JP4053676B2 - 光遮蔽組成物としてのシラニル−トリアジン - Google Patents
光遮蔽組成物としてのシラニル−トリアジン Download PDFInfo
- Publication number
- JP4053676B2 JP4053676B2 JP00001599A JP1599A JP4053676B2 JP 4053676 B2 JP4053676 B2 JP 4053676B2 JP 00001599 A JP00001599 A JP 00001599A JP 1599 A JP1599 A JP 1599A JP 4053676 B2 JP4053676 B2 JP 4053676B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- anilino
- carbo
- triazine
- compound
- alkyl
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 23
- RLNIXCOOWMQNDE-UHFFFAOYSA-N triazin-4-ylsilane Chemical compound [SiH3]C1=NN=NC=C1 RLNIXCOOWMQNDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 51
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 43
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 36
- -1 polysiloxane moiety Polymers 0.000 claims description 36
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 30
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 claims description 22
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 17
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 12
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 8
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 claims description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 4
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 4
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 4
- FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrotriazine Chemical compound C1NNNC=C1 FIDRAVVQGKNYQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 claims description 3
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 2
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 43
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 239000000047 product Substances 0.000 description 22
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 22
- ZDQWESQEGGJUCH-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl adipate Chemical compound CC(C)OC(=O)CCCCC(=O)OC(C)C ZDQWESQEGGJUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 235000019439 ethyl acetate Nutrition 0.000 description 15
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 12
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical group C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 9
- BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N Methyl tert-butyl ether Chemical compound COC(C)(C)C BZLVMXJERCGZMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methyl-trimethylsilyloxysilane;platinum Chemical compound [Pt].C[Si](C)(C)O[Si](C)(C=C)C=C DSVRVHYFPPQFTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 7
- JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-triazine Chemical class C1=NC=NC=N1 JIHQDMXYYFUGFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 6
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 6
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 5
- BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N benzocaine Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000008407 cosmetic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 5
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000012216 screening Methods 0.000 description 5
- ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 3-Buten-1-ol Chemical compound OCCC=C ZSPTYLOMNJNZNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FMRHJJZUHUTGKE-UHFFFAOYSA-N Ethylhexyl salicylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=CC=C1O FMRHJJZUHUTGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N N,N-Diisopropylethylamine (DIPEA) Chemical compound CCN(C(C)C)C(C)C JGFZNNIVVJXRND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 4
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 4
- 239000012263 liquid product Substances 0.000 description 4
- HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N p-cymene Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1 HFPZCAJZSCWRBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 4
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 4
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZJQXUTDROPGVLH-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 4-aminobenzoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 ZJQXUTDROPGVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MLVYTFXIKVQVDM-UHFFFAOYSA-N 4-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]butan-1-ol Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCCO MLVYTFXIKVQVDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KUPFRVCGEAMLSY-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid prop-2-ynamide Chemical compound C(C#C)(=O)N.NC1=CC=C(C(=O)O)C=C1 KUPFRVCGEAMLSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLTGWRWPNDVBPK-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-n-(3-prop-2-ynoxypropyl)benzamide Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C(=O)NCCCOCC#C)C=C1 VLTGWRWPNDVBPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OUXBHFMHHREQLP-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoic acid prop-2-ynamide Chemical compound C(C#C)(=O)N.[N+](=O)([O-])C1=CC=C(C(=O)O)C=C1 OUXBHFMHHREQLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SKDHHIUENRGTHK-UHFFFAOYSA-N 4-nitrobenzoyl chloride Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(C(Cl)=O)C=C1 SKDHHIUENRGTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 3
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N zinc oxide Inorganic materials [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 1,5-cyclooctadiene Chemical compound C1CC=CCCC=C1 VYXHVRARDIDEHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004912 1,5-cyclooctadiene Substances 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 1-butanol Substances CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSHGMOIQPURPAK-UHFFFAOYSA-N 2-benzylidene-1,4,7,7-tetramethylbicyclo[2.2.1]heptan-3-one Chemical compound CC1(C)C(C2=O)(C)CCC1(C)C2=CC1=CC=CC=C1 LSHGMOIQPURPAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LKXWHQAPVHIUBE-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]propoxy]propyl 4-aminobenzoate Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOCCCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 LKXWHQAPVHIUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDROEKOODBRXCT-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]propoxy]propyl 4-aminobenzoate Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCOCCCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 WDROEKOODBRXCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AHOMUAIZYDEXHX-UHFFFAOYSA-N 4-amino-n-(3-prop-2-ynoxypropyl)benzamide Chemical compound NC1=CC=C(C(=O)NCCCOCC#C)C=C1 AHOMUAIZYDEXHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-M 4-aminobenzoate Chemical compound NC1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- ADNFSAYBXCQLFL-UHFFFAOYSA-N 4-triethylsilylbut-3-en-1-ol Chemical compound CC[Si](CC)(CC)C=CCCO ADNFSAYBXCQLFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVPDAMZKYGPPCO-UHFFFAOYSA-N 5-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]pentan-1-ol Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCCCO XVPDAMZKYGPPCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N Raney nickel Chemical compound [Al].[Ni] NPXOKRUENSOPAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004904 UV filter Substances 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010640 amide synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- JRMHUZLFQVKRNB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=C)(C=C)C1=CC=CC=C1 JRMHUZLFQVKRNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MKUWVMRNQOOSAT-UHFFFAOYSA-N but-3-en-2-ol Chemical compound CC(O)C=C MKUWVMRNQOOSAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002178 crystalline material Substances 0.000 description 2
