JPH10251273A - 光遮断剤 - Google Patents

光遮断剤

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JPH10251273A
JPH10251273A JP10044921A JP4492198A JPH10251273A JP H10251273 A JPH10251273 A JP H10251273A JP 10044921 A JP10044921 A JP 10044921A JP 4492198 A JP4492198 A JP 4492198A JP H10251273 A JPH10251273 A JP H10251273A
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    • C07F7/1804—Compounds having Si-O-C linkages

Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機溶媒、特に化粧品用溶媒に対して良好な
溶解性を有し、良好な光安定性を有するヒドロキシフェ
ニル−ｓ−トリアジンクラスの化合物を提供する。 【解決手段】 式（Ｉ）： 【化１９】 〔式中、Ｘは、スペーサー基Ｚを介してＯと結合してい
るケイ素基Ｓなどであり、スペーサー基Ｚは、アルキレ
ン基であり、そしてケイ素基Ｓは、アルキル、アルケニ
ルもしくはアルコキシでトリ置換されたシリル基などで
ある〕で示される化合物、それを含有する光遮断剤、お
よびその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光遮断作用を有す
るヒドロキシフェニルトリアジン化合物に関する。
【０００２】
【従来の技術】日光は、皮膚の老化を促進し、皮膚がん
を惹起することさえある。これらの望ましからぬ効果
は、ＵＶ−Ｂの照射ばかりでなく、約３２０〜４００nm
の領域の波長のＵＶ−Ａの照射（これが、皮膚を直接日
焼けさせる）によっても惹起される。
【０００３】対照な分子であるトリス−（２，４−ジヒ
ドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジンが、織物
を保護するための非常に有効なＵＶ−Ａ／Ｂ光遮断剤で
あることは、スイス国特許第４８４６９５号により知ら
れている。しかしながら、このクラスの物質には、ほと
んどすべての溶媒に対して非常に低い溶解度しか有さな
いという重大な欠点があり、このためこれらを、例えば
化粧品に使用することが可能ではなかった。
【０００４】紫外線を吸収するｏ−ヒドロキシフェニル
−ｓ−トリアジンが、米国特許第３，８９６，１２５号
に記載されているが、これらも、不溶性であるか、ある
いはポリエチレン、ポリプロピレンまたはポリエステル
樹脂などの非極性ポリマーに対してのみわずかな溶解性
を有するのみである。
【０００５】さらに、有機ポリマーを光に対して安定化
するための、２−ヒドロキシフェニル基の４位にケイ素
含有基を有する２−ヒドロキシフェニル−ｓ−トリアジ
ンが、ヨーロッパ特許公開第５０２８２１号により知ら
れている。それによって安定化されたポリマーから製造
された寸法的に安定な物品においては、その物品の外層
に含まれる紫外線吸収剤が、ポリマーにとって特に有害
である短波長光の透過、つまり主としてＵＶ−Ｂの物品
内部への透過を防ぐ。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、特にボディー
ケア製品の業者にとっては、その光遮断作用を考慮し
て、そのほかの目的にも利用可能であるヒドロキシフェ
ニル−ｓ−トリアジンクラスの化合物を製造することが
求められてきた。そのため、少なくとも有機溶媒に対し
て、特に化粧品用溶媒に対して良好な溶解性を有するこ
と、そして良好な光安定性を有することが求められてい
る。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そこで、式（Ｉ）：
【０００８】
【化３】
【０００９】〔式中、全部のＸは、スペーサー基Ｚを介
してＯと結合しているケイ素基Ｓであるか；あるいは２
つのＸは、スペーサー基Ｚを介してＯと結合しているケ
イ素基Ｓであり、そして３番目のＸは、Ｈであるか、ま
たはＯと結合しているケイ素基Ｓであり（好ましくは、
全部のＸは、スペーサー基Ｚを介してＯと結合している
ケイ素基Ｓである）、ここで、スペーサー基Ｚは、３〜
１２個の炭素原子を有する飽和、またはモノ−もしくは
多価不飽和アルキレン基であり、そしてケイ素基Ｓは、
１〜８個のケイ素原子を有し、アルキル、アルケニルも
しくはアルコキシでトリ置換されたシリル基（いずれ
も、３〜１５個の炭素原子を有する）、トリアリールオ
キシシリル基、特にトリフェノキシシリル基、またはオ
リゴシロキサン基である〕で示される対照な化合物が、
有機溶媒、特に化粧品用溶媒に良く溶け、皮膚に対する
適合性および（光、熱、湿度に対する）安定性も優れて
おり、皮膚に対するストレス作用を強力に低下させ、そ
の結果、皮膚の老化を遅らせる、つまりこれらは、紅斑
を惹起する、約３２０〜４００nmの領域のＵＶ−Ａを吸
収する物質であるため、優れたＵＶ−Ａフィルターであ
ることが認められた。詳細には、これらのＵＶ−Ａフィ
ルターは、優れた光安定性も有する。したがって、これ
らの化合物は、化粧品の乳剤に使用することができ、こ
れらの化合物により、処理しやすく、皮膚用化粧品のサ
ンスクリーン剤またはヘアケア製品における使用に特に
適している調製物が得られる。
【００１０】好ましくは、スペーサー基Ｚのアルキレン
基は、ケイ素基Ｓと、その２、３、４、５または６位で
結合している。スペーサー基Ｚのアルキレン基が、２ま
たは３位でケイ素基Ｓと結合している化合物は、価格面
で優れ、スペーサー基Ｚのアルキレン基が、４、５また
は６位でケイ素基Ｓと結合している化合物は、高純度で
製造することができるからである。
【００１１】スペーサー基Ｚの例としては、３−プロピ
ル、２−プロピル、３−プロペニル、２−プロペン−３
−イル、２−プロペン−２−イル、２−メチル−２−プ
ロピル、２−メチル−３−プロペニル、４−ブチル、３
−ブチル、２−ブチル、３−ブテニル、３−メチル−２
−ブチル、２，４−ペンタジエン−５−イル、４−ペン
チル、５−ペンチル、５−ヘキシル、６−ヘキシル、ま
たは２−ドデセン−１２−イルから誘導されるアルキレ
ン基が挙げられ、好ましくは３−プロピル、４−ブチル
または５−ペンチルから誘導されるアルキレン基が、挙
げられる。
【００１２】ケイ素基Ｓの例としては、ＳｉＭｅ3 、Ｓ
ｉＥｔ3 、Ｓｉ（イソプロペニル）3 、Ｓｉ（tert−ブ
チル)3、Ｓｉ(sec−ブチル)3、ＳｉＭｅ2(tert−ブチ
