられるものであり、これらの金属と塩を形成す
べき無機酸、有機酸あるいはアルコキシドの種類は、限
定されないものである。
【0023】アルコキシ基を有する「シリコンアルコキ
シド」は、この材料の有機層の含有量を調製するため
に、必要に応じてオルガノアルコキシシランと併用する
ものであり、アルコキシ基を1個有するものから4個有
するものまで使用できる。なお、テトラメチルオルソン
シリケート(テトラメトキシシラン)のようなアルコキ
シ基を4個有するものは、有機基を有しないため、これ
をオルガノアルコキシシランに対して所定の比率で併用
することにより、材料の有機基の割合と調製できる。
【0024】このシリコンアルコキシドの具体例として
は、テトラメチルオルソシリケート、テトラエチルオル
ソシリケート等が挙げられる。
【0025】無機又は有機の極性溶媒の例としては、無
機極性溶媒としての水あるいは有機極性溶媒としてのジ
メチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、アルコール、
アセトン、有機酸、無機酸等のうちの1種類又は2種類
以上が挙げられる。上記したa)及びb)、更に必要に
応じて加えられるc)のこの溶媒への溶解状態は必ずし
も完全である必要はなくある程度の分散状態であっても
よい。
【0026】アルカリ(水酸化ナトリウム、カリウム等
のアルカリ金属水酸化物、他の金属水酸化物、アンモニ
ア等)添加によって調製される弱アルカリ性のpH値
は、原料系の選択等の要因により一律に規定されるもの
ではないが、望ましくはpH8〜10程度の値である。
すなわちこのpH値は、ハイブリッド層状高分子材料が
ゲル化反応により生成される状態が維持される値であっ
てかつ有機基が損なわれるような強アルカリ性でなけれ
ばよい。このゲル化プロセスは、室温程度の温度でも十
分進行するものであるが、有機基が損なわれない程度の
一定の高い温度条件下でゲル化させてもよい。
【0027】このゲル化プロセスは、原料系の選択や反
応条件により直ちに完了する場合もあれば、ある程度の
エージング(1〜2日程度)が必要とされる場合もあ
る。ハイブリッド層状高分子材料は、このゲル化プロセ
スを経て形成されるものであり、ゲル状のままでコート
材等の用途に用いられる他、一旦溶媒を排除することに
より乾燥粉末として回収することも可能である。
【0028】上記のようにして合成されるハイブリッド
層状高分子材料に与えられる形状は、例えば成形体がコ
ーティング膜であるときは膜状であり、型により成形さ
れるときはその型の形状である。すなわち、ハイブリッ
ド高分子材料が適用される対象物は、ハイブリッド層状
高分子材料に与えられる形状によって限定されるもので
はない。また成形後の官能基の重合反応は、加熱処理、
紫外線硬化処理、その他任意の手段によって開始させる
ことができる。
【0029】さらに「有機基」は、重合可能な官能基を
含むものでも含まないものでもよい。このときに「重合
可能な官能基」としては、例えば、ヘテロ原子や不飽和
結合を有する官能基が代表的なものとして挙げられる
が、2個の官能基によって重合するようなもの、例え
ば、アミド結合を形成し得るアミノ基とカルボキシル基
との組み合わせのようなものでもよく、要するに重合反
応を起こし得る官能基であればその種類は限定されるも
のではない。
【0030】この「有機基」の中心原子Siに置き換え
て適用可能な置換金属原子としては、Al、Fe、G
e、P等が好適なものとして挙げられるものであり、中
心原子は、Siに限られることなく、その一部乃至全部
がこれらの置換金属原子によるものであってもよい。
【0031】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施例により具体
的に説明する。初めに本実施例として各種のハイブリッ
ド層状高分子材料をさまざまな条件により作製した。以
下に実施例1から実施例13を説明する。
【0032】(実施例1)塩化カルシウム六水和物11
gを水2000mlに溶解した後、γ−(2−アミノエ
チル)アミノプロピルトリメトキシシラン30gを含む
エタノール500mlを添加した。1N水酸化ナトリウ
ム溶液200mlを徐々に添加した後、3時間室温で撹
拌した。その後、吸引濾過することにより、白色粉末3
0gのCa系層状高分子材料を得た。
【0033】(実施例2)塩化セリウム七水和物17.