- XUKFPAQLGOOCNJ-UHFFFAOYSA-N dimethyl(trimethylsilyloxy)silicon Chemical compound C[Si](C)O[Si](C)(C)C XUKFPAQLGOOCNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001303 disiloxanyl group Chemical group [H][Si]([*])([H])O[Si]([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 2
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 2
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N octocrylene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC(CC)CCCC)C1=CC=CC=C1 FMJSMJQBSVNSBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- JKANAVGODYYCQF-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-amine Chemical compound NCC#C JKANAVGODYYCQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N titanium dioxide Inorganic materials O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M trans-cinnamate Chemical class [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 2
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 2
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- OIQXFRANQVWXJF-QBFSEMIESA-N (2z)-2-benzylidene-4,7,7-trimethylbicyclo[2.2.1]heptan-3-one Chemical compound CC1(C)C2CCC1(C)C(=O)\C2=C/C1=CC=CC=C1 OIQXFRANQVWXJF-QBFSEMIESA-N 0.000 description 1
- LUKQUIZLFXGUKZ-UHFFFAOYSA-N (3-benzylidene-1,7,7-trimethyl-2-oxo-4-bicyclo[2.2.1]heptanyl)methanesulfonic acid Chemical compound CC1(C)C(C2=O)(C)CCC1(CS(O)(=O)=O)C2=CC1=CC=CC=C1 LUKQUIZLFXGUKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N (R)-camphor Chemical compound C1C[C@@]2(C)C(=O)C[C@@H]1C2(C)C DSSYKIVIOFKYAU-XCBNKYQSSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 1,3,2-dioxathietane 2,2-dioxide Chemical compound O=S1(=O)OCO1 QLAJNZSPVITUCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 1-propanol Substances CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSJVRHJQUTTZIN-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl 2-methoxy-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound CCOCCOC(=O)C(OC)=CC1=CC=CC=C1 OSJVRHJQUTTZIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGUMTYWKIBJSTN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 4-[[4,6-bis[4-(2-ethylhexoxycarbonyl)anilino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)OCC(CC)CCCC)=CC=C1NC1=NC(NC=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC(CC)CCCC)=NC(NC=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC(CC)CCCC)=N1 JGUMTYWKIBJSTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NPSJHQMIVNJLNN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 4-nitrobenzoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 NPSJHQMIVNJLNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004808 2-ethylhexylester Substances 0.000 description 1
- WSSJONWNBBTCMG-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzoic acid (3,3,5-trimethylcyclohexyl) ester Chemical compound C1C(C)(C)CC(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1O WSSJONWNBBTCMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 1
- HMKKFLSUPRUBOO-IUPFWZBJSA-N 3,4-dihydroxy-5-[3,4,5-tris[[(z)-octadec-9-enoyl]oxy]benzoyl]oxybenzoic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC1=C(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)C(OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)=CC(C(=O)OC=2C(=C(O)C=C(C=2)C(O)=O)O)=C1 HMKKFLSUPRUBOO-IUPFWZBJSA-N 0.000 description 1
- XZQWSSKUKQMCDY-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]propoxy]propan-1-ol Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOCCCO XZQWSSKUKQMCDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBIAPDKEVOZUMA-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]propoxy]propyl 4-nitrobenzoate Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCOCCCOC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 OBIAPDKEVOZUMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GAXVNIRPWVGUHW-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]propoxy]propan-1-ol Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCOCCCO GAXVNIRPWVGUHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAAKQSJTOXIFAO-UHFFFAOYSA-N 3-[3-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]propoxy]propyl 4-nitrobenzoate Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCOCCCOC(=O)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 UAAKQSJTOXIFAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUWBWELAFUFEQK-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]-2-methylpropan-1-ol Chemical compound OCC(C)C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C NUWBWELAFUFEQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGSXUSCKTLWSLU-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethyl(trimethylsilyloxy)silyl]propan-1-ol Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)CCCO XGSXUSCKTLWSLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZKGFGLOQNSMBS-UHFFFAOYSA-N 4,5,6-trichlorotriazine Chemical compound ClC1=NN=NC(Cl)=C1Cl LZKGFGLOQNSMBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUYXUFSZCHYCAQ-UHFFFAOYSA-N 4-(2-triethylsilylethoxy)butan-1-ol Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CCOCCCCO UUYXUFSZCHYCAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIOLUBBRGHNNNE-UHFFFAOYSA-N 4-(2-triethylsilylethoxy)butyl 4-aminobenzoate Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CCOCCCCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 IIOLUBBRGHNNNE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFPDAZVPLILOIC-UHFFFAOYSA-N 4-[methyl-bis(trimethylsilyloxy)silyl]butan-1-ol Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(O[Si](C)(C)C)CCCCO CFPDAZVPLILOIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBTAOSGHCXUEKI-UHFFFAOYSA-N 4-chloro-n,n-dimethyl-3-nitrobenzenesulfonamide Chemical compound CN(C)S(=O)(=O)C1=CC=C(Cl)C([N+]([O-])=O)=C1 HBTAOSGHCXUEKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 4-ethenoxybutan-1-ol Chemical compound OCCCCOC=C HMBNQNDUEFFFNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHKMGXGZZYSIQK-UHFFFAOYSA-N 4-n,6-n-diphenyltriazine-4,6-diamine Chemical compound C=1C(NC=2C=CC=CC=2)=NN=NC=1NC1=CC=CC=C1 XHKMGXGZZYSIQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2H-benzotriazol-5-ol Chemical compound OC1=CC=C2NN=NC2=C1C1=CC=CC=C1 ZCILGMFPJBRCNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCBVSFROCVFEBY-UHFFFAOYSA-N 4-triethylsilylbutan-1-ol Chemical compound CC[Si](CC)(CC)CCCCO OCBVSFROCVFEBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZASAAIJIFDWSB-CKPDSHCKSA-N 8-[(1S)-1-[8-(trifluoromethyl)-7-[4-(trifluoromethyl)cyclohexyl]oxynaphthalen-2-yl]ethyl]-8-azabicyclo[3.2.1]octane-3-carboxylic acid Chemical compound FC(F)(F)C=1C2=CC([C@@H](N3C4CCC3CC(C4)C(O)=O)C)=CC=C2C=CC=1OC1CCC(C(F)(F)F)CC1 PZASAAIJIFDWSB-CKPDSHCKSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HBMZNWKFVFUGND-UHFFFAOYSA-N CC1(C)C(C2=O)(C)CCC1(S(O)(=O)=O)C2=CC1=CC=CC=C1 Chemical compound CC1(C)C(C2=O)(C)CCC1(S(O)(=O)=O)C2=CC1=CC=CC=C1 HBMZNWKFVFUGND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000723346 Cinnamomum camphora Species 0.000 description 1
- GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N DMF Natural products CC1=CC=C(C)O1 GSNUFIFRDBKVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L Malonate Chemical compound [O-]C(=O)CC([O-])=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- YBGZDTIWKVFICR-JLHYYAGUSA-N Octyl 4-methoxycinnamic acid Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)\C=C\C1=CC=C(OC)C=C1 YBGZDTIWKVFICR-JLHYYAGUSA-N 0.000 description 1
- WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N Propanolamine Chemical compound NCCCO WUGQZFFCHPXWKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 229960002709 amiloxate Drugs 0.000 description 1
- UBNYRXMKIIGMKK-RMKNXTFCSA-N amiloxate Chemical compound COC1=CC=C(\C=C\C(=O)OCCC(C)C)C=C1 UBNYRXMKIIGMKK-RMKNXTFCSA-N 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- XNEFYCZVKIDDMS-UHFFFAOYSA-N avobenzone Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C(=O)CC(=O)C1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 XNEFYCZVKIDDMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001716 benzalkonium Drugs 0.000 description 1
- CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N benzododecinium Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 CYDRXTMLKJDRQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- YEAYGXLRPMKZBP-KQGICBIGSA-N bis(2-hydroxyethyl)azanium;(e)-3-(4-methoxyphenyl)prop-2-enoate Chemical compound OCCNCCO.COC1=CC=C(\C=C\C(O)=O)C=C1 YEAYGXLRPMKZBP-KQGICBIGSA-N 0.000 description 1
- 229960000846 camphor Drugs 0.000 description 1
- 229930008380 camphor Natural products 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- NXMUXTAGFPJGTQ-UHFFFAOYSA-N decanoic acid;octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O.CCCCCCCCCC(O)=O NXMUXTAGFPJGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940031578 diisopropyl adipate Drugs 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N ensulizole Chemical compound N1C2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C2N=C1C1=CC=CC=C1 UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000655 ensulizole Drugs 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- GXQMGTDMQBTSDZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2,4,6-trianilino-1h-1,3,5-triazine-4-carboxylate Chemical compound N1C(NC=2C=CC=CC=2)=NC(NC=2C=CC=CC=2)=NC1(C(=O)OCC)NC1=CC=CC=C1 GXQMGTDMQBTSDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-cyano-3,3-diphenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=C(C#N)C(=O)OCC)C1=CC=CC=C1 IAJNXBNRYMEYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000005194 fractionation Methods 0.000 description 1
- 229940074391 gallic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 229960004881 homosalate Drugs 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- SOXAGEOHPCXXIO-DVOMOZLQSA-N menthyl anthranilate Chemical compound CC(C)[C@@H]1CC[C@@H](C)C[C@H]1OC(=O)C1=CC=CC=C1N SOXAGEOHPCXXIO-DVOMOZLQSA-N 0.000 description 1
- 229960002248 meradimate Drugs 0.000 description 1
- SWGZAKPJNWCPRY-UHFFFAOYSA-N methyl-bis(trimethylsilyloxy)silicon Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)O[Si](C)(C)C SWGZAKPJNWCPRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001679 octinoxate Drugs 0.000 description 1
- 229960000601 octocrylene Drugs 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000005375 organosiloxane group Chemical group 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- LQAVWYMTUMSFBE-UHFFFAOYSA-N pent-4-en-1-ol Chemical compound OCCCC=C LQAVWYMTUMSFBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YORCIIVHUBAYBQ-UHFFFAOYSA-N propargyl bromide Chemical compound BrCC#C YORCIIVHUBAYBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035807 sensation Effects 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 description 1
- 230000002195 synergetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003918 triazines Chemical class 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/72—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds
- A61K8/84—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic macromolecular compounds obtained by reactions otherwise than those involving only carbon-carbon unsaturated bonds
- A61K8/89—Polysiloxanes
- A61K8/896—Polysiloxanes containing atoms other than silicon, carbon, oxygen and hydrogen, e.g. dimethicone copolyol phosphate
- A61K8/898—Polysiloxanes containing atoms other than silicon, carbon, oxygen and hydrogen, e.g. dimethicone copolyol phosphate containing nitrogen, e.g. amodimethicone, trimethyl silyl amodimethicone or dimethicone propyl PG-betaine
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/49—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds
- A61K8/494—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing heterocyclic compounds with more than one nitrogen as the only hetero atom
- A61K8/4966—Triazines or their condensed derivatives
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K8/00—Cosmetics or similar toiletry preparations
- A61K8/18—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition
- A61K8/30—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds
- A61K8/58—Cosmetics or similar toiletry preparations characterised by the composition containing organic compounds containing atoms other than carbon, hydrogen, halogen, oxygen, nitrogen, sulfur or phosphorus
- A61K8/585—Organosilicon compounds
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61Q—SPECIFIC USE OF COSMETICS OR SIMILAR TOILETRY PREPARATIONS
- A61Q17/00—Barrier preparations; Preparations brought into direct contact with the skin for affording protection against external influences, e.g. sunlight, X-rays or other harmful rays, corrosive materials, bacteria or insect stings
- A61Q17/04—Topical preparations for affording protection against sunlight or other radiation; Topical sun tanning preparations
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
- C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D251/26—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hetero atoms directly attached to ring carbon atoms
- C07D251/40—Nitrogen atoms
- C07D251/54—Three nitrogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0803—Compounds with Si-C or Si-Si linkages
- C07F7/081—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te
- C07F7/0812—Compounds with Si-C or Si-Si linkages comprising at least one atom selected from the elements N, O, halogen, S, Se or Te comprising a heterocyclic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic System