ル）、ＳｉＭｅ2(テキシル）（テキシルは、１，１，２
−トリメチルプロピルである）、Ｓｉ（ＯＭｅ)3、Ｓｉ
（ＯＥｔ)3、Ｓｉ（ＯＰｈ)3、またはオリゴシロキサン
が挙げられ、好ましくはＳｉＥｔ3 またはＳｉ（ＯＥ
ｔ)3が挙げられる。
【００１３】適当なオリゴシロキサンは、例えば−Ｓｉ
Ｍｅm(ＯＳｉＭｅ3)n （ここでｍ＝０、１または２、ｎ
＝３、２または１、そしてｍ＋ｎ＝３である）であり、
好ましくは−ＳｉＭｅ2(ＯＳｉＭｅ3)であるか、あるい
は式：
【００１４】
【化４】
【００１５】〔式中、ｒは、０〜６である〕で示される
基である。
【００１６】トリアジンにとってオルト位に３個のヒド
ロキシル基が存在することは、ＵＶ−Ａフィルター効果
にとっては、必須の特性であると考えられる。
【００１７】本発明による化合物の例のいくつかを、以
下の表に記載する（表Ｉ）。
【００１８】
【表１】
【００１９】本発明による化合物は、無色または明帯黄
色の、液状、結晶性または半液状の物質である。これら
は、高い光安定性、有機溶媒、特に化粧品用溶媒におけ
る良好な溶解性、そして簡単で廉価な製造方法を特徴と
する。
【００２０】本発明による化合物は、ＵＶ−Ａ領域にお
いて、優れた最大吸収を示す。さらに、ＵＶ−Ｂ領域に
おいても、小さいが第二の紫外線最大吸収を示すため、
これらの物質は、両方の有害な紫外線領域から同時に保
護するために使用することができる。
【００２１】しかし、早い時期の老化から皮膚を保護
し、そして多くの場合に光による皮膚疾患から皮膚を保
護する、いわゆるＡ＋Ｂのトータルブロックを得るため
には、同一処方に、そのほかのＵＶフィルター、特にそ
のほかのＵＶ−Ｂフィルターをも配合するのが、好都合
であり、有用である。
【００２２】新規な光遮断剤、特に皮膚保護用製剤、そ
して毎日使用するための化粧品用のサンスクリーン製剤
の製造には、式（Ｉ）の化合物を、光遮断剤に有用な化
粧品用基材に配合することが含まれる。好都合であれ
ば、そのほかの通常のＵＶ−ＡおよびＵＶ−Ｂフィルタ
ーを配合の際に併用することもできる。特に高い光遮断
効果を得るためには、数種類の異なるＵＶフィルターを
同時に使用するのが好都合であることが多い。
【００２３】このようなＵＶ−フィルターとしては、例
えば以下の化合物が挙げられる：１−（４−メトキシフ
ェニル）−３−（４−tert−ブチルフェニル）プロパン
−１，３−ジオン（＝ブチルメトキシジベンゾイルメタ
ン）、商品名：パルソル１７８９（Parsol、登録商
標）；４−イソプロピル−ジベンゾイルメタン；２，
２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（＝
ジオキシベンゾンまたはベンゾフェノン−δ）；２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン
酸（＝スリソベンゾン、ベンゾフェノン−４）；２−ヒ
ドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン（＝オキシベン
ゾン、ベンゾフェノン−３）；３，３，５−トリメチル
−シクロヘキシル Ｎ−アセチル−アントラニラート
（＝ホモメンチル Ｎ−アセチル−アントラニラー
ト）；および２−メチルアントラニラート。
【００２４】ＵＶ−Ｂフィルター、つまり約２９０〜３
２０nmの間に最大吸収を示す物質としては、例えば以下
に示すような、非常にまちまちの種類の有機化合物であ
る通常のＵＶ−Ｂフィルターを挙げることができる： １）ｐ−アミノ安息香酸誘導体（例えば、ｐ−アミノ安
息香酸エチル、ならびにｐ−アミノ安息香酸プロピル、
ブチル、イソブチルなどそのほかのエステル、ｐ−ジメ
チルアミノ安息香酸エチル、ｐ−アミノ安息香酸グリセ
リル、およびｐーアミノ安息香酸アミルなど）； ２）ケイ皮酸誘導体（例えば、ｐ−メトキシケイ皮酸２
−エトキシエチル、ｐ−メトキシケイ皮酸２−エチルヘ
キシル、ｐ−メトキシケイ皮酸エステル混合物、および
ケイ皮酸エステル混合物など）； ３）ジベンザラジン； ４）複素環式窒素化合物（２−フェニルベンゾイミダゾ
ール誘導体、例えば２−フェニルベンゾイミダゾール−
５−スルホン酸など）； ５）サリチル酸誘導体（例えば、サリチル酸メンチル、
サリチル酸ホモメンチル、およびサリチル酸フェニ
ル）； ６）ベンゾフェノン誘導体（例えば、４−フェニルベン
ゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン−２−カルボ
ン酸イソオクチル、および２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン−５−スルホン酸）； ７）クマリン誘導体（例えば、７−オキシクマリン、β
−ウンベリフェロン酢酸、および６，７−ジオキシクマ
リン）； ８）没食子酸誘導体（例えば、ジガロイル トリオレア
ート）； ９）アリーリデンシクロアルカノン（例えば、ベンジリ
デンカンファー）； １０）アントラニル酸誘導体（例えば、アントラニル酸
メンチル）；ならびに １１）ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール。
【００２５】金属酸化物顔料（例えば、酸化チタン、酸
化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化鉄、お
よびその混合物もまた、有効な紫外線吸収に特に適して
おり、これらは約≦１００nmの平均直径を有し、フィル
ターとして有効な本発明の式（Ｉ）の化合物と非常に良
く混合することができ、そしてこれらも同様に上述のフ
ィルターと共に非常に有効である。
【００２６】本発明の範囲内である光遮断剤に有用であ
る化粧品用基材としては、化粧品要件に対応する通常の
どのような処方物も使用することができ、例えばクリー
ム剤、ローション剤、乳剤、軟膏剤、ゲル剤、噴霧剤、
スティック状物、ミルク状物などを使用することができ
る。光遮断効果は、用いる基材次第であることはもちろ
んである。さらに、同一の基材の場合、光遮断効果の強
さは、活性物質の濃度次第である。化粧品調製物におけ
る式（Ｉ）の化合物の適当な濃度は、例えば１〜６％、
好ましくは１．５〜４％の間である。ＵＶ−Ｂフィルタ
ーに対する式（Ｉ）の化合物の比率もまた記載すること
もできるが、必須ではない。
【００２７】その良好な親油性を考慮すると、式（Ｉ）
の化合物は、油脂含有化粧品調製物に良好に配合するこ
とができる。
【００２８】親油性に関しては、本発明による式（Ｉ）
の化合物は、上記の置換トリアジンよりも優れている。
式（Ｉ）の化合物はいずれもこの場合に要求されている
要件、つまり化粧品用溶媒（例えば、デルチルエクスト
