JPH10261606A - 基板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法 - Google Patents
基板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法Info
- Publication number
- JPH10261606A JPH10261606A JP6690197A JP6690197A JPH10261606A JP H10261606 A JPH10261606 A JP H10261606A JP 6690197 A JP6690197 A JP 6690197A JP 6690197 A JP6690197 A JP 6690197A JP H10261606 A JPH10261606 A JP H10261606A
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- Japan
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- substrate cassette
- nozzle
- substrate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体ウェーハ等の基板を収納するカセット
を、パーティクルを残さないように洗浄する。 【解決手段】 鉛直軸の周りを回転する回転フレーム11
と、回転フレーム11に水平軸周りの回転自在に装着され
たカセット保持具14と、カセット保持具14を回転させる
駆動手段15と、カセット保持具14が保持する基板カセッ
ト１に向けて洗浄液と乾燥気体とを順次噴射するノズル
17とを有する基板カセット洗浄装置とする。この装置を
使用して、基板カセット１をカセット保持具14に固定し
てノズル17の周りを回転させながらノズル17から洗浄液
と乾燥気体とを順次吹き付ける。その際、洗浄液吹き付
け時と乾燥気体吹き付け時それぞれの中途で、基板カセ
ット１を上下反転させる。
を、パーティクルを残さないように洗浄する。 【解決手段】 鉛直軸の周りを回転する回転フレーム11
と、回転フレーム11に水平軸周りの回転自在に装着され
たカセット保持具14と、カセット保持具14を回転させる
駆動手段15と、カセット保持具14が保持する基板カセッ
ト１に向けて洗浄液と乾燥気体とを順次噴射するノズル
17とを有する基板カセット洗浄装置とする。この装置を
使用して、基板カセット１をカセット保持具14に固定し
てノズル17の周りを回転させながらノズル17から洗浄液
と乾燥気体とを順次吹き付ける。その際、洗浄液吹き付
け時と乾燥気体吹き付け時それぞれの中途で、基板カセ
ット１を上下反転させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウェーハ等
の基板を収納する基板カセットの洗浄装置及び洗浄方法
に関する。
の基板を収納する基板カセットの洗浄装置及び洗浄方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来技術の一例を図４を参照しながら説
明する。図４は従来例の洗浄装置の概略側断面図であ
る。同図において、１は被処理物の基板カセットであ
り、多数の基板（例えば半導体ウェーハ）を平行且つ等
ピッチで収納するように、内面に多数の案内溝を備えて
いる。２１は回転フレームであり、メインフレーム２２
と、その周辺部に固着されたサブフレーム２３からな
る。各サブフレーム２３にはそれぞれカセット保持具２
４が装着されている。
明する。図４は従来例の洗浄装置の概略側断面図であ
る。同図において、１は被処理物の基板カセットであ
り、多数の基板（例えば半導体ウェーハ）を平行且つ等
ピッチで収納するように、内面に多数の案内溝を備えて
いる。２１は回転フレームであり、メインフレーム２２
と、その周辺部に固着されたサブフレーム２３からな
る。各サブフレーム２３にはそれぞれカセット保持具２
４が装着されている。
【０００３】１６は回転軸であり、その上端に回転フレ
ーム２１がそのメインフレーム２２中央部で固着されて
おり、モーター等からなる回転手段（図示は省略）によ
り回転して回転フレーム２１を回転させる。１７はノズ
ルであり、洗浄液と乾燥気体を順次噴射する。
ーム２１がそのメインフレーム２２中央部で固着されて
おり、モーター等からなる回転手段（図示は省略）によ
り回転して回転フレーム２１を回転させる。１７はノズ
ルであり、洗浄液と乾燥気体を順次噴射する。
【０００４】このような装置により、次のようにして基
板カセット１を洗浄する。即ち、基板カセット１をカセ
ット保持具２４により回転フレーム２１に固定し、回転
フレーム２１をノズル１７の周りを回転させながら、ノ
ズル１７から先ず洗浄液を、引き続き乾燥気体（例えば
乾燥Ｎ2 ）を回転する基板カセット１に向けて噴射す
る。