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/21—Cyclic compounds having at least one ring containing silicon, but no carbon in the ring
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61K—PREPARATIONS FOR MEDICAL, DENTAL OR TOILETRY PURPOSES
- A61K2800/00—Properties of cosmetic compositions or active ingredients thereof or formulation aids used therein and process related aspects
- A61K2800/40—Chemical, physico-chemical or functional or structural properties of particular ingredients
- A61K2800/57—Compounds covalently linked to a(n inert) carrier molecule, e.g. conjugates, pro-fragrances
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なs−トリアジン、それらの製造方法および光遮蔽組成物におけるUV−Bフィルターとしての、特に、太陽光の照射からヒトの皮膚を保護するのに有用な化粧用組成物の調製のためのそれらの使用に関する。
【0002】
【従来の技術】
過去には、1,3,5−トリアジンをUV−B安定化物質として提案する多くの太陽光遮蔽剤が記載され、開発されてきた。そのようなトリアジン化合物の例は、商品名UVINUL T−150の名前で販売されていた4,4′,4″−(1,3,5−トリアジン−2,4,6−トリイルトリイミノ)−トリス−安息香酸−トリス(2−エチルヘキシルエステル)である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
米国特許第4617390号と同等なドイツ特許公報DE−OS32063987号には、UV−B領域において高度に吸収し、トリクロロトリアジンをp−アミノ安息香酸エステルと反応させることによって得られる、s−トリアジン誘導体が記載されている。しかし、これらの化合物は、太陽光遮蔽剤の処方物中で一般に用いられる溶媒にはわずかしか溶けず、そのため、特に増加した用量の太陽光遮蔽剤が必要な場合、エマルジョンおよび化粧用処方物の成分としてのそれらの使用を制限している。さらに、これらのフィルターは皮膚上でざらざらした皮膚感覚を残して結晶化し、太陽光保護係数(SPF)を実質的に低下させる傾向がある。
【0004】
【課題を解決するための手段】
UV−B領域における吸収以外にも、下記の一般式Iの化合物は太陽光遮蔽剤に一般に用いられる溶媒における良好な溶解度を示すことが見出された。
【0005】
したがって、本発明の目的は、一般式I
【0006】
【化8】
【0007】
(式中、
W1、W2およびW3は、それぞれ独立してC1〜C20アルキルまたはSp−Sil基を表し;
X1、X2およびX3は、それぞれ独立してOまたはNHを表し;
Spは、スペーサー基を表し;
Silは、シラン、オリゴシロキサン、またはポリシロキサン部分を表し;
ただし、W1、W2およびW3のうち少なくとも1つはSpSilを意味する)で示される化合物である。
【0008】
好ましくは、W1、W2およびW3は、SpSilを意味するか、あるいはW1およびW2はC1〜C20のアルキル、好ましくは2−エチルヘキシルを表し、W3はSpSilを意味する。
【0009】
好ましくは、X1、X2およびX3は酸素を意味するか、あるいはX1およびX2は酸素を表し、X3はNHを意味する。
【0010】
用語「スペーサー基」とは、本文脈中では、C3〜C12の二価のアルキルまたはアルキレン鎖で、シラン、オリゴシロキサンまたはポリシロキサン部分をトリアジン残基に結合するものを言う。該鎖において、1〜数個の炭素原子は酸素原子によって置き換わっていてもよく、その場合、−C1〜C6−アルキル−O−C1〜C5−アルキル(例えば、−(CH2)2−O−(CH2)2−または−(CH2)4−O−(CH2)2−;−C1〜C6−アルケニル−O−C1〜C5−アルキル−(例えば、−C(=CH2)−(CH2)2−O−(CH2)4−;−C1〜C4−アルキル−O−C1〜C4−アルキル−O−C1〜C2−アルキル(例えば、−(CH2)2−O−(CH2)2−O−(CH2)2−などのような基となる。
【0011】
用語「C3〜C12の二価のアルキル鎖」は、直鎖または分岐鎖の飽和炭化水素残基、例えば、3−プロピレン、2−プロピレン、2−メチル−3−プロピレン、3−ブチレン、4−ブチレン、4−ペンチレン、5−ペンチレン、6−へキシレン、12−ドデシレンなどを含む。
【0012】
用語「C3〜C12の二価のアルキレン鎖」は、1個または複数の二重結合を含む直鎖または分岐鎖の不飽和炭化水素残基、例えば、2−プロペン−2−イレン、2−プロペン−3−イレン、2−メチル−3−プロペニレン、3−ブテン−3−イレン、3−ブテン−4−イレン、4−ペンテン−4−イレン、4−ペンテン−5−イレン、(3−メチル)−ペンタ−2,4−ジエン−4または5−イレン、11−ドデセン−11−イレンなどを含む。
【0013】
好ましいスペーサー基は:(CH2)3−、−(CH2)4−、−(CH2)5−、−(CH)(CH3)−(CH2)−、−(CH2)2−CH=CH−、−C(=CH2)−CH2−、−C(=CH2)−(CH2)2−O−(CH2)4−、(CH2)4−O−(CH2)2−である。
【0014】
用語「シラン」とは本文脈中で、SiR1R2R3基(式中、R1、R2、およびR3は、それぞれ独立してC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルコキシまたはフェニルを意味する)をいう。
【0015】
用語「アルキル」および「アルコキシ」残基は、示された炭素原子の数を持つ直鎖または分岐鎖残基であってよく、例えば、各々メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、tert−ブチル、2−エチルヘキシル、テキシル(thexyl)、(1,1,2−トリメチルプロピル)およびメトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、tert−ブトキシ、2−エチルヘキソキシ、テキソキシ(thexoxy)である。
【0016】
SiR1R2R3基の例は:Si(CH2−CH3)3、Si(CH2−CH2−CH3)3、Si(イソプロピル)3、Si(tert−ブチル)3、SiMe2tert−ブチル、SiMe2テキシル、Si(OMe)3、−Si(OEt)3、SiPh3などであり、好ましくは、Si(CH2−CH2−)3−、およびSi(CH2−CH2−CH2)3である。
【0017】
用語「オリゴシロキサン」とは、本文脈中で、一般式SiR10 m(OSiR10 3)nの基(m=0、1または2であり;n=3、2、または1であり、そしてm+n=3である)をいうか;あるいは一般式IIa、IIA′またはIIbの基;
【0018】
【化9】
【0019】
(式中、
Aは、スペーサーへの結合を表し;
R10は、C1〜C6−アルキルまたはフェニルを表し;
rは、1〜9、好ましくは1〜3を意味する)をいう。
【0020】
用語「ポリシロキサン」とは、本文脈中では、一般式IIIaまたはIIIbの基;
【0021】
【化10】
【0022】
(式中、
Aは、スペーサーへの結合であり;
R11は、C1〜C6−アルキルまたはフェニルを表し;
sは、4〜250、好ましくは5〜150の値を有し;
tは、5〜250、好ましくは5〜150、より好ましくは統計的平均が約60の値を有し;
qは、1〜30、好ましくは2〜10、より好ましくはは統計的平均が約4の値を有する)をいう。
【0023】
残基R10およびR11は、好ましくはC1〜C6−アルキル、より好ましくはC1〜C4−アルキル、最も好ましくはメチルである。
【0024】
本発明の1つの特定の実施態様において、W1、W2およびW3は、Sp′Sil′を意味する。該実施態様とは、式Iaの化合物
【0025】
【化11】
【0026】
〔式中、
Xは、OまたはNHを表し;
Sp′は、炭素原子3〜12個を有する直鎖状または分岐鎖状の飽和、あるいは単数のまたは複数の不飽和の炭素原子の炭化水素基を表し;
Sil′は、SiR1R2R3基(式中、R1、R2、およびR3は、それぞれ独立してC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルコキシまたはフェニルである)を意味するか;あるいは式SiMem(OSiMe3)nのオリゴシロキサン(式中、Meはメチルであり、mは0、1、または2であり、nは1、2、または3であり、m+nは3である)を意味するか;あるいは、下式A、A′およびB;
【0027】
【化12】
【0028】
(式中、Meはメチルであり、uは0〜6である)のオリゴシロキサンを意味する〕をいう。
【0029】
特に好ましい式Iの化合物は:
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−2′−メチル−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−5′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−ペンチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1′−ブタ−3−エニルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、および、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(トリエチルシリル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アミノ−{N−(−2′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサニル)アリル)−p−ベンズアミジル}−1,3,5−トリアジン、または、その統計的平均において下式:
【0030】
【化13】
【0031】
に対応するポリシロキサンである。
【0032】
本発明の化合物は290〜320nmの範囲のUV放射を吸収し、親油性の溶媒において改良された溶解度を示す。さらに、それらは、エマルジョンに容易に分散し、エマルジョン中でまたは皮膚上で結晶化する傾向は比較的低い。したがって、本発明の化合物は、光遮蔽組成物の調製のために、特にヒトの皮膚を太陽光の照射から保護するのに有用な化粧用組成物の調製のために用いることができる。これらの製品は、高濃度で適用することができ、改良された太陽光保護効果をもたらす。効力に損失を与える凝集と結晶化の影響は、エマルジョン中でおよび皮膚上で低下する。
【0033】
本発明のさらなる目的は、式Iの化合物の調製方法である。
本発明の別の目的は、1以上の式Iの化合物を光遮蔽剤として含む光遮蔽組成物である。この組成物は、上記の1以上の化合物を、組成物に対して0.1〜20重量%の量で含み、場合によってさらに公知のUV−AまたはUV−Bフィルターを含むことができる。
【0034】
式I(式中、W1、W2およびW3は、SpSil基を意味する)で示される化合物の合成は、以下の工程I〜III:
【0035】
【化14】
【0036】
(式中、SilおよびXは上で定義したとおりであり;Sp″は、Spより1度数高い不飽和度を有する以外は上で定義したSpと同じ意味を有する)にしたがって行うことができる。換言すると、Sp″が1つの二重結合を有する場合、Spは飽和しており、Sp″が三重結合または2つの二重結合を有する場合、Spは1つの二重結合を有する。
【0037】
【化15】
【0038】
第1の工程は、ヒドロシリル化反応であり、例えば、0℃〜200℃の、好ましくは40℃〜110℃の範囲の温度で、金属触媒の存在下で、それ自体公知の方法に従って行うことができる。反応は、好ましくは、不活性ガス雰囲気下で、好ましくは溶媒中で行われる。適切な触媒は、炭素担持金属Ptのような白金触媒、塩化白金酸、ジビニル−テトラメチル−ジシロキサン白金複合体、または任意の他の白金複合体;炭素担持金属Rh5%のようなロジウム触媒、ビス(1,5−シクロオクタジエン)−ジ−Rh(I)−ジクロリドなど;金属形態の、または複合体としてのMo、Ru、Pd、Cr、Fe、Co、NiまたはCuである。この触媒は、同種のものでも異種のものでもよい。芳香族触媒、好ましくはトルエン、キシレン、ピリジン;THF、ジオキサンなどのようなエーテル;ジクロロエタン、ジクロロメタン、クロロホルム、CCl4、アセトニトリル、DMF、DMSO、エタノールなどの脂肪族溶媒のようなほとんどの有機溶媒を用いることができる。
【0039】
第2工程は、エステル転移反応またはアミド形成であり、溶媒IIを用いてそれ自体公知の方法に従って行うことができる。したがって、反応は、50℃〜250℃の範囲の温度で、場合によって溶媒中で行うことができる。第1工程で列挙した有機溶媒を用いることができる。適切な触媒は、KOH、Na2CO3などのような塩基性触媒、H2SO4、HClなどのような酸性触媒、または、例えば、テトライソプロピルオルトチタネートのような、ルイス酸触媒である。
【0040】
第3工程は、第2工程の生成物と塩化シアヌル酸を、20℃〜280℃、好ましくは50℃〜150℃の範囲の温度で、適切な溶媒(例えば、トルエン、キシレン)あり、またはなしで、ゆっくりと処理することによるだけで達成することができる。場合により、K2CO3、NaHなどのような塩基が存在してもよい。
【0041】
工程の順序は、自由に交換することができ、例えば、塩化シアヌル酸をC1〜C6−アルキル4−アミノ安息香酸エステルを用いて処理することによる工程IIIから始めて次にエステル転移反応またはアミド形成(工程II)が続き、工程Iのヒドロシラニル化で終了することも可能である。
【0042】
式Iの化合物(W1、W2およびW3の基のうち1または2つはC1〜C20−アルキルを表し、W1、W2およびW3の残りの基はSpSilを意味する)の合成は、上記の反応スキームと同様に行うことができる。塩化シアヌル酸は、最初に4−アミノ安息香酸C1〜C20−アルキルエステルで0℃〜40℃の範囲の温度で処理され、次に式Aの化合物
【0043】
【化16】
【0044】
(式中、X、Sp、およびSilは上記で定義したとおりである)で、20℃〜280℃の範囲の温度で処理するか、塩化シアヌル酸を最初に式Aの化合物で0℃〜40℃の範囲の温度で処理し、次に4−アミノ安息香酸C1〜C20−アルキルエステルで20℃〜280℃の範囲の温度で処理する。
【0045】
Silがポリシロキサンである式Iの化合物は、好ましくは、以下のスキーム
【0046】
【化17】
【0047】
(式中、XおよびSpは上で定義したとおりであり、Sil″は上で定義したポリシロキサンであり、そしてR12はC1〜C10の二価のアルキル鎖またはC3〜C10の二価のアルキル鎖で、場合により少なくとも1つの酸素原子で中断されている)にしたがって調製される。
【0048】
したがって、本発明の製造方法は、式Iの化合物の製造方法であって、
a)ヒドロシラン、オリゴヒドロシロキサンまたは式Sil−Hのポリヒドロシロキサン化合物(式中、Silは上記で定義したとおりである)を、化合物Sp″XH(式中、XはOまたはNHであり、Sp″は、0℃〜200℃、好ましくは40℃〜110℃の範囲の温度で、金属触媒の存在下で、Spより1度数多い不飽和度を有する以外は、Spと同じ意味を有する)と反応させ、式SilSpXHを得る工程、
b)工程a)の生成物であるSilSpXHを、4−アミノ安息香酸C1〜C6−アルキルエステルと、50℃〜250℃の範囲の温度で、塩基性−、酸性−、またはルイス酸触媒存在下で反応させ、式A