ラ（Deltyl extra、ミリスチン酸イソプロピル）、アル
ラノールＥ（Arlanol E 、ＰＰＧ １５−ステアリルエ
ーテル）、セチオールＬＣ（Cetiol LC 、ココイル カ
プリラート／カプラート）、またはクロダモールＤＡ
（Crodamol DA 、アジピン酸ジイソプロピル））に高い
溶解性を有するとの要件を満たすからである。これは、
以降に記載するように、実施例や式（Ｉ）の化合物のセ
チオールＬＣおよび／またはクロダモールＤＡにおける
溶解性において示されている（表II）。
【００２９】
【表２】
【００３０】
【表３】
【００３１】
【表４】
【００３２】一方、従来技術の構造の化合物の場合、こ
れらの２つの溶媒に対する溶解度は、わずか０．５％以
下である。上記の化合物の前駆体も、セチオールＬＣに
０．０５％未満しか溶解しない。
【００３３】したがって式（Ｉ）の化合物は、化粧品に
おける使用に特に適している。式（Ｉ）の化合物は、化
粧品用溶媒に高い溶解性を有するばかりでなく、優れた
ＵＶ−Ａフィルター効果を有するからである。
【００３４】同一のスペーサー基Ｚの場合、化粧品用溶
媒に対する溶解度は、ケイ素基Ｓに決定的に依存してお
り、１つ以上のＯＳｉＭｅ3 、または３つのＯＥｔ、ま
たはメチルより大きい３つのアルキルがＳｉに置換して
いる式（Ｉ）の化合物は、特に高い溶解性を有すること
が表IIより明らかであり、このような式（Ｉ）の化合物
は、光遮断剤における使用に特に好ましい。
【００３５】したがって本発明は、新規な式（Ｉ）の化
合物、その製造方法、光遮断剤（つまり、式（Ｉ）の化
合物を含有する化粧品用を目的とした光遮断製剤、好ま
しくはＵＶ−Ｂフィルターと併用したもの）、および光
遮断剤、特に化粧品用を目的としての式（Ｉ）の化合物
の用途に関する。
【００３６】式（Ｉ）の化合物は、対照なトリス−
（２′，４′−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−
トリアジンから出発し、 ａ）第１の工程では、脱離基を有するＺ′（ここで、
Ｚ′は、Ｚよりも不飽和度が１高い、３〜１２個の炭素
原子を有するモノ−もしくは多価不飽和アルキル基であ
る）、特にハロゲン化物であるＨａｌ−Ｚ′と、塩基の
存在下で反応させて、ヒドロキシフェニル基をその４位
でスペーサー基Ｚ′で置換し、これに第２の工程でケイ
素基Ｓを、Ｓｉ−Ｈ結合のヒドロシリル化によって結合
させるか、あるいは ｂ）１つの工程で、脱離基を有する−Ｚ−Ｓ、特にハロ
ゲン化物であるＨａｌ−Ｚ−Ｓと、塩基の存在下で反応
させて、ヒドロキシフェニル基をその４位でスペーサー
基とケイ素基Ｓで置換することを含む方法によって製造
することができる。
【００３７】つまり、本発明による式（Ｉ）の化合物の
製造は、単純かつ経済的な方法で可能であり、以下に説
明するように行うことができる。
【００３８】
【化５】
【００３９】第１の工程では、上記の反応Ａに示すよう
に、対照なトリス−（２′，４′−ジヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジンから出発して、脱離基を
有するＺ′、例えばハロゲン化物であるＨａｌ−Ｚ′と
塩基の存在下で反応させて、ヒドロキシフェニル基をそ
の４位でスペーサー基Ｚ′で置換し、次に第２の工程で
Ｓｉ−Ｈ結合のヒドロシリル化によって本発明の式
（Ｉ）の化合物を生成する。この場合、Ｚ′は、Ｚより
も不飽和度が１高いという点で、Ｚと異なる。つまり、
例えばＺが１つの二重結合を有する場合、Ｚ′は、１つ
の三重結合または２つの二重結合を有する。
【００４０】しかしこの反応は、脱離基を有する化合物
がすでにケイ素基Ｓを有している場合、つまり例えば、
反応Ｂに示すようにＨａｌ−Ｚ−ＳをＨａｌ−Ｚ′の替
わりに使用する場合、１工程のみで行うことができる。
【００４１】
【化６】
【００４２】式（Ｉ）の化合物の１工程による製造は、
より経済的であり、したがって好ましい。しかし、反応
Ａおよび反応Ｂのいずれも、完全には進行しないことが
多く、あるいはスペーサー基Ｚが、反応の途中で失われ
てしまうことがあるため、反応後に式：
【００４３】
【化７】
【００４４】で示すような化合物が存在することもあ
る。
【００４５】塩基としては、無機塩基（例えば、ＫＯ
Ｈ、ＮａＯＨ、もしくはＮａＨなど）またはアルコラー
ト（例えば、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラ
ート、もしくはカリウムtert−ブチラートなど）または
アミン（例えば、トリエチルアミン、ピリジン、ジアゾ
ビシクロノナン、もしくはｐ−ジメチルアミノピリジン
など）、またはアミド（例えば、リチウム ジイソプロ
ピルアミドなど）を使用することができる。
【００４６】反応Ａの第１の工程、および１工程による
方法（反応Ｂ）のための適当な溶媒は、通常の溶媒、特
に極性溶媒であるアルコール（例えば、エタノール、イ
ソプロパノール、メトキシエタノール、もしくはプロピ
レングリコールなど）、ＴＨＦ、水、ピリジン、ＤＭＳ
Ｏ、またはＤＭＦなどである。
【００４７】適当な触媒は、均一系プラチナ触媒、例え
ばＰｔ−ジビニル−テトラメチル−ジシロキサンもしく
はクロロ白金酸、または金属プラチナ、例えばＰｔ／Ｃ
である。Ｐｔの替わりに不均一系の形、もしくは均一系
の形（錯体のような）のそのほかの遷移金属触媒、例え
ばＭｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
もしくはＣｕなどもまた用いることができる。ロジウム
塩または錯体（例えば、ロジウム（II）アセタート二量
体、ビス−（１，５−シクロオクタジエン）−ジロジウ
ム（Ｉ）ジクロリド、トリス−（トリフェニルホスフィ
ン）−ロジウム（Ｉ）ジクロリド、およびポリマー結合
トリス（トリフェニルホスフィン）−ロジウム（Ｉ）ジ
クロリドが特に適している。ここで、本反応は、溶媒を
使用せずに、または溶媒中（例えば、トルエン、キシレ
ン、ピリジン、ＴＨＦ、ジオキサン、ジクロロエタン、
または塩化メチレンなど）のいずれかで行う。
【００４８】そのほかの利点、特性、および詳細は、以
下の実施例より明らかであろう。
【００４９】
【実施例】
実施例１ トリエチルシランを５，５′，５″−トリス−アリルオ
キシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン−
２，４，６−トリイル−トリス−フェノールに導入する
ことによる、５，５′，５″−トリス−（３−トリエチ
ルシリル）プロピルオキシ−２，２′，２″−〔１，
３，５〕−トリアジン−２，４，６−トリイル−トリス
−フェノールの調製 トリエチル−シラン（Fluka)１．７４ｇ（３当量）を、
