JPH10249277A - 表面の生物活性被覆 - Google Patents

表面の生物活性被覆

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JPH10249277A
JPH10249277A JP9360531A JP36053197A JPH10249277A JP H10249277 A JPH10249277 A JP H10249277A JP 9360531 A JP9360531 A JP 9360531A JP 36053197 A JP36053197 A JP 36053197A JP H10249277 A JPH10249277 A JP H10249277A
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monomer
coating
acid
coating polymer
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JP9360531A
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Peter Dr Ottersbach
オッタースバッハ ペーター
Britta Mensing
メンジィング ブリッタ
Gerard Helary
エラリー ジェラール
Marcel Jozefowicz
ジョゼフォウィッツ マルセル
Veronique Dr Migonney
ミニョニー ヴェロニク
Jean-Pierre Vairon
ヴァイロン ジャン−ピエール
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Original Assignee
Huels AG
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 処理される材料の機械的性質が、その方法に
よって変化されることなく、または記述された以外の公
知技術水準の欠点が現れることなく、生理学的に相容性
の方法で、表面が細菌、例えば球菌から持続的に十分に
守られているような、表面を生物活性的に被覆するため
の改善された方法。 【解決手段】 (i)一般式: R−(A)
示されるモノマー少なくとも1個;および(ii)UV
線過敏基を有するモノマー少なくとも1個を重合導入し
て含有する被覆ポリマーを、放射誘発され、場合によっ
ては活性化された支持体表面上へグラフトする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、所定の官能基が存
在することにより生物活性であり、かつ共有結合を有
し、即ち永続的に表面上に固着されている被覆ポリマー
を用いて、表面、有利にポリマー支持体を被覆する方法
に関する。いずれにせよ被覆は細菌拒絶性であり、その
上、細胞増殖抑制性または細胞増殖促進性に調節されて
よい。さらに本発明には、特に医療目的またはバイオ技
術の目的のため、このように被覆された表面を備えた生
産品に関する。
【0002】
【従来の技術】表面上での細菌の集落形成および増殖
は、通例不利な結果と関連している、一般に望ましくな
い減少である。即ち、飲料水工業および飲料工業の場
合、細菌群は、健康を損なう品質低下をもたらすことが
ある。包装用品上または包装用品内の細菌は、しばしば
食料品の腐敗を生じさせるか、またはさらに消費者の感
染の原因となる。無菌的に運転すべきバイオ工業装置中
では、系の異なる細菌は、重大な工程技術的な危険を提
示する。このような細菌は原料と一緒に運び込まれうる
か、または殺菌が不十分である場合に全装置部分内に残
留しうる。細菌群の一部は、付着することによって、洗
浄および浄化の際の通常の液体交換から免れることがで
き、かつ系中で増殖することができる。
【0003】さらに、水処理装置(例えば、膜による脱
塩のため)内、または容器内での細菌の集落形成は公知
であり、これらの装置または容器は、溶解されたかまた
は液体の希釈されていない有機物質で満ちており、かつ
細菌群に有利な条件を有する。このような微生物の集落
形成は、著しく広範囲に装置の妨害および/または腐食
性の障害をもたらすことがある。
【0004】細菌付着および細菌の蔓延からの予防は、
介護給食、この場合殊に老人介護の際の給食、および医
療の場で、特に重要である。大量の給食または大衆酒場
の場合、特にゴミを回避するため使い捨て食器が断念さ
れ、および使い捨てでない食器が不十分にしか浄化され
ない場合に、著しい危険が生じる。食料品を運搬する管
やパイプ内での有害な細菌類の蔓延は、貯蔵タンク中、
ならびに湿った暖かい周囲環境、例えば浴室内の織物中
での増殖と同様に公知である。このような用具類、同様
にまた公衆の頻繁な往来を有する範囲の中、即ち例え
ば、公共の交通手段の中、病院、電話ボックス、学校お
よび殊に公衆便所の中の所定の表面は、細菌類にとって
有利な生活空間である。
【0005】老人看護および病人看護の場合、被看護者
の通例弱くなった防御力は、殊に集中病棟および自宅看
護の場合に、感染に対する注意深い処置を必要とする。
【0006】特にこの種の用具または物体が、生体組織
または体液と接触する場合には、医療検査、治療および
処置の際の医療用物体および用具の使用は特に注意を要
する。例えば移植物質、カテーテル、ステント、心臓弁
および心臓ペースメーカーの場合の長期接触または連続
接触の場合、細菌感染は患者にとって生命を脅かす危険
となりうる。
【0007】既に、表面上の細菌の集落形成および蔓延
を阻止する、種々の方法が試験された。J.Microbiol.Ch
emoth. 31 (1993), 261〜271 において、S.E.Tebbs お
よびT.S.J.Elliot は、抗微生物作用性成分としての第
四アンモニウム塩を用いたラッカー状被覆を記載してい
る。これらの水、水性媒体または他の極性媒体ならびに
体液の塩が、被覆材料から遊離され、したがってその作
用が短く持続するだけであることは、公知である。この
ことは被覆中への銀塩の混入についても同様であること
が、国際公開番号第92/18098号明細書中に記載
されている。
【0008】オーウチ(T.Ouchi)およびオオヤ(Y.Ohy
a)は、Progr.Polym.Sci.20(1995),211ページ以降の中
で、共有結合またはイオン交換作用によってポリマー表
面上で殺菌作用を固定化することを、記載している。通
例このような場合には、純粋な作用に対して殺菌作用が
明らかに減少している。異極結合は、しばしば安定性が
不十分であることが判明した。その上、一般に細菌破壊
は、引続く殺菌作用を遮蔽し、かつ次に続く細菌の集落
形成にとっての基礎を形成する、望ましくない沈積を表
面上にもたらす。
【0009】コーネン(W.Kohnen)他は、ZBl. Bakt. S
uppl. 26. Gustav Fischer Verlag.シュツットガルト−
イエーナ−ニューヨーク、1994、408〜410 ページの中
で、フィルムが酸素の存在下にグロー放電によって前処
理され、次にアクリル酸を用いてグラフトされる場合
に、ポリウレタンフィルム上でのストレプトコッカス・
エピデルミディス(Streptococcus epidermidis)の付
着が減少されることを報告している。
【0010】多数の医学的使用の場合、重要であるのは
表面が細菌なしに維持されることだけではなく、むしろ