【0049】
【化18】
【0050】
(式中、XはOまたはNHであり、SpおよびSilは上記で定義したとおりである)で示される化合物を得る工程、
c−1)塩化シアヌル酸を、式Aの化合物を用いて、20℃〜280℃の範囲の温度で、好ましくは50℃〜150℃の温度で、適切な溶媒なしまたはありで処理し、式Iの化合物(式中、W1、W2およびW3は、SpSil基を意味する)を得る工程、あるいは
c−2)塩化シアヌル酸を、最初に4−アミノ安息香酸C1〜C20−アルキルエステルを用いて、0℃〜40℃の範囲の温度で処理し、次に上記の式Aの化合物を用いて20℃〜280℃の範囲の温度で処理するか、塩化シアヌル酸を、最初に次に上記の式Aの化合物を用いて0℃〜40℃の範囲の温度で処理し、次に4−アミノ安息香酸C1〜C20−アルキルエステルを用いて、20℃〜280℃の範囲の温度で処理し、式Iの化合物(W1、W2およびW3の基のうち1または2つはC1〜C20−アルキルを表し、W1、W2およびW3の残りの基はSpSilを意味する)を得る工程、を含む方法であってよい。
【0051】
本発明の化合物は、無色であるかわずかに黄色がかった液体、半液体または結晶化合物である。それらは、それらのUV−B光の高い吸収、有機溶媒、特に化粧品業界で一般に用いられている溶媒中での良好な溶解のため、およびそれらの容易で安価な入手のため、特に光遮蔽剤として適している。それらは、1以上の公知のUV−Bおよび/またはUV−Aフィルターと組み合わせることができる。
【0052】
新規な光遮蔽剤の調製、特に、皮膚の保護のための調製物の、およびそれぞれ毎日の化粧品用の太陽光遮蔽調製物の調製は、式Iの化合物を、光遮蔽剤に有用な化粧用のベースに取り入れることを含む。便利な場合、他の従来のUV−A、およびそれぞれUV−Bフィルターもまたこの取り込みの間に合わせることもできる。そのようなUVフィルターの組み合わせは、相乗効果を示すことができる。該光遮蔽剤の調製は、この分野の当業者には周知である。一般式Iの化合物および他の公知のUVフィルターの量は重要ではない。適切な量は、約0.5〜約12%である。
【0053】
適切なUV−Bフィルター、すなわち、約290〜320nmに吸収の最大を持つ物質は、例えば、以下の有機化合物で、それらは最も広い物質のクラスに属する:
【0054】
−p−アミノ安息香酸誘導体、例えば、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、オクチルジメチル、アミルジメチル、エトキシ化エチル、プロポキシ化エチルグリセリルまたはエチルグリコシルp−アミノベンゾエートなど;
−アクリレート、例えば、2−エチルヘキシル2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレート(オクトクリレン)、エチル2−シアノ−3,3−ジフェニルアクリレートなど;
−アニリン誘導体、例えば、メチルアニリウムメトスルフェートなど;
−アントラニル酸誘導体、例えば、メンチルアントラニレートなど;
−ベンゾフェノン誘導体、例えば、ベンゾフェノン−1〜ベンゾフェノン−12など;
−カンファー誘導体、例えば、メチルベンジリデンカンファー、3−ベンジリデンカンファー、カンファーベンザルコニウムメトスルフェート、ポリアクリルアミドメチルベンジリデンカンファー、スルホベンジリデンカンファー、スルホメチルベンジリデンカンファー、テレフタリデンジカンファースルホン酸など;
−シンナメート誘導体、例えば、オクチルメトキシシンナメートまたはエトキシエチルメトキシシンナメート、ジエタノールアミンメトキシシンナメート、イソアミルメトキシシンナメートなど、ならびにシロキサンに結合したケイ皮酸誘導体;
−没食子酸(Gallic acid)、例えば、ジガロイルトリオレエートなど;
−イミダゾール誘導体、例えば、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸など;
−サリチル酸塩誘導体、例えば、イソプロピルベンジル、ベンジル、ブチル、オクチル、イソオクチルまたはホモメンチルサリチル酸塩など;
−トリアゾール誘導体、例えば、ドロメトリアゾール、ヒドロキシジブチルフェニル−、ヒドロキシジアミルフェニル−、ヒドロキシオクチルフェニル−、またはヒドロキシフェニルベンズトリアゾールなど;
−トリアゾン誘導体、例えば、オクチルトリアゾンなど;および
−顔料、例えば、微粒子状のTiO2、ZnOなど。
【0055】
処方物は、さらにUV−Aフィルター、例えば:
−ジベンゾイルメタン誘導体、例えば、4−tert−ブチル−4′−メトキシジベンゾイル−メタンなど;
−欧州特許公報EP0693483A1、EP0704437A2、EP0704444A1およびEP0780382A1に記載されたトリアジン化合物;
−欧州特許公報EP0538431B1、EP0709080A1およびEP0358584B1に記載されたオルガノシロキサン;
−欧州特許出願98114262.3に記載されたようなマロネート、
を含んでもよい。
【0056】
効果的なUV吸収のために特に有用なのは、メタロ−オキシナノ顔料の組み合わせで、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化第一鉄、およびそれらの混合物で、それらの直径は<100nmである。
【0057】
以下の実施例1〜15は、さらに本発明を例示するが、いかなる方法によってもその範囲を限定しない。
実施例8および9は、比較例である。実施例16は、光遮蔽組成物に関する。
【0058】
【実施例】
実施例1
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0059】
【化19】
【0060】
a)第1工程:4−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−ブタノールの調製
50mlの反応フラスコに、10.3mlの3−ブテン−1−オールおよび触媒量のジビニル−テトラメチルジシロキサン白金複合体を、不活性雰囲気下で加え、60℃に加熱した。19.5mlのペンタメチルジシロキサンを、滴下漏斗を通してゆっくりと添加した。反応混合物を75〜80℃で3時間撹拌し、その後10cmカラムに対して110〜115℃/38×102Paで蒸留した。収率18.9g(理論値の86%)、透明な液体。
【0061】
b)第2工程:4−アミノ安息香酸4−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)ブチルエステルの調製
50mlの反応フラスコに、9.9gのエチル4−アミノ安息香酸エステル、15.3gの4−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−ブタノールおよび0.06mlのテトラ−イソプロピルオルトチタネートを加え、110℃/90×102Paまで7時間加熱した。形成されたエタノールを続いて留去した。生成物を205℃/0.06×102Paで分画し、12.6g(理論値の62%)の透明な液体を得た。
【0062】
c)第3工程:2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
400mlの反応フラスコ中で、10.2gの4−アミノ安息香酸4−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)ブチルエステルを、150mlのトルエンに溶解し、0℃まで冷却した。60mlのトルエン中1.83gの塩化シアヌル酸の溶液を、20分以内にゆっくりと添加した。次いで、反応混合物を緩やかに還流温度まで加熱して、この温度で48時間撹拌した。次いで、溶媒を回転エバポレーターを用いて除去し、残渣をヘキサン/EtOAc=9:1でSiO2のクロマトグラフィーにかけた。3.5gの半結晶生成物を単離した。UV308nm(133230)、m.p.86〜87℃。
【0063】
d)C#tiol LC(ココイルカプリレートカプレート)およびCrodamol DA(ジイソプロピルアジペート)中での溶解度の測定
上記の溶媒中の2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの過飽和溶液を調製し、超音波バス中で5分間処理した。25℃で一晩放置した後、この溶液をミクロフィルター(Millipore, ポアサイズ0.5μm)を通して濾過し、続いてCH2Cl2中でUV測定した。吸光度を精製化合物の吸光度と比較した。溶解度は、C#tiol LCでは11.2%、Crodamol DAでは>26%であることがわかった。
【0064】
実施例2〜5は、実施例1に記載した手法にしたがって調製した。
【0065】
実施例2
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0066】
【化20】
【0067】
a)第1工程:4−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−1−ブタノールの、1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサンを用いる調製
74〜78℃/0.1×102Paでの蒸留後、83%の液体生成物を得た。
【0068】
b)第2工程:4−アミノ安息香酸4−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)ブチルエステルの、4−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−1−ブタノールとエチル4−アミノ安息香酸エステルとを反応させることによる調製
ヘキサン/EtOAc=1:1でSiO2でのクロマトグラフィーおよび開始物質のエバポレーション後、透明な黄色の油状物を43%の収率で得た。
【0069】
c)第3工程:2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの、4−アミノ安息香酸4−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)ブチルエステルと塩化シアヌル酸を還流するまで加熱することによる調製
クロマトグラフィー後、37%の生成物を得た。UV308nm(120459)、m.p.115〜118℃
【0070】
d)C#tiol LCおよびCrodamol DA中での溶解度の測定:
C#tiol LCでは19.1%、Crodamol DAでは35.5%。
【0071】
実施例3
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−2′−メチル−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0072】
【化21】
【0073】
a)第1工程:3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−2−メチル−1−プロパノールの、3−ブテン−1−オールの代わりに2−メタアリルアルコールを用いる調製
105℃/40×102Paでの蒸留後、81%の液体生成物を得た。
【0074】
b)第2工程:4−アミノ安息香酸2−メチル−3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピルエステルの、3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−2−メチル−1−プロパノールを反応させることによる調製
透明な黄色の油状物を、収率27%で得た。
【0075】
c)第3工程:2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−2′−メチル−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジンの、4−アミノ安息香酸2−メチル−3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピルエステルと塩化シアヌル酸とを還流するまで加熱することによる調製
クロマトグラフィー後、33%の生成物を得た。UV308nm(109184)、m.p.118〜120℃。
【0076】
d)C#tiol LCおよびCrodamol DA中での溶解度の測定:
C#tiol LCでは16.8%、Crodamol DAでは>34%。
【0077】
実施例4
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−5′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−ペンチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0078】
【化22】
【0079】
a)第1工程:5−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−ペンタノールの、3−ブテン−1−オールの代わりに4−ペンテン−1−オールを用いる調製
124〜125℃/39×102Paでの蒸留後、88%の液体生成物を得た。
【0080】
b)第2工程:4−アミノ安息香酸5−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)ペンチルエステルの、4−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−ブタノールの代わりに5−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−ペンタノールを反応させることによる調製
透明な黄色の油状物を63%の収率で得た。
【0081】
c)第3工程:2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−5′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−ペンチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの、4−アミノ安息香酸5−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)ペンチルエステルと塩化シアヌル酸を還流するまで加熱することによる調製
クロマトグラフィー後、20%の生成物を得た。UV308nm(137085)、m.p.119.5〜121.5℃。
【0082】
d)C#tiol LCおよびCrodamol DA中での溶解度の測定:
C#tiol LCでは6.2%、Crodamol DAでは13%。
【0083】
実施例5
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0084】
【化23】
【0085】
a)第1工程:3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−プロパノールの、3−ブテン−1−オールの代わりにアリルアルコールを用いる調製
99〜101℃/41×102Paでの蒸留後、85%の液体生成物を得た。
【0086】
b)第2工程:3−アミノ安息香酸3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピルエステルの、3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−プロパノールを反応させることによる調製
透明な黄色の油状物を14%の収率で得た。
【0087】
c)第3工程:2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジンの、3−アミノ安息香酸3−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)プロピルエステルと塩化シアヌル酸を還流するまで加熱することによる調製
クロマトグラフィー後、32%の生成物を得た。UV308nm(111664)、m.p.125〜127℃。
