JPH10259182A - 新規ベンゾフラノン誘導体及びその製造方法 - Google Patents

新規ベンゾフラノン誘導体及びその製造方法

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JPH10259182A
JPH10259182A JP9225565A JP22556597A JPH10259182A JP H10259182 A JPH10259182 A JP H10259182A JP 9225565 A JP9225565 A JP 9225565A JP 22556597 A JP22556597 A JP 22556597A JP H10259182 A JPH10259182 A JP H10259182A
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雅道 中越
Junji Nakamura
純二 中村
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ホルモン依存性疾患予防または治療剤として
有用な新規ベンゾフラノン誘導体及びその製造方法の提
供。 【解決手段】 特定の一般式（Ｉ）で表される新規ベン
ゾフラノン誘導体。 【化１】 その製造は、特定のベンゾフラノン化合物と特定のベン
ズアルデヒド化合物を反応させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規ベンゾフラノ
ン誘導体及びその製造方法に関する。本発明誘導体は１
７β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ（以下、
１７β−ＨＳＤ）阻害活性を有し、その活性より男性及
び女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤、具
体的には前立腺癌、前立腺肥大症、男性化症、乳癌、乳
腺症、子宮癌、子宮内膜症、卵巣癌などの、種々の男性
及び女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤と
して有用である。
【０００２】
【従来の技術】近年、わが国において、前立腺癌や前立
腺肥大等の男性ホルモン依存性疾患および乳癌や子宮内
膜症等の女性ホルモン依存性疾患の罹患率の増加が問題
となっている。例えば、前立腺癌の死亡率は１９８４年
度の統計では人口１０万人あたり３．９人で、米国の非
白人の約１／１０であったが、医療技術の向上等による
平均余命の上昇ならびに食生活の欧米化等によって漸増
しており、１９９３年には人口１０万人あたり６．７人
と徐々に欧米のレベルに近づきつつある。因みに２０１
５年に於ける前立腺癌死亡者数は１９９０年の死亡者数
の約４倍になることが予想されているが、これは全癌中
最悪の増加率である。
【０００３】男性ホルモン依存性疾患は血中男性ホルモ
ンを低下させることで自覚的および他覚的症状の改善が
見込まれることが、すでに多くの知見から明らかにされ
ている。このため、これまでに去勢によって血中男性ホ
ルモンを低下させたり、脳下垂体から分泌される性腺刺
激ホルモン放出ホルモンＬＨ−ＲＨのアゴニストを投与
し、脳下垂体の脱感作によってＬＨ−ＲＨ分泌能を低下
させて血中男性ホルモンを去勢レベルまで低めたり、男
性ホルモン受容体に拮抗する抗男性ホルモン剤を投与し
て男性ホルモンの働きを抑えることによってこれらの疾
患を治療することが試みられ、事実臨床的効果が広く認
められている。しかしながら去勢はＱＯＬの低下を招く
ことから、現在では非常に限定された症例で実施されて
いるに過ぎない。またＬＨ−ＲＨのアゴニストはアゴニ
スト特有のフレアー現象（一時的な男性ホルモンの増
加）による骨痛や排尿障害等の副作用や、副腎由来の男
性ホルモンが存在し続けることによる再燃が問題となっ
ている。さらに抗男性ホルモン剤は、投薬中に男性ホル
モン受容体が変異することによって治療効果が低下する
ことが指摘されている。このため、最近ではより効果的
な内分泌療法を指向して「男性ホルモン完全遮断療法」
が提唱されている。これは幾つかの内分泌療法を組み合
わせることによって、血中の男性ホルモンを完全に遮断
することを目指すもので、これまで以上の治療効果が期
待されている。
【０００４】男性ホルモン活性を有するＣ19ステロイド
の中で最も男性ホルモン活性が強いテストステロンは、
１７β−ＨＳＤによってアンドロステンジオンを基質に
生合成される。従ってこの１７β−ＨＳＤを阻害するこ
とで、直接血中テストステロンを低下させることができ
るため、上記男性ホルモン依存性疾患に対する高い治療
効果が期待できる。またこの酵素は、女性ホルモン活性
を有するＣ18ステロイドの中で最も女性ホルモン活性が
強いエストラジオールの生合成酵素でもあるので、同様
に乳癌や子宮内膜症等の女性ホルモン依存性疾患の治療
効果も併せて期待される。
【０００５】現在までに、１７β−ＨＳＤ阻害剤とし
て、ステロイド化合物や非ステロイド化合物が提示され
てきた。非ステロイド化合物としては、例えばバイオケ
ミカルアンドバイオフィジカルリサーチコミュニケーシ
ョンズ誌（２１５巻、１１３７−１１４４頁、１９９５
年）に記載のフラボン類およびイソフラボン類や、ジャ
ーナルオブステロイドバイオケミストリー誌（２３巻、
３５７−３６３頁、１９８５年）に記載の脂肪酸が知ら
れている。しかしながら、これらの化合物の活性は決し
て満足出来るものではなく、さらに活性の高い物質が期
待されていた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述の状況に鑑み、本
発明者らは鋭意探索の結果、新規なベンゾフラノン誘導
体に、優れた１７β−ＨＳＤ阻害活性を有することを見
出した。よって本発明は、新規ベンゾフラノン誘導体及
びその製造方法を提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、新規ベンゾフ
ラノン誘導体及びその製造方法に関する。本発明誘導体
は１７β−ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ（１
７β−ＨＳＤ）阻害活性を有し、その活性より男性及び
女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤、具体
的には前立腺癌、前立腺肥大症、男性化症、乳癌、乳腺
症、子宮癌、子宮内膜症、卵巣癌などの予防及び／又は
治療剤として有用である。本発明誘導体は、下記の一般
式（Ｉ）
【０００８】
【化４】
【０００９】（但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素
数１〜６の直鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキ
シ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン、又ははアミノ
基、あるいはR1とR2、R2とR3、R3とR4、又はR4とR5で結
合したアルキレンジオキシ基をそれぞれ示し、R6は水酸
基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐したアルキルオキシ基
又はアラルキルオキシ基、あるいは炭素数１〜７のカル
ボン酸エステルを示す。）で表される新規ベンゾフラノ
ン誘導体である。また本発明は、新規ベンゾフラノン誘
導体を製造するにあたり、下記の一般式（II）で表され
るベンゾフラノン化合物と下記の一般式（III)で表され
るベンズアルデヒド化合物を有機溶媒に溶解し、酸性又
は塩基性条件下で加熱還流又は室温で反応した後、反応
液から目的物を精製することを特徴とする。
【００１０】
【化５】 （但し、式中R6は水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐
したアルキルオキシ基又はアラルキルオキシ基、あるい
は炭素数１〜７のカルボン酸エステルを示す。）
【００１１】
【化６】 （但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直
鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基又はアラ
ルキルオキシ基、ハロゲン、あるいはアミノ基をそれぞ
れ示す。）
【００１２】
【発明の実施の形態】一般式（Ｉ）で表される、本発明
誘導体である新規ベンゾフラノン誘導体は、具体的には
以下の化合物が挙げられる。（化合物の番号は、図１〜
６に記載の実施例の番号に一致する。） (1) ２−〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (2) ２−〔（３−クロロ−６−アミノフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (3) ２−〔（４−クロロ−３−アミノフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (4) ２−〔（４，６−ジメトキシフェニル）メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (5) ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (6) ２−〔（２，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (7) ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (8) ２−〔（インド−ル）−３−メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (9) ２−〔（４−イソプロピルフェニル）メチレン〕−
６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (10) ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (11) ２−〔（３，４−ジエトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (12) ２−〔（３−メトキシ−４−エトキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (13) ２−〔（３−メトキシ−４−ベンジルオキシフェ
ニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (14) ２−〔（４−メトキシ−３−ベンジルオキシフェ
ニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (15) ２−〔（３，４−ジベンジルオキシフェニル）メ
チレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノ
ン (16) ２−〔（３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニ
ル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾ
フラノン (17) ２−〔（３−エトキシ−４−ベンゾルオキシフェ
ニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (18) ２−〔（３−フェノキシフェニル）メチレン〕−
６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (19) ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メ
チレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノ
ン (20) 〔Ｅ〕−２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (21) ２−〔（３−エトキシ−４−メトキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (22) ２−〔（３，４−ジメチルフェニル）メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (23) ２−〔（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (24) ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (25) ６−アセトキシ−２−ピペロニリデン−３（２
Ｈ）−ベンゾフラノン (26) ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (27) ２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (28) ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (29) ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メ
チレン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノ
ン (30) ２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (31) ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (32) ６−ベンゾイルオキシ−２−ピペロニリデン−３
（２Ｈ）−ベンゾフラノン (33) ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフ
ラノン (34) ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メ
チレン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾ
フラノン (35) ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (36) ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (37) ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (38) ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (39) ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メ
チレン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (40) ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフ
ラノン (41) ２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフ
ラノン (42) ６−プロピオニルオキシ−２−ピペロニリデン−
３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (43) ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾ
フラノン (44) ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (45) ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (46) ２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフ
ラノン (47) ２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフ
ラノン (48) ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メ
チレン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (49) ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾ
フラノン (50) ６−イソプロピルオキシ−２−ピペロニリデン−
３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (51) ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メ
チレン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (52) ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (53) ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６
−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (54) ２−〔（２、４−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (55) ２−〔（３−メトキシ−４−プロピルオキシフェ
ニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (56) ２−〔（３−メトキシ−４−ブトキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (57) ２−〔（３−メトキシ−４−ペンチルオキシフェ
ニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (58) ２−〔（３−メトキシ−４−ヘキシルオキシフェ
ニル）メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノン (59) ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−エトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (60) ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−プロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (61) ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−ブトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン (62) ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−ペンチルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (63) ６−エトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）
−ベンゾフラノン (64) ６−プロピルオキシ−２−ピペロニリデン−３
（２Ｈ）−ベンゾフラノン (65) ６−ブトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）
−ベンゾフラノン (66) ６−ペンチルオキシ−２−ピペロニリデン−３
（２Ｈ）−ベンゾフラノン (67) ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチ
レン〕−６−ヘキシルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノン (68) ６−ヘキシルオキシ−２−ピペロニリデン−３
（２Ｈ）−ベンゾフラノン (69) メチル−２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ
−１、４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕
−３−オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−
６−イル｝オキシ）プロピオネート (70) ２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、４
−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−オ
キソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イ
ル｝オキシ）プロピオン酸 (71) メチル−２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−
２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）
メチル〕ベンゾエート (72) ２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−ジ
ヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕ベ
ンゾエート (73) ２−〔１−（１Ｈ−５−インドリル）メチリデ
ン〕−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−３−オン
【００１３】本発明誘導体は、上述の化合物の他これら
の化合物の立体異性体、及び酸又は塩基と形成される塩
を含む。塩基の塩としては、例えばナトリウム、カリウ
ム、マグネシウム、カルシウム、アルミニウムなどの無
機塩基、低級アルキルアミン、低級アルコールアミンな
どの有機塩基、リジン、アルギニン、オルニチンなどの