板カセット１を洗浄する。即ち、基板カセット１をカセ
ット保持具２４により回転フレーム２１に固定し、回転
フレーム２１をノズル１７の周りを回転させながら、ノ
ズル１７から先ず洗浄液を、引き続き乾燥気体（例えば
乾燥Ｎ2 ）を回転する基板カセット１に向けて噴射す
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年、半導体装置の微
細化が進むに従い、ウェーハ等が直接接する基板カセッ
トは高い清浄度が求められている。ところが、前述のよ
うな従来の洗浄装置で基板カセットを洗浄すると、特に
基板カセットの形状が複雑な場合、局部的にパーティク
ルや洗浄液が残留することがある、という問題があっ
た。
細化が進むに従い、ウェーハ等が直接接する基板カセッ
トは高い清浄度が求められている。ところが、前述のよ
うな従来の洗浄装置で基板カセットを洗浄すると、特に
基板カセットの形状が複雑な場合、局部的にパーティク
ルや洗浄液が残留することがある、という問題があっ
た。
【０００６】本発明は、このような問題を解決して、局
部的にパーティクルや洗浄液が残留することのない基板
カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法を提供する
ことを目的とする。
部的にパーティクルや洗浄液が残留することのない基板
カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法を提供する
ことを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明は請求項１では、鉛直軸の周りを回転する回
転フレームと、該回転フレームに水平軸周りの回転若し
くは回動自在に装着されたカセット保持具と、該カセッ
ト保持具を回転若しくは回動させる駆動手段と、該カセ
ット保持具が保持する基板カセットに向けて洗浄液と乾
燥気体を噴射するノズルと、を有する基板カセット洗浄
装置としている。
め、本発明は請求項１では、鉛直軸の周りを回転する回
転フレームと、該回転フレームに水平軸周りの回転若し
くは回動自在に装着されたカセット保持具と、該カセッ
ト保持具を回転若しくは回動させる駆動手段と、該カセ
ット保持具が保持する基板カセットに向けて洗浄液と乾
燥気体を噴射するノズルと、を有する基板カセット洗浄
装置としている。
【０００８】また、請求項２では、基板カセットをノズ
ルの周りを回転させながら該基板カセットに該ノズルか
ら洗浄液を吹き付ける工程と、該基板カセットを該ノズ
ルの周りを回転させながら該基板カセットに該ノズルか
ら乾燥気体を吹き付ける工程とを有し、該洗浄液を吹き
付ける工程及び該乾燥気体を吹き付ける工程はそれぞれ
該基板カセットの姿勢を変える工程を伴う基板カセット
洗浄方法としている。
ルの周りを回転させながら該基板カセットに該ノズルか
ら洗浄液を吹き付ける工程と、該基板カセットを該ノズ
ルの周りを回転させながら該基板カセットに該ノズルか
ら乾燥気体を吹き付ける工程とを有し、該洗浄液を吹き
付ける工程及び該乾燥気体を吹き付ける工程はそれぞれ
該基板カセットの姿勢を変える工程を伴う基板カセット
洗浄方法としている。
【０００９】即ち、洗浄液と乾燥気体を一方向から吹き
付ける場合にパーティクルや洗浄液が残留し易い複雑な
形状の基板カセットであっても、洗浄途中で基板カセッ
トの姿勢を変えるから、パーティクルや洗浄液の除去が
容易となる。
付ける場合にパーティクルや洗浄液が残留し易い複雑な
形状の基板カセットであっても、洗浄途中で基板カセッ
トの姿勢を変えるから、パーティクルや洗浄液の除去が
容易となる。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明の洗浄装置の実施の形態を
図１及び図２を参照しながら説明する。図１は本発明の
洗浄装置の概略側断面図、図２は図１の装置の上面一部
断面図である。同図において、１は被処理物の基板カセ
ットであり、多数の基板（例えば半導体ウェーハ）を平
行且つ等ピッチで収納するように、内面に多数の案内溝
を備えている。１１は回転フレームであり、メインフレ
ーム１２と、その周辺部に固着された複数個（図の例で
は四個）のサブフレーム１３からなる。各サブフレーム
１３にはそれぞれ複数個（図の例では三個）のカセット
保持具１４が装着されている。
図１及び図２を参照しながら説明する。図１は本発明の
洗浄装置の概略側断面図、図２は図１の装置の上面一部
断面図である。同図において、１は被処理物の基板カセ
ットであり、多数の基板（例えば半導体ウェーハ）を平
行且つ等ピッチで収納するように、内面に多数の案内溝
を備えている。１１は回転フレームであり、メインフレ
ーム１２と、その周辺部に固着された複数個（図の例で
は四個）のサブフレーム１３からなる。各サブフレーム
１３にはそれぞれ複数個（図の例では三個）のカセット
保持具１４が装着されている。
【００１１】カセット保持具１４は基板カセット１を上