５，５′，５″−トリス−アリルオキシ−２，２′，
２″−〔１，３，５〕−トリアジン−２，４，６−トリ
イル−トリス−フェノール（スイス特許第４８４６９５
号にしたがって調製）２．６３ｇをトルエン３５mlに含
む懸濁液に、Ａｒ保護ガス下、滴下により加え、プラチ
ナ−ジビニル−テトラメチル−ジシロキサン溶液（ＡＢ
ＣＲ ＧｍｂＨ）数滴で処理し、８０℃まで１００時間
加熱した。冷却した溶液を湿潤メタノールで洗浄し、濃
縮して、蜂蜜状粗生成物３．７ｇを得、同定のためこれ
をヘキサン中のシリカゲルによるクロマトグラフィーに
付した。理論値の４０％の収率で、黄色の粘着性のある
物質が得られた。ＵＶ ３６２nm（７６，０９０／Ｅ＝
８７０）。
【００５０】
【化８】
【００５１】実施例２ １，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−トリシロ
キサンの５，５′，５″−トリス−アリルオキシ−２，
２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン−２，４，６
−トリイル−トリス−フェノールへの導入 １，１，１，３，５，５，５−ヘプタメチル−トリシロ
キサン（Fluka)３．３ｇ（３当量）を、５，５′，５″
−トリス−アリルオキシ−２，２′，２″−〔１，３，
５〕−トリアジン−２，４，６−トリイル−トリス−フ
ェノール（スイス特許第４８４６９５号にしたがって調
製）２．６ｇをトルエン４０mlに含む懸濁液に、Ａｒ保
護ガス下、滴下により加え、プラチナ−ジビニル−テト
ラメチル−ジシロキサン溶液（ＡＢＣＲ ＧｍｂＨ）数
滴で処理し、９０℃まで２０時間加熱した。冷却した溶
液を湿潤メタノールで洗浄し、濃縮して、粘性の粗生成
物４．２ｇを得、同定のためこれをヘキサン／酢酸エチ
ル（１９：１の比率）中のシリカゲルによるクロマトグ
ラフィーに付した。理論値の５４％の収率で、帯黄色の
油状物が得られた。ＵＶ ３６２nm（Ｅ＝６３０）。
【００５２】
【化９】
【００５３】実施例３ １，１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサンの
５，５′，５″−トリス−アリルオキシ−２，２′，
２″−〔１，３，５〕−トリアジン−２，４，６−トリ
イル−トリス−フェノールへの導入 実施例１と同様に、５，５′，５″−トリス−アリルオ
キシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン−
２，４，６−トリイル−トリス−フェノール２．６ｇ
を、ヘプタメチル−トリシロキサンの替わりに１，１，
１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサン（Fluka)３当
量と、７０℃で３時間反応させ、以降の処理を行った。
粗生成物を塩化メチレンにとり、シリカゲルのワッドに
より濾過し、濃縮した。粘性のある透明な油状物２．８
ｇが得られた。ＵＶ ３６２nm（Ｅ＝８０８）。溶媒と
してトルエンを用いなかった同一の反応混合物を８０℃
で７．５時間処理し、同一の方法で処理し、次に同一の
生成物を８５％の収率で得た。生成物は、平均して２．
５５当量のスペーサー基を含有していた。
【００５４】
【化１０】
【００５５】実施例４ トリス−トリメチル−シリルオキシ−シランの５，
５′，５″−トリス−アリルオキシ−２，２′，２″−
〔１，３，５〕−トリアジン−２，４，６−トリイル−
トリス−フェノールへの導入 実施例２と同様に、５，５′，５″−トリス−アリルオ
キシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン−
２，４，６−トリイル−トリス−フェノール２．６ｇ
を、ヘプタメチル−トリシロキサンの替わりにトリス−
トリメチル−シリルオキシ−シラン（Wacker）３当量
と、還流温度下で６日間反応させ、以降の処理を行っ
た。得られた粗生成物４．８ｇをヘキサン／酢酸エチル
（１９：１の比率）を用いたシリカゲルによるクロマト
グラフィーに付した。粘性のある物質１．９ｇが得られ
（ＵＶ ３６０nm（Ｅ＝４６６））、これはスペーサー
基１．９当量を含んでいた。５，５′，５″−トリス−
アリルオキシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリ
アジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノール
０．５３ｇと、トリス−トリメチル−シリルオキシ−シ
ラン０．９８ｇを、キシレン９ml中、活性炭上、Ｐｔ
（１０％）０．０２ｇで処理し、６日間灌流し、同様の
方法で処理した。
【００５６】
【化１１】
【００５７】実施例５ トリエトキシシランの５，５′，５″−トリス−アリル
オキシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン
−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールへの導入 実施例２と同様に、５，５′，５″−トリス−アリルオ
キシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン−
２，４，６−トリイル−トリス−フェノール２．６ｇ
を、ヘプタメチル−トリシロキサンの替わりにトリエト
キシシラン３当量と８０℃で３時間反応させ、処理し
た。粗生成物が、収率９２％で得られた。生成物をヘキ
サン／酢酸エチル（９：１の比率）によるクロマトグラ
フィーに付した。３置換トリアジン（Ａ）（ＵＶ ３６
２nm（Ｅ＝７７９、融点７１〜７３℃））が理論値の５
０％の収率で、２置換トリアジン（Ｂ）（ＵＶ ３６０
nm（Ｅ８ ２４）、融点１５３〜１５５℃）が理論値の
１７％の収率で得られた。
【００５８】
【化１２】
【００５９】実施例６ トリエチルシランの５，５′，５″−トリス−プロパル
ギルオキシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリア
ジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールへの
導入 ａ）５，５′，５″−トリス−プロパルギルオキシ−
２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン−２，
４，６−トリイル−トリス−フェノールの調製 ２，４，６−トリス−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン（スイス特許第４８４６
９５号にしたがって調製）５０ｇ、およびカリウムtert
−ブチラート４１．４ｇを、メトキシエタノール５００