8gと、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン23.7gとをメタノール500mlに溶解した後、
1N水酸化ナトリウム溶液200mlを10倍に希釈し
た水溶液2000mlを短時間に添加した。3時間室温
で撹拌した後、吸引濾過することにより、白色粉末20
gのCe系層状高分子材料を得た。次にこの白色粉末を
メトキシプロパノール60mlに分散した後、膜厚が5
μmになるようにガラス基板に塗布し、紫外線硬化処理
を施すことによりCe系供試塗膜を作製した。
【0034】(実施例3)硝酸鉛33.1gと、3−メ
ルカプトプロピルトリメトキシシラン19.6gとを水
1000ml、メタノール1000mlの混合溶媒に溶
解した後、1N水酸化ナトリウム溶液200mlを10
倍に希釈した水溶液2000mlを短時間に添加した。
そして3時間室温で撹拌した後、吸引濾過することによ
り、白色粉末42.6gのPb系層状高分子材料を得
た。
【0035】(実施例4)塩化亜鉛6.8gと、γ−ク
ロロプロピルトリメトキシシラン18gとをメタノール
500mlに溶解した後、1N水酸化ナトリウム溶液2
00mlを希釈した水溶液2000mlを短時間に添加
した。そして3時間室温で撹拌した後、吸引濾過するこ
とにより、白色粉末20gのZn系層状高分子材料を得
た。
【0036】(実施例5)塩化第一スズ22.6gと、
γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン46.8
gとをメタノール1000mlに溶解した後、1N水酸
化ナトリウム溶液200mlを10倍に希釈した水溶液
2000mlを徐々に添加した。そして3時間室温で撹
拌した後、吸引濾過することにより、白色粉末25.4
gのSn系層状高分子材料を得た。
【0037】(実施例6)塩化イットリウム六水和物1
5.2gを水1000mlに溶解した後、3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン16.7gを溶かし
たメタノール500mlを添加した。そして25%アン
モニア溶液13.6gを溶かした水溶液1000mlを
徐々に添加した後、3時間室温で撹拌した。その後、吸
引濾過することにより、白色粉末20gのY系層状高分
子材料を得た。次に乾燥した白色粉末をアセトン/メタ
ノール混合溶液60mlに分散した後、膜厚が10μm
になるようにガラス基板に塗布し、紫外線硬化処理を施
すことによりY系供試塗膜を作製した。
【0038】(実施例7)硝酸ガリウムn水和物20g
と、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン21
gとをメタノール500mlに溶解した後、25%アン
モニア溶液13.6gを溶かした水溶液2000mlを
短時間に添加した。そして5時間室温で撹拌した後、吸
引濾過することにより、白色粉末15gのGa系層状高
分子材料を得た。次に乾燥した白色粉末をメチルイソブ
チルケトン100mlに分散した後、過酸化ベンゾイル
0.2gを加えて、膜厚が5μmになるようにガラス基
板に塗布し、120℃で1時間熱処理を施すことにより
Ga系供試塗膜を作製した。
【0039】(実施例8)塩化アンチモン11.4g
と、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン1
9.6gとをメタノール2000mlに溶解した後、1
N水酸化ナトリウム溶液150mlを希釈した水溶液2
000mlを短時間に添加した。そして6時間室温で撹
拌した後、吸引濾過することにより、白色粉末19.8
gのSb系層状高分子材料を得た。次にこの白色粉末を
メチルイソブチルケトン100mlに分散した後、膜厚
が5μmになるようにガラス基板に塗布し、紫外線硬化
処理を施すことによりSb系供試塗膜を作製した。
【0040】(実施例9)硝酸タリウム三水和物22.