下又は左右から挟み込む形でこれを保持する。このカセ
ット保持具１４は、その両側面に突出する軸１４ａを備
えており、この軸１４ａによりサブフレーム１３に軸着
している。１５は駆動手段であり、例えばモーターとベ
ルト等からなり、これが軸１４ａを回転（又は回動）す
ることによりカセット保持具１４とカセット保持具１４
に保持された基板カセット１の姿勢を変える（例えば、
上下反転させる）。尚、この軸１４ａをカセット保持具
１４両側面のそれぞれ中央部に設けることで回転半径を
小さくし、装置の大型化を防いでいる。
下又は左右から挟み込む形でこれを保持する。このカセ
ット保持具１４は、その両側面に突出する軸１４ａを備
えており、この軸１４ａによりサブフレーム１３に軸着
している。１５は駆動手段であり、例えばモーターとベ
ルト等からなり、これが軸１４ａを回転（又は回動）す
ることによりカセット保持具１４とカセット保持具１４
に保持された基板カセット１の姿勢を変える（例えば、
上下反転させる）。尚、この軸１４ａをカセット保持具
１４両側面のそれぞれ中央部に設けることで回転半径を
小さくし、装置の大型化を防いでいる。
【００１２】１６は回転軸であり、その上端に回転フレ
ーム１１がそのメインフレーム１２中央で固着されてお
り、モーター等からなる回転手段（図示は省略）により
回転して回転フレーム１１を回転させる。１７はノズル
であり、洗浄液と乾燥気体（例えば乾燥Ｎ2 ）を管路
（図示省略）を切り換えて順次、カセット保持具１４に
保持された基板カセット１に向けて噴射する。ノズル１
７を、洗浄液用と乾燥気体用とで分けてもよい。
ーム１１がそのメインフレーム１２中央で固着されてお
り、モーター等からなる回転手段（図示は省略）により
回転して回転フレーム１１を回転させる。１７はノズル
であり、洗浄液と乾燥気体（例えば乾燥Ｎ2 ）を管路
（図示省略）を切り換えて順次、カセット保持具１４に
保持された基板カセット１に向けて噴射する。ノズル１
７を、洗浄液用と乾燥気体用とで分けてもよい。
【００１３】次に、本発明の洗浄方法の実施の形態を図
３他を参照して説明する。図３は本発明の洗浄方法の説
明図である。同図において、図１及び図２と同じものに
は同一の符号を付与した。基板カセット１は、この例で
は側面にカードを挿入保持するカードホルダ１ａを備え
ている。
３他を参照して説明する。図３は本発明の洗浄方法の説
明図である。同図において、図１及び図２と同じものに
は同一の符号を付与した。基板カセット１は、この例で
は側面にカードを挿入保持するカードホルダ１ａを備え
ている。
【００１４】先ず、この基板カセット１を前記洗浄装置
の回転フレーム（図１の１１）に装着されているカセッ
ト保持具１４に固定する。次に、この回転フレーム１１
を回転させるとともにノズル１７から洗浄液を噴出させ
ると、ノズル１７の周りを回転する基板カセット１に洗
浄液が吹き付けられる（図の（ａ）参照）。一定時間
後、カセット保持具１４を軸１４ａの周りを 180°回転
させて、基板カセット１を上下反転させる（図の（ｂ）
参照）。
の回転フレーム（図１の１１）に装着されているカセッ
ト保持具１４に固定する。次に、この回転フレーム１１
を回転させるとともにノズル１７から洗浄液を噴出させ
ると、ノズル１７の周りを回転する基板カセット１に洗
浄液が吹き付けられる（図の（ａ）参照）。一定時間
後、カセット保持具１４を軸１４ａの周りを 180°回転
させて、基板カセット１を上下反転させる（図の（ｂ）
参照）。
【００１５】更に一定時間後、ノズル１７から洗浄液に
代えて乾燥気体（例えば、乾燥Ｎ2）を噴出させる。一
定時間後、再びカセット保持具１４を 180°（又は、−
180°）回転させて、基板カセット１を再び上下反転さ
せる（図の（ａ）参照）。一定時間後、乾燥気体の噴射
を止め、回転フレーム１１の回転を停止して、基板カセ
ット１の洗浄を終了する。
代えて乾燥気体（例えば、乾燥Ｎ2）を噴出させる。一
定時間後、再びカセット保持具１４を 180°（又は、−
180°）回転させて、基板カセット１を再び上下反転さ
せる（図の（ａ）参照）。一定時間後、乾燥気体の噴射
を止め、回転フレーム１１の回転を停止して、基板カセ
ット１の洗浄を終了する。
【００１６】本発明は以上の例に限定されることなく、
更に種々変形して実施することができる。例えば、カセ
ット保持具１４を連続的に回転させながら、洗浄液と乾
燥気体を吹き付ける場合でも、本発明は有効である。
更に種々変形して実施することができる。例えば、カセ
ット保持具１４を連続的に回転させながら、洗浄液と乾
燥気体を吹き付ける場合でも、本発明は有効である。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
局部的にパーティクルや洗浄液が残留することのない基
板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法を提供す
ることができ、この基板カセットに収納した基板の処理