mlに懸濁し、プロパルギルブロミド４４．３ｇにより５
５℃で処理した。反応混合物をこの温度で２日間撹拌
し、冷却し、吸引濾過し、フィルター残渣をエーテルで
すすいだ。所望の生成物（ＵＶ＝３４８nm（Ｅ＝１１２
３）、融点＞２４０℃、４８．６ｇ（７６％））が得ら
れた。 ｂ）５，５′，５″−トリス−プロパルギルオキシ−
２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン−２，
４，６−トリイル−トリス−フェノール ０．５１ｇを
ジメチルホルムアミド１８mlに含む懸濁液に、トリエチ
ルシラン（Fluka)０．７ｇを、Ａｒ保護ガス下で加え、
プラチナ−ジビニル−テトラメチル−ジシロキサン溶液
（ＡＢＣＲ ＧｍｂＨ）数滴で処理し、８５℃まで７時
間加熱した。冷却した溶液を酢酸エチルおよび水に分配
した。有機相を、シリカゲルのワッドを用いて濾過し、
濃縮して、樹脂状の塊の生成物を得た。ＵＶ ３５２nm
（Ｅ＝６２７）。
【００６０】
【化１３】
【００６１】実施例７ １，１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサンの
５，５′，５″−トリス−（ブタ−２−エニル−１−オ
キシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン
−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールへの導入 ａ）５，５′，５″−トリス−（ブタ−２−エニル−１
−オキシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリア
ジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールの調
製 ２，４，６−トリス−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン（スイス特許第４８４６
９５号にしたがって調製）６ｇ、およびカリウムtert−
ブチラート５ｇを、メトキシエタノール１５０mlに懸濁
し、trans −クロチル ブロミド５．４ｇにより５５℃
で処理し、６５℃まで約１２時間加熱し、冷却し、濃縮
し、ヘキサン／酢酸エチル（１９：１の比率）を用いた
シリカゲルによるクロマトグラフィーに付した。生成物
を単離した。黄色の粉末（ＵＶ ３６２nm（Ｅ＝１０８
０）、融点１３３〜１３７℃）２．１ｇ（２５％）が得
られた。 ｂ）５，５′，５″−トリス−（ブタ−２−エニル−１
−オキシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリア
ジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノール０．
５７ｇをトルエン１５mlに含む懸濁液に、１，１，１，
３，３−ペンタメチル−ジシロキサン（Fluka)０．４５
ｇ（３当量）を、Ａｒ保護ガス下で加え、プラチナ−ジ
ビニル−テトラメチル−ジシロキサン溶液（ＡＢＣＲ
ＧｍｂＨ）数滴で処理し、８０℃まで約１２時間加熱し
た。冷却した溶液を湿潤メタノールで洗浄し、濃縮し、
高真空下で乾燥した。粘性のある粗生成物０．８５ｇが
得られた。これは、各種位置で置換されたシリル基を有
する化合物の混合物であった。
【００６２】
【化１４】
【００６３】実施例８ tert−ブチル−ジメチルシランの５，５′，５″−トリ
ス−アリルオキシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−
トリアジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノー
ルへの導入 実施例２と同様の方法で、５，５′，５″−トリス−ア
リルオキシ−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリア
ジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノール３．
９ｇを、ヘプタメチル−トリシロキサンの替わりに、te
rt−ブチル−ジメチルシラン３当量と、そしてトルエン
の替わりにジクロロエタン中、７５℃で３日間反応さ
せ、以降の処理を行った。粗生物が８０％の収率で得ら
れた。この粗生成物をヘキサン／酢酸エチル（９：１の
比率）を用いてクロマトグラフィーに付した。３置換ト
リアジン（Ｃ）（ＵＶ ３６２nm（Ｅ＝８０１）／融点
１５４〜１５７℃）が、理論値の２１％の収率で、そし
て２置換トリアジン（Ｄ）（ＵＶ ３６２nm（Ｅ＝８８
５）、融点１４３〜１４８℃）が、理論値の４６％の収
率で得られた。
【００６４】
【化１５】
【００６５】実施例９−１ １，１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサンの
５，５′，５″−トリス（ペンタ−４−エニル−１−オ
キシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン
−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールへの導入 ａ）５，５′，５″−トリス（ペンタ−４−エニル−１
−オキシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリア
ジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールの調
製：２，４，６−トリス−（２，４−ジヒドロキシフェ
ニル）−１，３，５−トリアジン（スイス特許第４８
４，６９５号にしたがって調製）６ｇを、カリウム te
rt−ブチラート２．５ｇをエタノール６０mlに含む溶液
に懸濁し、５−ブロモ−１−ペンテン５．３ｇで処理し
た。透明な、橙赤色の溶液を７０℃で７２時間撹拌し、
０℃まで冷却し、吸引フィルターにより濾過し、水１５
０ml、そして冷エタノール１００mlですすいだ。フィル
ターの残渣を高真空下で乾燥した。黄色の粉末７５ｇ
（８２％）が得られた。ＵＶ ３６１nm（Ｅ＝１０８
０）、融点１４０〜１４３℃。 ｂ）１，１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサン
（Fluka)２．２ｇ（３当量）を、５，５′，５″−トリ
ス（ペンタ−４−エニル−１−オキシ）−２，２′，
２″−〔１，３，５〕−トリアジン−２，４，６−トリ
イル−トリス−フェノール３ｇを１，２−ジクロロエタ
ン４０mlに含む懸濁液にＡｒ保護ガス下で加え、プラチ
ナ−ジビニル−テトラメチルジシロキサン溶液（ＡＢＣ
Ｒ ＧｍｂＨ）数滴で処理し、７０℃で一晩撹拌した。