2gと、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン25gをメタノール500mlに溶解した後、1N水
酸化ナトリウム溶液150mlを希釈した水溶液200
0mlを短時間に添加した。そして2時間室温で撹拌し
た後、吸引濾過することにより、白色粉末20gのTl
系層状高分子材料を得た。次にこの白色粉末をトルエン
60mlに分散した後、過酸化ベンゾイル0.3gを加
えて膜厚が10μmになるようにガラス基板に塗布し、
120℃で2時間熱処理を施すことによりTl系供試塗
膜を作製した。
【0041】(実施例10)塩化インジウム四水和物1
4.7gと、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシ
シラン49.6gとをメタノール1000mlに溶解し
た後、1N水酸化ナトリウム溶液200mlを希釈した
水溶液2000mlを短時間に添加した。そして6時間
室温で撹拌した後、吸引濾過することにより、白色粉末
25.4gのIn系層状高分子材料を得た。次にこの白
色粉末をメトキシプロパノール60mlに分散した後、
膜厚が10μmになるようにガラス基板に塗布し、紫外
線硬化処理を施すことによりIn系供試塗膜を作製し
た。
【0042】(実施例11)塩化ルテニウムn水和物1
5.8とg、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン23.4gとをイソプロパノール1000mlに溶
解した後、1N水酸化ナトリウム溶液200mlを希釈
した水溶液2000mlを徐々に添加した。そして5時
間室温で撹拌した後、吸引濾過することにより、白色粉
末15.1gのRu系層状高分子材料を得た。この白色
粉末をメトキシプロパノール60mlに分散した後、膜
厚が10μmになるようにガラス基板に塗布し、紫外線
硬化処理を施すことによりRu系供試塗膜を作製した。
【0043】(実施例12)塩化パラジウム・二塩化ナ
トリウム三水和物17.4gと、3−メタクリロキシプ
ロピルトリメトキシシラン16.7gとをエタノール1
000mlに溶解した後、1N水酸化ナトリウム溶液1
00mlを希釈した水溶液2000mlを徐々に添加し
た。そして4時間室温で撹拌した後、吸引濾過すること
により、白色粉末18.2gのPd系層状高分子材料を
得た。次にこの白色粉末をn−ブタノール80mlに分
散した後、膜厚が10μmになるようにガラス基板に塗
布し、紫外線硬化処理を施すことによりPd系供試塗膜
を作製した。
【0044】(実施例13)塩化ロジウム三水和物1
3.2gと、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシ
ラン23.4gとをイソプロパノール1000mlに溶
解した後、1N水酸化ナトリウム溶液150mlを希釈
した水溶液2000mlを徐々に添加した。5時間室温
で撹拌した後、吸引濾過することにより、白色粉末1
5.1gのRh系層状高分子材料を得た。次にこの白色
粉末をメトキシプロパノール60mlに分散した後、膜
厚が10μmになるようにガラス基板に塗布し、紫外線
硬化処理を施すことによりRh系供試塗膜を作製した。
【0045】次に、本発明の反応生成物である各種の無
機−有機層状高分子材料及びそれを用いて作製された供
試塗膜について、X線回折試験、耐摩耗性試験、鉛筆硬
度試験等の各種の試験を行い、この結果に基づいて各種
の層状高分子材料等の特徴を同定した。これについて図
1から図5を参照して説明する。
【0046】図1は、実施例1の反応生成物であるCa
系層状高分子材料のX線回折パターンを示したものであ
る。横軸に散乱角を、縦軸に回折線の強度を採ってい
る。図示されるように回折ピークは、散乱角2θ=5゜
近辺に存在している。この回折ピークは、繰り返し周期
が20.5オングストロームを示しており、これにより
得られた白色粉末は、無機−有機の積層部分の層間距離
が20.5オングストロームのハイブリッド層状高分子
材料であることを示している。また灼残法により求めた
無機分率は、41.7%であり、タルクから類推された
理論分子式 Ca3[Si448](OH)2(R:γ−
(2−アミノエチル)アミノプロピル基)からの計算値
43.7%に近似した値となっている。
【0047】図2は、実施例2に係るCe系供試塗膜の
紫外線(UV)吸収スペクトルの測定結果を示したもの
である。横軸に波長(nm)を、縦軸に吸光度(%)を
採っている。図示されるように、Ce系層状高分子材料
をガラス基板に塗布したものは、光照射により360n
m以下の波長の透過が遮断(カット)されている。これ
によりCe系材料を用いて合成されたハイブリッド層状
高分子材料は、紫外線の透過を遮る特性を有することが
判明した。したがってその成形膜は、紫外線カット材料
として用いることができる。
【0048】図3は、実施例3の反応生成物であるPb
系層状高分子材料のX線回折パターンを示したものであ
る。図示されるように回折ピークは、散乱角2θ=6゜