塩基性アミノ酸との塩やアンモニウム塩などが挙げられ
る。さらに水和物、低級アルコールなどの溶媒和物や結
晶多形を形成する場合もある。
【００１４】本発明誘導体は、以下の方法により製造す
ることができる。例えば、前記ベンゾフラノン化合物
（II) と前記ベンズアルデヒド化合物（III)をメタノー
ル、エタノール、又はプロパノールなどの溶媒に溶解
し、濃塩酸を加え１〜２４時間加熱還流した後冷却し、
析出した結晶を濾過することにより、目的とする本発明
誘導体である新規ベンゾフラノン誘導体（Ｉ）が得られ
る。又、結晶が析出しない場合は、水１００〜４００ｍ
ｌを加え結晶を析出させ、濾過後乾燥することにより、
目的とする本発明誘導体が得られる。あるいは、メタノ
ール、エタノール、又はプロパノールなどの溶媒中に水
酸化ナトリウム又は水酸化カリウムなどを加え、１〜２
４時間攪拌した後塩酸で酸性とし、析出した結晶を濾過
することにより、目的とする本発明誘導体を得ることも
できる。さらには、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、又はエーテルなどの有機溶媒の塩化水素ガス飽和
の溶液中で冷却、室温で放置、あるいは加熱し、１〜２
４時間攪拌を行い、水を加えて目的化合物を結晶として
析出させ、析出した結晶を濾過することにより、目的と
する本発明誘導体を得ることもできる。
【００１５】本発明誘導体は、ヒト及び動物に対し、医
薬として経口的及び非経口的に安全に投与される。非経
口的投与には、例えば静脈注射、筋肉内注射、皮下注
射、腹腔内注射、経皮投与、経肺投与、経鼻投与、経腸
投与、口腔内投与、経粘膜投与等が挙げられ、これらの
製剤が投与される。例えば注射剤、坐剤、エアゾール
剤、経皮吸収テープなどが挙げられる。経口投与製剤と
して例えば錠剤（糖衣錠、コーティング錠、バッカル錠
を含む）、散剤、カプセル剤（ソフトカプセルを含
む）、顆粒剤（コーティングされたものも含む）、丸
剤、トローチ剤、液剤、又はこれらの製剤学的に許容さ
れ得る徐放化製剤等が挙げられる。経口投与用液剤には
懸濁剤、乳剤、シロップ剤（ドライシロップを含む）、
エリキシル剤などが挙げられる。これらの製剤は公知の
製剤学的製法に準じ、製剤として薬理学的に許容され得
る担体、賦形剤、崩壊剤、滑沢剤、着色剤等と共に医薬
組成物として投与される。
【００１６】これらの製剤に用いる担体や賦形剤として
は、例えば乳糖、ブドウ糖、白糖、マンニトール、馬鈴
薯デンプン、トウモロコシデンプン、炭酸カルシウム、
リン酸カルシウム、硫酸カルシウム、結晶セルロース、
カンゾウ末、ゲンチアナ末など、結合剤としては例えば
デンプン、トラガントゴム、ゼラチン、シロップ、ポリ
ビニルアルコール、ポリビニルエーテル、ポリビニルピ
ロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセル
ロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
スなど、崩壊剤としては例えばデンプン、寒天、ゼラチ
ン末、カルボキシメチルセルロースナトリウム、カルボ
キシメチルセルロースカルシウム、結晶セルロース、炭
酸カルシウム、炭酸水素ナトリウム、アルギン酸ナトリ
ウムなど、滑沢剤としては例えばステアリン酸マグネシ
ウム、タルク、水素添加植物油、マクロゴールなど、着
色剤としては医薬品に添加することが許容されているも
のを、それぞれ用いることができる。
【００１７】錠剤、顆粒剤は必要に応じ白糖、ゼラチ
ン、ヒドロキシプロピルセルロース、精製セラック、ゼ
ラチン、グリセリン、ソルビトール、エチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース、ポリビニルピロリドン、フタル酸
セルロースアセテート、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロースフタレート、メチルメタクリレート、メタアクリ
ル酸重合体などで被膜しても良く、又これらの２種以上
を用いた層で被膜しても良い。さらにエチルセルロース
やゼラチンのような物質のカプセルでも良い。又、注射
剤を調製する場合は、主薬に必要に応じｐＨ調整剤、緩
衝剤、安定化剤、可溶化剤などを添加して、常法により
各注射剤とする。本発明誘導体を患者に投与する場合、
症状の程度、患者の年齢、健康状態、体重などの条件に
よって異なり特に限定はされないが、成人１日当たり約
１ｍｇ〜１０００ｍｇ、好ましくは５０〜２００ｍｇを
経口或いは非経口的に１日１回若しくはそれ以上投与す
れば良い。
【００１８】
【実施例】以下の実施例をもって本発明をより詳細に説
明するが、これらは単に例示するのみであり、これらに
よって本発明は何ら限定されるものではない。 実施例１２−〔（３−ヒドロキシフェニル）メチレン〕−６−ヒ
ドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−ヒドロキシベンズアルデヒド０．８１３ｇをメタノ
−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２時
間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水を４
００ｍｌ加え１時間放置した。析出した結晶をロ別し
た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥
し目的化合物１．２０ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２５５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．
６７（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
５，１．８Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ），６．８３（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．０，２．５，
０．９Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．０Ｈ
ｚ），７．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．４Ｈｚ），７．３
８（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．１，２．１Ｈｚ），７．６２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈｚ），９．６４（１Ｈ，
ｓ），１１．２０（１Ｈ，ｓ）
【００１９】実施例２２−〔（３−クロロ−６−アミノフェニル）メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−クロロ−６−アミノベンズアルデヒド１．２４ｇを
メタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加
え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で５
時間減圧下乾燥し目的化合物１、４２ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；７．
０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．１
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．８０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８，２．４Ｈｚ），８．２１（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．５Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．６Ｈ
ｚ），８．３１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．６
３（１Ｈ，ｓ）
【００２０】実施例３２−〔（３−クロロ−４−アミノフェニル）メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、３
−クロロ−４−アミノベンズアルデヒド１．２４ｇをメ
タノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え
１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で５
時間減圧下乾燥し目的化合物１．７５ｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；７．
０５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５，Ｈｚ），７．１４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．５，１．８Ｈｚ），８．１６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．５Ｈｚ），８．２６（１Ｈ，ｓ），８．２９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），８．７０（１Ｈ，ｓ）
【００２１】実施例４２−〔（４，６−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
４、６−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタ
ノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え
１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、水４００ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化
リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９
５ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
８３（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），６．３３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），６．２１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｓ）７．５７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．８）
【００２２】実施例５２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３、５−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタ
ノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え
１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４
時間減圧下乾燥し目的化合物１．４２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
７７（６Ｈ，ｓ），６．５５（１Ｈ，ｍ），６．６７
（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，
２．１Ｈｚ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ），７０９７（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．５
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００２３】実施例６２−〔（２，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
２、５−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタ
ノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え
１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、水４００ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化
リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２
１ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
７６（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），６．７１
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ）），６．７８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．９９（３Ｈ，
ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１１．１６（１Ｈ，
ｓ）
【００２４】実施例７２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 製造例１ ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
１，４−ベンゾジオキサン−６−カルボキジアルデヒド
１．２１ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸
５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を
室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．１７ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；４．
２８（４Ｈ，ｍ），６．６７（１Ｈ，ｓ），６．７０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．７７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．６４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．２），７．４１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，
２．１Ｈｚ），７．４７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ），７．５８（１Ｈ，ｄ，８．２Ｈｚ），１１．９６
（１Ｈ，ｓ） 製造例２ ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン５０
ｇ、１、４−ベンゾジオキサン−６−カルボキシアルデ
ヒド６０ｇを酢酸１０００ｍｌに入れた後、濃塩酸５５
ｍｌを加え２時間攪拌した。析出した結晶をロ別後、６
０℃で五酸化リン上、１８時間乾燥して目的物９７．６
ｇを得た。ＭＡＳＳ、ＮＭＲ共に前記と同様の結果が得
られた。
【００２５】実施例８２−〔（インド−ル）−３−メチレン〕−６−ヒドロキ
シ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
インドール−３−カボキシアルデヒド１．１５ｇをメタ
ノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え
１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧
下乾燥し目的化合物０．４９５ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２７８（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．
７２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．８
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．１６（１Ｈ，
ｓ），７．１９（２Ｈ，ｍ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝７．９Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ），７．９９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），８．１
７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．７Ｈｚ），１２．０８（１Ｈ，
ｓ）
【００２６】実施例９２−〔（４−イソプロピルフェニル）メチレン〕−６−
ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
シナムアルデヒド１．０９ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶
解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５時間リフラック
スした。本溶液を室温まで冷却後、結晶は、ロ別後五酸
化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．
６６ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２８１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．
２０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ）２．９１（１Ｈ，
ｍ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝９．１，１．８Ｈ
ｚ），６．７４（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝２．１Ｈｚ），７．３４（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），７．６０（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．８
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．１２（１Ｈ，
ｓ）
【００２７】実施例１０２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メトキシベンズアルデヒド１．１２５ｇをメタノ−
ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．５
時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析出
した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧
下乾燥し目的化合物１．２２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２６９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
７８（３Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．
８，２．１Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｓ），６．７８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），６．９７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．２，２．４Ｈｚ），７．３６（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４６（１Ｈ，ｍ），７．５１
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．６０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５Ｈｚ）１１．１８（１Ｈ，ｓ）
【００２８】実施例１１２−〔（３，４−ジエトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３，４−ジエトキシベンズアルデヒド１．５８ｍｌをメ
タノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え
１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４
時間減圧下乾燥し目的化合物１．２７ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３２６（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．
３３（３Ｈ，ｔ），１．３５（３Ｈ，ｔ），４．０６
（４Ｈ，ｍ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，