細胞を集落形成させることが重要である。現代医学では
通例、異物である物体が、中期または長期に組織または
体液と接触するようにして使用される。例としては、移
植物質、例えば心臓ペースメーカー、ステントおよびプ
ロテーゼ、ならびに縫合材料、ドレナージ管およびカテ
ーテルが挙げられる。このような物体は、特に金属、セ
ラミックおよび/またはポリマーから形成されてよい。
これらの材料は生物相容性、即ち材料が接触している組
織および/または組織液と相容性でなくてはならない。
ポリマーを生物相容性にするか、または生物相容性を改
善すべき、多数の方法が公知になった。これらの方法の
1つは、ポリマー表面を人間の細胞で集落形成させるこ
とである。
【0011】他方にはまた、そのような異物の物体の表
面を人間の細胞で集落形成させることが、著しく望まし
くないような医学的使用もある。即ち、長期に移植され
ているステントまたは心臓弁の場合と同様、中期に体内
(intrakoporal)に使用されるカテーテルの場合も、細
胞の集落形成は有害である。国際公開番号第94/16
648号明細書中には、ポリマー材料からなる移植され
た水晶体の表面上での、細胞の付着および増殖が阻止さ
れるべき方法が記載されている。欧州特許第04312
13号明細書によれば、ポリマーの表面が強い鉱酸を用
いて親水性にされることによって、細胞拒絶性を有する
ポリマーが供給される。これは細胞付着の減少をもたら
す。
【0012】しかし、ポリマー表面の補足的な化学変性
は、大抵は不均一である。通例、細胞の集落形成のため
の出発点を形成する、未処理または不十分に処理された
箇所が残留する。さらに処理された表面の細胞拒絶性の
性質は、通例非持続的である。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】本発明には、処理され
る材料の機械的性質が、その方法によって変化されるこ
となく、または記述された以外の公知技術水準の欠点が
現れることなく、生理学的に相容性の方法で、表面が細
菌、例えば球菌から持続的に十分に守られているよう
な、表面を生物活性的に被覆するための改善された方法
を開発することが、基礎として課された。本発明のもう
1つの課題によれば、細菌拒絶性の被覆が、同時に選択
的に細胞増殖抑制性または細胞増殖促進性に調節される
ことができるような方法が見出されるべきであった。
【0014】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、支持
体、殊にポリマー支持体の表面上で、細菌拒絶性に、共
有結合し固着した被覆は、 (i)一般式: 式I: R−(A) [式中、Rは、原子価aを有する、1倍または2倍のオ
レフィン性不飽和有機基を表わし、Aはカルボキシル基
−COOH、硫酸基−OSOOH、スルホン酸基−S
H、リン酸基−OPO(OH)、ホスホン酸基−
PO(OH)、亜リン酸基−OP(OH)、フェノ
ール性ヒドロキシル基、または前記の基の中の1個の塩
を表わし、aは1、2または3である]で示されるモノ
マー少なくとも1個;および(ii)UV線過敏性モノ
マー少なくとも1個を重合導入して含有するような、被
覆ポリマーが、放射誘発され、場合によっては活性化さ
れた支持体表面上へとグラフトされる場合に、有利に製
造されることができることが見出された。
【0015】有機基Rは炭化水素構造を有してよいか、
または炭素および水素以外にさらに原子、例えば酸素原
子、窒素原子および/または珪素原子を含有してよい。
【0016】被覆ポリマーがカルボキシル基またはカル
ボキシル基の塩(即ちカルボキシレート基)を有するモ
ノマーIを含有する場合、このモノマーは有利に、前記
A以外の意味を有する、少なくとももう1個の基Aを有
するか、あるいは被覆ポリマーは有利に、Aが前記A以
外の意味を表わす少なくとももう1個のモノマーIを含
有する。この方法で、カルボキシル基もしくはカルボキ
シル基の塩の、比較的弱く特色を示す細菌拒絶作用が、
強化される。
【0017】Aに挙げられた基の塩の中では、アルカリ
金属塩、殊にナトリウム塩が好ましい。
【0018】式Iのモノマーの共通の特徴は、モノマー
がオレフィン性二重結合1個または2個、ならびに少な
くとも1個の酸基、または酸基の塩1個を有することで
ある。
【0019】プラズマ誘発されるグラフト重合によって
製造される、種々の支持体上の被覆は、例えばB.Lassen
他、Clinical Materials 11(1992)、99〜103から公知で
あり、かつ生物相容性を試験された。しかしこの場合、
UV線過敏性モノマーだけがグラフトされたが、活性化
された支持体表面上へのグラフトは言及されていない。
それに加えて、プラズマは最適な重合開始剤ではない。
これに相応してH.Yasudaは、J.Polym.Sci.:Macromolecu
lar Review,Vol.16(1981),199〜293ページの中で、プラ
ズマ重合の不明確かつ制御され得ない化学について述べ
ている。このことは多数の目的には容認されうるかもし
れないが、しかし医療上の使用およびバイオ技術的使用
には問題であり、それというのも正にこの場合、一定し
て高い品質の再生可能な被覆が特に重要だからである。
【0020】本発明により変性された表面は、長期にわ
たっても著しく細菌の付着を減少させる。本発明により
付着が減少されるか、または妨害される菌株には、黄色
ブドウ球菌、表皮ぶどう球菌、化膿レンサ球菌、肺炎か
ん菌、緑膿菌、大腸菌およびエンテロバクター・フェシ
ウム(Enterobacter faecium)が含まれる。被覆された
表面は、移行可能および/または抽出可能なモノマー含
量およびオリゴマー含量を有しない。遊離した異物の物
質または破壊された細菌による望ましくない副作用は、
最初から回避される。したがって、滴下される被覆の表
面は、傑出した生理的相容性を有する。表面が細菌抑制
性に対して付加的に、細胞増殖抑制性または細胞増殖促
進性に作用するような特別な条件は、後に詳説される。
【0021】本発明による方法の場合、場合によっては
活性化される支持体表面は、まず被覆ポリマーで被覆さ
れ、引続き被覆は、UV光の作用下に予め形成された被
覆ポリマーを注意深くグラフトすることによって、支持
体表面上で共有結合で、即ち持続的に固着される。
【0022】1.被覆ポリマー 被覆ポリマーは一般式Iの重合導入されたモノマー少な
くとも1個を有し、このモノマーの官能基Aはポリマー
被覆の生物活性の性質の原因になっている。これらのモ
ノマーには、被覆ポリマーの製造に有利なモノマーであ
る、一般式IIおよびIII: 式II: (C )(COOR 式III: (C )(SO のモノマーが含まれる。少なくとも1個のモノマーII
ならびに少なくとも1個のモノマーIIIを含有する被
覆ポリマーは、特に強力に細菌拒絶性であり、この場
合、基:(C )−は同一であるか、ま
たは異なっていてよい。式IIおよびIII中では、n
はそれぞれ無関係に2から6以下の整数であり;xは、
それぞれ無関係に1または2であり;qは、それぞれ無
関係に0または2であり;および基Rは、それぞれ無
関係に−H、または1当量の金属イオン、有利にはアル
カリ金属イオン、殊にナトリウムイオンを表わす。
【0023】所定の定義に相応して、基:(C
)は、それぞれ無関係に直鎖または分枝鎖状の
1価のアルケニル基(q=0、x=1)またはアルカジ
エニル基(q=2、x=1)、または2価のアルケニレ