【0088】
d)C#tiol LCおよびCrodamol DA中での溶解度の測定:
C#tiol LCでは4.3%、Crodamol DAでは>16%。
【0089】
実施例6
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1′−ブタ−3−エニルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0090】
【化24】
【0091】
a)第1工程:4−(トリエチルシリル)−1−ブタ−3−エノールの調製
50mlの反応フラスコに、1−ブテン−3−オールならびに触媒量のビス(1,5−シクロオクタジエン)−ジ−Rh(I)−ジクロライドおよびトリフェニルホスフィンを不活性雰囲気下で加えた。トリエチルシランを滴下漏斗を通してゆっくりと添加した。反応混合物を室温で72時間撹拌した。86%の黄色の液体を得た。
【0092】
b)第2工程:4−アミノ安息香酸−(トリエチルシリル)1−ブタ−3−エニルエステルの、4−アミノ安息香酸エステルと4−(トリエチルシリル)−1−ブタ−3−エノールの反応による調製。収率:69%の透明の液体。
【0093】
c)第3工程:2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1′−ブタ−3−エニルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0094】
実施例7
実施例7は、実施例6と同じように調製した。
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1 ′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0095】
【化25】
【0096】
a)第1工程:4−(トリエチルシリル)−1−ブタノールの調製。
b)第2工程:4−アミノ安息香酸−(トリエチルシリル)ブチルエステルの調製。
c)第3工程:2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製。
【0097】
実施例8
シリル基を持たない参照化合物としての2,4,6−トリ−アニリノ−(p−カルボエトキシ)−1,3,5−トリアジンの調製
【0098】
【化26】
【0099】
750mlの反応フラスコに、300mlのp−シメンに溶解した13.9gのエチル−p−アミノベンゾエートを加えた。150mlのp−シメン中4.85gの塩化シアヌル酸の溶液を、20分以内にゆっくりと添加した。白色の懸濁物が形成された。次いで、反応混合物を還流温度(170℃)まで緩やかに加熱し、この温度で20時間撹拌した。反応混合物を0℃まで冷却し、濾過して、残渣をMTBEで洗浄し、トルエン中で再結晶化させて、12.3g(82%)の白色結晶を得た。UV308nm(133′374)、m.p.218〜220℃。低い溶解度が予測された。
【0100】
C#tiol LCおよびCrodamol DA中での溶解度の測定:
溶解度は、実施例1に記載したように測定し、C#tiol LCでは0.02%、Crodamol DAでは0.2%であることがわかった。
【0101】
実施例9
比較のための、UVINUL T−150の C#tiol LC および Crodamol DA 中での溶解度の測定
【0102】
【化27】
【0103】
溶解度は、参照として、市販製品であるUVINUL T−150について実施例1に記載したように測定した。UVINUL T−150は、公知の一連のものの中では最も良好な可溶性化合物である。溶解度は、C#tiol LCでは3.7〜4.2%、Crodamol DAでは10%であることが見出され、それは本発明による実施例よりも低かった。m.p.は、126〜127.5℃であった。
【0104】
実施例10
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(トリエチルシリル)−4 ′−オキサヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0105】
【化28】
【0106】
a)4−(2−トリエチルシラニル−エトキシ)−ブタノール:
50mlの反応フラスコに、11.6ml(100mmol)の1,4−ブタンジオール−モノビニルエーテルおよび触媒量のジビニル−テトラメチルジシロキサン白金複合体を、不活性雰囲気下で加え、60℃まで加熱した。10.4g(90mmol)のトリエチルシランを、滴下漏斗を通してゆっくりと添加した。発熱反応混合物を75℃で18時間撹拌し、その後10cmのVigreuxカラムに対して105〜107℃/0.2mbarで蒸留した。
収率15.2g(理論値の66%)、透明な液体。
純度98.7%(ガスクロマトグラフィーによる)
【0107】
b)4−アミノ安息香酸4−(2−トリエチルシラニル−エトキシ)−ブチルエステル
4−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1−ブタノールの代わりに上記の生成物を用いて、実施例1bと同じ反応を行った。透明な黄色の油状物を65%の収率でクロマトグラフィー後に得た。
【0108】
c)2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(トリエチルシリル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン
p−アミノ安息香酸4−(ペンタメチルジシロキサニル)ブチルエステルの代わりに、上で得たp−アミノ安息香酸エステルを用いて、実施例1cの反応手順を繰り返した。クロマトグラフィー後、79%の生成物を得た。UV308nm(ε=117′723)、m.p.79〜81℃。
【0109】
d)化粧用溶媒中での溶解度の測定
溶解度は、実施例1に記載されたようにして測定し、C#tiol LCでは31%、Crodamol DAでは45%であることがわかった。
【0110】
実施例11
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0111】
【化29】
【0112】
a)7−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−4−オキサ−ヘプタン−1−オール:
50mlの反応フラスコに、16mlの1,4−ブタンジオール−ビニルエーテルおよび触媒量のジビニル−テトラメチルジシロキサン白金複合体を、不活性雰囲気下で加え、60℃まで加熱した。22.8mlのペンタメチルジシロキサンを、滴下漏斗を通してゆっくりと添加した。反応混合物を75〜80℃で18時間撹拌し、その後10cmカラムに対して85〜87℃/0.2mbarで蒸留した。収率29g(理論値の85%)、透明な液体。
【0113】
b)4−ニトロ安息香酸7−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−4−オキサ−ヘプチルエステル:
100mlの反応フラスコに、34mlのピリジン中20gの上記のシリル化アルコールを加え、勢いよく撹拌した。22.5gのp−ニトロ安息香酸クロリドを20分以内にゆっくりと添加した。反応混合物を60℃まで加熱し1時間撹拌した。次いで、それを氷冷水に注ぎ入れ、CH2Cl2で抽出した。合わせた有機相を、1NのHClおよび飽和NaHCO3溶液で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、濃縮して20.2g(65%)の黄色い液体を得た。MS:370,298,150,147,120(100%)。
【0114】
c)4−アミノ安息香酸7−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−4−オキサ−ヘプチルエステル:
600mlの水素添加オートクレーブに、280mlのメタノール中20gの上記のエステルおよび0.7gの酢酸および3gのRaney Ni触媒を加えた。この混合物を18時間室温で、100psiの圧力で水素添加した。次いで、混合物を濾過し、酢酸エチルと水との間で分配し、有機相を濃縮して93%の黄色い液体を得た。MS:383(M+),340,268,208,147,120(100%)。
【0115】
d)2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン
p−アミノ安息香酸4−(ペンタメチルジシロキサニル)ブチルエステルの代わりに上で得たp−アミノ安息香酸エステルを用いて、実施例1cの反応手順を繰り返した。クロマトグラフィー後、60%の生成物を得た。UV308nm(ε=124′248)、m.p.74〜76℃。
【0116】
e)化粧用溶媒中での溶解度の測定
溶解度は、実施例1に記載したように測定し、C#tiol LCでは28%、Crodamol DAでは29.4%であることがわかった。
【0117】
実施例12
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0118】
【化30】
【0119】
a)2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−クロロ−1,3,5−トリアジン
100mlの反応フラスコに50mlのTHF中0.92gの塩化シアヌル酸を加えた。25mlのTHF中1.2gの2−エチル−ヘキシルp−アミノベンゾエートおよび0.85mlのジイソプロピルエチルアミンの溶液を、0℃でゆっくり添加した。反応をゆっくりと45℃まで加熱し、再び、25mlのTHF中1.2gの2−エチル−ヘキシルp−アミノベンゾエートおよび0.85mlのジイソプロピルエチルアミンの溶液をゆっくりと添加した。18時間後、反応混合物を水と酢酸エチルの間で分配した。有機相を乾燥させ、濃縮して2.6gの結晶生成物を得、それをシリカゲルでヘキサン:酢酸エチル=7:3でクロマトグラフィーにかけた。1.8g(56%)の白色結晶物質を単離した。MS:609(M+),497,385(100%)。
【0120】
b)2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン
25mlの反応フラスコに、15mlのトルエン中0.61gの上記のジ−アニリノ−トリアジンを加え、65℃まで加熱した。3mlのトルエン中0.38gの4−アミノ安息香酸7−(1,1,3,3,3−ペンタメチル−ジシロキサニル)−4−オキサ−ヘプタニルエステル(実施例11c参照)の溶液を添加し、反応物を7時間75℃で撹拌した。次いで、反応混合物を濃縮し、シリカゲルでヘキサン:酢酸エチル=7:3でクロマトグラフィーにかけ、46%の白色結晶生成物を得た。UV308nm(ε=112′526)、m.p.107〜109℃。
【0121】
c)化粧用溶媒中での溶解度の測定:
溶解度は、実施例1に記載したように測定し、C#tiol LCでは22%、Crodamol DAでは>36%であることがわかった。
【0122】
実施例13
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジンの調製
【0123】
【化31】
【0124】
a)7−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−4−オキサ−ヘプタノール:
50mlの反応フラスコに、11.6gの1,4−ブタンジオール−ビニルエーテルおよび触媒量のジビニル−テトラメチルジシロキサン白金複合体を不活性雰囲気下で加え、80℃まで加熱した。20gのヘプタメチルトリシロキサンを、滴下漏斗を通してゆっくりと添加した。反応混合物を85℃で4時間撹拌し、その後10cmカラムに対して110〜112℃/0.25mbarで蒸留した。収率22.1g(理論値の73%)、透明な液体。
【0125】
b)4−ニトロ安息香酸7−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−4−オキサ−ヘプチルエステル:
25mlの反応フラスコに、10.5mlのピリジン中8gの上記のシリル化アルコールを加え、勢いよく撹拌した。7gのp−ニトロ安息香酸クロリドを20分以内にゆっくりと添加した。反応混合物を60℃まで加熱し1時間撹拌した。次いで、それを氷水中に注ぎいれ、CH2Cl2で3回抽出した。合わせた有機相を1NのHClおよび飽和NaHCO3溶液で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、濃縮して9.9g(86%)の黄色い液体を得た。
【0126】
c)4−アミノ安息香酸7−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−4−オキサ−ヘプチルエステル:
300mlの水素添加オートクレーブに、115mlのメタノール中9.7gの上記のエステルおよび0.3gの酢酸および1.2gのRaney Ni触媒を加えた。この混合物を18時間室温で、100psiの圧力で水素添加した。次いで、混合物を濾過し、酢酸エチルと水との間で分配し、有機相を濃縮して8.3g(91%)の黄色い液体を得た。MS:457(M+),342,268,221,208,137,120(100%)。
【0127】
d)2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン
25mlの反応フラスコに、15mlのトルエンに溶解した0.85gの2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−クロロ−1,3,5−トリアジン(調製は、実施例12aに記載した)を加え、65℃まで加熱した。3mlのトルエン中0.7gの4−アミノ安息香酸7−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−4−オキサ−ヘプチルエステル(上記参照)の溶液を添加し、反応物を7.5時間75℃で撹拌した。次いで、反応混合物を濃縮し、シリカゲルでヘキサン:酢酸エチル=7:3でクロマトグラフィーにかけ、1.13g(79%)の白色結晶生成物を得た。UV308nm(ε=105′587)、m.p.103〜105℃。
【0128】
e)化粧用溶媒中での溶解度の測定
溶解度は、実施例1に記載したように測定し、C#tiol LCでは27%、Crodamol DAでは>47%であることがわかった。
【0129】
実施例14
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アミノ{N−(−2′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−アリル)−p−ベンズアミジル}−1,3,5−トリアジンの調製
【0130】
【化32】
【0131】
a)4−ニトロ安息香酸プロパルギルアミド:
500mlの反応フラスコに、150mlのメチル−tert−ブチルエーテル(MTBE)中19.8mlのプロパルギルアミンおよび62mlのトリエチルアミンを加えた。55.2gのp−ニトロ安息香酸クロリドを100mlのMTBEに溶解して、20分以内にゆっくりと添加した。反応混合物を勢いよく90分間撹拌し、次いで、60℃にさらに30分間加熱した。次いで、それを濾過し、残渣を水で洗浄し、再度濾過してアセトニトリル中で再結晶化させ、40.7gの黄色い結晶を得た。
【0132】
b)4−アミノ安息香酸プロパルギルアミド:
1lの反応フラスコに、410mlのメタノールおよび410mlの濃塩酸水溶液に溶解した33.5gの4−ニトロ安息香酸プロパルギルアミドを加えた。81.8gのスズ粉末を添加し、反応混合物を40℃に165分間加熱した。次いで、反応混合物を1640mlの氷水中410gのNaOHの溶液に注ぎ入れ、メタノールを蒸発させ、熱いときに濾過して無機物質を除去した。生成物はこの溶液から結晶化した。それを、エタノール/水から再結晶化させて、21.5g(75%)の所望の物質を得た。m.p.122〜125℃。
【0133】