冷却した溶液を水１００mlにそそぎ、ジクロロメタン５
０mlで２回逆洗浄し、合わせた有機相を濃縮し、高真空
下で乾燥した。粘性のある黄褐色の粗生成物４．９ｇが
得られた。ヘキサン／酢酸エチル（９５：５の比率）を
用いたクロマトグラフィーにより、セチオールＬＣに対
する溶解度が＞３５％であるろう状の物質２．６５ｇが
得られた。ＵＶ ３６２nm（Ｅ＝７３６）、融点６１〜
６３℃。
【００６６】
【化１６】
【００６７】５，５′，５″−トリス−〔５−（１，
１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサン−オキ
シ）−ペンチル−１−オキシ〕−２，２′，２″−
〔１，３，５〕−トリアジン−２，４，６−トリイル−
トリス−フェノール
【００６８】実施例９−２ １−（５−ブロモ−ペンチル）−１，１，３，３，３−
ペンタメチル−ジシロキサンの２，４，６−トリス−
（２，４−ジヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリ
アジンへの導入 １工程反応 ａ）１−（５−ブロモ−ペンチル）−１，１，３，３，
３−ペンタメチル−ジシロキサンの調製 ５−ブロモ−１−ペンテン２．４mlを、ペンタメチル−
ジシロキサン３．９ml、およびプラチナ−ジビニル−テ
トラメチルシロキサン錯体０．０１mlを１，２−ジクロ
ロエタン１０mlに含む溶液に、不活性ガス下で加え、混
合物を６０℃で一夜撹拌した。次に反応混合物を水およ
びジクロロメタンに分配し、有機相を硫酸ナトリウムで
乾燥し、濃縮し、１１０℃／０．０６mbarで蒸留した。
無色の液体３．８ｇが得られ、これをＧＣ、ＮＭＲおよ
びＭＳで同定した。 ｂ）エーテル化 ２，４，６−トリス−（２，４−ジヒドロキシフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン０．８１ｇを、ＫＯＨ
０．３４ｇをエタノール１０mlに含む溶液に６０℃で加
え、アルゴン下、１−（５−ブロモ−ペンチル）−１，
１，３，３，３−ペンタメチル−ジシロキサン１．７８
ｇで処理した。反応混合物を７０℃で一晩撹拌し、テト
ラヒドロフラン１８mlで処理し、７０℃で更に４８時間
撹拌した。次に溶液を水およびジクロロメタンに分配
し、濃縮した有機相を、ヘキサン／酢酸エチル（９７：
３〜９３：７）を用いたシリカゲルのクロマトグラフィ
ーに付し、フロント画分を濃縮した。所望の生成物０．
７５ｇが、帯黄色の粉末として得られ、これは実施例９
−１で得られた生成物と同一であった。
【００６９】実施例１０ １，１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサンの
５，５′，５″−トリス−（ブタ−３−エニル−１−オ
キシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジン
−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールへの導入 ａ）５，５′，５″−トリス−（ブタ−３−エニル−１
−オキシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリア
ジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールの調
製：２，４，６−トリス−（２，４−ジヒドロキシフェ
ニル）−１，３，５−トリアジンを、実施例９−１ａに
記載の方法と同様の方法で、５−ブロモ−１−ペンテン
の替わりに４−ブロモ−１−ブテンと反応させた。薄黄
色の粉末が、６０％の収率で得られた。ＵＶ ３６１nm
（Ｅ＝１２５８）、融点１６６〜１６９℃。 ｂ）上記で得られた物質を、実施例９−１ｂに記載の方
法と同様の方法で、１，１，１，３，３−ペンタメチル
−ジシロキサン（Fluka)と反応させた。黄緑色の、半固
形状の粗生成物が得られた。ヘキサン／酢酸エチル（９
５：５の比率）を用いたクロマトグラフィーにより、セ
チノールＬＣに対する溶解度が８％の薄黄色の固体が得
られた。ＵＶ ３６２nm（Ｅ＝９３３）、融点７２〜７
５℃。
【００７０】
【化１７】
【００７１】（５，５′，５″−トリス−〔４−（１，
１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサノキシ）−
ブチル−１−オキシ〕−２，２′，２″−〔１，３，
５〕−トリアジン−２，４，６−トリイル−トリス−フ
ェノール）
【００７２】実施例１１ １，１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサンの
５，５′，５″−トリス−（ヘキサ−５−エニル−１−
オキシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリアジ
ン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールへの導
入 ａ）５，５′，５″−トリス−（ヘキサ−５−エニル−
１−オキシ）−２，２′，２″−〔１，３，５〕−トリ
アジン−２，４，６−トリイル−トリス−フェノールの
調製：２，４，６−トリス−（２，４−ジヒドロキシフ
ェニル）−１，３，５−トリアジンを、実施例９−１ａ
に記載の方法と同様の方法で、５−ブロモ−１−ペンテ
ンの替わりに６−ブロモ−１−ヘキセンと反応させた。
薄黄色の粉末が、７９％の収率で得られた。ＵＶ ３６
１nm（Ｅ＝１０３２）、融点１５５〜１５８℃。 ｂ）上記で得られた物質を、実施例９−１ｂに記載の方
法と同様の方法で、１，１，１，３，３−ペンタメチル
−ジシロキサン（Fluka)と反応させた。褐色の、粘性の
ある粗生成物が得られた。ヘキサン／酢酸エチル（９
５：５の比率）を用いたクロマトグラフィーにより、薄
黄色の固体が得られた。ＵＶ ３６０nm（Ｅ＝７２
５）。
【００７３】
【化１８】
【００７４】（５，５′，５″−トリス−〔６−（１，
１，１，３，３−ペンタメチル−ジシロキサノキシ）−
ヘキシル−１−オキシ〕−２，２′，２″−〔１，３，
５〕−トリアジン−２，４，６−トリイル−トリス−フ
ェノール）
【００７５】実施例１２ Ｏ／ＷサンスクリーンローションＵＶ−ＡおよびＵＶ−
Ｂの調製：実施例１の３％ＵＶフィルターを含有する広
域スペクトルサンスクリーンローション
【００７６】
【表５】
【００７７】製造方法：Ａを反応器中約８５℃まで加熱
し、Ｂを、以下の詳細にしたがってホットプレート上で
約８５℃まで加熱した。
【００７８】
【表６】

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、 全部のＸは、スペーサー基Ｚを介してＯと結合している