ン基(q=0、x=2)またはアルカジエニレン基(q
=2、x=2)を表わす。
【0024】2個のモノマーIIおよびIIIに代わっ
て、基:COORおよびSOを同一の分子中に
含有するモノマー(II+III)1個だけが使用され
てもよい。
【0025】また、一般式IV: 式IV: (C6− )B (OH) で示されるベンゾールから導出されたモノマー成分も、
式Iに属し、かつ有利にモノマーとして被覆ポリマー中
に含有されてよく、この場合、Bはそれぞれ無関係に、
式:−(C −1− )(COOR
たは−(C −1− )(SO
示される、モノまたはジ不飽和の直鎖または分枝鎖状の
基を表わし、この場合、R、n、qおよびxは前記で
定義された意味を表わし;Rはそれぞれ無関係に、C
〜C−アルキル、−NH、−COOH、−SO
H、−OSOH、−OPO(OH)、−PO(O
H)、−OP(OH)、−OPO(O−)OCH
CH(CH、−PO(O)OCHCH
(CH、−OP(O)OCHCH
(CHまたは塩、有利にアルカリ金属塩、殊に
ナトリウム塩を表わし;bは1、2または3であり;c
は0、1、2または3であり;かつdは0、1、2また
は3であり;但し、b+c+dは6以下であり、有利に
4以下である。
【0026】活性化された支持体表面上にグラフトされ
る被覆ポリマーの製造に適当な他のモノマーは、式Iに
相応するオレフィン性不飽和の酸性硫酸エステルおよび
その塩;スルホン酸およびその塩;ホスホン酸およびそ
の中性塩または酸性塩;リン酸エステルおよびその中性
塩または酸性塩;および亜リン酸エステルならびにその
中性塩または酸性塩である。最後になお、式Iに相応す
る、オレフィン基を有する1〜3価の(または一塩基性
〜三塩基性)フェノール、ならびにその塩が、適当なモ
ノマーとして挙げられる。
【0027】もちろん被覆ポリマーは、前述したモノマ
ーIIおよびIIIのような場合だけでなく、いかなる
場合にも、相応するモノマーの選択によって得られる種
々の基Aを含有してよい。
【0028】被覆ポリマーの製造に適当な、1つ以上の
同一かまたは異なった基Aを分子中に含有する、一般式
I〜IVまでのモノマーからは、例示的に次のものが挙
げられる:アクリル酸、メタクリル酸、4−ビニルサリ
チル酸、イタコン酸、酢酸ビニル、ケイ皮酸、4−ビニ
ル安息香酸、2−ビニル安息香酸、ソルビン酸、カフェ
酸、マレイン酸、メチルマレイン酸、ジメチルマレイン
酸、ジヒドロキシマレイン酸、イソクロトン酸、フマル
酸、メチルフマル酸、アリル酢酸,4−ビニルサリチル
酸ならびに前記の酸のアルカリ金属塩、殊にナトリウム
塩;ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、メタリルス
ルホン酸、ビニルスルホン酸、4−スチロールスルホン
酸、2−スチロールスルホン酸、ビニルトルオールスル
ホン酸、4−カルボキシルスチロールスルホン酸ならび
に前記の酸のアルカリ金属塩および殊にナトリウム塩;
ジ1級ブタジエン−(1,3)−ジオール−(1,4)
−ジホスフェート、4−ビニルフェノールおよび2−ビ
ニルフェノール、2−アリルヒドロキノンおよび4−ビ
ニルレソルシンならびに相応する塩。
【0029】一般式I〜IVのモノマーとともに、また
被覆の生物活性の性質には寄与しないか、または述べる
価値のあるほどには貢献しない他のモノマーも、被覆ポ
リマー中に含有されていてよい。これに該当するもの
は、例えばビニルエーテル、例えばビニルメチルエーテ
ルおよびビニルブチルエーテル;ビニルエステル、例え
ば酢酸ビニルおよびビニルプロピオネート;ビニルケト
ン、例えばビニルエチルケトンおよびビニル−n−ブチ
ルケトン;ニトリル、例えばアクリルニトリルおよびメ
タクリルニトリル;カルボナミド、例えばアクリルアミ
ド、N,N−ジメチルアクリルアミドおよびメタクリル
アミド;カルボン酸無水物、例えばマレイン酸無水物;
エステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレ
ート、2−エチルヘキシルアクリレート、メチルメタク
リレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
(2’−ヒドロキシエトキシ)エチルアクリレート、2
−ヒドロキシー1ーメチルエチルアクリレート、2−
N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、n−プロ
ピルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−(2’−ヒドロキシエトキシ)エチルメタク
リレート、2−ヒドロキシ−1−メチルエチルメタクリ
レート、2−N,N−ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、ジエチレングリコールメタクリレート、トリエチ
レングリコールジアクリレート、エチルビニルスルホネ
ートおよびビニルスルホン酸−2−ヒドロキシエチルエ
ステル;オレフィンおよびジオレフィン、例えば1−ブ
テン、1−ヘキセン、1ーオクテン、1,3−ブタジエ
ン、イソプレンおよびクロルプレン;ビニルシロキサン
および他の珪素含有ビニルモノマー、例えばトリス(ト
リメチルシロキシ)メタクリロイルプロピルシランおよ
びトリス(トリメチルシロキシ)アクリロイルプロピル
シランである。これらのモノマーまたは他のモノマー
は、むしろ多量で存在していてよく、例えば90モル%
までであってよい。
【0030】基Aに変換可能な基を有するモノマーは、
式Iの潜在モノマーと見なされてよい。これには、第一
にエステル、無水物、酸アミドおよびニトリルが該当
し、これらは少なくとも表面で、(そしてこの表面だけ
が生物活性の性質に関して重要であるが)公知の方法
で、酸性またはアルカリ性にカルボキシル基またはカル
ボキシレート基もしくはスルホン酸基またはスルホネー
ト基へと鹸化されてよい。これらのことが生じない間
は、これらのモノマーは本発明の範囲内でその他のモノ
マーと見なされる。
【0031】有利な被覆ポリマーは、(a)カルボン酸
基および/またはカルボキシレート基を有するモノマ
ー、ならびに(b)スルホン酸基および/またはスルホ
ネート基を有するモノマーを含有し、この場合、被覆ポ
リマー中のこれらのモノマーのモル含分は合計で一般に
5〜40%、有利に5〜30%および殊に15〜20%
である。モノマー(a)とモノマー(b)とのモル比
は、有利に10未満、殊に5未満である。前記の割合
が、0.5〜10、有利に0.5〜5である被覆ポリマ
ーは、顕著な細菌拒絶性の性質を示す。割合が0.4〜
3、有利に0.4〜2である場合、被覆ポリマーは細菌
拒絶作用とともに著しい細胞増殖抑制の性質を示す。割
合が2〜10、有利に3を上回り5までの範囲内にある
場合、被覆ポリマーは驚くべきことに細胞増殖促進性の
性質を有する。被覆は、被覆上の動物細胞の付着および
増殖が、被覆されていない支持体と比較して減少されて
いる場合に、本発明の範囲内で細胞増殖抑制性である。
被覆は、被覆上の動物細胞の付着および増殖が、被覆さ
れていない支持体と比較して改善されているか、または
いずれにせよ細菌の付着よりも弱い影響をもたらされる
場合に、本発明の範囲内で細胞増殖促進性であると見な
される。
【0032】相容性の見地に立って、前記の基からの2
個の組合わせが3通り可能であり、即ち、カルボキシル