c)4−(4,6−ジクロロ−(1,3,5)トリアジン−2−イルアミノ)−N−(プロパルギル−p−ベンズアミド)。
75mlの反応フラスコに、20mlのアセトン中1.85gの塩化シアヌル酸と0.88gのNaHCO3の冷溶液を加えた。6mlのアセトン中1.77gの4−アミノ安息香酸プロパルギルアミドを、0℃でゆっくりと添加した。黄色がかった懸濁物を30分間撹拌した。次いで、9mlの水を添加し、生成物を濾別し、2.5gの黄色がかった粉末を得た。MS:322(M+),321,292,267(100%)。
【0134】
d)2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アミノ−{N−(プロパルギル)−p−ベンズアミジル}−1,3,5−トリアジン
25mlの反応フラスコに、12mlのキシレンに分散させた1.04gの2−エチル−ヘキシルp−アミノベンゾエートと上で得た0.64gの4−(4,6−ジクロロ−(1,3,5)トリアジン−2−イルアミノ)−N−(プロパルギル−p−ベンズアミド)を加え、6時間還流した。反応混合物を0℃まで冷却し、生成物を濾別して、トルエン中でもう一度再結晶させた。0.98gの僅かに黄色がかった粉末を得た。UV306nm(111′436)、MS:747(100%、M+)。
【0135】
e)2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アミノ{N−(−2′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサニル)−アリル)−p−ベンズアミジル}−1,3,5−トリアジン25mlの反応フラスコに、19mlのトルエン中上で得られた1.23gのトリアジン、0.45gの1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチル−トリシロキサン、および触媒量のジビニル−テトラメチルジシロキサン白金複合体を、不活性雰囲気下で加えた。反応混合物を95℃に5日間加熱し、水で洗浄し、濃縮してヘキサン:酢酸エチル=7:3でクロマトグラフィーにかけて、0.25gの淡灰白色の結晶を単離した。UV306nm(ε=106′517)、m.p.76〜80℃
【0136】
f)化粧用溶媒中での溶解度の測定
溶解度は、実施例1に記載したように測定し、C#tiol LCでは>24%、Crodamol DAでは>37%であることがわかった。
【0137】
実施例15
その統計的平均で以下の式に相当するポリシロキサンの調製:
【0138】
【化33】
【0139】
a)4−ニトロ安息香酸−3−プロパノールアミド:
実施例14aに記載された反応を、プロパルギルアミンの代わりに2.5当量の3−アミノプロパノールおよびトリエチルアミンを用いて繰り返した。反応混合物を水に注ぎ入れ、酢酸エチルで7回抽出した。合わせた酢酸エチル相をNa2SO4で乾燥させ、濃縮して73%の結晶生成物を得、それをNMRで同定した。
【0140】
b)4−ニトロ安息香酸3−プロパルギルオキシプロピルアミド:
100mlの反応フラスコに、70mlのTHFに溶解した10gの4−ニトロ安息香酸3−プロパルギルオキシプロピルアミドと5.25gのカリウムtert−ブトキシドを加え、5.1mlの臭化プロパルギルで処理した。50分後、反応混合物を60℃に5時間加熱し、次いで、水と酢酸エチルとの間に分配した。合わせた有機相を濃縮し、ヘキサン:酢酸エチル=9:1でクロマトグラフィーにかけ、2.1gの黄色結晶物質を得、それを再度NMRで同定した。
【0141】
c)4−アミノ安息香酸3−プロパルギルオキシプロピルアミド:
実施例14bに記載した反応を、4−ニトロ安息香酸プロパルギルアミドの代わりに4−ニトロ安息香酸3−プロパルギルオキシプロピルアミドを用い、15分間だけ35℃に加熱して繰り返した。反応混合物の液体部分を水に注ぎ入れ、水相に生成物が見られなくなるまでCH2Cl2で抽出した。濃縮後、黄色の蜂蜜状のものを97%収率で得て、その構造をNMRで検証した。MS:232(M+),193,120(100%)。
【0142】
d)4−(4,6−ジクロロ−(1,3,5)トリアジン−2−イルアミノ)−N−(3−プロパルギルオキシ−プロピル−p−ベンズアミド
実施例14cに記載した反応を、4−アミノ安息香酸プロパルギルアミドの代わりに4−アミノ安息香酸3−プロパルギルオキシプロピルアミドを用いて繰り返した。生成物を濾別して淡灰白色の粉末を65.5%で得た。MS:379(M+),342,340,269,267(100%)。
【0143】
e)2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アミノ−{N−(3−プロパルギルオキシ−プロピル)−p−ベンズアミジル}−1,3,5−トリアジン
実施例14dに記載した反応を、上記の4−(4,6−ジクロロ−(1,3,5)トリアジン−2−イルアミノ)−N−(3−プロパルギルオキシ−プロピル−p−ベンズアミドを開始物質として用いて反復した。粗生成物をヘキサン/酢酸エチル=1:1でクロマトグラフィーにかけた。黄色がかった粉末を85%収率で得た。UV306nm(ε=104′380)、m.p.78〜81℃。
【0144】
f)ポリシロキサンをグラフトしたトリアジン
25mlの反応フラスコに、10mlのトルエン中0.4gの上記で得たトリアジン、Wacker−Chemie GmbHの0.55gのポリシロキサンAe−151および触媒量のジビニル−テトラメチルジシロキサン白金複合体を、不活性雰囲気下で加えた。反応混合物を100℃まで4日間加熱し、水/メタノール=1:10で洗浄し、濃縮してヘキサン/酢酸エチル=7:3でクロマトグラフィーにかけた。0.9gの黄色がかった液体を単離したが、それはC#tiol LCまたはCrodamol DAに自由に混和する。UV306nm(E=524)。
【0145】
実施例16
UV−BおよびUV−AのO/W太陽光遮蔽ローションの調製:
実施例1の化合物を2%含む広範囲スペクトルの太陽光遮蔽ローション
【0146】
【表1】
【0147】
A部をリアクター内で85℃に加熱した。B部を10分以内にゆっくりと添加し、次いでKOHを添加し、冷却してエマルジョンを脱気した。
Claims (18)
- 下式:
Xは、OまたはNHを表し;
Sp′は、炭素原子3〜12個を有する直鎖状または分岐鎖状の飽和、あるいは単数のまたは複数の不飽和の炭化水素基を表し;
Sil′は、SiR1R2R3基(式中、R1、R2およびR3は、それぞれ独立してC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルコキシまたはフェニルである)を意味するか;あるいは式SiMem(OSiMe3)nのオリゴシロキサン(式中、Meはメチルであり、mは0、1または2であり、nは1、2または3であり、m+nは3である)を意味するか;あるいは、下式A、A′又はB;
- W1、W2およびW3が、SpSilを意味するか、あるいはW1およびW2がC1〜C20のアルキルを表し、W3がSpSilを意味する、請求項1記載の化合物。
- X1、X2およびX3が酸素を意味するか、X1およびX2が酸素を表し、X3がNHを意味する、請求項1または3記載の化合物。
- スペーサー基が、1〜数個の炭素原子が酸素原子によって置き換わっている、C3〜C12の二価のアルキルまたはアルキレン鎖である、請求項1、3または4のいずれか1項記載の化合物。
- スペーサー基が、−(CH 2 ) 3 −、−(CH2)4−、−(CH2)5−、−(CH)(CH3)−(CH2)−、−(CH2)2−CH=CH−、−C(=CH2)−CH2−、−C(=CH2)−(CH2)2−O−(CH2)4−、−(CH 2 ) 4 −O−(CH 2 ) 2 −、を意味する請求項5記載の化合物。
- スペーサー基が、3−プロピレン、2−プロピレン、2−プロペン−2−イレン、2−プロペン−3−イレン、2−メチル−3−プロピレン、2−メチル−3−プロペニレン、3−ブチレン、4−ブチレン、3−ブタ−3−エニレン、4−ブタ−3−エニレン、4−ペンチレン、5−ペンチレン、4−ペンタ−4−エニレン、5−ペンタ−4−エニレン、4−または5−(3−メチル)ペンタ−2,4−ジエニレン、6−へキシレン、12−ドデシレンまたは11−ドデセン−11−イレンである、請求項1〜5のいずれか1項記載の化合物。
- シラン部分が、SiR1R2R3基(式中、R1、R2、およびR3は、それぞれ独立してC1〜C6−アルキル、C1〜C6−アルコキシまたはフェニルを意味する)を意味する、請求項1〜7のいずれか1項記載の化合物。
- シラン部分が−Si(CH2−CH3)3または−Si(CH2−CH2−CH3)3を意味する、請求項8記載の化合物。
- R10およびR11が、C1〜C6−アルキルである、請求項10または11記載の化合物。
- 2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサニル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−2′−メチル−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−5′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−ペンチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−3′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−1′−プロピルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1′−ブタ−3−エニルオキシ}−1,3,5−トリアジン、または
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−4′−(トリエチルシリル)−1′−ブチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、である請求項1記載の化合物。 - 2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(トリエチルシリル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4,6−トリ−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,3,3,3−ペンタメチルジシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アニリノ−p−{カルボ−7′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサニル)−4′−オキサ−ヘプチルオキシ}−1,3,5−トリアジン、
2,4−ジ−アニリノ−p−カルボ−(2′−エチル−ヘキシルオキシ)−6−アミノ−{N−(−2′−(1,1,1,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロキサニル)アリル)−p−ベンズアミジル}−1,3,5−トリアジン、または、その統計的平均において下式:
- 請求項1〜14のいずれか1項記載の1以上の化合物を、組成物に対して0.1〜20重量%の量で含み、場合によってさらに公知のUV−AまたはUV−Bフィルターを含む、光遮蔽組成物。
- 式Iの化合物の製造方法であって、
a)ヒドロシラン、オリゴヒドロシロキサンまたは式Sil−Hのポリヒドロシロキサン化合物(式中、Silは請求項1で定義したとおりである)を、化合物Sp″XH(式中、XはOまたはNHであり、Sp″は、0℃〜200℃の範囲の温度で、金属触媒の存在下で、Spより1度数多い不飽和度を有する以外は、Spと同じ意味を有する)と反応させ、式SilSpXHを得る工程、
b)工程a)の生成物であるSilSpXHを、4−アミノ安息香酸C1〜C6−アルキルエステルと、50℃〜250℃の範囲の温度で、塩基性−、酸性−、またはルイス酸触媒存在下で反応させ、式A
c−1)塩化シアヌル酸を、式Aの化合物を用いて、20℃〜280℃の範囲の温度で、適切な溶媒なしまたはありで処理し、式Iの化合物(式中、W1、W2およびW3は、SpSil基を意味する)を得る工程、あるいは
c−2)塩化シアヌル酸を、最初に4−アミノ安息香酸C1〜C20−アルキルエステルを用いて、0℃〜40℃の範囲の温度で処理し、次に上記の式Aの化合物を用いて20℃〜280℃の範囲の温度で処理するか、塩化シアヌル酸を、最初に上記の式Aの化合物を用いて0℃〜40℃の範囲の温度で処理し、次に4−アミノ安息香酸C1〜C20−アルキルエステルを用いて、20℃〜280℃の範囲の温度で処理し、式Iの化合物(W1、W2およびW3の基のうち1または2つはC1〜C20−アルキルを表し、W1、W2およびW3の残りの基はSpSilを意味する)を得る工程、を含む方法。 - 光遮蔽組成物の調製のための、請求項1〜14のいずれか1項記載の化合物の使用。
- 光遮蔽組成物が、太陽光の照射からヒトの皮膚を保護するのに有用な化粧用組成物である、請求項17記載の使用。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP98100008.6 | 1998-01-02 | ||
EP98100008 | 1998-01-02 | ||
EP98122321 | 1998-11-24 | ||
EP98122321.7 | 1998-11-24 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000063388A JP2000063388A (ja) | 2000-02-29 |
JP4053676B2 true JP4053676B2 (ja) | 2008-02-27 |
Family
ID=26148959
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP00001599A Expired - Fee Related JP4053676B2 (ja) | 1998-01-02 | 1999-01-04 | 光遮蔽組成物としてのシラニル−トリアジン |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6018044A (ja) |
JP (1) | JP4053676B2 (ja) |
KR (1) | KR100538106B1 (ja) |
CN (1) | CN1143861C (ja) |
AU (1) | AU758694B2 (ja) |
BR (1) | BR9900007A (ja) |
CA (1) | CA2257327C (ja) |
DE (1) | DE69817319T2 (ja) |
ID (1) | ID22032A (ja) |
NO (1) | NO986174L (ja) |
TW (1) | TW434231B (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8221728B2 (en) | 2004-02-24 | 2012-07-17 | L'oreal | Silanic para-aminobenzalmalonate-substituted s-triazine compounds and photoprotective compositions comprised thereof |
FR2886143B1 (fr) * | 2005-05-31 | 2007-06-29 | Oreal | Photostabilisation d'un dibenzoylmethane par une s-triazine siliciee et substituee par deux groupes aminobenzoates ou aminobenzamides ; compositions photoprotectrices. nouveaux composes silicies s-triazine |