１．８Ｈｚ），６．７２（１Ｈ，ｓ），６．７７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．８Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），１１．０８（１Ｈ，ｓ）
【００２９】実施例１２２−〔（３−メトキシ−４−エトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メトキシ−４−エトキシベンズアルデヒド１．３３
ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌ
を加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで
冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃
で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．５５ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３１３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．
３３（３Ｈ，ｔ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．０５
（２Ｈ，ｑ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，
１．８Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．７８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．２Ｈｚ），７．５０（２Ｈ，ｍ），７．５８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），１１．０９（１Ｈ，ｓ）
【００３０】実施例１３２−〔（３−メトキシ−４−ベンジルオキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メトキシ−４−ベンジルオキシベンズアルデヒド
１．７９ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸
５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を
室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．６３ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３７５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
８４（３Ｈ，ｓ），５．１４（２Ｈ，ｓ），６．７０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．７５
（１Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．３Ｈｚ），７．３
３〜７．６０（８Ｈ，ｍ），１１．１１（１Ｈ，ｓ）
【００３１】実施例１４２−〔（４−メトキシ−３−ベンジルオキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
４−メトキシ−３−ベンジルオキシベンズアルデヒド
１．７９ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸
５０ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を
室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．６９ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３７５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
８３（３Ｈ，ｓ），５．１８（２Ｈ，ｓ），６．７０
（１Ｈ，ｄｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８，０．６Ｈｚ），
６．７１（１Ｈ，ｓ），６．８０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
５Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），
７．３３〜７．６４（８Ｈ，ｍ），１１．１２（１Ｈ，
ｓ）
【００３２】実施例１５２−〔（３，４−ジベンジルオキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３，４−ジベンジルオキシベンズアルデヒド２．３５ｇ
をメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを
加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷
却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で
４時間減圧下乾燥し目的化合物１．８２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；４５１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；５．
２０（２Ｈ，ｓ），５．２２（２Ｈ，ｓ），６．７０
（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，
１．８，０．６Ｈｚ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
８Ｈｚ）），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），
７．３１〜７．５１（１１Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
８Ｈｚ）１１．１５（１Ｈ，ｓ）
【００３３】実施例１６２−〔（３−エトキシ−４−ヒドロキシフェニル）メチ
レン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
の製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−エトキシ−４−ヒドロキベンズアルデヒド１．２２
ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌ
を加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで
冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃
で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．１９ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．
３５（３Ｈ，ｔ），３．８２（３Ｈ，ｓ），４．０７
（２Ｈ，ｑ），６．７０（１Ｈ，ｓ），６．７２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），６．８２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．２Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，
１．８Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．９Ｈ
ｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００３４】実施例１７２−〔（３−エトキシ−４−ベンゾルオキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−エトキシ−４−ベンゾロキシベンズアルデヒド１．
８０ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０
ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温
まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６
０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．３３ｇを得
た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３８９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．
３４（３Ｈ，ｔ），４．０８（３Ｈ，ｓ），５．１４
（２Ｈ，ｓ），６．７０〜６．７３（３Ｈ，ｍ）６．７
９（１Ｈ，ｓ），７．０８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ），７．３９〜７．６０（８Ｈ，ｍ），１１．１１
（１Ｈ，ｓ）
【００３５】実施例１８２−〔（３−フェノキシフェニル）メチレン〕−６−ヒ
ドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−フェノキシベンズアルデヒド１．２７ｍｌをメタノ
−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え１．
５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、析
出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減
圧下乾燥し目的化合物１．１０ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３３１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．
６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．７０（１Ｈ，
ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．２Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，
ｓ），７．０２〜７．２１（３Ｈ，ｍ），７．４１〜
７．６７（６Ｈ，ｍ），１１．２３（１Ｈ，ｓ）
【００３６】実施例１９２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メチル−４−メトキシベンズアルデヒド１．１１ｇ
をメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを
加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷
却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で
４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７５ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２８３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；２．
１８（３Ｈ，ｓ），３．８３（３Ｈ，ｓ），６．６８
（１Ｈ，ｓ），６．７０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，
２．６Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ），７．５８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），），７．７
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），１１．１１（１Ｈ，
ｓ）
【００３７】実施例２０〔Ｅ〕−２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３，４−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇを酢酸
２０ｍｌに溶解した後、濃塩酸１．１ｍｌを加え１８時
間攪拌後メタノール１５ｍｌ加え析出した結晶は、ロ別
後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合
物０．８２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
８１（３Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），６．７０
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．８，１．８Ｈｚ）６．７４（１
Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），
７．５５（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５），１１．０９（１Ｈ，ｓ）
【００３８】実施例２１２−〔（３−エトキシ−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−エトキシ−４−メトキシベンズアルデヒド１．３３
ｇをメタノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌ
を加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで
冷却後、水１５０ｍｌを加えた。析出した結晶は、ロ別
後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合
物０．９９ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３１３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．
３５（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），３．８０（３Ｈ，
ｓ），４．０６（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝６．７Ｈｚ），６．７
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，ｍ），７．５
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２）
【００３９】実施例２２２−〔（３，４−ジメチルフェニル）メチレン〕−６−
ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３、４−ジメチルベンズアルデヒド１．０７ｇをメタノ
−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え２時
間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、水２０
０ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６
０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２１ｇを得
た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２６７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；２．
２４（３Ｈ，ｓ），２．２５（３Ｈ，ｓ），６．６７
（１Ｈ，ｓ），６．７１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，
１．８Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５
９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５），７．６６（２Ｈ，ｍ），
１１．１６（１Ｈ，ｓ）
【００４０】実施例２３２−〔（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メチル−４−ヒドロキシベンズアルデヒド１．００
ｇをメタノ−ル７０ｍｌに溶解した後、濃塩酸６０ｍｌ
を加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで
冷却後、水２５０ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五
酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物
１．２２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２６８（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；２．
１８（３Ｈ，ｓ），６．６５（１Ｈ，ｓ），６．７６
（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），６．７６
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．９０（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５），７．６６（２Ｈ，ｍ）
【００４１】実施例２４２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５
ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌ
を加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで
冷却後、２Ｎ−塩酸５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸
エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽
和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌとふりまぜた後、硫
酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粗目
的化合物の粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル
＝１：１で４００ｍｌで溶出）で分画した後、減圧下４
０℃で濃縮乾固し、それに酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン
１０ｍｌを加えると、結晶が析出した。この、結晶をロ
別し結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧
下乾燥し目的化合物３５５．２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．３２
（３Ｈ，ｓ），４．２７（４Ｈ，ｍ），６．７６（１
Ｈ，ｓ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），
６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），
７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３２（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．１Ｈｚ），７．４７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１），７．５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ）
【００４２】実施例２５６−アセトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化
アセチル０．２ｍｌを加え２時間リフラックスした。本
溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ
−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫
酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粗目
的化合物の粉末を、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル
＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画した。、減圧下４
０℃で濃縮乾固し、結晶を得た結晶は、ロ別後五酸化リ
ン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物５３９．
５ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３８３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．３３
（３Ｈ，ｓ），６．０２（２Ｈ，ｓ），６．８０（１
Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），
６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），
７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．２８（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．５２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
８．２Ｈｚ）
【００４３】実施例２６２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−アセ
トキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジ
ン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．１７２ｍｌを加え
２．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２
回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱
水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘ
キサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分
画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶
は、五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化
合物３７１．６ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．３３
（３Ｈ，ｓ），３．８５（３Ｈ，ｓ），７．３４（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｍ），
７．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００４４】実施例２７２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇを
ピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌを加
え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、
酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗
浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水
し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画
し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、
五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物
３４１．３ｍｇを得た。ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３４１（Ｍ
＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．３２
（３Ｈ，ｓ），３．９１（３Ｈ，ｓ），３．９３（３
Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｓ），６．９０（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．２，１．８Ｈｚ），７．１２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
１．８，０．６Ｈｚ），７．４２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．５，２．１Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
８Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００４５】実施例２８２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇを
ピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．２ｍｌを加
え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却後、
酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗
浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水
し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリカゲルカラム
クロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画
し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、
五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物
２４９．１ｍｇを得た。ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３４１（Ｍ
＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．３２
（３Ｈ，ｓ），３．８２（６Ｈ，ｓ），６．５０（１
Ｈ，ｍ），６．７７（１Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．０２（２Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．１３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００４６】実施例２９２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−アセトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化アセチル０．
２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室
温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５
０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネ
シウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，
溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで
溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得
た。結晶は、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥
し目的化合物４３６．６ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．２４
（３Ｈ，ｓ），２．３２（３Ｈ，ｓ），３．８６（３
Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．８６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），６．９０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
８Ｈｚ），７．６８（１Ｈ，ｓ），７．７１（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．２，２．１Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．３Ｈｚ）
【００４７】実施例３０２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製
造 ２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇを
ピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍ
ｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷
却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで
２回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄した。酢
酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮
した。得られた油状物を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸
エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下
４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２９４．６
ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；４０３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；３．９１
（３Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），６．８７（１
Ｈ，ｓ），６．９２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），
７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），
７．２８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４５（１
Ｈ，ｍ），７．５２（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，
ｍ），７．８５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），８．１
９（２Ｈ，ｍ）
【００４８】実施例３１２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製
造 ２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇを
ピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍ
ｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷
却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで
２回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄した。酢
酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮
した。得られた油状物を、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸
エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下
４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。結晶は、五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３８８．５
ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；４０３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；３．８３
（６Ｈ，ｓ），６．５２（１Ｈ，ｂｓ），６．８１（１
Ｈ，ｓ），７．０６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），
７．０８（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），
７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．５３（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．３Ｈｚ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
８．１９（２Ｈ，ｄＪ＝７．３Ｈｚ）
【００４９】実施例３２６−ベンゾイルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２
Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化
ベンゾイル０．２８２ｍｌを加え２時間リフラックスし
た。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加
え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液
は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られ
た油状物を、酢酸エチル１０ｍｌ，ヘキサン２０ｍｌで
溶解後、析出した結晶をロ別後結晶は、五酸化リン上、
６０℃で６時間減圧下乾燥し目的化合物１８２．３ｍｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３８７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；６．０２
（２Ｈ，ｓ），６．８２（１Ｈ，ｓ），６．８６（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．０６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．２，１．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．４Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｍ），７．５２（２
Ｈ，ｍ），７．６５（１Ｈ，ｍ），７．８３（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ）８．１９（２Ｈ，ｄＪ＝７．９Ｈ
ｚ）
【００５０】実施例３３２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
の製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５
ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８
２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室
温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５
０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌで洗浄
した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、
減圧濃縮した。得られた得られた結晶は、五酸化リン
上、６０℃で２時間減圧下乾燥し目的化合物４１１．２
ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；４０１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；４．
３０（４Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．５５（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６２（２Ｈ，ｍ），７．７６
（１Ｈ，ｍ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），７．８３（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．２Ｈ
ｚ）
【００５１】実施例３４２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ベンゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノンの製造 ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル
０．２８２ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本
溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ
−塩酸５０ｍｌで１回、飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍ
ｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで
脱水し、減圧濃縮した。得られた粉末を、ヘキサン１０
ｍｌ，酢酸エチル５ｍｌに溶解し、析出した結晶をロ別
したのち五酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目
的化合物３２１．６ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３８７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．２５
（３Ｈ，ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），６．８５（１
Ｈ，ｓ），６．９７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），
７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），
７．２９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６２（２
Ｈ，ｍ），７．７６〜７．８４（２Ｈ，ｍ），７．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８３（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝７．９，１．２Ｈｚ）
【００５２】実施例３５２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベン
ゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジ
ン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加
え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１
回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌで洗浄した。
酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃
縮した。得られた粉末を、ヘキサン１０ｍｌ，酢酸エチ
ル５ｍｌに溶解し、析出した結晶をロ別したのち五酸化
リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２２
１．５ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３７３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；３．８５
（３Ｈ，ｓ），６．８５（１Ｈ，ｓ），６．９４（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．７Ｈｚ），７．０５（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．２８〜７．
６７（７Ｈ，ｍ），７．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），７．９９（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝７．９，１．２Ｈ
ｚ）
【００５３】実施例３６２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ベン
ゾイルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジ
ン５ｍｌに溶解後、塩化ベンゾイル０．２８２ｍｌを加
え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで１
回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌで洗浄した。
酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃
縮した。得られた結晶を、五酸化リン上、６０℃で４時
間減圧下乾燥し目的化合物２００．５ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３７３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；３．８４