基とスルホン酸基、カルボキシル基とスルホネート基な
らびにカルボキシレート基とスルホネート基、さらに3
個の組合わせが2通り可能であり、即ち、カルボキシル
基とカルボキシレート基とスルホネート基、ならびにカ
ルボキシル基とスルホン酸基とスルホネート基である。
全てのこれらの組合わせは、本発明の範囲内で有利な被
覆を特徴付ける。もちろん前述のように、被覆ポリマー
中に存在する基を官能基Aに、例えばカルボナミド基
(例えばアクリルアミドに由来する)を酸性媒体中で加
水分解することによってカルボキシル基に変換すること
もできる。さらにカルボキシル基およびスルホン酸基
を、中和される(例えばリン酸塩緩衝剤中で)ことによ
って、カルボキシレート基もしくはスルホネート基へと
移行されることができる。いずれにせよこのことによっ
て、前記のモノマー(a)と(b)とのモル比は、可能
な場合には被覆ポリマーの性質のために量的な影響、ひ
いては質的な影響を伴い変化する。
【0033】被覆ポリマーの本来の成分は、UV線過敏
性基を用いて重合導入されたモノマーである。このよう
なものとしては、重合導入の後、活性化された支持体表
面上で被覆ポリマーのグラフトを可能にする、反応可能
な二重結合少なくとも1個を有する全てのモノマーが適
当である。例としては、ビニル性シンナモイル誘導体ま
たはフリル誘導体、殊にシンナモイルエチルアクリレー
トまたはシンナモイルエチルメタクリレートが挙げられ
る。UV線過敏モノマーは、全モノマーに対して、有利
に1〜20モル%、特に3〜15モル%の量で使用され
る。ラジカル開始重合の場合、ベンゾール環に対してα
位の二重結合は、後に行なわれるグラフトのためのUV
線過敏性基として維持される。
【0034】ポリマーは通常ラジカル開始重合によっ
て、有利には溶液重合または乳化重合によって製造され
る。適当な溶剤は、例えば水;ケトン、例えばアセト
ン、メチルエチルケトンおよびシクロヘキサノン;エー
テル、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフランお
よびジオキサン;アルコール、例えばメタノール、エタ
ノール、n−プロパノールおよびイソプロパノール、n
−ブタノールおよびイソブタノール、ならびにシクロヘ
キサノール;強度の極性溶剤、例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルアセトアミドおよびジメチルスルホキシ
ド;炭化水素、例えばヘプタン、シクロヘキサン、ベン
ゾールおよびトルオール;ハロゲン化炭化水素、例えば
ジクロルメタンおよびトリクロルメタン;エステル、例
えば酢酸エチル、酢酸プロピルおよび酢酸アミル;なら
びにニトリル、例えばアセトニトリルである。
【0035】適当な重合開始剤は、例えばアゾニトリ
ル、アルキル過酸化物、過酸化アシル、ヒドロペルオキ
シド、ペルオキシケトン、ペルオキシエステルおよび過
炭酸塩ならびに全ての常用の光重合開始剤である。重合
は熱により、例えば60〜100℃に加熱することによ
って、または相応する波長を用いた照射によって導入さ
れる。発熱重合反応の終了後、ポリマーは常用の方法
で、例えば、溶剤が水に溶解性である場合には水を用い
て沈殿されることによって、溶剤から分離される。適当
な溶剤を用いて抽出されることによって、モノマー成分
またはオリゴマー成分は除去されてよい。
【0036】2.支持体材料 支持体材料としては、特にポリマー支持体、例えばポリ
ウレタン、ポリアミド、ポリエステルおよびポリエーテ
ル、ポリエーテルブロックアミド、ポリスチロール、ポ
リ塩化ビニル、ポリカルボネート、ポリオルガノシロキ
サン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリイソプレ
ン、ポリクロルプレン、ポリテトラフルオルエチレン
(PTFE)、ポリシロキサン、相応するコポリマーお
よびブレンドならびに天然および合成の弾性ゴムが適当
であり、これらは放射線過敏基を有するかまたは有しな
い。
【0037】本発明による方法は、またラッカー塗布さ
れたかまたは他の方法でポリマーを被覆された金属体、
ガラス体、または木材体上でも使用されることができ
る。支持体材料の表面は、好ましくは被覆ポリマーを被
覆する前に、公知の方法で、溶剤を用いて、付着してい
る油、油脂および他の汚染物を除去される。しかしこれ
らは、以下に記載されるように、被覆の前には活性化さ
れることができない、活性化されてはならない。活性化
は大抵、支持体材料上でのグラフトされた被覆のより良
好な付着をもたらす。しかし、一般に生物学的作用の
点、および付着に関して、活性化されていない支持体表
面上の被覆は、実際には活性化された表面上の被覆と異
ならない。
【0038】3.支持体表面の活性化 ポリマー支持体の表面が場合によっては活性化される方
法に関しては、次のものが挙げられる: 3.1 支持体ポリマーの製造の場合、UV線過敏性基
を有するモノマーが重合導入されるが、同様のことは被
覆ポリマーに記載されている。これに関しては、被覆ポ
リマー中にも含有されていてよい、同一のモノマーが該
当する。これらのモノマーは、例えば1〜20モル%、
有利に3〜15モル%の量で使用されてよい。このよう
な放射線過敏性に変性されたポリマーは、通常ラジカル
開始重合によって液体中、乳濁液中または懸濁液中で製
造されてよい。
【0039】3.2 二者択一的に、UV線過敏性基の
ない標準ポリマーの活性化は、UV線、例えば100〜
400nm、有利に125〜310nmの波長範囲で行
われてよい。適当な放射線源は、例えばUV−エキシマ
ー装置HERAEUS ノーブルライト(Noblel
ight)、ハーナウ、ドイツ在、である。しかし、水
銀蒸気灯も、前記の範囲内で著量の放射線含量を検出す
る場合には、支持体活性化に適当である。露出時間は、
放射線強度および波長に依存して、一般に0.1秒〜2
0分、有利に1秒〜10分である。酸素の存在が有利で
あることが確認された。有利な酸素圧力は、2×10
−5〜2×10−2バールである。例えば10−4〜1
−1バールの真空中、または不活性ガス、例えばヘリ
ウム、窒素またはアルゴンの使用下に0.02〜20パ
ーミルの酸素含量を用いて作業される。
【0040】3.3 活性化は、本発明によれば高周波
プラズマまたはマイクロ波プラズマ(ヘキサゴン、テク
ニクス・プラズマ社(Fa. Technics Plasma)、85551
キルヒハイム、ドイツ在)によって、空気中、窒素雰囲
気下またはアルゴン雰囲気下に取得されることもでき
る。露出時間は、一般に30秒〜30分、有利に2〜1
0分である。エネルギー供給は、実験装置の場合、10
0〜500ワット、有利に200〜300ワットであ
る。
【0041】3.4 さらにコロナ装置(SOFTAL社、ハ
ンブルグ、ドイツ在)も活性化のために使用されること
ができる。露出時間は、この場合一般に1秒〜10分、
有利に1〜60秒である。
【0042】3.5 電子線またはγ−線(例えばコバ
ルト−60−源からの)による活性化は、一般に0.1
〜60秒である、短い露出時間を可能にする。
【0043】3.6 いずれにせよ表面の燃焼は、活性
化をもたらす。適当な装置、殊にバリヤー−火炎面(Ba
rriere-Flammenfront)を備えたものは、簡単な方法で
組み立てられるか、または例えばARCOTEC社、71297 メ
ンスハイム、ドイツ在、から入手されることができる。