    ケイ素基Ｓであるか；あるいは２つのＸは、スペーサー
    基Ｚを介してＯと結合しているケイ素基Ｓであり、そし
    て３番目のＸは、Ｈであるか、またはＯと結合している
    ケイ素基Ｓであり、 ここで、スペーサー基Ｚは、３〜１２個の炭素原子を有
    する飽和、またはモノ−もしくは多価不飽和アルキレン
    基であり、そしてケイ素基Ｓは、１〜８個のケイ素原子
    を有し、アルキル、アルケニルもしくはアルコキシでト
    リ置換されたシリル基（いずれも、３〜１５個の炭素原
    子を有する）、トリフェノキシシリル基、またはオリゴ
    シロキサン基である〕で示される化合物。
  2. 【請求項２】 請求項１記載の式（Ｉ）の化合物の少な
    くとも１つと、場合により少なくとも１つの紫外線フィ
    ルターを更に含む光遮断剤。
  3. 【請求項３】 請求項１記載の式（Ｉ）の化合物の少な
    くとも１つの、光遮断剤としての用途。
  4. 【請求項４】 式（Ｉ）： 【化２】 〔式中、 全部のＸは、スペーサー基Ｚを介してＯと結合している
    ケイ素基Ｓであるか；あるいは２つのＸは、スペーサー
    基Ｚを介してＯと結合しているケイ素基Ｓであり、そし
    て３番目のＸは、Ｈであるか、またはＯと結合している
    ケイ素基Ｓであり、 ここで、スペーサー基Ｚは、３〜１２個の炭素原子を有
    する飽和、またはモノ−もしくは多価不飽和アルキレン
    基であり、そしてケイ素基Ｓは、１〜８個のケイ素原子
    を有し、アルキル、アルケニルもしくはアルコキシでト
    リ置換されたシリル基（いずれも、３〜１５個の炭素原
    子を有する）、トリフェノキシシリル基、またはオリゴ
    シロキサン基である〕で示される化合物の製造方法であ
    って、 対照なトリス−（２′，４′−ジヒドロキシフェニル）
    −１，３，５−トリアジンから出発し、 ａ）第１の工程では、脱離基を有するＺ′（ここで、
    Ｚ′は、Ｚよりも不飽和度が１高い、３〜１２個の炭素
    原子を有するモノ−もしくは多価不飽和アルキル基であ
    る）、特にハロゲン化物であるＨａｌ−Ｚ′と、塩基の
    存在下で反応させて、ヒドロキシフェニル基をその４位
    でスペーサー基Ｚ′で置換し、これに第２の工程でケイ
    素基Ｓを、Ｓｉ−Ｈ結合のヒドロシリル化によって結合
    させるか、あるいは ｂ）１つの工程で、脱離基を有する−Ｚ−Ｓ、特にハロ
    ゲン化物であるＨａｌ−Ｚ−Ｓと、塩基の存在下で反応
    させて、ヒドロキシフェニル基をその４位でスペーサー
    基とケイ素基Ｓで置換することを含む方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013540144A (ja) * 2010-10-22 2013-10-31 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア シラン及びシロキサンビス（ビフェニル）トリアジン誘導体の紫外線吸収剤としての使用
WO2018216750A1 (ja) * 2017-05-25 2018-11-29 株式会社Adeka トリアジン化合物、硬化性組成物、硬化物の製造方法およびその硬化物
WO2019098109A1 (ja) * 2017-11-16 2019-05-23 Jsr株式会社 レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターニングされた基板の製造方法並びに化合物

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2795638B1 (fr) 1999-07-02 2003-05-09 Oreal Compositions cosmetiques photoprotectrices et utilisations
DE10017654A1 (de) * 2000-04-08 2001-10-18 Degussa Organosiliciumverbindungen
FR2808271A1 (fr) * 2000-04-27 2001-11-02 Oreal Nouveaux derives d'aminoacides, leur procede de preparation, compositions les contenant et leurs utilisations comme filtres solaires
FR2811553B1 (fr) 2000-07-12 2002-09-13 Oreal Compositions contenant des composes du type sel de flavylium non substitues en position 3 pour la coloration de la peau et une silicone organomodifiee
FR2811554B1 (fr) 2000-07-12 2002-09-13 Oreal Composition comprenant au moins un filtre uv et un sel de flavylium non substitue en position 3 pour la coloration de la peau et utilisations
US8080257B2 (en) 2000-12-12 2011-12-20 L'oreal S.A. Cosmetic compositions containing at least one hetero polymer and at least one film-forming silicone resin and methods of using
FR2824266B1 (fr) * 2001-05-04 2005-11-18 Oreal Composition cosmetique de soin ou de maquillage des matieres keratiniques comprenant un ester a groupement aromatique et un agent photoprotecteur et utilisations
FR2826264B1 (fr) 2001-06-26 2005-03-04 Oreal Solubilisation de derives 1,3,5 triazine par des esters n-acyles d'acide amine
EP1302199A3 (fr) 2001-10-16 2004-07-28 L'oreal Compositions pour la coloration de la peau proche du bronzage naturel a base d'un pigment du type monascus et utilisations