（３Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９４（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ），７．０５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．２，１．８Ｈｚ），７．２７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．５Ｈｚ），５．５０〜７．８７（６Ｈ，ｍ），７．
９９（２Ｈ，ｍ）
【００５４】実施例３７２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロ
ピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジ
ン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２１８ｍｌを
加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷
却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで
１回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、次いで飽
和食塩水５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸
マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル
５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５０
０ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、
結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル４ｍｌ／ヘキサン１
０ｍｌで再結晶したのち、結晶をロ別した。結晶は、五
酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物２
５１．６ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．２７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８５（３Ｈ，ｓ），６．８３
（１Ｈ，ｓ），６．９２（２Ｈ，ｍ），７．１４（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝２．１，０．６Ｈｚ），７．３４（１
Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４３（２Ｈ，ｍ），
７．７９（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５５】実施例３８２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−プロ
ピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇをピリジ
ン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２１８ｍｌを
加え１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷
却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌで
１回、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、次いで飽
和食塩水５０ｍｌで洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸
マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル
５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で４０
０ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、
結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル５ｍｌ／ヘキサン５
ｍｌで再結晶したのち、結晶をロ別した。結晶は、五酸
化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物２７
７．８ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．２７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８５（３Ｈ，ｓ），６．８３
（１Ｈ，ｓ），６．９２（２Ｈ，ｍ），７．１４（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．３４（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝
７．９Ｈｚ），７．４５（２Ｈ，ｍ），７．７９（２
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５６】実施例３９２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフ
ラノンの製造 ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
０．５２５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオ
ニル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスし
た。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加
え２Ｎ−塩酸５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ、飽和炭酸
水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ順で
洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水
し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘ
キサン：酢酸エチル＝１：１で３５０ｍｌで溶出）で分
画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶
は、酢酸エチル２ｍｌ／ヘキサン５ｍｌで再結晶したの
ち、結晶をロ別した。結晶は、五酸化リン上、６０℃で
５時間減圧下乾燥し目的化合物３２２．９ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．２６
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．２４（３Ｈ，
ｓ），２．６１（２Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８
６（３Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．４Ｈｚ），７．１５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６９（２Ｈ，
ｍ），７．６７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００５７】実施例４０２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（３，５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５２５
ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２
１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を
室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸
５０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和
食塩水５０ｍｌ順で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸
マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル
５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５０
０ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、
結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル５ｍｌ／ヘキサン１
０ｍｌで再結晶したのち、結晶をロ別した。結晶は、五
酸化リン上、６０℃で５時間減圧下乾燥し目的化合物２
７５．１ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３５５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．２７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６１（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８２（６Ｈ，ｓ），６．５０
（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．７６（１Ｈ，
ｓ，），６．９２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈ
ｚ），７．０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．１
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．７７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００５８】実施例４１２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（３，４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５２５
ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオニル０．２
１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液を
室温まで冷却後、酢酸エチル５０ｍｌを加え２Ｎ−塩酸
５０ｍｌ、飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和
食塩水５０ｍｌ順で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸
マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル
５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５０
０ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、
結晶を得た。本結晶は、五酸化リン上、６０℃で５時間
減圧下乾燥し目的化合物３１１．６ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３５５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．２７
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６２（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．９２（３Ｈ，ｓ），３．９２
（３Ｈ，ｓ），６．８４（１Ｈ，ｓ，），６．９２（２
Ｈ，ｍ），７．１４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），
７．４３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），
７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．２Ｈｚ），７．７９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００５９】実施例４２６−プロピオニルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２
Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン０．５ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化
プロピオニイル０．２１８ｍｌを加え１．５時間リフラ
ックスした。本溶液を室温まで冷却後、酢酸エチル５０
ｍｌを加え２Ｎ−塩酸５０ｍｌ、飽和食塩水５０ｍｌ、
飽和炭酸水素ナトリウム溶液５０ｍｌ、飽和食塩水５０
ｍｌ順で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウ
ムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶
出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶
出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得
た。本結晶は、酢酸エチル１ｍｌ／ヘキサン１０ｍｌで
再結晶後、結晶をロ別し五酸化リン上、６０℃で４時間
減圧下乾燥し目的化合物３００．６ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．２５
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．５９（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．６Ｈｚ），５．９８（２Ｈ，ｓ），６．７５
（１Ｈ，ｓ，），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈ
ｚ），６．８９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．４Ｈ
ｚ），７．１０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），７．２
４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．５０
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．２Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００６０】実施例４３２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−プロピオニルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノ
ンの製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５
ｇをピリジン５ｍｌに溶解後、塩化プロピオンニル０．
２１８ｍｌを加え１．５時間リフラックスした。本溶液
を室温まで冷却後、２Ｎ−塩酸５０ｍｌを加え、酢酸エ
チル５０ｍｌで抽出後飽和炭酸水素ナトリウム５０ｍｌ
で洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱
水し、減圧濃縮した。得られた得られた結晶は、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−（シリカゲル５０ｇ，溶
出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶
出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得
た。本結晶は、五酸化リン上、６０℃で２時間減圧下乾
燥し目的化合物２７２．９ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３５３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．２６
（３Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．６０（２Ｈ，ｑ，
Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．２６（２Ｈ，ｍ），６．７５
（１Ｈ，ｓ，），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），６．９０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈ
ｚ），７．１１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．３
２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．７４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００６１】実施例４４２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソ
プロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（４−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸
カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加
えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．
５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化
合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル
溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネ
シウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０
ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍ
ｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶
を得た。本結晶は、酢酸エチル１ｍｌ，ヘキサン１０ｍ
ｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、ロ
別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化
合物４６２．９ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８３（３
Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），
６．６７（２Ｈ，ｍ，），６．７６（１Ｈ，ｓ），６．
９３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．０Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．８１（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．
０Ｈｚ）
【００６２】実施例４５２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−イソ
プロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸
カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍｌを加
えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加え２．
５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、目的化
合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。酢酸エチル
溶液は、飽和食塩水２０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネ
シウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物は、シ
リカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル５０
ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍ
ｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶
を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍ
ｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、ロ
別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化
合物１８７．２ｍｇを得た。1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８４（３
Ｈ，ｓ），４．６５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），
６．６７（２Ｈ，ｍ，），６．７４（１Ｈ，ｓ），６．
９１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２），７．３２（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．４４（２Ｈ，ｍ），７．６５
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００６３】実施例４６２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（３、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及
び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍ
ｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加
え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、
目的化合物を酢酸エチル３０ｍｌで２回抽出した。酢酸
エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸
マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル
５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５０
０ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、
結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン５
ｍｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶は、
ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的
化合物６２２．７ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：３４１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．３６（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８８（３
Ｈ，ｓ），３．９２（３Ｈ，ｓ），４．６４（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．６５（２Ｈ，ｍ，），６．
７１（１Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），７．４１（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝８．２、１．８Ｈ
ｚ），７．４３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６
３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．５Ｈｚ）
【００６４】実施例４７２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（３、５−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５ｇ及
び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド５ｍ
ｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇを加
え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加え、
目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出し後、硫酸
マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油状物
は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル
５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で５０
０ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、
結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１
０ｍｌに溶解し室温で４時間放置した。析出した結晶
は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し
目的化合物３１６．１ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：３４１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．３８（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），３．８３（３
Ｈ，ｓ），４．６５（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），
６．４８（１Ｈ，ｍ，），６．６７（３Ｈ，ｍ），７．
０３（２Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６５（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００６５】実施例４８２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフ
ラノンの製造 ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
０．５ｇ及び炭酸カリウム０．６１ｇにジメチルホルム
アミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３
０６ｇを加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍ
ｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出
した。酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、
減圧濃縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサ
ン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画
し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶
は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン５ｍｌに溶解し室温で
４時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物２７５．１
ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：３２５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．４０（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），２．２５（３
Ｈ，ｓ），３．８６（３Ｈ，ｓ），４．６６（１Ｈ，
ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
５，２．１Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ），６．７５（１Ｈ，ｓ），７．８６（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ），７．６９（３Ｈ，ｍ）
【００６６】実施例４９２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−イソプロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノ
ンの製造 製造例１ ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５
ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド
５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプロパン０．３０６ｇ
を加え２．５時間リフラックスした後、水５０ｍｌを加
え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出した。
酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、
硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。得られた油
状物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカ
ゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１で
５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で濃縮乾固
し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル４ｍｌ，ヘキサ
ン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置した。析出した結
晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥
し目的化合物４２２．７ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：３３９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．３９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），４．２８（４
Ｈ，ｍ），４．６２（１Ｈ，ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），
６．４８（３Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１
Ｈｚ），７．５０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．
６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ） 製造例２ ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１０
ｇ、炭酸カリウム２７．６ｇをジメチルホルムアミド１
００ｍｌに加えた後、２−ブロモプロパン１１．８ｍｌ
を加え、１時間６０℃で攪拌した。本反応溶液は、冷却
後、酢酸エチル２００ｍｌを加え、水１００ｍｌで２
回、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄後、硫酸マグネシウム
で脱水し、４０℃で減圧濃縮し、油状物を得た。本油状
物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲ
ル２５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）
で目的物を分離した。目的画分に、ヘキサン５０ｍｌを
加え、室温で２時間放置後、結晶をロ別した。本結晶
は、６０℃で五酸化リン上、７時間乾燥して、６−イソ
プロピルオキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン６．３
７ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：１９３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．２９（６Ｈ，ｄ），４．７３−４．７９（３Ｈ，
ｍ），６．６３（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈ
ｚ），６．７７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．４
８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ） このようにして得られた６−イソプロピルオキシ−２Ｈ
−ベンゾフラン−３−オン０．５ｇ、１、４−ベンゾジ
オキサン−６−カルボキシアルデヒド０．６ｇを酢酸１
０ｍｌに溶解後、濃塩酸０．５ｍｌを加え、１８時間攪
拌した。析出した結晶をロ別後、本結晶をメタノール５
０ｍｌに溶解した。メタノール溶液に水１００ｍｌを加
え、目的物を酢酸エチル１００ｍｌで２回抽出した。酢
酸エチル溶液は、飽和炭酸水素ナトリウム溶液１００ｍ
ｌで２回、水１００ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで脱水した。本溶液を、４０℃で減圧濃縮し油状物を
得た。油状物に、メタノール２０ｍｌを加え、析出した
結晶をロ別後、結晶は６０℃で五酸化リン上、４時間乾
燥して、目的化合物０．７５ｇを得た。 製造例３ ６−イソプロピルオキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オ
ン０．５ｇ、１、４−ベンゾジオキサン−６−カルボキ
シアルデヒド０．６ｇをエタノール１０ｍｌに懸濁後、
ピペリジン２滴を加え、４時間攪拌した。析出した結晶
をロ別後、本結晶をエタノール１０ｍｌで２回洗浄後、
五酸化リン上、４時間乾燥して、目的化合物０．３７ｇ
を得た。
【００６７】実施例５０６−イソプロピルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２
Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン０．５ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジ
メチルホルムアミド５ｍｌを加えた溶液に２−ブロモプ
ロパン０．３０６ｇを加え２．５時間リフラックスした
後、水５０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍ
ｌで２回抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０
ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃
縮した。得られた油状物は、シリカゲルカラムクロマト
グラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢
酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧
下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エ
チル５ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放
置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃
で４時間減圧下乾燥し目的化合物５１９．６ｍｇを得
た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：３２５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
１．３９（６Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），６．００（２
Ｈ，ｓ），６．４８（３Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．５，１．８Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
５Ｈｚ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００６８】実施例５１２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製
造 ２−〔（３−メチル−４−メトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン
０．４７７ｇ及び炭酸カリウム０．５８３ｇにジメチル
ホルムアミド５ｍｌを加えた溶液にメチル ｐ−トルエ
ンスルフォネート０．３１４ｇを加え６０℃、２時間攪
拌後、水１００ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで２回
抽出したのち、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸
マグネシムで脱水ロ別し、４０℃で減圧濃縮し粗目的化
合物を粉末で得た。得られた粉末は、シリカゲルカラム
クロマトグラフィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキ
サン：酢酸エチル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画
し、減圧下４０℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶
は、酢酸エチル２ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温
で２時間放置した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物３７１．６
ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：２９７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
２．２３（３Ｈ，ｓ），３．８４（３Ｈ，ｓ），３．８
７（３Ｈ，ｓ），６．６９（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，
２．１Ｈｚ），６．７１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ
＝８．５Ｈｚ），７．６４（３Ｈ，ｍ）
【００６９】実施例５２２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−メトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．５
ｇ及び炭酸カリウム０．５８ｇにジメチルホルムアミド
５ｍｌを加えた溶液にメチル ｐ−トルエンスルフォネ
−ト０．３１４ｇを加え６０℃、２時間攪拌後、水１０
０ｍｌを加え、目的化合物を酢酸エチル５０ｍｌで２回
抽出した。酢酸エチル溶液は、飽和食塩水５０ｍｌで２
回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、減圧濃縮した。
得られた粉末は、シリカゲルカラムクロマトグラフィー
（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０℃で
濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２ｍ
ｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置した。
析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４時間
減圧下乾燥し目的化合物２２６．２ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：３１１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
３．８９（３Ｈ，ｓ），４．２８（４Ｈ，ｍ），４．７
２（３Ｈ，ｍ），６．８８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，２．１Ｈ
ｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．６
６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００７０】実施例５３２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−メト
キシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（３−メトキシフェニル）メチレン〕−６−ヒド
ロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン０．４５２ｇ及び
炭酸カリウム０．５８３ｇにジメチルホルムアミド５ｍ
ｌを加えた溶液にメチル ｐ−トルエンスルフォネート
０．３１４ｇを加え６０℃、２時間攪拌後、水１００ｍ
ｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出したのち、飽
和食塩水５０ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシムで脱水
ロ別し、４０℃で減圧濃縮し粗目的化合物を粉末で得
た。得られた粉末は、シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィー（シリカゲル５０ｇ，溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチ
ル＝１：１で５００ｍｌで溶出）で分画し、減圧下４０
℃で濃縮乾固し、結晶を得た。本結晶は、酢酸エチル２
ｍｌ，ヘキサン１０ｍｌに溶解し室温で２時間放置し
た。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で４
時間減圧下乾燥し目的化合物３７７．２ｍｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ：２８３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，Ｈｚ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；
３．８４（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），６．７
２（３Ｈ，ｍ），６．９１（１Ｈ，ｍ），７．３３（１
Ｈ，ｍ），７．４２（２Ｈ，ｍ），７．６６（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７１】実施例５４２−〔（２、４−ジメトキシフェニル）メチレン〕−６
−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
２、６−ジメトキシベンズアルデヒド１．２３ｇをメタ
ノ−ル７５ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌを加え
１．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで冷却
後、水４００ｍｌを加え析出した結晶は、ロ別後五酸化
リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９
５ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
８３（３Ｈ，ｓ），３．８９（３Ｈ，ｓ），６．６３
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．４Ｈｚ），６．６７（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．８，２．１Ｈｚ），６．７８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｓ），７．５７
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），８．０９（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００７２】実施例５５２−〔（３−メトキシ−４−プロピルオキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メトキシ−４−プロピルオキシベンズアルデヒド
１．５５ｇをメタノ−ル７０ｍｌに溶解した後、濃塩酸
５０ｍｌを加え２時間リフラックスした。本溶液を室温
まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６
０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７４ｇを得
た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３２７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．
９７（３Ｈ，ｔ），１．３７（２Ｈ，ｍ），３．８３
（３Ｈ，ｓ），３．９７（２Ｈ，ｍ），６．７０（２
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．７５（１
Ｈ，ｓ），６．７９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），
７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．５３〜
７．５５（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．
２Ｈｚ）
【００７３】実施例５６２−〔（３−メトキシ−４−ブトキシフェニル）メチレ
ン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メトキシ−４−ブトキシベンズアルデヒド１．６６
ｇをメタノ−ル６０ｍｌに溶解した後、濃塩酸５０ｍｌ
を加え２．５時間リフラックスした。本溶液を室温まで
冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃
で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９７ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３４１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．
９０（３Ｈ，ｔ），１．４０（２Ｈ，ｍ），１．６８
（２Ｈ，ｓ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．９８（２
Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１
Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈ
ｚ），７．５０〜７．５３（２Ｈ，ｍ），７．５８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７４】実施例５７２−〔（３−メトキシ−４−ペンチルオキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メトキシ−４−ペンチルオキシベンズアルデヒド
１．７７ｇをメタノ−ル６０ｍｌに溶解した後、濃塩酸
５０ｍｌを加え２．５時間リフラックスした。本溶液を
室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．２５ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３５５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．
８５（３Ｈ，ｔ），１．３３（４Ｈ，ｍ），１．７０
（２Ｈ，ｍ），３．８２（３Ｈ，ｓ），３．９７（２
Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．８
Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ），７．５０〜７．５３（２Ｈ，ｍ），７．５９（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００７５】実施例５８２−〔（３−メトキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）
メチレン〕−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラ
ノンの製造 ６−ヒドロキシ−２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、
３−メトキシ−４−ヘキシルオキシベンズアルデヒド
１．８８ｇをメタノ−ル６０ｍｌに溶解した後、濃塩酸
５０ｍｌを加え２．５時間リフラックスした。本溶液を
室温まで冷却後、析出した結晶は、ロ別後五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物１．３４ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３６９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；０．
８３（３Ｈ，ｔ），１．２６（４Ｈ，ｍ），１．３７
（４Ｈ，ｍ），１．６７（２Ｈ，ｍ），３．８２（３
Ｈ，ｓ），３．９６（２Ｈ，ｍ），６．７０（２Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），６．７３（１Ｈ，
ｓ），６．７８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．０
１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．５０〜７．５３
（２Ｈ，ｍ），７．５９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７６】実施例５９２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−エトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０
ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１
０ｍｌに入れた後、よう化エタン０．４８ｍｌを加え１
００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、酢
酸エチル１００ｍｌを加え水５０ｍｌで３回、飽和食塩
水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マ
グネシウムで脱水し、４０℃で減圧下４０ｍｌまで濃縮
した。析出した結晶は、ロ別後五酸化リン上、６０℃で
４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７４ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．４４
（３Ｈ，ｔ），４．１０（２Ｈ，ｑ），４．２８（４
Ｈ，ｍ），６．６８（３Ｈ，ｍ），６．８８（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝
８．５，２．１Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．
８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７７】実施例６０２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−プロピルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０
ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１
０ｍｌに入れた後、よう化プロパン０．５９ｍｌを加え
１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却後、
水１００ｍｌを加え、酢酸エチル５０ｍｌで２回抽出し
た。酢酸エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩
水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶液は、硫酸マ
グネシウムで脱水し、４０℃で減圧下濃縮した。得られ
た結晶は、酢酸エチル１５ｍｌを加え６０℃で溶解後、
５℃に２時間放置した後、析出した結晶をロ別後、五酸
化リン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．
６８ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３３８（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；０．９７
（３Ｈ，ｔ），１．７７（２Ｈ，ｍ），３．９３（２
Ｈ，ｑ），４．２２（４Ｈ，ｍ），６．６３（３Ｈ，
ｍ），６．８１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２
４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈｚ），７．５７（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．５Ｈｚ）
【００７８】実施例６１２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ブトキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０
ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１
０ｍｌに入れた後、１−よう化ブタン０．７０ｍｌを加
え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却
後、酢酸エチル２００ｍｌを加えた後、水５０ｍｌで２
回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル溶
液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下４０
ｍｌまで濃縮した。析出した結晶をロ別後、五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．７４ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３５２（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；０．９７
（３Ｈ，ｔ），１．４８（２Ｈ，ｍ），１．７７（２
Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），４．２８（４Ｈ，
ｍ），６．６８−６．７１（３Ｈ，ｍ），６．８７（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００７９】実施例６２２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ペンチルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０
ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１
０ｍｌに入れた後、１−よう化ペンタン０．７９ｍｌを
加え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却
後、酢酸エチル２００ｍｌを加えた後、水１００ｍｌで
３回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。酢酸エチル
溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下２
０ｍｌまで濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リ
ン上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９５
ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３６６（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；０．９２
（３Ｈ，ｔ），１．４０（４Ｈ，ｍ），１．８０（２
Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），４．２８（４Ｈ，
ｍ），６．６８−６．７１（３Ｈ，ｍ），６．８８（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝８．５，２．１Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
２．１Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００８０】実施例６３６−エトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液によう化エタン
０．４８ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、室温
まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸エチ
ル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌで
２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、４０ｍｌまで
減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、
６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．６５ｇを得
た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．４５
（３Ｈ，ｔ），４．１０（２Ｈ，ｑ），６．００（２
Ｈ，ｓ），６．６８−６．７０（３Ｈ，ｍ），６．８２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．４９（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈ
ｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ）
【００８１】実施例６４６−プロピルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）
−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化プロ
パン０．５９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、
室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸
エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍ
ｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、４０ｍｌ
まで減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．６１ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３２５（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．０４
（３Ｈ，ｔ），１．８２（２Ｈ，ｍ），３．９９（２
Ｈ，ｑ），６．００（２Ｈ，ｓ），６．７０（３Ｈ，
ｍ），６．８３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），７．２
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，
ｓ），７．６４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ）
【００８２】実施例６５６−ブトキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベン
ゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化ブタ
ン０．７０ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、室
温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸エ
チル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍｌ
で２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、１０ｍｌま
で減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．８４ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３３９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；０．９７
（３Ｈ，ｔ），１．４８（２Ｈ，ｍ），１．７８（２
Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），５．９９（２Ｈ，
ｓ），６．６８−６．７０（３Ｈ，ｍ），６．８２（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝７．９，１．５Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．５Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８３】実施例６６６−ペンチルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）
−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化ペン
タン０．７９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、
室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸
エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍ
ｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、１５ｍｌ
まで減圧濃縮した。析出した結晶はロ別後、五酸化リン
上、６０℃で４時間減圧下乾燥し目的化合物０．９７ｇ
を得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３５３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；０．９３
（３Ｈ，ｔ），１．４３（４Ｈ，ｍ），１．８２（２
Ｈ，ｍ），４．０３（２Ｈ，ｑ），６．００（２Ｈ，
ｓ），６．６９−６．７１（３Ｈ，ｍ），６．８３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２５（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ
＝７．９，１．８Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．８Ｈｚ），７．６３（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８４】実施例６７２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヘキシルオキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノンの
製造 ２−〔（１，４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０
ｇ、炭酸カリウム１．９５ｇをジメチルホルムアミド１
０ｍｌに入れた後、１−よう化ヘキサン０．８９ｍｌを
加え１００℃で２時間加熱した。本溶液を室温まで冷却
後、酢酸エチル２００ｍｌを加えた後、水１００ｍｌで
３回、飽和食塩水５０ｍｌで２回洗浄した。本酢酸エチ
ル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、４０℃で減圧下
２０ｍｌまで濃縮した後、ヘキサン１００ｍｌを加え
た。析出した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４
時間減圧下乾燥し目的化合物０．８３ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３８１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；０．８９
（３Ｈ，ｔ），１．３３（４Ｈ，ｍ），１．４４（２
Ｈ，ｍ），１．７８（２Ｈ，ｍ），４．０１（２Ｈ，
ｑ），４．２７（４Ｈ，ｍ），６．６８−６．７０（３
Ｈ，ｍ），６．８７（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），
７．３１（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，１．８Ｈｚ），
７．４８（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８５】実施例６８６−ヘキシルオキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）
−ベンゾフラノンの製造 ６−ヒドロキシ−２−ピペロニリデン−３（２Ｈ）−ベ
ンゾフラノン１ｇ及び炭酸カリウム１．９５ｇにジメチ
ルホルムアミド１０ｍｌを加えた溶液に１−よう化ヘキ
サン０．８９ｍｌを加え１００℃で２時間加熱した後、
室温まで冷却し酢酸エチル２００ｍｌを加えた。本酢酸
エチル溶液を、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水５０ｍ
ｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水し、４０ｍｌ
まで減圧濃縮した後ヘキサン１００ｍｌを加えた。析出
した結晶はロ別後、五酸化リン上、６０℃で４時間減圧
下乾燥し目的化合物０．８２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３６７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；０．８９
（３Ｈ，ｔ），１．３３（４Ｈ，ｍ），１．４４（２
Ｈ，ｍ），１．８０（２Ｈ，ｍ），４．０４（２Ｈ，
ｑ），６．０１（２Ｈ，ｓ），６．６９−６．７１（３
Ｈ，ｍ），６．８４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ），
７．２６（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．５Ｈｚ），
７．５２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．５Ｈｚ），７．６３（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ）
【００８６】実施例６９メチル−２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、
４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−
オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イ
ル｝オキシ）プロピオネートの製造 ２−〔（１、４−ベンゾジオキサン）−６−メチレン〕
−６−ヒドロキシ−３（２Ｈ）−ベンゾフラノン１．０
ｇ、炭酸カリウム１．１６ｇをジメチルホルムアミド１
０ｍｌに入れた後、メチル ２−ブロモプロピオネート
０．６７ｇを加え１１０℃、１６時間加熱した。本溶液
を室温まで冷却後、酢酸エチル１５０ｍｌを加えた後、
水１５０ｍｌで２回、飽和食塩水１００ｍｌで洗浄し
た。本酢酸エチル溶液は、硫酸マグネシウムで脱水し、
４０℃で減圧下濃縮した油状物を得た。油状物は、シリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１００
ｇ、溶出溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）で目的物
を分画し、油状物として目的物を得た。本油状物は、酢
酸エチル２０ｍｌに溶解後、析出した結晶をロ別し目的
化合物０．４２１ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３８３（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；１．６５
（３Ｈ，ｄ），３．７８（３Ｈ，ｓ），４．２８（４
Ｈ，ｍ），４．８４（１Ｈ，ｍ），６．６４（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），６．７０（１Ｈ，ｓ），６．７
２（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．８８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．３０（１Ｈ，ｄ
ｄ，Ｊ＝８．２，１．８Ｈｚ），７．４８（１Ｈ，ｄ，
Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．６６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈ
ｚ）
【００８７】実施例７０２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、４−ベン
ゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−オキソ−
２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イル｝オキ
シ）プロピオン酸の製造 メチル ２−（｛２−〔１−（２、３−ジヒドロ−１、
４−ベンゾジオキシン−６−イル）メチリデン〕−３−
オキソ−２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−６−イ
ル｝オキシ）プロピオネート１００ｍｇをメタノール１
０ｍｌと１、４−ジオキサン１５ｍｌの混合液に溶解し
た後、４Ｎ−水酸化ナトリウム１０ｍｌを加え、室温で
１時間攪拌した。本反応液を２Ｎ−塩酸でｐＨ４とした
後、酢酸エチル１５０ｍｌで目的物を抽出した。本酢酸
エチル溶液は、水１００ｍｌで２回、飽和食塩水で１０
ｍｌで２回洗浄後、硫酸マグネシウムで脱水後、４０℃
で２０ｍｌまで減圧濃縮した。析出した結晶は、ロ別
後、６０℃で減圧乾燥し目的化合物４７．７ｍｇを得
た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３６９（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；１．
５５（３Ｈ，ｄ），４．２８（４Ｈ，ｍ），５．１３
（１Ｈ，ｍ），６．７５（１Ｈ，ｓ），６．８０（１
Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．５，２．１Ｈｚ），６．９５（１
Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．０４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．８Ｈｚ），７．４４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，
１．８Ｈｚ），７．５１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝２．１Ｈ
ｚ），７．６５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．８Ｈｚ）
【００８８】実施例７１メチル−２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−
ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕
ベンゾエートの製造 ２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、バニリンアセテー
ト２．１７ｇをジクロルメタン２５ｍｌに溶解し、酸化
アルミニウム（メルク社製、ｃａｔ．ｎｏ．１０７６）
２４．３ｇを加え、１．５時間攪拌した後、酸化アルミ
ニウムを、ジクロルメタン１００ｍｌで３回洗浄し、こ
のジクロルメタン溶液と反応溶液を一緒にして、４０℃
で減圧濃縮した。濃縮物は、メタノール４０ｍｌに溶解
し、室温に２時間放置後、析出した結晶をロ別した。得
られた結晶を６０℃で２時間減圧乾燥し、目的化合物
１．４４ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；３１１（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＣＤＣｌ3 ）；２．２８
（３Ｈ，ｓ），３．８７（３Ｈ，ｓ），６．９４（１
Ｈ，ｓ），７．２２（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），
７．３２（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ），７．５４（１
Ｈ，ｍ），７．６４（１Ｈ，ｄｄ，Ｊ＝８．２，１．５
Ｈｚ），７．２１（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．
７８〜７．８１（３Ｈ，ｍ）
【００８９】実施例７２２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−ジヒドロ
ベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕ベンゾエ
ートの製造 メチル ２−メトキシ−４−〔（３−オキソ−２、３−
ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−２−イリデン）メチル〕
ベンゾエート０．６ｇは、メタノール５ｍｌ及び１、４
−ジオキサン１０ｍｌの混液に溶解した後、４Ｎ−水酸
化ナトリウム２ｍｌを加え５時間攪拌した後、反応溶液
を２Ｎ−塩酸でｐＨ２とした後、析出した結晶をロ別し
た。得られた結晶を６０℃で４時間減圧乾燥し、目的化
合物０．４５ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２９７（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；３．
８７（３Ｈ，ｓ），６．８７（１Ｈ，ｓ），６．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝８．２Ｈｚ），７．２９（１Ｈ，ｔ，
Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．５１（２Ｈ，ｍ），７．５８
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝１．８Ｈｚ），７．７４−７．７７
（２Ｈ，ｍ）
【００９０】実施例７３ ２−〔１−（１Ｈ−５−インドリル）メチリデン〕−
２、３−ジヒドロベンゾ〔ｂ〕フラン−３−オンの製造 ２Ｈ−ベンゾフラン−３−オン１ｇ、４−ホルミルイン
ドール１．２９ｇをジクロルメタン２５ｍｌに溶解し、
酸化アルミニウム（メルク社製、ｃａｔ．ｎｏ．１０７
６）２４．０ｇを加え、２時間攪拌した後、酸化アルミ
ニウムを、ジクロルメタン１５０ｍｌで２回洗浄し、こ
のジクロルメタン溶液と反応溶液を一緒にして、４０℃
で減圧濃縮した。濃縮物は、メタノール２０ｍｌに溶解
し、室温に２時間放置後、析出した結晶をロ別した。得
られた結晶を６０℃で２時間減圧乾燥し、目的化合物
１．２２ｇを得た。 ＦＡＢ ＭＡＳＳ；２６２（Ｍ＋１）1 Ｈ−ＮＭＲ（ｐｐｍ，ｉｎ ＤＭＳＯ−ｄ6 ）；６．
５６（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．０８（１Ｈ，
ｓ），７．３０（１Ｈ，ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ），７．４
４（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝３．０Ｈｚ），７．５２（１Ｈ，
ｄ，Ｊ＝８．５Ｈｚ），７．５８（１Ｈ，ｍ），７．７
６〜７．８３（３Ｈ，ｍ），８．２５（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝
１．５Ｈｚ）
【００９１】試験例１in vitro １７β−ＨＳＤ阻害活性試験 実施例１〜７３で得られた化合物（以下、被験物質）の
１７β−ＨＳＤ阻害活性を試験した。即ち、被験物質を
それぞれエタノールに溶解し、最終濃度が２６０ｎＭと
なるように試験管に入れ、窒素ガスにより乾固させた。
これに１００ｍＭ塩化カリウム、１ｍＭエチレンジアミ
ンテトラ酢酸、０．５ｍＭ還元型ニコチンアミドアデニ
ンジヌクレオチドリン酸（全て和光純薬社）、１μＭ
〔４−14Ｃ〕エストロン（NEN Research Products 社）
を含む１０ｍＭリン酸緩衝液（ｐＨ７．５）５９０μl
、及びＥ．Ａ．Ｔｈｏｍｐｓｏｎらの方法（Ｊ．Ｂｉ
ｏｌ．Ｃｈｅｍ．、２４９巻、５３６４〜５３７２頁、
１９７４年）に準じてヒト胎盤より得られたミクロソー
ム画分１０μl を加え、３７℃、３０分間振盪下で反応
させた。反応終了後、直ちにジクロロメタン２mlを加え
て充分攪拌し、 ３０００ｒｐｍで５分間遠心処理を行
い、得られた下層（ジクロロメタン層）を別の試験管に
移し、窒素ガスにて乾固させた。これに２０μｇのエス
トロン及び２０μｇのエストラジオールを含むエタノー
ル１００μl を添加し、うち２０μl をＴＬＣプレート
（シリカゲル６０Ｆ254 、メルク社）にスポットした。
このＴＬＣプレートをベンゼン：アセトン（４：１）に
て展開した後、紫外線下でエストロン、エストラジオー
ルに相当するスポットを切り出し、液体シンチレーショ
ンカクテル（フィルターカウント（登録商標）；ヒュー
レットパッカード社）を加え、液体シンチレーションカ
ウンターにて残存している〔４−14Ｃ〕エストロン量、
及び１７β−ＨＳＤ酵素活性によって生成された〔４−
14Ｃ〕エストラジオール量を求めた。又、被験物質を加
えないで同様の操作を行ったものを対照群とした。対照
群の１７β−ＨＳＤ酵素活性を阻害率０％として、被験
物質の１７β−ＨＳＤ酵素阻害率を百分率にて求めた。
結果を図１〜８に示す。
【００９２】試験例２in vivo 血清エストラジオール量測定試験 性腺刺激ホルモン処置幼若雌ラットを用いて、血清エス
トラジオール量を測定した。即ち、１４日齢のＳＤ系雌
ラットを哺乳親とともに予備飼育し、２０日齢にて離乳
させ、翌２１日齢に体重１kgあたり生理食塩水に溶解さ
せた妊馬血清性性腺刺激ホルモンを６００国際単位皮下
投与した。２４時間後に、生理食塩水に溶解させた０．
５％カルボキシルメチルセルロースに被験物質を懸濁さ
せたものを、体重１kgあたり１００mg単回経口投与し
た。被験物質投与４及び２４時間後にエーテル麻酔下に
て後大静脈より全採血を行い、３０００ｒｐｍ、３０分
間の遠心処理にて血清を分離した。被験物質投与ラット
の血清中に含まれるエストラジオール量の測定には、Ｅ
２キット「第一」II（第一ラジオアイソトープ研究所
社）を用いた。被験物質投与ラットの血清または標準曲
線用の既知濃度のエストラジオール（和光純薬社）を
１００μl ずつ試験管に添加し、３mlのジエチルエーテ
ルを加え、充分に攪拌したのち暫く静置した。エーテル
層と水層が明確に分離したらドライアイス−メタノール
に底部を浸して水層のみを凍結させ、エーテル層を別の
試験管に移し、37℃にて窒素ガスで乾固させた。ここに
キットに含まれる１００μl 125I- エストラジオールと
抗エストラジオール抗体を加え、室温で９０分反応させ
た。反応終了後二次抗体を１ml加え、室温でさらに１５
分反応させたのち、３０００ｒｐｍで１５分間遠心処理
を行い、上清をアスピレーターで完全に除去し、γカウ
ンターにて沈渣に存在する125I- エストラジオールを測
定した。既知濃度のエストラジオールによる125I- エス
トラジオール量から標準曲線を描き、被験物質投与ラッ
トの血清中に含まれるエストラジオール量を定量した。
結果を図１〜８に示す。
【００９３】
【発明の効果】以上の結果より、本発明誘導体（被験物
質）が、優れた１７β−ＨＳＤ阻害活性を有することが
確認された。従って、本発明により、新規ベンゾフラノ
ン誘導体及びその製造方法が提供される。本発明誘導体
は１７β−ＨＳＤ阻害活性を有し、その活性より男性及
び女性ホルモン依存性疾患の予防及び／又は治療剤、具
体的には前立腺癌、前立腺肥大症、男性化症、乳癌、乳
腺症、子宮癌、子宮内膜症、卵巣癌などの予防及び／又
はとして有用である。
【００９４】
【図面の簡単な説明】
【図１】 実施例の結果を示す図。
【図２】 実施例の結果を示す図。
【図３】 実施例の結果を示す図。
【図４】 実施例の結果を示す図。
【図５】 実施例の結果を示す図。
【図６】 実施例の結果を示す図。
【図７】 実施例の結果を示す図。
【図８】 実施例の結果を示す図。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 下記の一般式（Ｉ）で表される新規ベン
    ゾフラノン誘導体。 【化１】 （但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直
    鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基、アラル
    キルオキシ基、ハロゲン、又はアミノ基、あるいはR1と
    R2、R2とR3、R3とR4、又はR4とR5で結合したアルキレン
    ジオキシ基をそれぞれ示し、R6は水酸基、炭素数１〜６
    の直鎖又は分岐したアルキルオキシ基又はアラルキルオ
    キシ基、あるいは炭素数１〜７のカルボン酸エステルを
    示す。）
  2. 【請求項２】 下記の一般式（II）で表されるベンゾフ
    ラノン化合物と下記の一般式（III)で表されるベンズア
    ルデヒド化合物を有機溶媒に溶解し、酸性又は塩基性条
    件下で加熱還流又は室温で反応した後、反応液から目的
    物を精製することを特徴とする、請求項１記載の新規ベ
    ンゾフラノン誘導体の製造方法。 【化２】 （但し、式中R6は水酸基、炭素数１〜６の直鎖又は分岐
    したアルキルオキシ基又はアラルキルオキシ基、あるい
    は炭素数１〜７のカルボン酸エステルを示す。） 【化３】 （但し、式中R1〜R5は水素、水酸基、炭素数１〜６の直
    鎖又は分岐したアルキル基、アルキルオキシ基又はアラ
    ルキルオキシ基、ハロゲン、あるいはアミノ基をそれぞ
    れ示す。）
  3. 【請求項３】 請求項１記載の新規ベンゾフラノン誘導
    体を有効成分とする医薬。
  4. 【請求項４】 請求項１記載の新規ベンゾフラノン誘導
    体を有効成分とするホルモン依存性疾患治療剤。
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