この装置は燃焼用ガスとしての炭化水素または水素を用
いて運転されてよい。いずれにせよ、支持体の有害な過
熱は回避されなければならず、このことは燃焼面を避け
た支持体表面上で冷却された金属薄板と密接に接触させ
ることによって簡単に達成される。したがって燃焼によ
る活性化は、比較的薄く、平面的な支持体、例えばフィ
ルムに限定される。露出時間は、一般に0.1秒〜1
分、有利に0.5〜2秒に達し、この場合、例外なく光
を発しない火炎であり、かつ支持体表面と外側の火炎の
前面との間隔は0.2〜5cm、有利に0.5〜2cm
である。
【0044】3.7 さらに支持体表面は、強酸または
強塩基を用いた処理によって活性化されることができ
る。適当な強酸には、硫酸、こはく酸および塩酸が挙げ
られる。例えばポリアミドは、濃硫酸を用いて室温で5
秒〜1分処理されてよい。強塩基としては、特に水中ま
たは有機溶剤中のアルカリ金属水酸化物が適当である。
このように、例えば希釈された苛性ソーダ溶液は、20
〜80℃で1〜60分支持体表面上に作用されてよい。
二者択一的に、例えばポリアミドは、テトラヒドロフラ
ン中に2%のKOHが1〜30分表面上に作用されるこ
とによって、活性化されることができる。
【0045】3.8 大抵、例えば高度に疎水性のポリ
マーの場合、前記の方法2つ以上を組合わせることによ
って支持体表面を活性化することが、推奨されてよい。
極めて一般的に、UV線過敏性基(3.1)の導入と、
UV照射(3.2)とが組合わされるような支持体活性
化が有効であった。
【0046】4. グラフト重合による被覆 3.2〜3.8に記載された活性化する前処理の後、活
性化された表面を有する支持体は、好ましくは1〜20
分、有利に1〜5分、例えば空気の形の酸素の作用を受
ける。二者択一的に、活性化された表面上に、同様の時
間で溶剤、例えばテトラヒドロフランが作用されること
ができる。
【0047】引続き、(場合によってはまた3.1によ
り)活性化されたか、あるいは活性化されていない表面
には、公知の方法、例えば、浸漬、噴霧または刷毛塗り
により、本発明により使用すべき被覆ポリマーの溶液が
被覆される。溶剤としては、例えばエーテル、例えばテ
トラヒドロフラン、および/または強度の極性溶剤、例
えばジメチルスルホキシドが有効であるが、溶剤がモノ
マーに対して十分な溶解力を有し、かつ支持体表面が良
好に湿っている場合には、他の溶剤も使用可能である。
ポリマーの可溶性およびグラフトされた被覆の望まれる
層厚に応じて、溶液中のポリマーの濃度は一般に0.1
〜50重量%である。被覆ポリマーの含量3〜15重量
%、有利に約10重量%を有する溶液が、実際には有効
であり、かつ一般に1つの管でつながっている、0.1
μmを上回る層厚を有する、支持体表面を覆う被覆を生
じる。
【0048】溶剤の蒸発後、または既に蒸発中にも、塗
布された被覆ポリマーのグラフトは、支持体表面への共
有結合を形成しながら、有利に可視範囲内の短波セグメ
ント中、または電磁線のUV範囲の長波セグメント中で
照射することによって、生じる。好適であるのは、例え
ば波長250〜500nm、有利に290〜320nm
のUVエキシマーの放射線である。ここではまた、著量
の放射線含量が、前記範囲内で測定される場合には、水
銀蒸気灯も適当であることが判明した。露出時間は、一
般に10秒〜30分、有利に2〜15分である。
【0049】そのような多層技術を用いて、気密に密閉
されているか、および/または厚い被覆を製造するた
め、場合によっては活性化を含む前記の作業工程を繰返
すことは、ときとして有利である。さらに、場合によっ
ては活性化された支持体、場合によっては前記の酸素処
理または溶剤処理により、本発明により使用すべき被覆
ポリマーの溶液中に浸漬すること、および浸漬された状
態で放射線照射することは、可能である。配向試験によ
って、どのくらいの照射時間で所定の放射線源を用い
て、およびどのくらいの、場合によっては長めの接触時
間で、支持体および溶液から所望の層厚が達成されるか
が、容易に確認されることができる。
【0050】本発明による、支持体、殊にポリマー支持
体の表面を細菌拒絶性に変性するための方法は、細菌付
着および/または細菌蔓延を抑制するため、ならびに細
胞増殖挙動を調節するために最適な、種々の官能基のモ
ル比を正確に調節することを可能にする。本発明による
方法および被覆された支持体の特に有利な点は、さらに
支持体が良好な血液相容性を示すことである。その上こ
の方法は、既に確証されたポリマーがこのようにして、
その機械的性質およびその形を維持しながら、付加的に
細菌拒絶性および選択的に細胞増殖抑制性または細胞増
殖促進性に調節可能であるという利点を、提供してい
る。問題のない湿潤および支持体表面との化学結合が可
能な場合には、さらに前処理または後処理することは必
要とされない。高度に疎水性のプラスチックは、例えば
酸または塩基を用いた化学的な腐食によってか、または
プラズマ処理によって、場合によっては親水性に処理す
ることが必要とされ、その結果、十分な湿潤性が被覆ポ
リマーの溶液によって得られる。この場合、高度に疎水
性のプラスチックは、同時に親水性化され、かつ本発明
の範囲内で表面活性化される。
【0051】次の例につき、本発明をさらに詳説する
が、特許請求の範囲で説明されたような範囲内に限定さ
れるべきではない。例中に使用された被覆ポリマーは、
式I〜IVに含まれるモノマーを有する、多数の他のポ
リマーの代表例である。
【0052】
【実施例】
例 (1)細菌付着の試験 シンチレーションによる、被覆ポリマーからなるフィル
ムの細菌付着の測定 これらのフィルムは本発明による製品ではなく、本発明
により細菌拒絶性に被覆された支持体フィルムと、細菌
拒絶性を比較するため、製造された。
【0053】共重合によって得られた被覆ポリマーの試
験体(次の例1〜9)を、適当な溶剤、例えばクロロホ
ルム中に溶解する。溶剤をペトリ皿に注入し、蒸発させ
た後、得られたポリマーフィルムを、ホスフェートで緩
衝された生理的食塩溶液(PBS)中に溶解された牛血
清アルブミン(BSA)0.4g/lと、浄化されたヒ
トのフィブロネクチン20μg/mlからなる溶液1m
l中で、1時間にわたって浸漬した。引続き、このよう
にしてフィブロネクチンを被覆された試験体を、37℃
で1時間攪拌しながら、H−チミジンを導入すること
によって、放射性にマークしたそれぞれの細菌の懸濁液
中に入れる。所定の時間の経過後、過剰の細菌を洗浄に
よって除去し、ポリマーフィルムをそれぞれPBS−B
SA溶液3mlで2回洗浄し、および付着する細菌を測
定するため、シンチレーション溶液20mlを有するね
じ口びん中に入れる。付着する細菌のパーセントを、試
験体中に存在する放射能性と、元来細菌から持ち込まれ
ら放射能性との割合によって測定する。細菌付着抑制
を、外部標準として未処理のフィルムの細菌付着に対し
てパーセントで測定する。
【0054】ATP測定(静的)による、被覆された標
準フィルムの細菌付着の測定 浸漬されたポリマーフィルムへの細菌細胞の吸着後、付
着していない細菌を、無菌のPBS緩衝溶液を用いて洗
浄除去する。付着する細菌から、細胞内容物質であるア
デノシントリホスフェート(ATP)を常用の方法で抽出
し、および市販の試験用組合せ物を用いて生物発光試験
において測定する。測定した光衝撃(Lichtimpulse)の
数値は、付着する細菌の数に比例する。いずれにせよ、
複数のフィルム断片を使用する。被覆されていない標準
フィルムを用いて測定した数値を、100%とし、かつ
細菌拒絶性に被覆したフィルムの細菌付着値を、パーセ
ントでの減少率として表わす。
【0055】ATP測定(動的)による被覆された標準
フィルムの細菌付着の測定 細菌を、試験すべきフィルム断片と一緒に、酵母抽出物
−ペプトン−グルコース−栄養溶液中に入れ、37℃で
24時間振り混ぜる。これに引続き、フィルム断片を水
道水で洗浄し、栄養溶液を備えた新しいフラスコ中に注
入し、さらに37℃で24時間振り混ぜる。この作業周
期をもう1度繰り返し、かつフィルム断片を水道水で洗
浄する。フィルムに付着する細菌から、細胞内容物質で
あるアデノシントリホスフェート(ATP)を抽出し、か
つ市販の試験用組合せ物を用いて生物発光試験において
測定する。動的測定には、静的測定と同様の限界条件が
有効であるので、被覆されたフィルムの細菌付着値を、
被覆されていない標準フィルムと比較したパーセントで
の減少率として表わす。
【0056】(2)細胞増殖のための試験 ポリマーフィルム(支持体フィルム)の状態調節 本発明により被覆されたフィルムおよび被覆されていな
い比較フィルムを、37℃でそれぞれ3時間、12回、
エタノール中で洗浄する。引続きこのように前処理した
フィルムを0.15モルの塩化ナトリウム溶液中で3
回、それぞれ3時間洗浄し、引続き水を用いて洗浄す
る。次の浄化工程の場合、フィルムを3回、それぞれ3
時間、ホスフェート緩衝剤溶液中に入れ、次に15分
間、UV光を照射する。このように前処理したフィルム
を37℃で16時間、DMEM溶液(Dulbecco's Modif
ied Eagles Medium)中に貯蔵する。引続きフィルム
を、抗生物質0.05%、L−グルタミン 200 m
g/lおよび胎児の牛血清10%を添加したDMEM溶
液中で、37℃で16時間、CO5%および空気95
%の雰囲気中に維持する。
【0057】細胞懸濁液の製造 ATCCナンバー CRL 1996(ロックビル、メリーランド、
米国在)のヒトの繊維芽細胞(McCoy's)を、抗生物質
0.05%、L−グルタミン200mg/lおよび胎児
の牛血清10%を有するDMEM媒体中で、37℃で、
CO5%および空気95%の雰囲気中で培養する。栄
養媒体から細胞を分離した後、生体細胞の数、ならびに
全細胞数を、常用の方法で測定する。
【0058】細胞増殖性の測定 次に、本発明により被覆されたフィルムおよび比較フィ
ルムを、前記した前処理の後、“ウェルズ(Wells)”
(標準微量滴定板中の凹所)中に入れ、かつ先にエタノ
ールを用いて殺菌された、特殊なPTFEインサートを
用いて設置する。フィルム、“ウェルズ”およびPTF
E装入物を、UV光を16分間照射することによって、
殺菌する。引続きポリマーフィルムに細胞懸濁液を添加
する。37℃で8日間、培養後、細胞をホスフェート緩
衝溶液を用いて浄化し、トリプシン−EDTA−溶液
0.05%を用いて分離し、かつその数を目で、または
細胞カウンターを用いて数える。
【0059】(3) 被覆ポリマーの製造 例1 トリス(トリメチルシロキシ)メタクリルオキシプロピ
ルシラン(TTMPS)65モル%、シンナモイルエチ
ルメタクリレート(CEM)10モル%、メタクリル酸
(MA)13.7モル%およびジメチルオクチルアンモ
ニウムスチロールスルホネート(DOASS)11.3
モル%からなるモノマー混合物を、溶剤としてTHF中
で保護ガス下に装入し、65℃に加熱する。この温度に
達した後、アゾビスイソブチロニトリル 0.6モル%
を添加する。24時間の反応時間の後、溶剤を回転式蒸
発器で除去することによって、第4ポリマー(Quat
erpolymer)を単離し、引続き水で洗浄する。
生成物のNMR分析により次の組成を生じる:
【0060】
【表1】
【0061】COOHもしくはCOOとSO との
比率は、1.2である。
【0062】例2 トリス(トリメチルシロキシ)メタクリルオキシプロピ
ルシラン(TTMPS)75モル%、シンナモイルエチ
ルメタクリレート(CEM)10モル%、メタクリル酸
(MA)10モル%およびジメチルオクチルアンモニウ
ムスチロールスルホネート(DOASS)5モル%から
なるモノマー混合物を、溶剤としてTHF中で保護ガス
下に装入し、65℃に加熱する。この温度に達した後、
アゾビスイソブチロニトリル 0.6モル%を添加す
る。24時間の反応時間の後、溶剤を回転式蒸発器で除
去することによって、第4ポリマーを単離し、引続き水
で洗浄する。生成物のNMR分析により次の組成を生じ
る:
【0063】
【表2】
【0064】COOHもしくはCOOとSO との
比率は、0.55である。
【0065】例3 メチルメタクリレート55モル%、メタクリル酸35モ
ル%、ナトリウムスチロールスルホネート5モル%およ
びシンナモイルエチルメタクリレート5モル%を、保護
ガス下にジメチルスルホキシド中に溶解する。70℃の
反応温度に達した後、ジメチルスルホキシド中に溶解さ
れたアゾビスイソブチロニトリル 0.6モル%を滴加
する。18時間の反応時間の後、生成物を氷水を用いて
沈殿析出させ、引続き、ソックスレー中でアセトンおよ
び水を用いて抽出する。真空中で50℃で乾燥を行な
う。
【0066】例4 メチルメタクリレート65モル%、メタクリル酸18モ
ル%、ナトリウムスチロールスルホネート12モル%お
よびシンナモイルエチルメタクリレート5モル%を、保
護ガス下にジメチルスルホキシド中に溶解する。75℃
の反応温度に達した後、ジメチルスルホキシド中に溶解
されたアゾビスイソブチロニトリル0.6モル%を滴加
する。16時間の反応時間の後、生成物を氷水を用いて
沈殿析出させ、引続き、ソックスレー中でアセトンおよ
び水を用いて抽出する。真空中で50℃で乾燥を行な
う。
【0067】例5 メチルメタクリレート80モル%、アクリル酸10モル
%、ナトリウムスチロールスルホネート5モル%および
シンナモイルエチルメタクリレート5モル%を、保護ガ
ス下にジメチルスルホキシド中に溶解する。75℃の反
応温度に達した後、ジメチルスルホキシド中に溶解され
たアゾビスイソブチロニトリル0.6モル%を滴加す
る。16時間の反応時間の後、生成物を氷水を用いて沈
殿析出させ、引続き、ソックスレー中でアセトンおよび
水を用いて抽出する。真空中で50℃で乾燥を行なう。
【0068】例6 メチルメタクリレート87.5モル%、無水マレイン酸
5モル%、ナトリウムスチロールスルホネート2.5モ
ル%およびシンナモイルエチルメタクリレート5モル%
を、保護ガス下にジメチルスルホキシド中に装入する。
70℃の反応温度に達した後、ジメチルスルホキシド中
に溶解されたアゾビスイソブチロニトリル0.6モル%
を滴加する。16時間の反応時間の後、生成物を氷水を
用いて沈殿析出させ、引続き、ソックスレー中でアセト
ンおよび水を用いて抽出する。真空中で50℃で乾燥を
行なう。
【0069】例7 メチルメタクリレート80モル%、メタクリル酸8モル
%、ナトリウムスチロールスルホネート7モル%および
シンナモイルエチルメタクリレート5モル%を、保護ガ
ス下にジメチルスルホキシド中に装入する。70℃の反
応温度に達した後、ジメチルスルホキシド中に溶解され
たアゾビスイソブチロニトリル0.6モル%を滴加す
る。16時間の反応時間の後、生成物を氷水を用いて沈
殿析出させ、引続き、ソックスレー中でアセトンおよび
水を用いて抽出する。真空中で50℃で乾燥を行なう。