歩留り向上に寄与する。
局部的にパーティクルや洗浄液が残留することのない基
板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法を提供す
ることができ、この基板カセットに収納した基板の処理
歩留り向上に寄与する。
【図１】 本発明の洗浄装置の概略側断面図である。
【図２】 図１の装置の上面一部断面図である。
【図３】 本発明の洗浄方法の説明図である。
【図４】 従来例の洗浄装置の概略側断面図である。
１ 基板カセット １１，２１ 回転フレーム １２，２２ メインフレーム １３，２３ サブフレーム １４，２４ カセット保持具 １５ 駆動手段 １６ 回転軸 １７ ノズル
Claims (2)
- 【請求項１】 鉛直軸の周りを回転する回転フレーム
と、該回転フレームに水平軸周りの回転若しくは回動自
在に装着されたカセット保持具と、該カセット保持具を
回転若しくは回動させる駆動手段と、該カセット保持具
が保持する基板カセットに向けて洗浄液と乾燥気体とを
順次噴射するノズルと、を有することを特徴とする基板
カセット洗浄装置。 - 【請求項２】 基板カセットをノズルの周りを回転させ
ながら該基板カセットに該ノズルから洗浄液を吹き付け
る工程と、該基板カセットを該ノズルの周りを回転させ
ながら該基板カセットに該ノズルから乾燥気体を吹き付
ける工程とを有し、該洗浄液を吹き付ける工程及び該乾
燥気体を吹き付ける工程はそれぞれ該基板カセットの姿
勢を変える工程を伴うことを特徴とする基板カセット洗
浄方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6690197A JPH10261606A (ja) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | 基板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6690197A JPH10261606A (ja) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | 基板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10261606A true JPH10261606A (ja) | 1998-09-29 |
Family
ID=13329317
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6690197A Withdrawn JPH10261606A (ja) | 1997-03-19 | 1997-03-19 | 基板カセット洗浄装置及び基板カセット洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10261606A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011518989A (ja) * | 2008-04-30 | 2011-06-30 | アーベーベー ターボ システムズ アクチエンゲゼルシャフト | 噴射装置 |
| CN112713083A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-04-27 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 减少运输途中片盒对硅片表面颗粒的清洗方法 |
| CN115870265A (zh) * | 2022-12-14 | 2023-03-31 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 一种硅晶片片盒的清洗装置及其方法 |
-
1997
- 1997-03-19 JP JP6690197A patent/JPH10261606A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011518989A (ja) * | 2008-04-30 | 2011-06-30 | アーベーベー ターボ システムズ アクチエンゲゼルシャフト | 噴射装置 |
| CN112713083A (zh) * | 2020-12-29 | 2021-04-27 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 减少运输途中片盒对硅片表面颗粒的清洗方法 |
| CN115870265A (zh) * | 2022-12-14 | 2023-03-31 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 一种硅晶片片盒的清洗装置及其方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20040601 |