近辺に存在している。この回折ピークは、繰り返し周期
が18.0オングストロームであることを示しており、
これにより得られた白色粉末は、無機−有機の積層部分
の層間距離が18.0オングストロームのハイブリッド
層状高分子材料であることを示している。
【0049】またこの実施例3に係るPb系層状高分子
材料をガラス板に塗布した供試試料について電磁波の吸
収特性を調べた。この結果によれば、波長0.711オ
ングストロームの電磁波が約5%カットされた。このこ
とから、Pb系層状高分子材料は、放射線カット特性に
優れていることが判明した。したがって、その成形膜
は、放射線カット材料として用いることができる。
【0050】図4は、実施例4の反応生成物であるZn
系層状高分子材料のX線回折パターンを示したものであ
る。横軸に散乱角を、縦軸に回折線の強度を採ってい
る。図示されるように、回折ピークは散乱角2θ=5゜
近辺に存在している。この回折ピークは、繰り返し周期
が22.1オングストロームであることを示しており、
これにより得られた白色粉末は、無機−有機の積層部分
の層間距離が22.1オングストロームのハイブリッド
層状高分子材料であることを示している。
【0051】図5は、実施例5の反応生成物であるSn
系層状高分子材料のX線回折パターンを示したものであ
る。横軸に散乱角を、縦軸に回折線の強度を採ってい
る。図示されるように、回折ピークは散乱角2θ=4゜
近辺に存在している。この回折ピークは、繰り返し周期
が25.7オングストロームであることを示しており、
これにより得られた白色粉末は、無機−有機の積層部分
の層間距離が25.7オングストロームのハイブリッド
層状高分子材料であることを示している。
【0052】実施例6、実施例9〜実施例13に係る供
試塗膜については鉛筆硬度試験がなされた。この鉛筆硬
度試験は、「JIS K5400」に従ってなされたも
のであり、いずれも9H以上という結果が得られた。こ
れにより加熱処理及び紫外線硬化処理によりなされた官
能基の重合反応により高硬度の供試塗膜が得られたこと
がわかった。
【0053】また実施例7、実施例8に係る供試塗膜に
ついてはテーバー摩耗性試験がなされた。このテーバー
摩耗性試験は、「ASTM D−1044」に従って荷
重500g、500回転という条件下でなされたもので
ある。曇価(ヘイズ値)を測定したところ、実施例7に
係る供試塗膜については、5.7%、実施例8に係る供
試塗膜については、4.5%という結果が得られた。こ
れにより加熱処理及び紫外線硬化処理によりなされた官
能基の重合反応により高硬度かつ耐摩耗性に優れた材料
が得られたことがわかった。
【0054】以上説明した本実施例によれば、その無機
構造部分、有機構造部分が共有結合を介して強固に結合
される。また無機材料、有機材料の特徴である高硬度、
耐熱性、易成形性等の材料特性が良好に発現されること
になる。上述した実施例1〜実施例13に示されるよう
にこれらの材料は、温和な条件での合成が可能である。
【0055】そのときに、合成されるハイブリッド層状
高分子材料に導入されるエポキシ基、アミノ基、ビニル
基、水酸基等の有機側鎖は、上記した実施例において用
いられているオルガノアルコキシシラン(アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン)により
容易に導入される。
【0056】さらにハイブリッド層状高分子材料は、加
工処理が施され易い性質を備えており、これにより与え
られる形状の自由度が高くなる。例えば成形体がコーテ
ィング膜であるときは膜状にされ、成形体が型であると
きはその型の形状にされる。このような種々の形状への
加工・成形の対象は、合成されたハイブリッド層状高分
子材料そのものがそのまま用いられた材料でもよいし、
あるいはそのハイブリッド層状高分子材料に導入される
有機側鎖である官能基の化学反応(縮合、付加反応等)
を通じて得られる材料であってもよい。この化学反応
は、上述したようにハイブリッド層状高分子材料形成後
の加熱、紫外線硬化等の任意の処理により起こすことが
できるものであり、これらの有機基が互いに結合するこ
とにより硬度や耐熱性等が一層向上することになる。
【0057】本発明は、上記した実施例に何等限定され
るものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々
の改変が可能である。上記した実施例においては、有機
構造層を形成するためにオルガノアルコキシシランを用
いたが、この中心原子Siの一部〜全部を金属原子、例
えばAl、Fe、Ge、P等に置き換えたものを配合す
るようにしてもよい。また上記実施例では、無機構造層
を構成するために適用される無機塩、有機塩あるいはア
ルコキシドに含まれる金属は、単一のもののみであった
が一種類あるいは二種類以上の金属によるものであって
もよい。例えば、CeとPbとを併用したCe/Pb系
層状高分子材料によれば、紫外線吸収特性と電磁波遮断
特性とが兼ね備えられることになる。
【0058】
【発明の効果】本発明のハイブリッド層状高分子材料
は、少なくともアルコキシ基と有機基とを有するオルガ
ノアルコキシシランのアルコキシ基の加水分解・脱水結
合により形成された有機構造層と、Ca、Y、Ga、I
n、Tl、Sb、Rh、Ru、Pd、Sn、Pb、Z
n、Ceから選ばれた少なくとも1種の金属原子を中心
とする無機結晶構造層とが、互いに共有結合により層状
に結合されたものであるから無機層と有機層とが強固に
結合される。これにより無機材料の高硬度、耐熱性と、
有機材料の易成形性等が兼ね備えられる。このハイブリ
ッド高分子材料は、耐摩耗性材料、紫外線カット材料あ
るいは放射線カット材料等として多くの分野の産業機器
・生活必需品に適用できるから、産業上極めて有益なも
のとなる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係るCa系層状高分子材料
のX線回折パターンを示した図である。
【図2】本発明の一実施例に係るCe系層状高分子材料
の紫外吸収スペクトルを示した図である。
【図3】本発明の一実施例に係るPb系層状高分子材料
のX線回折パターンを示した図である。
【図4】本発明の一実施例に係るZn系層状高分子材料
のX線回折パターンを示した図である。
【図5】本発明の一実施例に係るSn系層状高分子材料
のX線回折パターンを示した図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福嶋 喜章 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内 (72)発明者 谷 昌明 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の1 株式会社豊田中央研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくともアルコキシ基と有機基とを有
    するオルガノアルコキシシランのアルコキシ基の加水分
    解・脱水結合により形成された有機構造層と、 Ca、
    Y、Ga、In、Tl、Sb、Rh、Ru、Pd、S
    n、Pb、Zn、Ceから選ばれた少なくとも1種の金
    属原子を中心とする無機結晶構造層とが、 互いに共有
    結合により層状に結合されていることを特徴とするハイ
    ブリッド層状高分子材料。
JP9483997A 1997-03-27 1997-03-27 ハイブリッド層状高分子材料 Pending JPH10264291A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9483997A JPH10264291A (ja) 1997-03-27 1997-03-27 ハイブリッド層状高分子材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9483997A JPH10264291A (ja) 1997-03-27 1997-03-27 ハイブリッド層状高分子材料

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10264291A true JPH10264291A (ja) 1998-10-06

Family

ID=14121220

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9483997A Pending JPH10264291A (ja) 1997-03-27 1997-03-27 ハイブリッド層状高分子材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10264291A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004026943A1 (ja) * 2002-09-18 2004-04-01 National Institute For Materials Science 熱可塑性層状アルキルシロキサンとその製造方法
WO2004076532A1 (ja) * 2003-02-28 2004-09-10 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology 層状オルガノシリカナノ複合体およびその製造方法
JP2006036852A (ja) * 2004-07-23 2006-02-09 Toray Ind Inc 層状構造体および有機−無機複合材料
JP2007154037A (ja) * 2005-12-05 2007-06-21 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Zn錯体含有層状ポリマー及びその製造方法、炭酸カルシウム合成触媒並びに炭酸カルシウムの合成方法
JP2008214476A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Toyota Central R&D Labs Inc カルボキシル基含有層状高分子及びこれを含有するゲル、並びに複合体及びその製造方法