【0070】例8 メチルメタクリレート85モル%、メタクリル酸7.5
モル%、ナトリウムスチロールスルホネート2.5モル
%およびシンナモイルエチルメタクリレート5モル%
を、保護ガス下にジメチルスルホキシド中に溶解する。
70℃の反応温度に達した後、ジメチルスルホキシド中
に溶解されたアゾビスイソブチロニトリル0.6モル%
を滴加する。18時間の反応時間の後、生成物を氷水を
用いて沈殿析出させ、引続き、ソックスレー中でアセト
ンおよび水を用いて抽出する。真空中で50℃で乾燥を
行なう。
【0071】例9 メチルメタクリレート65モル%、メタクリル酸18モ
ル%、トリエチルアンモニウムスチロールスルホネート
12モル%およびシンナモイルエチルメタクリレート5
モル%を、保護ガス下にジメチルスルホキシド中に装入
する。70℃の反応温度に達した後、ジメチルスルホキ
シド中に溶解されたアゾビスイソブチロニトリル0.6
モル%を滴加する。16時間の反応時間の後、生成物を
氷水を用いて沈殿析出させ、引続き、ソックスレー中で
アセトンおよび水を用いて抽出する。真空中で50℃で
乾燥を行なう。
【0072】放射線過敏性モノマーとして使用されるシ
ンナモイルメタクリレートを、乾燥エチルエーテル10
0ml 中に 2−ヒドロキシエチルメタクリレート
(3.8ミリモル)と塩化シンナモイル(3.8ミリモ
ル)から出発し、ピリジン3.8ミリモルの存在下に室
温で取得する。
【0073】例10 トリス(トリメチルシロキシ)メタクリルオキシプロピ
ルシラン(TTMPS)59モル%、シンナモイルエチ
ルメタクリレート(CEM)16モル%、メタクリル酸
(MA)13.7モル%およびジメチルオクチルアンモ
ニウムスチロールスルホネート(DOASS)11.3
モル%からなるモノマー混合物を、溶剤としてTHF中
で保護ガスとして窒素下に装入し、65℃に加熱する。
この温度に達した後、溶剤としてのTHF中アゾビスイ
ソブチロニトリル(AIBN)0.6モル%を1時間に
亙って添加する。24時間の反応時間の後、溶剤を回転
式蒸発器で除去することによって、第4ポリマー(Qu
aterpolymer)を単離し、引続き水で洗浄す
る。生成物のNMR分析により次の組成を生じる:
【0074】
【表3】
【0075】COOHもしくはCOOとSO との
比率は、1.4である。
【0076】例11 トリス(トリメチルシロキシ)メタクリロイルオキシプ
ロピルシラン(TTMPS)60.4モル%、シンナモ
イルエチルメタクリレート(CEM)18モル%、メタ
クリル酸(MA)9.5モル%およびジメチルオクチル
アンモニウムスチロールスルホネート(DOASS)1
2.1モル%からなるモノマー混合物を、溶剤としての
THF中で保護ガスとしての窒素下に装入し、65℃に
加熱する。この温度に達した後、溶剤としてのTHF中
アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)0.6モル%
を1時間に亙って供給する。24時間の反応時間の後、
溶剤を回転式蒸発器で除去することによって、第4ポリ
マー(Quaterpolymer)を単離し、引続き
水で洗浄する。生成物のNMR分析により次の組成を生
じる:
【0077】
【表4】
【0078】COOHもしくはCOOとSO との
比率は、0.8である。
【0079】(4) 支持体フィルム上での被覆ポリマ
ーのグラフト グラフトするため、予め製造されたシンナモイル基含有
被覆ポリマーを使用する。支持体の被覆を、光グラフト
(Photografting)によって実施した。例1〜9の被覆
ポリマーを、活性化されたポリマー支持体上にグラフト
し、例10および11の被覆ポリマーを、活性化されて
いないポリマー支持体上にグラフトした。
【0080】活性化された表面上へ被覆ポリマーをグラ
フトする場合、次のように処理した: − Hg−蒸気灯(100ワット)を用いてUV照射す
ることによって、活性化を実施し、同一のランプを用い
て照射することによってグラフトを開始する。
【0081】− 種々の支持体フィルムを20分照射
し、引続きTHF中に15分浸漬する。
【0082】− THF/ジメチルスルホキシド(80
/20)中に被覆ポリマー(10g/l)の溶液を、支
持体フィルムの2試験体上に噴霧する。
【0083】− この2つの試験体を10分照射する。
【0084】活性化されていない表面上でのグラフトを
次のように実施した: − シリコーン(ポリシロキサン)からなる支持体フィ
ルムの試験体2個に、THF/ジメチルスルホキシド
(80:20)中にクォーターポリマー(10g/l)
の溶液を噴霧する。
【0085】− 試験体に100ワットの水銀蒸気灯を
10分間照射する(試験体を灯との間隔2cm)。
【0086】− 支持体が、水を用いた抽出後(60℃
で6時間)15.9%(例10)もしくは18.3%
(例11)の重量増加を有することによって、グラフト
を確認する。
【0087】図1に示されたように、α位の二重結合に
よって湿潤およびグラフトが開始される:放射線過敏性
基を用いた光架橋を、IR分光分析法により観察するこ
とができる。既に被覆ポリマーを被覆されているが、ま
だUV照射されていない支持体のIR−スペクトルが1
637 cm−1で、C=C二重結合に対応するスペク
トル吸収体を有する一方、この吸収スペクトルはUV照
射後、もはや記録不可能である。
【0088】(5) 生物活性の性質に対する試験の結
果 被覆された支持体の生物活性に対する試験の結果は、次
の7つの分布図による表示から確認される。図2〜図7
は本発明による被覆ポリマーの細菌拒絶性を示す。シン
チレーション値は、被覆ポリマーからなる(本発明によ
らない)フィルムを用いて得られる。本発明により被覆
された支持体フィルムの細菌拒絶性が、被覆ポリマーか
らなるフィルムの細菌拒絶性と、極めて類似しているこ
とが、確認される。
【0089】図8からは、CO /SO の比率約
3までの範囲内で、細胞成長の明らかな減少が生じ、そ
の一方で約2〜約5の範囲に関しては、細胞増殖は、お
そらく被覆されていないフィルムの細胞増殖に相応し、
いずれにせよ同一範囲内の細菌付着よりも著しく僅かに
減少した。
【0090】
【発明の効果】本発明の方法により被覆され、それによ
って細菌拒絶性に変性された生産品は、生物相容性材料
として、バイオ技術的範囲内または医療範囲内での使
用、例えば貯蔵または包装目的のため、または管または
管路のために適当である。医療技術的生産品の例は、カ
テーテル、管、創傷ドレナージ、創傷用包帯、ステン
ト、眼内レンズ、心臓ペースメーカー、および心臓弁で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】支持体フィルム上での被覆ポリマーのグラフト
を示す略図。
【図2】モルによるCOO/SO 比に応じた、本
発明による被覆されたフィルム上への黄色ブドウ球菌の
付着の減少率を示す分布図。
【図3】モルによるCOO/SO 比に応じた、本
発明による被覆されたフィルム上への表皮ブドウ球菌の
付着の減少率を示す分布図。
【図4】モルによるCOO/SO 比に応じた、本
発明による被覆されたフィルム上へのスタフィロコッカ
ス・ピオゲネス(Staphylococcus py
rogenes)の付着の減少率を示す分布図。
【図5】モルによるCOO/SO 比に応じた、本
発明による被覆されたフィルム上への肺炎桿菌の付着の
減少率を示す分布図。