US20040028642A1 (en) * 2002-04-26 2004-02-12 Isabelle Hansenne Cosmetic composition comprising an extract of emblica officinalis and methods of using same
US20050008598A1 (en) 2003-07-11 2005-01-13 Shaoxiang Lu Cosmetic compositions comprising a structuring agent, silicone powder and swelling agent
US20050186165A1 (en) * 2003-11-18 2005-08-25 Estelle Mathonneau Cosmetic composition based on a cosmetically active compound and a gel comprising at least one crosslinked network of crosslinked polymer particles
US20060083702A1 (en) * 2004-04-02 2006-04-20 Thomas Fondin Hair fiber treating method
US7976831B2 (en) * 2004-04-02 2011-07-12 L'oreal S.A. Method for treating hair fibers
FR2868305B1 (fr) 2004-04-02 2006-06-30 Oreal Procede de traitement capillaire et utilisation dudit procede
FR2885797B1 (fr) * 2005-05-17 2007-07-27 Oreal Particules d'huile gelifiee comportant au moins un filtre solaire hydrophobe
US7884158B2 (en) * 2005-09-06 2011-02-08 L'Oré´al Cosmetic compositions containing block copolymers, tackifiers and phenylated silicones
WO2007118474A2 (de) * 2006-04-19 2007-10-25 Technische Universität Bergakademie Freiberg Verfahren zur herstellung von wasserstoffreichen silanen, sowie neue chemische verbindungen
US20080050334A1 (en) * 2006-08-24 2008-02-28 L'oreal Cosmetic composition comprising an extract of emblica officinalis, a hydroxy acid, and an N-substituted aminosulfonic acid, and methods of using same
FR3046175B1 (fr) * 2015-12-29 2018-02-02 L'oreal Preparation d'un materiau particulaire fluorescent organosilicie

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH484695A (de) * 1962-10-30 1970-01-31 Ciba Geigy Verwendung von neuen Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen als Ultraviolettschutzmittel ausserhalb der Textilindustrie
NL302946A (ja) * 1963-01-24
EP0502821B1 (de) * 1991-03-05 1996-01-31 Ciba-Geigy Ag Silylierte 2-(2-Hydroxyphenyl)-4,6-diaryl-1,3,5-triazine

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013540144A (ja) * 2010-10-22 2013-10-31 ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア シラン及びシロキサンビス（ビフェニル）トリアジン誘導体の紫外線吸収剤としての使用
WO2018216750A1 (ja) * 2017-05-25 2018-11-29 株式会社Adeka トリアジン化合物、硬化性組成物、硬化物の製造方法およびその硬化物
JPWO2018216750A1 (ja) * 2017-05-25 2020-03-26 株式会社Adeka トリアジン化合物、硬化性組成物、硬化物の製造方法およびその硬化物
WO2019098109A1 (ja) * 2017-11-16 2019-05-23 Jsr株式会社 レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターニングされた基板の製造方法並びに化合物
JPWO2019098109A1 (ja) * 2017-11-16 2020-12-17 Jsr株式会社 レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びその形成方法、パターニングされた基板の製造方法並びに化合物
US11454890B2 (en) 2017-11-16 2022-09-27 Jsr Corporation Composition for resist underlayer film formation, resist underlayer film and forming method thereof, patterned substrate-producing method, and compound
TWI791670B (zh) * 2017-11-16 2023-02-11 日商Ｊｓｒ股份有限公司 抗蝕劑底層膜形成用組成物、抗蝕劑底層膜及其形成方法、圖案化基板的製造方法及化合物

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