JP2009149881A (ja) * 2007-12-19 2009-07-09 Commissariat A L'energie Atomique ディスパージョン形成剤としての金属有機シリケートポリマーの使用

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004026943A1 (ja) * 2002-09-18 2004-04-01 National Institute For Materials Science 熱可塑性層状アルキルシロキサンとその製造方法
WO2004076532A1 (ja) * 2003-02-28 2004-09-10 National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology 層状オルガノシリカナノ複合体およびその製造方法
JP2006036852A (ja) * 2004-07-23 2006-02-09 Toray Ind Inc 層状構造体および有機−無機複合材料
JP2007154037A (ja) * 2005-12-05 2007-06-21 Toyota Central Res & Dev Lab Inc Zn錯体含有層状ポリマー及びその製造方法、炭酸カルシウム合成触媒並びに炭酸カルシウムの合成方法
JP2008214476A (ja) * 2007-03-02 2008-09-18 Toyota Central R&D Labs Inc カルボキシル基含有層状高分子及びこれを含有するゲル、並びに複合体及びその製造方法
JP2009149881A (ja) * 2007-12-19 2009-07-09 Commissariat A L'energie Atomique ディスパージョン形成剤としての金属有機シリケートポリマーの使用

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Hong et al. Adsorption of well-ordered zirconium phosphonate multilayer films on high surface area silica
JP3899546B2 (ja) 層状有機チタノシリケートおよび層状有機チタノシリケートの成形体
US5527871A (en) Layered inorganic-organic polymer shaped article thereof and process for producing the same
CN101155758B (zh) 明矾石型化合物颗粒、其制备方法及其利用
WO2000037359A1 (fr) Particules fines, sol de particules fines dispersees, procede de preparation dudit sol et substrat revetu
US20100092761A1 (en) Nanoparticles
KR20060002733A (ko) 광촉매 도공액, 광촉매막 및 광촉매 부재
JP2002348522A (ja) コーティング剤及びそのコーティング剤を用いた積層材料
KR102033299B1 (ko) 복합 구조체, 이를 사용한 포장 재료 및 성형품, 및 이들의 제조 방법 및 코팅액
JP2000185916A (ja) 金属酸化物系粒子、その製造方法および用途
WO2014122940A1 (ja) 電子デバイス
CN113784843B (zh) 涂覆组合物以及使用其的防雾性构件、防污性构件、层叠体和抗菌制品
JPH10264291A (ja) ハイブリッド層状高分子材料
JP3952482B2 (ja) 層状有機ケイ素系ポリマー、その成形体及びこれらの製造方法
JP3938528B2 (ja) 塗料組成物、塗料組成物を用いた耐摩耗性被覆膜の製造方法および塗料組成物からなる耐摩耗性被覆膜
CN101918150B (zh) 制备高耐冲击性层的方法
EP1112960A1 (en) Composite polybasic salt, process for producing the same, and use
JP3922584B2 (ja) 層状有機チタノシリケート
TW526173B (en) Titanium dioxide pigment and process for producing the same
JP2009185149A (ja) 塗料組成物の製造方法および塗料組成物
JP5382400B2 (ja) 有機無機複合体の合成方法
JP4869578B2 (ja) 滑雪用塗膜形成コーティング組成物、滑雪用塗膜および滑雪用部材
JP3722850B2 (ja) 有機−無機重合体およびその製造方法
JPH09295809A (ja) 粘土複合体及びその製造方法
CN113574120B (zh) 树脂组合物、薄膜和多层结构体