【図6】モルによるCOO/SO 比に応じた、本
発明による被覆されたフィルム上への緑膿菌の付着の減
少率を示す分布図。
【図7】モルによるCOO/SO 比に応じた、本
発明による被覆されたフィルム上への大腸菌の付着の減
少率を示す分布図。
【図8】モルによるCOO/SO 比に応じた、本
発明による被覆されたフィルム上へのヒトの線維芽細胞
の細胞成長の減少率を示す分布図。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI // C08J 7/04 C08J 7/04 L 7/16 7/16 (31)優先権主張番号 19732588.2 (32)優先日 1997年7月29日 (33)優先権主張国 ドイツ(DE) (72)発明者 ジェラール エラリー フランス国 サントゥーイュ レズィダン ス デ エパ ーニェ 7 (72)発明者 マルセル ジョゼフォウィッツ フランス国 ラモレイ セカンド アヴニ ュ 65 (72)発明者 ヴェロニク ミニョニー フランス国 オボン リュ デ カレイ 19 (72)発明者 ジャン−ピエール ヴァイロン フランス国 ブルク ラ レヌ リュ ア ルフレッド モンブロット 7

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持体の表面上に生物活性で、共有結合
    し固着した被覆を製造する方法において、 (i)一般式:R−(A) (I) [式中、Rはモノまたはジオレフィン性不飽和有機基、
    有利に原子価aを有する炭化水素基を表わし、Aはカル
    ボキシル基−COOH、硫酸基−OSOOH、スルホ
    ン酸基−SOH、リン酸基−OPO(OH)、ホス
    ホン酸基−PO(OH)、亜リン酸基−OP(OH)
    、フェノール性ヒドロキシル基または前記酸基の塩を
    表わし、aは1、2または3である]で示されるモノマ
    ー少なくとも1個;および(ii)UV線過敏性基を有
    するモノマー少なくとも1個、を重合導入して含有する
    被覆ポリマーを、放射誘発され、場合によっては活性化
    された支持体表面上へグラフトすることを特徴とする、
    支持体の表面上に生物活性で、共有結合し固着した被覆
    を製造する方法。
  2. 【請求項2】 金属イオンがアルカリ金属イオンであ
    る、請求項1記載の方法。
  3. 【請求項3】 アルカリ金属イオンがナトリウムイオン
    である、請求項2記載の方法。
  4. 【請求項4】 被覆ポリマーがそれぞれ一般式IIまた
    はIII: 式II: (C )(COOR 式III: (C )(SO [式中、nはそれぞれ無関係に2から6以下の整数であ
    り、xは、それぞれ無関係に1または2であり、qは、
    それぞれ無関係に0または2であり、Rは、それぞれ
    無関係にHまたは1当量の金属イオンを表わす]で示さ
    れるモノマー少なくとも1個を含有する、請求項1から
    3までのいずれか1項記載の方法。
  5. 【請求項5】 被覆ポリマーが、一般式IV: 式IV: (C6− )B (OH) [式中、Bはそれぞれ無関係に、式: −(C −1− )(COOR
    たは−(C −1− )(SO (この場合、R、n、qおよびxは請求項1に定義さ
    れた意味を表わす)で示される、モノまたはジオレフィ
    ン性不飽和で直鎖または分枝鎖状の基を表わし、R
    それぞれ無関係に、C〜C−アルキル、−NH
    −COOH、−SOH、−OSOH、−OPO(O
    H)、−PO(OH)、−OP(OH)、−OP
    O(O)OCHCH(CH、−PO
    (O)OCHCH(CH、−OP(O
    )OCHCH(CHまたは記載された
    基の中の1個の塩を表わし;bは1、2または3であ
    り;cは0、1、2または3であり;dは0、1、2ま
    たは3であり;但し、b+c+dは6以下であり、有利
    に4以下である]で示される、ベンゾールから導出され
    るモノマー少なくとも1個を含有する、請求項1から3
    までのいずれか1項記載の方法。
  6. 【請求項6】 被覆ポリマーが、式Iに相応するオレフ
    ィン性不飽和の酸性硫酸エステルおよびその塩;スルホ
    ン酸およびその塩;ホスホン酸およびその中性塩または
    酸性塩;リン酸エステルおよびその中性塩または酸性
    塩;および亜リン酸およびその中性塩または酸性塩から
    なる群から選択されたモノマー少なくとも1個を含有す
    る、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
  7. 【請求項7】 被覆ポリマーが、カルボキシル基または
    カルボキシレート基を有するモノマーI〜IVを含有す
    る場合、このモノマーが前記A以外の意味を表わす、基
    A少なくとももう1個を有するか、または被覆ポリマー
    が少なくとももう1個のモノマーI〜IVを含有し、こ
    の場合にAは前記A以外の意味を表わす、請求項1から
    6までのいずれか1項記載の方法。
  8. 【請求項8】 被覆ポリマーが、(a)カルボン酸基お
    よび/またはカルボキシレート基を有するモノマー、お
    よび(b)スルホン酸および/またはスルホネート基を
    有するモノマーを含有し、この場合、これらのモノマー
    のモル含分が合計で5〜40%である、請求項7記載の
    方法。
  9. 【請求項9】 モノマー(a)とモノマー(b)とのモ
    ル比が、10未満である、請求項7記載の方法。
  10. 【請求項10】 モノマー(a)とモノマー(b)との
    モル比が、0.5〜10である、請求項7記載の方法。
  11. 【請求項11】 モノマー(a)とモノマー(b)との
    モル比が、0.4〜3であり、かつ被覆ポリマーが細菌
    拒絶性であり、同時に細胞増殖抑制性である、請求項7
    記載の方法。
  12. 【請求項12】 モノマー(a)とモノマー(b)との
    モル比が2〜5であり、かつ被覆ポリマーが細菌拒絶性
    であり、同時に細胞増殖促進性である、請求項7記載の
    方法。
  13. 【請求項13】 UV線過敏性基を有するモノマーがシ
    ンナモイル誘導体またはフリル誘導体である、請求項1
    〜12のいずれか1項記載の方法。
  14. 【請求項14】 UV線過敏基を有するモノマーが、シ
    ンナモイルエチルアクリレート基またはシンナモイルエ
    チルメタクリレート基である、請求項13記載の方法。
  15. 【請求項15】 支持体表面を、UV線過敏基を重合導
    入されたモノマーによって活性化する、請求項1から1
    4までのいずれか1項記載の方法。
  16. 【請求項16】 支持体表面を、UV線によって活性化
    する、請求項1から14までのいずれか1項記載の方
    法。
JP9360531A 1997-01-03 1997-12-26 表面の生物活性被覆 Pending JPH10249277A (ja)

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DE19732588.2 1997-07-29

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