DE102005027399A1 (de) | 2005-06-13 | 2006-12-14 | Universität Konstanz | Silicium- und Polysilylcyamelurate sowie -cyanurate (PSCs) - Verfahren zu deren Herstellung und Anwendung |
US7884158B2 (en) | 2005-09-06 | 2011-02-08 | L'Oré´al | Cosmetic compositions containing block copolymers, tackifiers and phenylated silicones |
FR2908991B1 (fr) * | 2006-11-28 | 2009-01-23 | Oreal | Composition cosmetique contenant l'association d'une s-triazine siliciee substituee par deux groupements aminobenzoates ou aminobenzamide et un filtre uv du triazine lipophile non silicie |
FR2908987B1 (fr) * | 2006-11-28 | 2009-01-23 | Oreal | Composition photoprotectrice contenant un derive de 1,3,5-triazine photosensible, un derive du dibenzoylmethane, et un s-triazine siliciee et substituee par deux groupes aminobenzaotes ou aminobenzamides |
US8003132B2 (en) * | 2008-06-30 | 2011-08-23 | Johnson & Johnson Consumer Companies, Inc. | Compositions comprising an ultraviolet radiation-absorbing polymer |
US8475774B2 (en) * | 2010-02-08 | 2013-07-02 | Johnson & Johnson Consumer Companies, Inc. | Sunscreen compositions comprising an ultraviolet radiation-absorbing polymer |
CN107669503A (zh) * | 2010-10-22 | 2018-02-09 | 巴斯夫欧洲公司 | 硅烷‑和硅氧烷‑二(二苯基)三嗪衍生物作为uv吸收剂的用途 |
WO2012127425A1 (en) * | 2011-03-23 | 2012-09-27 | Basf Se | Process for the preparation of s-triazine compounds |
ITMI20120644A1 (it) * | 2012-04-18 | 2013-10-19 | 3V Sigma Spa | Derivati triazinici |
ITMI20130119A1 (it) * | 2013-01-25 | 2014-07-26 | 3V Sigma Spa | Oligomeri triazinici come agenti fotostabilizzanti |
CN103265694A (zh) * | 2013-06-08 | 2013-08-28 | 苏州美维生物科技有限公司 | 水溶性紫外线吸收剂及其制备方法和应用 |
IT201600080301A1 (it) | 2016-07-29 | 2018-01-29 | 3V Sigma Spa | Nuovi composti triazinici come agenti fotostabilizzanti |
IT201600080304A1 (it) | 2016-07-29 | 2018-01-29 | 3V Sigma Spa | Composizioni cosmetiche di filtri uv |
CN106986839B (zh) * | 2017-04-28 | 2018-02-27 | 湖北师范大学 | 一种紫外线吸收剂uvt‑150的制备方法 |
IT201800006038A1 (it) | 2018-06-05 | 2019-12-05 | Agenti fotoprotettori di elevata efficacia |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3206398A1 (de) * | 1982-02-23 | 1983-09-01 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | S-triazinderivate und ihre verwendung als lichtschutzmittel |
US5047530A (en) * | 1987-08-28 | 1991-09-10 | Uniroyal Chemical Company, Inc. | Arylenediamine substituted triazines |
FR2636338B1 (fr) * | 1988-09-09 | 1990-11-23 | Rhone Poulenc Chimie | Diorganopolysiloxane a fonction benzalmalonate |
EP0502821B1 (de) * | 1991-03-05 | 1996-01-31 | Ciba-Geigy Ag | Silylierte 2-(2-Hydroxyphenyl)-4,6-diaryl-1,3,5-triazine |
GB9110123D0 (en) * | 1991-05-10 | 1991-07-03 | Dow Corning | Organosilicon compounds their preparation and use |
IT1247973B (it) * | 1991-06-04 | 1995-01-05 | Sigma Prod Chim | Derivati di 1,3,5-triazina, loro preparazione e uso come filtri solari |
US5741905A (en) * | 1994-07-23 | 1998-04-21 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Triazine ultraviolet absorbers useful for improving the sun protection factor of textiles |
US5556973A (en) * | 1994-07-27 | 1996-09-17 | Ciba-Geigy Corporation | Red-shifted tris-aryl-s-triazines and compositions stabilized therewith |
DE59508806D1 (de) * | 1994-09-14 | 2000-11-30 | Ciba Sc Holding Ag | UV-Absorber, ihre Herstellung und Verwendung |
US5874576A (en) * | 1995-12-19 | 1999-02-23 | Givaudan-Roure (International) Sa | Light screening agents |
TW536403B (en) * | 1997-03-24 | 2003-06-11 | Glaxo Group Ltd | An ethanol and ethylenediaminetetraacetic acid free pharmaceutical composition comprising lamivudine and exhibiting antimicrobial preservative efficacy |
-
1998
- 1998-12-23 US US09/219,943 patent/US6018044A/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-29 NO NO986174A patent/NO986174L/no not_active Application Discontinuation
- 1998-12-29 DE DE69817319T patent/DE69817319T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-30 CA CA002257327A patent/CA2257327C/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-30 AU AU98244/98A patent/AU758694B2/en not_active Ceased
- 1998-12-30 CN CNB98127143XA patent/CN1143861C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-31 KR KR1019980063365A patent/KR100538106B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1999
- 1999-01-04 ID IDP990004A patent/ID22032A/id unknown
- 1999-01-04 BR BR9900007-5A patent/BR9900007A/pt not_active Application Discontinuation
- 1999-01-04 JP JP00001599A patent/JP4053676B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-01-19 TW TW088100767A patent/TW434231B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW434231B (en) | 2001-05-16 |
BR9900007A (pt) | 2000-05-02 |
KR19990066926A (ko) | 1999-08-16 |
DE69817319D1 (de) | 2003-09-25 |
AU758694B2 (en) | 2003-03-27 |
CA2257327C (en) | 2009-04-07 |
NO986174D0 (no) | 1998-12-29 |
CN1227843A (zh) | 1999-09-08 |
CN1143861C (zh) | 2004-03-31 |
KR100538106B1 (ko) | 2006-03-23 |
ID22032A (id) | 1999-08-26 |
DE69817319T2 (de) | 2004-03-11 |
CA2257327A1 (en) | 1999-07-02 |
US6018044A (en) | 2000-01-25 |
JP2000063388A (ja) | 2000-02-29 |
NO986174L (no) | 1999-07-05 |
AU9824498A (en) | 1999-07-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0933376B1 (en) | Silanyl-triazines as light screening compositions | |
JP4053676B2 (ja) | 光遮蔽組成物としてのシラニル−トリアジン | |
JP4047439B2 (ja) | 光遮断剤 | |
RU2126010C1 (ru) | Новые диорганосилоксаны или триорганосиланы, светозащитная косметическая композиция и способ защиты кожи и/или волос от ультрафиолетового излучения | |
EP2632905B1 (en) | Process for preparing 2-hydroxyphenyl benzotriazole siloxane compounds | |
JP2874845B2 (ja) | サンスクリーン剤およびそれを含む光保護化粧品組成物並びにその使用 | |
US6114559A (en) | Silicone-substituted cinnamamide/malonamide/malonate compounds and photoprotective compositions comprised thereof | |
JP4084514B2 (ja) | 新規なインダニリデン化合物 | |
JP3024090B2 (ja) | エステル部がシリコンを含有する遮蔽剤の新規誘導体、それを含有する光保護化粧品組成物、およびその用途 | |
WO2004067539A1 (en) | Photoprotective compositions based on methyltrialkylsilanes containing a cinnamate, cinnamamide, benzalmalonamide or benzalmalonate function | |
JP4105845B2 (ja) | 新規なピリミジン−2,4,6−トリオン化合物 | |
US6080880A (en) | Silicone-substituted cinnamamide/malonamide/malonate compounds and photoprotective compositions comprised thereof | |
KR100604499B1 (ko) | 신규한 2-벤즈옥사졸릴 벤젠 유도체 및 이의 자외선차단제로서 용도 | |
US20040037791A1 (en) | Photoprotective UV-screening compositions comprising (phenylsulfonyl) acrylonitrile-substituted silanes/siloxanes | |
MXPA99000209A (en) | Silanil-triazinas as filtering compositions of the | |
WO2007090832A1 (en) | Hydroxybenzophenone derivatives |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040407 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20040922 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070731 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071019 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20071113 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20071206 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101214 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |